JPH06105500B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は磁気記録媒体は、特に高分子フイルム上に強磁
性金属から成る磁気記録層を配したいわゆる金属薄膜型
の磁気記録媒体に関するものである。

従来の技術 従来、磁気記録層として広く実用に供されているもの
は、γ−Fe₂O₃,CoをドープしたγFe₂O₃，CrO₂、或いはF
e等の強磁性合金微小粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体，スチレンブタジエン共重合体，エポキ
シ樹脂等の有機バインダー中に分散させて高分子フイル
ム等の基板上に塗布，乾燥させた塗布型磁性層である。

近年、高密度記録への要求の高まりと共に、スパッタリ
ング，イオンプレーティング，湿式めっき法，電子ビー
ム蒸着法等で形成した強磁性金属薄膜を磁気記録層とす
る金属薄膜型が注目され実用化へ向けて各方面で努力が
続けられている。

しかしながら、これらは従来の塗布型のものに比較して
走行中にヘッドとの接触により、磁気記録層が剥離した
り、傷ついたりする欠点を有していた。第２図は従来の
磁気記録媒体の拡大断面図である。第２図において、１
はポリエチレンテレフタレート等の高分子フイルム、２
は例えばCo−Ni−Ｏから成る斜め蒸着膜から成る磁気記
録層である。３は保護膜である。

上記保護膜３により上記磁気記録層に起る破壊現象を極
力抑制することが考えられ、多くの提案がなされてい
る。（例えば特開昭52−153707号，特開昭53−88704
号，特開昭59−171026号の公報参照） 更に、高分子フイルム１として、特開昭59−84928号，
特開昭59−121631号の公報に開示されたものを用いるこ
とで、磁気ヘッドとの真実接触面積を減らすことによ
り、耐すり傷性や走行性をより改良できることが知られ
ている。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記したような構成では、使用される磁気
ヘッドがフェライトヘッドから合金系ヘッドに移行し、
使用される環境範囲が広くなると、磁気ヘッドとの相性
が不十分となり、エンベロープが良好な状態に保持でき
る時間が短かくなるという問題点を有していた。

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために本発明の磁気記録媒体は、
高分子フイルム上に第１微粒子塗布層，磁性金属薄膜，
第２微粒子塗布層，強磁性金属薄膜を積層して成り、か
つ前記第１微粒子塗布層の微粒子サイズを前記第２微粒
子塗布層の微粒子サイズより50〜150Å大きくしたとい
うような構成を備えたものである。

作用 本発明は上記した構成により、磁気ヘッド前面より受け
る衝撃応力を第１微粒子の作る形状突起が受け、高分子
フイルム上にその第１微粒子はあるので、瞬間に高分子
が厚み方向に圧縮され、その応力を緩和することができ
る。

一方、第２微粒子は磁性金属薄膜上にあるから前記高分
子フイルムの圧縮に相当する応力緩和作用がないので、
逆にヘッド前面を微小量研磨することになる。この両者
の作用がうまくかみ合って、磁気ヘッドと磁気記録媒体
の接触状態は良好に保持され、短波長記録再生において
も良好なエンベロープを保つことができるのである。

実施例 以下、本発明の実施例の磁気記録媒体について図面を参
照しながら説明する。

第１図は本発明の磁気記録媒体の一例の拡大断面図であ
る。

第１図において、４は高分子フイルムで、厚みが10μｍ
のポリエチレン２−６ナフタレートである。

５は第１微粒子塗布層で、微粒子６と微粒子６を高分子
フイルム４に固定するための樹脂から成っている。

第２微粒子塗布層９も同様で、微粒子10と樹脂11から成
っている。

微粒子6,10はTiO₂粒子で、平均粒子径は６が220Å,10が
140Åである。この両者間の粒子径差は50Åから150Åの
範囲が好ましい。粒子径差が50Å以下ではヘッド前面の
研磨量が少なすぎて出力が不安定になり、150Å以上で
は短波長記録特性が劣化するからである。

粒子密度は６の方が10ケ／（μｍ）^２,10の方が７ケ／
（μｍ）^２としたが、この両者の関係は実験的に最適化
すればよいものである。

それぞれの微粒子塗布層は、エポキシ樹脂とTiO₂微粒子
を溶剤中に分散させ、この溶液を塗布，乾燥する方法に
より形成した。

磁性金属薄膜８は80％Ni−20％Feのパーマロイ薄膜を高
周波マグネトロンスパッタリング法により0.22μｍ形成
したものを用いた。使用した高周波は13.56（MHz）で最
高出力３（KW）で、Arガス圧0.025（Torr）で、直径50c
mの140℃の円筒キャンに沿わせて、高分子フイルムを移
動させながら薄膜形成を行った。

強磁性金属薄膜12は20％Cr−80％Coをターゲットにし
て、パーマロイ薄膜の形成に用いたスパッタ装置によ
り、0.12μｍ形成したものを用いた。垂直方向の保磁力
は850（Oe）である。

表面に滑剤として、ステアリン酸を25Å真空蒸着して、
8mm幅の磁気テープを得て評価した。

用いた磁気ヘッドはリング型の磁気ヘッドで、Co−Ｂ系
のアモルファス合金ヘッドでギャップ長は0.19μm,コア
幅は150μｍで、記録周波数は0.66μｍで、エンベロー
プ比較は、パーセント表示で、最大出力で最小出力を割
った割合で示してある。評価に利用したビデオテープレ
コーダは市販の8mmビデオシステムを再調整したもので
ある。

本実施例の効果を明らかにするために、比較テープとし
て、第１微粒子と第２微粒子を混合して、ひとつの微粒
子塗布層とし、その上に本発明の実施例と同様にパーマ
ロイ,Co−Cr薄膜，ステアリン酸蒸着膜を形成して得た
ものを用いた。磁気ヘッド使用時間1000時間での比較を
次表に示した。

以上のように本実施例によれば、粒子サイズの大きい第
１微粒子塗布層の上に磁性金属薄膜、その上に粒子サイ
ズの小さい第２微粒子塗布層、強磁性金属薄膜を積層す
ることで、合金ヘッドを用いて高密度磁気記録再生を長
時間行っても、再生エンベロープ波形率は90％以上を保
つことができることがわかる。

なお本実施例において、高分子フイルムは厚み10μｍの
ポリエチレン２−６ナフタレートとしたが、厚みは3.5
μｍから60μｍまで、材質としてはポリエチレンテレフ
タレート，ポリアミド，ポリスルフォン，ポリフェニレ
ンサルファイド，ポリカーボネート，ポリイミド等でも
よい。また媒体はテープ状に限らず、ディスク状，シー
ト状でもよいのは勿論である。

また、微粒子はTiO₂としたが、他にSiO₂，CaCO₃，Al
₂O₃,PbO,Fe₃O₄等でもよい。樹脂はエポキシとしたが、
他にポリエステル，ポリアミド，ポリスチレン，ポリカ
ーボネート，ポリスルフォン，ポリエーテルスルフォ
ン，ポリアリレート，ポリアクリレート，シリコーン，
ウレタン，フェノール等でもよい。

磁性金属薄膜はパーマロイとしたが、他の軟磁性薄膜,C
o−Cr,Co−Ti,Co−Fe,Co−O,Co−Mn,Co−Mo等の強磁性
金属薄膜でもよい。

強磁性金属薄膜はCo−Cr垂直磁化膜としたが、内面磁化
膜でもよく、材質はCo−Cu,Co−Ag,Co−Au,Co−Pt,Co−
Rh,Co−Ru,Co−Mg,Co−Fe,Co−Ni,Co−Sb,Co−Sn,Co−M
o,Co−W,Co−Ni−Ｏ等でもよい。

いずれの薄膜の形成方法も、電子ビーム蒸着法，イオン
プレーティング法，湿式めっき法が他に適している。

なお、第１微粒子，第２微粒子，磁性金属薄膜，強磁性
金属薄膜はそれぞれ材質の組み合わせは自由である。

発明の効果 以上のように本発明によれば、合金系磁気ヘッドを用い
た高密度磁気記録再生における再生エンベロープ波形を
各種の環境条件下で長時間良好に保つことができるとい
ったすぐれた効果が得られるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例に係る磁気記録媒体の拡大断
面図、第２図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図であ
る。 ４……高分子フイルム、５……第１微粒子塗布層、８…
…磁性金属薄膜、９……第２微粒子塗布層、12……強磁
性金属薄膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】高分子フィルム上に第１微粒子塗布層、強
   磁性金属薄膜、第２微粒子塗布層、強磁性金属薄膜を積
   層して成り、かつ前記第１微粒子塗布層の微粒子サイズ
   を前記第２微粒子塗布層の微粒子サイズより50〜150Å
   大きくしたことを特徴とする磁気記録媒体。