JPH06150401A - 光ディスクの製造方法 - Google Patents
光ディスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH06150401A JPH06150401A JP29271792A JP29271792A JPH06150401A JP H06150401 A JPH06150401 A JP H06150401A JP 29271792 A JP29271792 A JP 29271792A JP 29271792 A JP29271792 A JP 29271792A JP H06150401 A JPH06150401 A JP H06150401A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical disk
- substrate
- resin
- protective coat
- plasma etching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 樹脂基板、記録膜および樹脂からなる保護コ
ートを有する光ディスクの製造方法であって、基板にお
ける保護コートとの接触面をプラスマエッチング処理ま
たは溶剤処理する工程を含むことを特徴とする。 【効果】 保護コートと光ディスク基板との密着性が高
く、長時間使用しても光ディスク性能の低下がない。
ートを有する光ディスクの製造方法であって、基板にお
ける保護コートとの接触面をプラスマエッチング処理ま
たは溶剤処理する工程を含むことを特徴とする。 【効果】 保護コートと光ディスク基板との密着性が高
く、長時間使用しても光ディスク性能の低下がない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光ディスクの製造方法に
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザー光などの光ビームを用いて情報
を記録する円盤状記録媒体（以下、光ディスクとい
う。）の記録膜は一般に、酸化、腐食等を受け易い材料
からなるため紫外線硬化樹脂などによって保護コートさ
れている。光ディスクの使用寿命は一般に１０年以上が
必要とされており、１０年以上にわたって記録膜の劣化
を防止するためには、保護コート剤の酸素透過性および
水分透過性が一定値以下であるとともに、コート膜と記
録膜および光ディスク基板との密着性が高いことが要求
される。
を記録する円盤状記録媒体（以下、光ディスクとい
う。）の記録膜は一般に、酸化、腐食等を受け易い材料
からなるため紫外線硬化樹脂などによって保護コートさ
れている。光ディスクの使用寿命は一般に１０年以上が
必要とされており、１０年以上にわたって記録膜の劣化
を防止するためには、保護コート剤の酸素透過性および
水分透過性が一定値以下であるとともに、コート膜と記
録膜および光ディスク基板との密着性が高いことが要求
される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】スピンコート法などに
より塗布された後、紫外線を照射するなどして硬化され
た記録膜の保護コート剤は、光ディスクを長時間使用す
るうちに、コート剤が劣化する、基板が劣化する、接触
界面へ水分が進入するなどの理由によって性能が低下
し、記録膜の劣化をひきおこすことがあった。特にコー
ト剤と光ディスク基板との密着性が低いと、光ディスク
の端面から酸素および水分が進入し、記録膜を著しく劣
化することがあった。
より塗布された後、紫外線を照射するなどして硬化され
た記録膜の保護コート剤は、光ディスクを長時間使用す
るうちに、コート剤が劣化する、基板が劣化する、接触
界面へ水分が進入するなどの理由によって性能が低下
し、記録膜の劣化をひきおこすことがあった。特にコー
ト剤と光ディスク基板との密着性が低いと、光ディスク
の端面から酸素および水分が進入し、記録膜を著しく劣
化することがあった。
【０００４】本発明の目的は、保護コートと光ディスク
外周部および内周部の光ディスク基板の露出部との密着
強度が高く、長時間使用しても保護コートの剥離がなく
良好な記録膜保護性能が維持される光ディスクの製造方
法を提供することにある。
外周部および内周部の光ディスク基板の露出部との密着
強度が高く、長時間使用しても保護コートの剥離がなく
良好な記録膜保護性能が維持される光ディスクの製造方
法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、樹脂基板、記録膜および樹脂からなる保護コー
トを有する光ディスクの製造方法であって、基板におけ
る保護コートとの接触面をプラスマエッチングする工程
または溶剤で処理する工程を含む光ディスクの製造方法
を提供することにより達成される。
目的は、樹脂基板、記録膜および樹脂からなる保護コー
トを有する光ディスクの製造方法であって、基板におけ
る保護コートとの接触面をプラスマエッチングする工程
または溶剤で処理する工程を含む光ディスクの製造方法
を提供することにより達成される。
【０００６】プラスマエッチング処理の条件としては、
高周波電力が１００〜１０００Ｗの範囲で、処理時間が
６０〜６００秒であることが、高い密着力が得られ、基
板材料が劣化することがないことから好ましい。プラス
マエッチング処理におけるエッチングガスとしては、Ｎ
ｅ，Ａｒ，Ｋｒ，Ｘｅ等の不活性ガスを用いることが好
ましく、ガス圧としては、１×１０-1〜１×１０-4Ｔｏ
ｒｒの範囲が好ましい。
高周波電力が１００〜１０００Ｗの範囲で、処理時間が
６０〜６００秒であることが、高い密着力が得られ、基
板材料が劣化することがないことから好ましい。プラス
マエッチング処理におけるエッチングガスとしては、Ｎ
ｅ，Ａｒ，Ｋｒ，Ｘｅ等の不活性ガスを用いることが好
ましく、ガス圧としては、１×１０-1〜１×１０-4Ｔｏ
ｒｒの範囲が好ましい。
【０００７】一方、溶剤処理する工程で用いられる溶剤
としては、溶解度パラメータが９．０〜１０．０のもの
であることが好ましい。このような溶剤としては、アセ
トン（溶解度パラメータ：９．７７）、トリクレン（溶
解度パラメータ：９．２８）、酢酸エチル（溶解度パラ
メータ：９．１）、ベンゼン（溶解度パラメータ：９．
２）、クロロホルム（溶解度パラメータ：９．３）、ク
ロロベンゼン（溶解度パラメータ：９．５）等の有機溶
剤が挙げられ、アセトンが最も好ましい。
としては、溶解度パラメータが９．０〜１０．０のもの
であることが好ましい。このような溶剤としては、アセ
トン（溶解度パラメータ：９．７７）、トリクレン（溶
解度パラメータ：９．２８）、酢酸エチル（溶解度パラ
メータ：９．１）、ベンゼン（溶解度パラメータ：９．
２）、クロロホルム（溶解度パラメータ：９．３）、ク
ロロベンゼン（溶解度パラメータ：９．５）等の有機溶
剤が挙げられ、アセトンが最も好ましい。
【０００８】本発明における基板としては、ポリエステ
ル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカ
ーボネイト樹脂、ポリメタクリル樹脂等の透明性に優れ
た透明樹脂材料またはガラス等の無機材料より得られる
ものを用いることができる。当該樹脂基板は、カレンダ
リング法、射出成形法、射出圧縮成形法、圧縮成形法、
フォトポリマー（２Ｐ）法等の任意の方法により成形さ
れたものが使用できる。また、保護コート剤としては紫
外線硬化型のものが一般的に用いられ、酸素透過性およ
び水分透過性が低いものが望ましい。さらに金属とも樹
脂とも密着力の高いものが望ましいが、本発明によれば
密着力の低いコート剤と光ディスク基板樹脂との組み合
せも可能である。使用されるコート剤としては、アクリ
レート化合物、例えばエポキシアクリレート、ウレタン
アクリレート、ポリエステルアクリレート等をあげるこ
とができる。これらのコート剤はスピンコート法、ディ
ップ法、シャワー法等の任意の方法で塗布することがで
きる。
ル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカ
ーボネイト樹脂、ポリメタクリル樹脂等の透明性に優れ
た透明樹脂材料またはガラス等の無機材料より得られる
ものを用いることができる。当該樹脂基板は、カレンダ
リング法、射出成形法、射出圧縮成形法、圧縮成形法、
フォトポリマー（２Ｐ）法等の任意の方法により成形さ
れたものが使用できる。また、保護コート剤としては紫
外線硬化型のものが一般的に用いられ、酸素透過性およ
び水分透過性が低いものが望ましい。さらに金属とも樹
脂とも密着力の高いものが望ましいが、本発明によれば
密着力の低いコート剤と光ディスク基板樹脂との組み合
せも可能である。使用されるコート剤としては、アクリ
レート化合物、例えばエポキシアクリレート、ウレタン
アクリレート、ポリエステルアクリレート等をあげるこ
とができる。これらのコート剤はスピンコート法、ディ
ップ法、シャワー法等の任意の方法で塗布することがで
きる。
【０００９】
【作用】プラスマエッチング処理または溶剤処理により
樹脂表面の不純物が除去され、また、樹脂表面に活性種
が発現するため、光ディスクの樹脂基板と保護コートと
の密着強度の向上が図れ、長時間の経過後、または過酷
な条件下において使用されても密着力の低下が起きにく
く、記録膜の保護性能が保持される。
樹脂表面の不純物が除去され、また、樹脂表面に活性種
が発現するため、光ディスクの樹脂基板と保護コートと
の密着強度の向上が図れ、長時間の経過後、または過酷
な条件下において使用されても密着力の低下が起きにく
く、記録膜の保護性能が保持される。
【００１０】
【実施例】以下に本発明の実施例について説明する。 実施例１ 射出成形によって作製された、厚さ１．２ｍｍ、内径１
５ｍｍ、外径１３０ｍｍのポリカーボネイト製透明円形
基板上の半径１８〜２３ｍｍ、６３〜６５ｍｍの部分を
プラスマエッチング装置によりプラスマエッチング処理
（アルゴンガス雰囲気下で高周波電力：３００Ｗ、１８
０秒間）した後、ＴｂＦｅＣｏ膜、ＳｉＮ膜等が積層さ
れた光磁気記録膜を成膜し、ウレタンアクリレートから
なる紫外線硬化型保護コート剤をスピンコート法によっ
て塗布し、紫外線を照射して硬化させた。当該基板を保
護コートの側を内側にしてホットメルト接着剤で二枚貼
合わせた後、紫外線硬化型接着剤でハブを接着し、光デ
ィスクを作製した。 実施例２ 実施例１において、プラスマエッチングの条件を１００
Ｗ、６００秒間とした他は同様にして、光ディスクを作
製した。 実施例３ 実施例１において、プラスマエッチングの条件を１００
０Ｗ、６０秒間とした他は同様にして、光ディスクを作
製した。 実施例４ 実施例１において、プラスマエッチングの条件を５００
Ｗ、３００秒間とした他は同様にして、光ディスクを作
製した。 実施例５ 射出成形によって作製された、厚さ１．２ｍｍ、内径１
５ｍｍ、外径１３０ｍｍのポリカーボネイト製透明円形
基板上の半径１８〜２３ｍｍ、６３〜６５ｍｍの部分に
アセトンを塗布して溶剤処理した後、ＴｂＦｅＣｏ膜、
ＳｉＮ膜等が積層された光磁気記録膜を成膜し、ウレタ
ンアクリレートの紫外線硬化型保護コート剤をスピンコ
ート法によって塗布し、紫外線を照射し硬化させた。当
該基板を保護コートの側を内側にしてホットメルト接着
剤で二枚を貼合わせた後、紫外線硬化型接着剤でハブを
接着し、光ディスクを作製した。 実施例６ 実施例５において、アセトンに代えてトリクレンを用い
た他は同様にして、光ディスクを作製した。 実施例７ 実施例５において、アセトンに代えて酢酸エチルを用い
た他は同様にして、光ディスクを作製した。 実施例８ 実施例５において、アセトンに代えてベンゼンを用いた
他は同様にして、光ディスクを作製した。
５ｍｍ、外径１３０ｍｍのポリカーボネイト製透明円形
基板上の半径１８〜２３ｍｍ、６３〜６５ｍｍの部分を
プラスマエッチング装置によりプラスマエッチング処理
（アルゴンガス雰囲気下で高周波電力：３００Ｗ、１８
０秒間）した後、ＴｂＦｅＣｏ膜、ＳｉＮ膜等が積層さ
れた光磁気記録膜を成膜し、ウレタンアクリレートから
なる紫外線硬化型保護コート剤をスピンコート法によっ
て塗布し、紫外線を照射して硬化させた。当該基板を保
護コートの側を内側にしてホットメルト接着剤で二枚貼
合わせた後、紫外線硬化型接着剤でハブを接着し、光デ
ィスクを作製した。 実施例２ 実施例１において、プラスマエッチングの条件を１００
Ｗ、６００秒間とした他は同様にして、光ディスクを作
製した。 実施例３ 実施例１において、プラスマエッチングの条件を１００
０Ｗ、６０秒間とした他は同様にして、光ディスクを作
製した。 実施例４ 実施例１において、プラスマエッチングの条件を５００
Ｗ、３００秒間とした他は同様にして、光ディスクを作
製した。 実施例５ 射出成形によって作製された、厚さ１．２ｍｍ、内径１
５ｍｍ、外径１３０ｍｍのポリカーボネイト製透明円形
基板上の半径１８〜２３ｍｍ、６３〜６５ｍｍの部分に
アセトンを塗布して溶剤処理した後、ＴｂＦｅＣｏ膜、
ＳｉＮ膜等が積層された光磁気記録膜を成膜し、ウレタ
ンアクリレートの紫外線硬化型保護コート剤をスピンコ
ート法によって塗布し、紫外線を照射し硬化させた。当
該基板を保護コートの側を内側にしてホットメルト接着
剤で二枚を貼合わせた後、紫外線硬化型接着剤でハブを
接着し、光ディスクを作製した。 実施例６ 実施例５において、アセトンに代えてトリクレンを用い
た他は同様にして、光ディスクを作製した。 実施例７ 実施例５において、アセトンに代えて酢酸エチルを用い
た他は同様にして、光ディスクを作製した。 実施例８ 実施例５において、アセトンに代えてベンゼンを用いた
他は同様にして、光ディスクを作製した。
【００１１】比較例１ 射出成形法によって作製された、厚さ１．２ｍｍ、内径
１５ｍｍ、外径１３０ｍｍのポリカーボネイト製透明円
形基板（プラスマエッチング処理および溶剤処理を行わ
ない）に実施例１と同じ記録膜を成膜し、ウレタンアク
リレートの紫外線硬化型保護コート剤をスピンコート法
によって塗布し、紫外線を照射し硬化させた。当該基板
を保護コートの側を内側にしてホットメルト接着剤で二
枚貼合わせた後、紫外線硬化型接着剤でハブを接着し、
光ディスクを作製した。
１５ｍｍ、外径１３０ｍｍのポリカーボネイト製透明円
形基板（プラスマエッチング処理および溶剤処理を行わ
ない）に実施例１と同じ記録膜を成膜し、ウレタンアク
リレートの紫外線硬化型保護コート剤をスピンコート法
によって塗布し、紫外線を照射し硬化させた。当該基板
を保護コートの側を内側にしてホットメルト接着剤で二
枚貼合わせた後、紫外線硬化型接着剤でハブを接着し、
光ディスクを作製した。
【００１２】上記各例の光ディスクにおいて、外周部の
ＣＮＲ（Ｃａｒｒｉｅｒ ｔｏ Ｎｏｉｓｅ Ｒａｔｉ
ｏ）を測定した結果を表１に示す。また、各例の光ディ
スクを温度８０℃、湿度８５％Ｒ．Ｈ．の環境下に２０
００時間放置し、その後、外周部のＣＮＲを測定した結
果を表２に示す。 表１ ＣＮＲ 実施例１ ５１ｄＢ 実施例２ ５２ｄＢ 実施例３ ５１ｄＢ 実施例４ ５４ｄＢ 実施例５ ５４ｄＢ 実施例６ ５１ｄＢ 実施例７ ５２ｄＢ 実施例８ ５１ｄＢ 比較例１ ５１ｄＢ 表２ 高温多湿下に放置後のＣＮＲ 実施例１ ５１ｄＢ 実施例２ ５２ｄＢ 実施例３ ５０ｄＢ 実施例４ ５３ｄＢ 実施例５ ５３ｄＢ 実施例６ ５１ｄＢ 実施例７ ５２ｄＢ 実施例８ ５０ｄＢ 比較例１ ４７ｄＢ
ＣＮＲ（Ｃａｒｒｉｅｒ ｔｏ Ｎｏｉｓｅ Ｒａｔｉ
ｏ）を測定した結果を表１に示す。また、各例の光ディ
スクを温度８０℃、湿度８５％Ｒ．Ｈ．の環境下に２０
００時間放置し、その後、外周部のＣＮＲを測定した結
果を表２に示す。 表１ ＣＮＲ 実施例１ ５１ｄＢ 実施例２ ５２ｄＢ 実施例３ ５１ｄＢ 実施例４ ５４ｄＢ 実施例５ ５４ｄＢ 実施例６ ５１ｄＢ 実施例７ ５２ｄＢ 実施例８ ５１ｄＢ 比較例１ ５１ｄＢ 表２ 高温多湿下に放置後のＣＮＲ 実施例１ ５１ｄＢ 実施例２ ５２ｄＢ 実施例３ ５０ｄＢ 実施例４ ５３ｄＢ 実施例５ ５３ｄＢ 実施例６ ５１ｄＢ 実施例７ ５２ｄＢ 実施例８ ５０ｄＢ 比較例１ ４７ｄＢ
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば、保護コートと光ディス
ク基板との密着性が高く、長時間使用しても性能が低下
することのない光ディスクを製造する方法を提供するこ
とができる。
ク基板との密着性が高く、長時間使用しても性能が低下
することのない光ディスクを製造する方法を提供するこ
とができる。
Claims (4)
- 【請求項１】 樹脂基板、記録膜および樹脂からなる保
護コートを有する光ディスクの製造方法であって、基板
における保護コートとの接触面をプラスマエッチングす
る工程を含むことを特徴とする光ディスクの製造方法。 - 【請求項２】 高周波電力が１００〜１０００Ｗの範囲
で、６０〜６００秒間プラスマエッチングすることを特
徴とする請求項１記載の光ディスクの製造方法。 - 【請求項３】 樹脂基板、記録膜および樹脂からなる保
護コートを有する光ディスクの製造方法であって、基板
における保護コートとの接触面を溶剤で処理する工程を
含むことを特徴とする光ディスクの製造方法。 - 【請求項４】 溶解度パラメータが９．０〜１０．０の
溶剤で処理することを特徴とする請求項３記載の光ディ
スクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29271792A JPH06150401A (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | 光ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29271792A JPH06150401A (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | 光ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06150401A true JPH06150401A (ja) | 1994-05-31 |
Family
ID=17785406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29271792A Pending JPH06150401A (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | 光ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06150401A (ja) |
-
1992
- 1992-10-30 JP JP29271792A patent/JPH06150401A/ja active Pending
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