JPH059841B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH059841B2 JPH059841B2 JP58099701A JP9970183A JPH059841B2 JP H059841 B2 JPH059841 B2 JP H059841B2 JP 58099701 A JP58099701 A JP 58099701A JP 9970183 A JP9970183 A JP 9970183A JP H059841 B2 JPH059841 B2 JP H059841B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- head
- comb teeth
- monitor
- pattern
- film magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
- G11B5/3166—Testing or indicating in relation thereto, e.g. before the fabrication is completed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(イ) 産業上の利用分野
本発明は薄膜磁気ヘツドの製造方法に関し、特
にギヤツプ・デプスを正確に規定することが出来
るようにしたものである。
にギヤツプ・デプスを正確に規定することが出来
るようにしたものである。
(ロ) 従来技術
第１図は薄膜磁気ヘツドの基本構造を示し、基
板１に下部のヘツドコア・パターン２を形成し、
その上に第１絶縁体層３を形成し、次いでこの第
１絶縁体層３上にコイル・パターン４を形成した
後第２絶縁体層５を形成し、その上に上部のヘツ
ドコア・パターン６を形成して構成されている。
そして、この様な薄膜磁気ヘツドにおいてもその
製造最終工程においてバルク型ヘツド（例えばビ
デオ・ヘツド）と同様にテープ対接面側の研摩を
行なう必要があり、その際バルク型ヘツドと異な
る点は各パターン形成後接着されるシールド兼用
保護板の存在によりギヤツプ・デプスを直接観察
出来ないという謂うことである。更に、高密度記
録を目的としている薄膜磁気ヘツドではそのギヤ
ツプ・デプスの要求精度も厳しくなり時間制御に
よる研摩では不十分であつた。そのため、第２図
に示す如くヘツドコアの両側に三角形状のモニタ
ーパターン７，７′を別途形成して、テープ対接
面側の研摩時（例えばＡ−A′線まで研摩した時）
に研摩面側に露出した部分の長さｌを測定するこ
とでギヤツプ・デプスを算出してその研摩量を制
御したり、第３図に示す如くモニターパターン
８，８′を夫々長さの異なる複数の櫛歯状に形成
してテープ対接面側の研摩時（例えばＢ−B′線
で研摩した時）に研摩面側に露出した櫛歯数にて
ギヤツプ・デプスを規定し研摩量を制御する方法
がとられており、特に後者の場合は研摩量（即
ち、ギヤツプ・デプス）をデジタル的に知ること
が出来、研摩面からの観察が容易で且つ測定誤差
が少なく歩留りを向上させることが出来る。尚、
９はシールド兼用保護板、１０は接着層である。
ところが、斯る場合においても問題があり、具体
的にはデプス・エンドから夫々異なるギヤツプ・
デプス長を規定しているモニターパターンの各櫛
歯部が細く且つそれに対する膜厚が比較的厚いた
め、またレジストの密着不足等にもよつて斯るパ
ターン形成時に各櫛歯部の先端部分が第４図実線
で示す形状に（即ち、サイドエツジが大きく）な
り、設計形状である第４図点線形状との間に誤差
αを生じ、ギヤツプ・デプスを正確に規定するこ
とが出来なかつた。
板１に下部のヘツドコア・パターン２を形成し、
その上に第１絶縁体層３を形成し、次いでこの第
１絶縁体層３上にコイル・パターン４を形成した
後第２絶縁体層５を形成し、その上に上部のヘツ
ドコア・パターン６を形成して構成されている。
そして、この様な薄膜磁気ヘツドにおいてもその
製造最終工程においてバルク型ヘツド（例えばビ
デオ・ヘツド）と同様にテープ対接面側の研摩を
行なう必要があり、その際バルク型ヘツドと異な
る点は各パターン形成後接着されるシールド兼用
保護板の存在によりギヤツプ・デプスを直接観察
出来ないという謂うことである。更に、高密度記
録を目的としている薄膜磁気ヘツドではそのギヤ
ツプ・デプスの要求精度も厳しくなり時間制御に
よる研摩では不十分であつた。そのため、第２図
に示す如くヘツドコアの両側に三角形状のモニタ
ーパターン７，７′を別途形成して、テープ対接
面側の研摩時（例えばＡ−A′線まで研摩した時）
に研摩面側に露出した部分の長さｌを測定するこ
とでギヤツプ・デプスを算出してその研摩量を制
御したり、第３図に示す如くモニターパターン
８，８′を夫々長さの異なる複数の櫛歯状に形成
してテープ対接面側の研摩時（例えばＢ−B′線
で研摩した時）に研摩面側に露出した櫛歯数にて
ギヤツプ・デプスを規定し研摩量を制御する方法
がとられており、特に後者の場合は研摩量（即
ち、ギヤツプ・デプス）をデジタル的に知ること
が出来、研摩面からの観察が容易で且つ測定誤差
が少なく歩留りを向上させることが出来る。尚、
９はシールド兼用保護板、１０は接着層である。
ところが、斯る場合においても問題があり、具体
的にはデプス・エンドから夫々異なるギヤツプ・
デプス長を規定しているモニターパターンの各櫛
歯部が細く且つそれに対する膜厚が比較的厚いた
め、またレジストの密着不足等にもよつて斯るパ
ターン形成時に各櫛歯部の先端部分が第４図実線
で示す形状に（即ち、サイドエツジが大きく）な
り、設計形状である第４図点線形状との間に誤差
αを生じ、ギヤツプ・デプスを正確に規定するこ
とが出来なかつた。
(ハ) 発明の目的
本発明は斯る点に鑑み成されたもので、上記し
た問題点を解決し所望のギヤツプ・デプスを精度
よく得ることが出来る薄膜磁気ヘツドの製造方法
を提供しようとするものである。
た問題点を解決し所望のギヤツプ・デプスを精度
よく得ることが出来る薄膜磁気ヘツドの製造方法
を提供しようとするものである。
(ニ) 発明の構成
即ち、本発明は上記した目的を達成するべく基
板上にヘツドコア並びにコイル用等の各パターン
を夫々形成して薄膜磁気ヘツドを構成する際に、
１つ若しくは複数のヘツドコアの両側にギヤツ
プ・デプスを規定するためのモニターパターンを
形成し、該モニターパターンはヘツドコアのテー
プ対接面側とは反対側に夫々深さの異なる複数の
櫛歯が形成されており、而してテープ対接面側の
研摩時に研摩面側に露出したモニターパターンの
欠落櫛歯数にてギヤツプ・デプスを規定するよう
にしたものである。
板上にヘツドコア並びにコイル用等の各パターン
を夫々形成して薄膜磁気ヘツドを構成する際に、
１つ若しくは複数のヘツドコアの両側にギヤツ
プ・デプスを規定するためのモニターパターンを
形成し、該モニターパターンはヘツドコアのテー
プ対接面側とは反対側に夫々深さの異なる複数の
櫛歯が形成されており、而してテープ対接面側の
研摩時に研摩面側に露出したモニターパターンの
欠落櫛歯数にてギヤツプ・デプスを規定するよう
にしたものである。
(ホ) 実施例
以下、本発明の一実施例について図面と共に説
明する。尚、従来と同一構成要素については同一
図番を附すと共にその説明を省略する。
明する。尚、従来と同一構成要素については同一
図番を附すと共にその説明を省略する。
即ち、本発明に依れば第５図に示す如き形状の
モニターパターン１１，１１′をコイル用パター
ンの形成と同時に蒸着或いはスパツタ等の薄膜作
成技術及び写真蝕技術により形成したものであ
り、斯るモニターパターン１１，１１′はヘツド
コア６のテープ対接面側とは反対側に深さの異な
る複数の櫛歯１１a1…１１a1′…が形成されてお
り、テープ対接面側と同一線上に位置した一側端
１１ｂ，１１b′側から段階的に変わる各櫛歯の深
さを規定する切欠部１１c1…１１c1′…までの距
離にて研摩量を規制するようにしている。
モニターパターン１１，１１′をコイル用パター
ンの形成と同時に蒸着或いはスパツタ等の薄膜作
成技術及び写真蝕技術により形成したものであ
り、斯るモニターパターン１１，１１′はヘツド
コア６のテープ対接面側とは反対側に深さの異な
る複数の櫛歯１１a1…１１a1′…が形成されてお
り、テープ対接面側と同一線上に位置した一側端
１１ｂ，１１b′側から段階的に変わる各櫛歯の深
さを規定する切欠部１１c1…１１c1′…までの距
離にて研摩量を規制するようにしている。
即ち、テープ対接面側の研摩時（例えばＣ−
C′線まで研摩した時）に光学顕微鏡による光学的
観察にて研摩面側に露出したモニターパターンの
欠落櫛歯数を数えることによつて残余のギヤツ
プ・デプスを知ることが出来る。
C′線まで研摩した時）に光学顕微鏡による光学的
観察にて研摩面側に露出したモニターパターンの
欠落櫛歯数を数えることによつて残余のギヤツ
プ・デプスを知ることが出来る。
また、第６図は斯るモニターパターンを用いて
ギヤツプ・デプスを光学的にではなく電気的に測
定するようにした他の実施例を示し、具体的には
モニターパターン１１，１１′の各櫛歯１１a1…
１１a1′…に対応して夫々電気的に接続される接
続パターン１２，１２′を別途形成したものであ
る。尚、接続パターン１２，１２′はモニターパ
ターン１１，１１′と同時形成することが工程上
望ましい。この様にすれば接続パターン１２，１
２′のａ−bi、a′−bi′（＝１、２、…７）間の電
気的導通の正否によつてギヤツプ・デプスを把握
することが出来、例えばａ−b4、a′−b4′まで導
通、ａ−b5、a′−b5′以後断線の状態では研摩は第
６図のＤ−D′線まで進んでいることが判る。尚、
この様な電気的測定方法ではターミナルへの接続
の手間および断線直前の確認等による微細な測定
が困難等の欠点はあるが、研摩治具への装填等に
よりレンズ系を近付け得ず光学的観察の不可能な
場合に非常に有効となる。
ギヤツプ・デプスを光学的にではなく電気的に測
定するようにした他の実施例を示し、具体的には
モニターパターン１１，１１′の各櫛歯１１a1…
１１a1′…に対応して夫々電気的に接続される接
続パターン１２，１２′を別途形成したものであ
る。尚、接続パターン１２，１２′はモニターパ
ターン１１，１１′と同時形成することが工程上
望ましい。この様にすれば接続パターン１２，１
２′のａ−bi、a′−bi′（＝１、２、…７）間の電
気的導通の正否によつてギヤツプ・デプスを把握
することが出来、例えばａ−b4、a′−b4′まで導
通、ａ−b5、a′−b5′以後断線の状態では研摩は第
６図のＤ−D′線まで進んでいることが判る。尚、
この様な電気的測定方法ではターミナルへの接続
の手間および断線直前の確認等による微細な測定
が困難等の欠点はあるが、研摩治具への装填等に
よりレンズ系を近付け得ず光学的観察の不可能な
場合に非常に有効となる。
(ヘ) 発明の効果
上述した如く本発明に依れば１つ若しくは複数
のヘツドコアの両側に形成されるモニターパター
ンに、ヘツドコアのテープ対接面側とは反対側に
夫々深さの異なる複数の櫛歯を形成して、斯る櫛
歯部の根本部分にてギヤツプ・デプスを規制（即
ち、テープ対接面側から櫛歯部の根本までの距離
にて規制）するようにしているため、レジストの
密着不足等により設計形状との間に誤差を生じる
櫛歯部の先端部分をギヤツプ・デプスの規定にも
ちいていた従来方法に比べて、所望のギヤツプ・
デプスを精度よく得ることが出来る。
のヘツドコアの両側に形成されるモニターパター
ンに、ヘツドコアのテープ対接面側とは反対側に
夫々深さの異なる複数の櫛歯を形成して、斯る櫛
歯部の根本部分にてギヤツプ・デプスを規制（即
ち、テープ対接面側から櫛歯部の根本までの距離
にて規制）するようにしているため、レジストの
密着不足等により設計形状との間に誤差を生じる
櫛歯部の先端部分をギヤツプ・デプスの規定にも
ちいていた従来方法に比べて、所望のギヤツプ・
デプスを精度よく得ることが出来る。
第１図は薄膜磁気ヘツドの基本構造例を示す外
観斜視図、第２図ａ，ｂが従来のモニターパター
ン形成例を示す平面図とそのＡ−A′断面図、第
３図ａ，ｂはその他のモニターパターン形成例を
示す平面図とそのＢ−B′断面図、第４図はその
要部拡大図、第５図ａ，ｂは本考案の一実施例で
あるモニターパターン形成例を示す平面図とその
Ｃ−C′断面図、第６図は他の実施例を示す平面図
である。 １…基板、２…下部ヘツドコア、６…上部ヘツ
ドコア、１１，１１′…モニターパターン、１１
11〜１１8，１１a1′〜１１a8′…櫛歯。
観斜視図、第２図ａ，ｂが従来のモニターパター
ン形成例を示す平面図とそのＡ−A′断面図、第
３図ａ，ｂはその他のモニターパターン形成例を
示す平面図とそのＢ−B′断面図、第４図はその
要部拡大図、第５図ａ，ｂは本考案の一実施例で
あるモニターパターン形成例を示す平面図とその
Ｃ−C′断面図、第６図は他の実施例を示す平面図
である。 １…基板、２…下部ヘツドコア、６…上部ヘツ
ドコア、１１，１１′…モニターパターン、１１
11〜１１8，１１a1′〜１１a8′…櫛歯。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基板上にヘツドコア並びにコイル用等の各パ
ターンを夫々形成して薄膜磁気ヘツドを構成する
際に、１つ若しくは複数のヘツドコアの両側にギ
ヤツプ・デプスを規定するためのモニターパター
ンを形成し、該モニターパターンはヘツドコアの
テープ対接面側とは反対側に夫々深さの異なる複
数の櫛歯が形成されるとともに、ヘツドコアのテ
ープ対接面側において前記複数の櫛歯の端が直線
上に連設されており、而してテープ対接面側の研
摩時に研摩面側に露出したモニターパターンの欠
落櫛歯数にてギヤツプ・デプスを規定する事を特
徴とした薄膜磁気ヘツドの製造方法。 ２ 前記基板上に前記モニターパターンの各櫛歯
に対応して夫々電気的に接続される接続パターン
を形成し、該接続パターンの電気的導通状態によ
つて前記ギヤツプ・デプスを把握することを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の薄膜磁気ヘツ
ドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9970183A JPS59223919A (ja) | 1983-06-03 | 1983-06-03 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9970183A JPS59223919A (ja) | 1983-06-03 | 1983-06-03 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59223919A JPS59223919A (ja) | 1984-12-15 |
| JPH059841B2 true JPH059841B2 (ja) | 1993-02-08 |
Family
ID=14254355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9970183A Granted JPS59223919A (ja) | 1983-06-03 | 1983-06-03 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59223919A (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5629832A (en) * | 1979-08-10 | 1981-03-25 | Nec Corp | Manufacture for thin film magnetic head |
| JPS5794923A (en) * | 1980-12-05 | 1982-06-12 | Hitachi Ltd | Polishing method for thin-film ceramic head |
| JPS57162115A (en) * | 1981-03-30 | 1982-10-05 | Nec Corp | Thin-film magnetic head element |
| JPS5852631U (ja) * | 1981-10-02 | 1983-04-09 | 松下電器産業株式会社 | 薄膜磁気ヘツドの接続装置 |
-
1983
- 1983-06-03 JP JP9970183A patent/JPS59223919A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59223919A (ja) | 1984-12-15 |
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