JPH0612802Y2 - 噴霧乾燥装置 - Google Patents
噴霧乾燥装置Info
- Publication number
- JPH0612802Y2 JPH0612802Y2 JP14559087U JP14559087U JPH0612802Y2 JP H0612802 Y2 JPH0612802 Y2 JP H0612802Y2 JP 14559087 U JP14559087 U JP 14559087U JP 14559087 U JP14559087 U JP 14559087U JP H0612802 Y2 JPH0612802 Y2 JP H0612802Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- spray
- undiluted solution
- stock solution
- rotating disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Nozzles (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、噴霧乾燥装置、特に回転ディスクの原液分割
ピンに突出部を設け、原液の外部への飛散を抑制した噴
霧乾燥装置に関する。
ピンに突出部を設け、原液の外部への飛散を抑制した噴
霧乾燥装置に関する。
噴霧乾燥装置は基本的に、原液の噴霧、噴霧された
微小液滴の乾燥、微粉体製品の分離回収という三つの
機能を必須としており、噴霧乾燥装置には各々に対応し
て、通常、噴霧器、乾燥室及び微粉体回収器が装備され
ている。
微小液滴の乾燥、微粉体製品の分離回収という三つの
機能を必須としており、噴霧乾燥装置には各々に対応し
て、通常、噴霧器、乾燥室及び微粉体回収器が装備され
ている。
このような噴霧乾燥装置の例として、従来、例えば第2
図に示すものが知られている。(実開昭58−2695
0号公報参照) 第2図の噴霧乾燥装置においては、乾燥室11内で回転
ディスク10から噴霧された原液が入口12から吹き込
まれた熱風によって瞬間的に加熱され、液体成分は蒸発
され、固体成分は微粉体とされる。微粉体は下部より製
品として取出され、一方熱風は、排気口13を通った
後、降温処理されて大気に開放される。
図に示すものが知られている。(実開昭58−2695
0号公報参照) 第2図の噴霧乾燥装置においては、乾燥室11内で回転
ディスク10から噴霧された原液が入口12から吹き込
まれた熱風によって瞬間的に加熱され、液体成分は蒸発
され、固体成分は微粉体とされる。微粉体は下部より製
品として取出され、一方熱風は、排気口13を通った
後、降温処理されて大気に開放される。
このような噴霧乾燥装置の回転ディスクとしては、従
来、第3図に示すように、ステンレス等の金属製回転デ
ィスク1の外周部に多数の分割ピン3を立設してなるも
のが用いられており、これを高速回転させることによ
り、均一に原液を噴霧せんとしていた。
来、第3図に示すように、ステンレス等の金属製回転デ
ィスク1の外周部に多数の分割ピン3を立設してなるも
のが用いられており、これを高速回転させることによ
り、均一に原液を噴霧せんとしていた。
一般に、大型・多量の回転ディスクの場合にあっては、
原液投入口4をシャフト2のまわりに多数設けることが
できるため、分割ピン3を介しての噴霧パターンはほぼ
均一となる。しかしながら、小型・少量の回転ディスク
にあっては、原液投入口4を多数設けることは構造上不
可能であって、原液投入口4の数は精々2個であり、そ
の結果、第4図のAに示すように、噴霧パターンが原液
投入口4の位置に依存してパターンが偏り、均一な噴霧
パターンが得られない、という不都合があった。
原液投入口4をシャフト2のまわりに多数設けることが
できるため、分割ピン3を介しての噴霧パターンはほぼ
均一となる。しかしながら、小型・少量の回転ディスク
にあっては、原液投入口4を多数設けることは構造上不
可能であって、原液投入口4の数は精々2個であり、そ
の結果、第4図のAに示すように、噴霧パターンが原液
投入口4の位置に依存してパターンが偏り、均一な噴霧
パターンが得られない、という不都合があった。
そこで、本考案者らは上記した従来技術の問題点に鑑み
鋭意研究した結果、回転ディスクの分割ピンに突出部を
設けて原液の外部への飛散を抑制することにより上記の
問題点を解決できることを見出し、本発明に到達したも
のである。
鋭意研究した結果、回転ディスクの分割ピンに突出部を
設けて原液の外部への飛散を抑制することにより上記の
問題点を解決できることを見出し、本発明に到達したも
のである。
即ち、本考案によれば、原液を回転ディスクを用いて微
小液滴に噴霧したものを乾燥して原液から直ちに粉体を
製造する噴霧乾燥装置において、該回転ディスクの原液
分割ピンに、原液の外部への飛散を抑制するための突出
部を設けたことを特徴とする噴霧乾燥装置、が提供され
る。
小液滴に噴霧したものを乾燥して原液から直ちに粉体を
製造する噴霧乾燥装置において、該回転ディスクの原液
分割ピンに、原液の外部への飛散を抑制するための突出
部を設けたことを特徴とする噴霧乾燥装置、が提供され
る。
回転ディスクの外周部に設ける原液分割のためのピン
は、それぞれ基本的には円柱状をなし、それらの外部
に、ディスクの回転方向からみて後側であって、ディス
クのほぼ接線方向に突出部を有する構造、あるいはディ
スクの回転方向に合せた流線形構造とすることが、噴霧
量の片寄りのない、周方向への均一な噴霧パターンが得
られることから好ましい。
は、それぞれ基本的には円柱状をなし、それらの外部
に、ディスクの回転方向からみて後側であって、ディス
クのほぼ接線方向に突出部を有する構造、あるいはディ
スクの回転方向に合せた流線形構造とすることが、噴霧
量の片寄りのない、周方向への均一な噴霧パターンが得
られることから好ましい。
回転ディスクの原液分割ピンに突出部を設けると、原液
の外部への飛散を抑御するため、云い換えれば、原液が
回転ディスクの外へ飛散し難くなるため、原液供給口の
位置に依存しない、周方向に均一な噴霧がなされる。
の外部への飛散を抑御するため、云い換えれば、原液が
回転ディスクの外へ飛散し難くなるため、原液供給口の
位置に依存しない、周方向に均一な噴霧がなされる。
以下、本考案を添付図面に示す実施例に基づいて更に詳
細に説明する。
細に説明する。
第1図は本発明に係る噴霧乾燥装置に使用する回転ディ
スクの一実施例を示すものである。図において、ステン
レス等の金属製回転ディスク1の外周部には多数の原液
分割ピン3が設けられている。この原液分割ピン3は、
ディスクの回転方向に合せた流線形を有している。ま
た、原液投入口4はシャフト2のまわりに2個設けられ
ている。
スクの一実施例を示すものである。図において、ステン
レス等の金属製回転ディスク1の外周部には多数の原液
分割ピン3が設けられている。この原液分割ピン3は、
ディスクの回転方向に合せた流線形を有している。ま
た、原液投入口4はシャフト2のまわりに2個設けられ
ている。
以上の構成において、原液が原液投入口4より回転ディ
スク1内に導入され、原液分割ピン3を介して周方向に
噴霧されるのであるが、原液分割ピン3の形状が上記の
通り、ディスクの回転方向に合せた流線形を有し、原液
の外部への飛散を或る程度抑制しているので、原液が原
液投入口4の近くのみから外部に噴霧されるのでなく、
第4図のBに示すように、原液投入口4の遠くに位置す
る原液分割ピン3からも外部に噴霧される。
スク1内に導入され、原液分割ピン3を介して周方向に
噴霧されるのであるが、原液分割ピン3の形状が上記の
通り、ディスクの回転方向に合せた流線形を有し、原液
の外部への飛散を或る程度抑制しているので、原液が原
液投入口4の近くのみから外部に噴霧されるのでなく、
第4図のBに示すように、原液投入口4の遠くに位置す
る原液分割ピン3からも外部に噴霧される。
このように噴霧された微小液滴は、次いでその周りから
吹き込まれる熱風により瞬間的に乾燥させられ、微粉体
が生成される。微粉体は下部より製品として取出され、
一方熱風は排気口13を通った後、所定の降温処理を施
されて大気に開放される。
吹き込まれる熱風により瞬間的に乾燥させられ、微粉体
が生成される。微粉体は下部より製品として取出され、
一方熱風は排気口13を通った後、所定の降温処理を施
されて大気に開放される。
以下、本考案の噴霧乾燥装置をさらに具体的に説明す
る。
る。
(実施例) 第1図及び第3図に示す形式の直径84mmの噴霧ディス
クを用い、乾燥対象物として安定化ジルコニア(Ca0.
15Zr0.85O1.85)を原液濃度60%、処理量30kg/
Hrの割合で噴霧した。乾燥室は直径2000mm、直胴
高さ1500mm、全高3500mmの上部が円筒形、下部
がロート状のものを使用した。また、熱風の入口温度は
220℃とし、排風温度は110℃であった。
クを用い、乾燥対象物として安定化ジルコニア(Ca0.
15Zr0.85O1.85)を原液濃度60%、処理量30kg/
Hrの割合で噴霧した。乾燥室は直径2000mm、直胴
高さ1500mm、全高3500mmの上部が円筒形、下部
がロート状のものを使用した。また、熱風の入口温度は
220℃とし、排風温度は110℃であった。
以上の条件で原液の噴霧乾燥運転を行なった。その結果
製品微粉体の性状は下記の通りであった。
製品微粉体の性状は下記の通りであった。
〔考案の効果〕 以上説明した通り、本考案の噴霧乾燥装置によれば、回
転ディスクの原液分割ピンに、原液の外部への飛散を抑
御するための突出部を設けたので、原液の噴霧パターン
が原液投入口の位置に依存しない、均一な噴霧パターン
が得られるという利点がある。
転ディスクの原液分割ピンに、原液の外部への飛散を抑
御するための突出部を設けたので、原液の噴霧パターン
が原液投入口の位置に依存しない、均一な噴霧パターン
が得られるという利点がある。
また、乾燥室への未乾燥付着も減少し、収率の増大が図
れるという利点がある。
れるという利点がある。
第1図は本考案に係る噴霧乾燥装置に使用する回転ディ
スクの一実施例を示すもので、(イ)は断面図、(ロ)
は平面図、第2図は噴霧器として回転ディスクを用いた
噴霧乾燥装置を示す説明図、第3図は従来装置における
回転ディスクの一例を示すもので、(イ)は断面図、
(ロ)は平面図、第4図は本考案および従来の分割ピン
を用いた場合の噴霧パターンを示す説明図である。 1…回転ディスク、2…回転軸、3…原液分割ピン、4
…原液投入口。
スクの一実施例を示すもので、(イ)は断面図、(ロ)
は平面図、第2図は噴霧器として回転ディスクを用いた
噴霧乾燥装置を示す説明図、第3図は従来装置における
回転ディスクの一例を示すもので、(イ)は断面図、
(ロ)は平面図、第4図は本考案および従来の分割ピン
を用いた場合の噴霧パターンを示す説明図である。 1…回転ディスク、2…回転軸、3…原液分割ピン、4
…原液投入口。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 高橋 弘毅 東京都中央区日本橋1丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)考案者 大川原 正明 神奈川県横浜市緑区池辺町3847 大川原化 工機株式会社内 (72)考案者 小林 克己 神奈川県横浜市緑区池辺町3847 大川原化 工機株式会社内 (72)考案者 伊藤 崇 神奈川県横浜市緑区池辺町3847 大川原化 工機株式会社内 (56)参考文献 実開 昭62−179052(JP,U)
Claims (3)
- 【請求項1】原液を回転ディスクを用いて微小液滴に噴
霧したものを乾燥して原液から直ちに粉体を製造する噴
霧乾燥装置において、該回転ディスクの原液分割ピン
に、原液の外部への飛散を抑制するための突出部を設け
たことを特徴とする噴霧乾燥装置。 - 【請求項2】原液分割ピンが、円柱状を基本形とし、そ
の外部に、ディスクの回転方向からみて後側であって、
ディスクのほぼ接線方向に突出部を有する形状である実
用新案登録請求の範囲第1項記載の噴霧乾燥装置。 - 【請求項3】原液分割ピンが、ディスクの回転方向に合
せた流線形を有するものである実用新案登録請求の範囲
第1項記載の噴霧乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14559087U JPH0612802Y2 (ja) | 1987-09-24 | 1987-09-24 | 噴霧乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14559087U JPH0612802Y2 (ja) | 1987-09-24 | 1987-09-24 | 噴霧乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6452503U JPS6452503U (ja) | 1989-03-31 |
| JPH0612802Y2 true JPH0612802Y2 (ja) | 1994-04-06 |
Family
ID=31414315
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14559087U Expired - Lifetime JPH0612802Y2 (ja) | 1987-09-24 | 1987-09-24 | 噴霧乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0612802Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-09-24 JP JP14559087U patent/JPH0612802Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6452503U (ja) | 1989-03-31 |
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