JPH06160406A - 線速度計測方法及び線速度計測装置並びにその円盤 - Google Patents
線速度計測方法及び線速度計測装置並びにその円盤Info
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- JPH06160406A JPH06160406A JP32855992A JP32855992A JPH06160406A JP H06160406 A JPH06160406 A JP H06160406A JP 32855992 A JP32855992 A JP 32855992A JP 32855992 A JP32855992 A JP 32855992A JP H06160406 A JPH06160406 A JP H06160406A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な原理かつ一つの検出部で得られる半径
位置と回転数とから線速度を計測し、その構成を簡単化
してコストを低減する。 【構成】 線速度計測用円盤１０に一方の半径線に平行
に配置されたピット列又はスリット列を扇形で形成した
ピット部１２を設け、かつ、回転させる。そして、半径
ｒかつ矢印ｍ軌跡のようにレーザ光などを照射して、反
射光を検出し、一回転を走査した信号を得る。この信号
のにおける矢印ｍ軌跡の一回転分の時間ｔ1 と、ピット
部１２の扇形のピット列又はスリット列の区間を通過し
た時間ｔ2 と、ピット部１２のピットを検出したパルス
数ｎとから回転数ｆを得る。さらに、検出したパルス数
ｎから一回転で走査した軌跡の半径ｒを求める。求めた
回転数ｆと半径ｒから線速度ｖ＝ｒ・２πｆを求める。
位置と回転数とから線速度を計測し、その構成を簡単化
してコストを低減する。 【構成】 線速度計測用円盤１０に一方の半径線に平行
に配置されたピット列又はスリット列を扇形で形成した
ピット部１２を設け、かつ、回転させる。そして、半径
ｒかつ矢印ｍ軌跡のようにレーザ光などを照射して、反
射光を検出し、一回転を走査した信号を得る。この信号
のにおける矢印ｍ軌跡の一回転分の時間ｔ1 と、ピット
部１２の扇形のピット列又はスリット列の区間を通過し
た時間ｔ2 と、ピット部１２のピットを検出したパルス
数ｎとから回転数ｆを得る。さらに、検出したパルス数
ｎから一回転で走査した軌跡の半径ｒを求める。求めた
回転数ｆと半径ｒから線速度ｖ＝ｒ・２πｆを求める。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク原盤露光装
置などに利用し、計測した回転数及び半径値から線速度
を演算する線速度計測方法及び線速度計測装置並びにそ
の円盤に関する。
置などに利用し、計測した回転数及び半径値から線速度
を演算する線速度計測方法及び線速度計測装置並びにそ
の円盤に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光ディスク原盤露光装置などでは
ガラス原盤に光学系からレーザビームを照射して、映
像、音楽等の情報であるランド又は溝情報を形成してい
る。この場合、ガラス原盤はＣＬＶ（線速度）で回転駆
動される。したがって、正確に一定のランド又は溝情報
を形成するために線速度を知る必要がある。図８は、線
速度を計測できる光ディスク原盤露光装置の構成を示す
側面図である。この光ディスク原盤露光装置は、ガラス
原盤１がターンテーブル２に乗せ置かれる。そして、固
定位置に配置されたピックアップ３からレーザ光がガラ
ス原盤１に照射され、かつ、モータ４で回転される。同
時に横送りモータ５とエアスライダー６によって、この
全体が横方向に移動し、ガラス原盤１にピックアップ３
からのレーザ光がスパイラル状に照射される。さらに、
モータ４に取り付けられたロータリエンコーダ７ａが回
転し、かつ、この回転を回転数信号検出部７ｂで検出す
る。同時にマグネスケール８ａ、位置信号検出部８ｂで
横送りの量を検出する。このように従来の光ディスク原
盤露光装置では、ロータリエンコーダ７ａと回転数信号
検出部７ｂとで回転量を検出し、マグネスケール８ａと
位置信号検出部８ｂとで横送りの量を検出している。す
なわち、二つの検出部の組み合せで線速度を計測してい
る。なお図８において１０は回転数計測部、１１は半径
位置計測部である。
ガラス原盤に光学系からレーザビームを照射して、映
像、音楽等の情報であるランド又は溝情報を形成してい
る。この場合、ガラス原盤はＣＬＶ（線速度）で回転駆
動される。したがって、正確に一定のランド又は溝情報
を形成するために線速度を知る必要がある。図８は、線
速度を計測できる光ディスク原盤露光装置の構成を示す
側面図である。この光ディスク原盤露光装置は、ガラス
原盤１がターンテーブル２に乗せ置かれる。そして、固
定位置に配置されたピックアップ３からレーザ光がガラ
ス原盤１に照射され、かつ、モータ４で回転される。同
時に横送りモータ５とエアスライダー６によって、この
全体が横方向に移動し、ガラス原盤１にピックアップ３
からのレーザ光がスパイラル状に照射される。さらに、
モータ４に取り付けられたロータリエンコーダ７ａが回
転し、かつ、この回転を回転数信号検出部７ｂで検出す
る。同時にマグネスケール８ａ、位置信号検出部８ｂで
横送りの量を検出する。このように従来の光ディスク原
盤露光装置では、ロータリエンコーダ７ａと回転数信号
検出部７ｂとで回転量を検出し、マグネスケール８ａと
位置信号検出部８ｂとで横送りの量を検出している。す
なわち、二つの検出部の組み合せで線速度を計測してい
る。なお図８において１０は回転数計測部、１１は半径
位置計測部である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】したがって、従来例の
光ディスク原盤露光装置では、線速度の制御のために二
つの検出部が必要となり、構成が複雑化するという欠点
があった。
光ディスク原盤露光装置では、線速度の制御のために二
つの検出部が必要となり、構成が複雑化するという欠点
があった。
【０００４】本発明は、このような従来の技術における
欠点を解決するものであり、第１の目的として、半径位
置、回転数及び線速度が簡単な方法で計測ができる線速
度計測方法を提供する。第２の目的として、簡単な構成
によって高精度の半径位置、回転数及び線速度の計測が
可能になる線速度計測用円盤を提供する。第３の目的と
して、一つの検出部で得られる半径位置と回転数とから
線速度が精度良く計測ができ、その構成が簡単化してコ
ストを低減できる線速度計測装置を提供する。
欠点を解決するものであり、第１の目的として、半径位
置、回転数及び線速度が簡単な方法で計測ができる線速
度計測方法を提供する。第２の目的として、簡単な構成
によって高精度の半径位置、回転数及び線速度の計測が
可能になる線速度計測用円盤を提供する。第３の目的と
して、一つの検出部で得られる半径位置と回転数とから
線速度が精度良く計測ができ、その構成が簡単化してコ
ストを低減できる線速度計測装置を提供する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、第１の目的に対応する請求項１，２の線速度計測方
法では、被計測円盤の回転とともに固定位置から光を照
射して得られる反射光又は透過光を電気変換し、電気変
換したパルス列に含まれるパルス数から走査軌跡の半径
値を求め、パルス列の時間若しくはパルス列の開始部又
は終端間である被計測円盤の一回転時間から被計測円盤
の回転数を求めている。また回転数と半径値とから被計
測円盤の光の照射部分の線速度を求める。
に、第１の目的に対応する請求項１，２の線速度計測方
法では、被計測円盤の回転とともに固定位置から光を照
射して得られる反射光又は透過光を電気変換し、電気変
換したパルス列に含まれるパルス数から走査軌跡の半径
値を求め、パルス列の時間若しくはパルス列の開始部又
は終端間である被計測円盤の一回転時間から被計測円盤
の回転数を求めている。また回転数と半径値とから被計
測円盤の光の照射部分の線速度を求める。
【０００６】第２の目的に対応する請求項３，４の線速
度計測用円盤では、少なくとも一回転の走査軌跡の半径
値を求めるために、一方の半径線と平行かつ周囲の円盤
部材と反射率が異なるランド又は溝列若しくは円盤部材
を貫通したスリットとが、円盤部材の中心点から外側方
向に対して扇状に設けられる。またランド又は溝若しく
はスリットの両端部が重なることなく、複数の扇状のラ
ンド又は溝列若しくはスリット列を設けている。
度計測用円盤では、少なくとも一回転の走査軌跡の半径
値を求めるために、一方の半径線と平行かつ周囲の円盤
部材と反射率が異なるランド又は溝列若しくは円盤部材
を貫通したスリットとが、円盤部材の中心点から外側方
向に対して扇状に設けられる。またランド又は溝若しく
はスリットの両端部が重なることなく、複数の扇状のラ
ンド又は溝列若しくはスリット列を設けている。
【０００７】第３の目的に対応する請求項５の線速度計
測装置では、円盤部材の中心点から外側方向に対して扇
状に形成され、一方の半径線と平行に配置されたランド
又は溝列若しくはスリット列を有する線速度計測用円盤
と、少なくとも被計測円盤とともに線速度計測用円盤を
回転させる回転手段と、線速度計測用円盤のランド又は
溝列若しくはスリット列に光照射を行うとともに、受光
して光電変換したパルス列信号を得る線速度信号検出手
段と、線速度信号検出手段で得られた全ランド又は溝若
しくは全スリットからの光を電気変換した時にパルス列
に含まれるパルス数から走査軌跡の半径値を計測し、か
つ、パルス列の時間若しくはパルス列の開始部又は終端
間である線速度計測用円盤の一回転時間から被計測円盤
の回転数を計測する回転数・半径値計測手段と、回転数
・半径値計測手段で得られた回転数及び半径値から回転
手段で回転する少なくとも被計測円盤の線速度を演算す
る線速度演算手段とを備える構成としている。
測装置では、円盤部材の中心点から外側方向に対して扇
状に形成され、一方の半径線と平行に配置されたランド
又は溝列若しくはスリット列を有する線速度計測用円盤
と、少なくとも被計測円盤とともに線速度計測用円盤を
回転させる回転手段と、線速度計測用円盤のランド又は
溝列若しくはスリット列に光照射を行うとともに、受光
して光電変換したパルス列信号を得る線速度信号検出手
段と、線速度信号検出手段で得られた全ランド又は溝若
しくは全スリットからの光を電気変換した時にパルス列
に含まれるパルス数から走査軌跡の半径値を計測し、か
つ、パルス列の時間若しくはパルス列の開始部又は終端
間である線速度計測用円盤の一回転時間から被計測円盤
の回転数を計測する回転数・半径値計測手段と、回転数
・半径値計測手段で得られた回転数及び半径値から回転
手段で回転する少なくとも被計測円盤の線速度を演算す
る線速度演算手段とを備える構成としている。
【０００８】
【作用】以上の説明から明らかなように、請求項１，２
の線速度計測方法では、パルス列に含まれるパルス数か
ら走査軌跡の半径値を求め、パルス列の時間もしくはパ
ルス列の開始部又は終端間である被計測円盤の一回転時
間から被計測円盤の回転数を求める。さらに回転数と半
径値とから被計測円盤の光の照射部分の線速度を求めて
いるので、半径位置、回転数及び線速度が簡単な方法で
計測ができる。
の線速度計測方法では、パルス列に含まれるパルス数か
ら走査軌跡の半径値を求め、パルス列の時間もしくはパ
ルス列の開始部又は終端間である被計測円盤の一回転時
間から被計測円盤の回転数を求める。さらに回転数と半
径値とから被計測円盤の光の照射部分の線速度を求めて
いるので、半径位置、回転数及び線速度が簡単な方法で
計測ができる。
【０００９】請求項３，４の線速度計測用円盤では、少
なくとも一回転の走査軌跡の半径値を求めるために、ラ
ンド又は溝列若しくは円盤部材を貫通したスリットと
が、円盤部材の中心点から外側方向に対して扇状に設け
られる。またランド又は溝若しくはスリットの両端部が
重なることなく、複数の扇状のランド又は溝列若しくは
スリット列を設けているので、簡単な構成によって高精
度の半径位置、回転数及び線速度の計測が可能になる。
なくとも一回転の走査軌跡の半径値を求めるために、ラ
ンド又は溝列若しくは円盤部材を貫通したスリットと
が、円盤部材の中心点から外側方向に対して扇状に設け
られる。またランド又は溝若しくはスリットの両端部が
重なることなく、複数の扇状のランド又は溝列若しくは
スリット列を設けているので、簡単な構成によって高精
度の半径位置、回転数及び線速度の計測が可能になる。
【００１０】請求項５の線速度計測装置では、パルス数
から走査軌跡の半径値を計測し、かつ、パルス列の時間
若しくはパルス列の開始部又は終端間である線速度計測
用円盤の一回転時間から被計測円盤の回転数を計測する
とともに、この回転数及び半径値から回転する被計測円
盤の線速度を演算しているので、一つの検出部で得られ
る半径位置と回転数とから線速度が精度良く計測がで
き、その構成が簡単化してコストを低減できる。
から走査軌跡の半径値を計測し、かつ、パルス列の時間
若しくはパルス列の開始部又は終端間である線速度計測
用円盤の一回転時間から被計測円盤の回転数を計測する
とともに、この回転数及び半径値から回転する被計測円
盤の線速度を演算しているので、一つの検出部で得られ
る半径位置と回転数とから線速度が精度良く計測がで
き、その構成が簡単化してコストを低減できる。
【００１１】
【実施例】次に、本発明の線速度計測方法及び線速度計
測装置並びにその円盤の実施例を図面を参照して詳細に
説明する。図１は本発明の線速度計測方法の実施例を説
明するための図である。図１において、光ディスク原盤
露光装置などの原盤とともに回転する線速度計測用円盤
１０には 一方の半径線に平行に配置されたランド又は
溝列若しくはスリット列が円盤部材の中心点から外側方
向に対して扇状（線速度計測用円盤１０表面の１／４）
に形成されたランド・溝部１２が設けられている。この
線速度計測用円盤１０が回転した場合に、半径ｒで矢印
ｍの軌跡のようにレーザ光などを照射して、その反射レ
ーザ光を検出する走査を行う。このレーザ光の照射及び
検出は、以降で説明する光ディスク原盤露光装置を用い
ると良い。この反射光は光ディスク原盤露光装置の光学
系で検出され、一回転を走査した信号が検出部から出力
される。同時にランド・溝部１２を走査したパルス列信
号が出力される。
測装置並びにその円盤の実施例を図面を参照して詳細に
説明する。図１は本発明の線速度計測方法の実施例を説
明するための図である。図１において、光ディスク原盤
露光装置などの原盤とともに回転する線速度計測用円盤
１０には 一方の半径線に平行に配置されたランド又は
溝列若しくはスリット列が円盤部材の中心点から外側方
向に対して扇状（線速度計測用円盤１０表面の１／４）
に形成されたランド・溝部１２が設けられている。この
線速度計測用円盤１０が回転した場合に、半径ｒで矢印
ｍの軌跡のようにレーザ光などを照射して、その反射レ
ーザ光を検出する走査を行う。このレーザ光の照射及び
検出は、以降で説明する光ディスク原盤露光装置を用い
ると良い。この反射光は光ディスク原盤露光装置の光学
系で検出され、一回転を走査した信号が検出部から出力
される。同時にランド・溝部１２を走査したパルス列信
号が出力される。
【００１２】図２は、この実施例におけるパルス列信号
を示す波形図である。図２において、ｔ1 は矢印ｍの軌
跡の一回転の時間、ｔ2 は、矢印ｍの軌跡の一回転にお
けるランド・溝部１２の扇形の区間、すなわち、ランド
又は溝列若しくはスリット列のみを通過した時間であ
る。ｎはランド・溝部１２のランド又は溝を検出した際
のパルス数である。この場合の線速度計測用円盤１０の
回転数ｆは周知のｆ＝１／Ｔ、すなわち、ｔ1 又はｔ2
から求めることができる。ここで、検出したパルス数ｎ
は、走査した半径ｒによって変化する。したがって、パ
ルス数ｎを計数すれば線速度計測用円盤１０での走査し
た軌跡の半径ｒを求めることができる。これらの回転数
ｆと半径ｒから線速度ｖを周知の下記式（１）で求める
ことができる。 ｖ＝ｒ・２πｆ …（１）
を示す波形図である。図２において、ｔ1 は矢印ｍの軌
跡の一回転の時間、ｔ2 は、矢印ｍの軌跡の一回転にお
けるランド・溝部１２の扇形の区間、すなわち、ランド
又は溝列若しくはスリット列のみを通過した時間であ
る。ｎはランド・溝部１２のランド又は溝を検出した際
のパルス数である。この場合の線速度計測用円盤１０の
回転数ｆは周知のｆ＝１／Ｔ、すなわち、ｔ1 又はｔ2
から求めることができる。ここで、検出したパルス数ｎ
は、走査した半径ｒによって変化する。したがって、パ
ルス数ｎを計数すれば線速度計測用円盤１０での走査し
た軌跡の半径ｒを求めることができる。これらの回転数
ｆと半径ｒから線速度ｖを周知の下記式（１）で求める
ことができる。 ｖ＝ｒ・２πｆ …（１）
【００１３】次に、線速度計測用円盤１０に設けられる
ランド・溝部１２について説明する。図３（ａ）はラン
ド・溝部１２に設けられるランド列と、レーザ光の入射
及び反射の状態を示す断面図である。線速度計測用円盤
１０の表面には、一方の半径線に平行に配置されるラン
ド列としてのランド１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄが
金属膜をスパッタ又は真空蒸着することにより形成され
ている。この線速度計測用円盤１０の表面にレーザ光が
入射した場合、ランド１４ａ〜１４ｄでの入射・反射光
Ｐａの反射率は、表面での入射・反射光Ｐｂの反射率に
比較して高い。したがって、この反射率が高いパルス列
信号を検出し、そのパルス数ｎを計数することによって
線速度計測用円盤１０の矢印ｍでの一回転の半径ｒを求
めることができる。
ランド・溝部１２について説明する。図３（ａ）はラン
ド・溝部１２に設けられるランド列と、レーザ光の入射
及び反射の状態を示す断面図である。線速度計測用円盤
１０の表面には、一方の半径線に平行に配置されるラン
ド列としてのランド１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄが
金属膜をスパッタ又は真空蒸着することにより形成され
ている。この線速度計測用円盤１０の表面にレーザ光が
入射した場合、ランド１４ａ〜１４ｄでの入射・反射光
Ｐａの反射率は、表面での入射・反射光Ｐｂの反射率に
比較して高い。したがって、この反射率が高いパルス列
信号を検出し、そのパルス数ｎを計数することによって
線速度計測用円盤１０の矢印ｍでの一回転の半径ｒを求
めることができる。
【００１４】一方、図３（ｂ）は、図３（ａ）のランド
１４ａ〜１４ｄに対して溝１６ａ，１６ｂ，１６ｃを形
成したものである。この溝１６ａ〜１６ｃでの入射・反
射光Ｐｄは、反射率が低く、溝１６ａ〜１６ｃ外の表面
の入射・反射光Ｐｃは反射率が高い。したがって、この
反射率が低いパルス列信号を検出し、そのパルス数ｎを
計数して線速度計測用円盤１０の矢印ｍでの一回転の半
径ｒを求めることができる。なお、ランド１４ａ〜１４
ｄ、溝１６ａ〜１６ｃに代えて半径線に平行にスリット
を設けても良い。なお、図３（ａ）（ｂ）に示す金属膜
のランド又は溝のほうが、より高密度の線が形成でき、
高分解能を得ることができる。また、図３（ｂ）の溝１
６ａ〜１６ｃは、スタンパで形成できる。したがって、
大量生産が可能である。
１４ａ〜１４ｄに対して溝１６ａ，１６ｂ，１６ｃを形
成したものである。この溝１６ａ〜１６ｃでの入射・反
射光Ｐｄは、反射率が低く、溝１６ａ〜１６ｃ外の表面
の入射・反射光Ｐｃは反射率が高い。したがって、この
反射率が低いパルス列信号を検出し、そのパルス数ｎを
計数して線速度計測用円盤１０の矢印ｍでの一回転の半
径ｒを求めることができる。なお、ランド１４ａ〜１４
ｄ、溝１６ａ〜１６ｃに代えて半径線に平行にスリット
を設けても良い。なお、図３（ａ）（ｂ）に示す金属膜
のランド又は溝のほうが、より高密度の線が形成でき、
高分解能を得ることができる。また、図３（ｂ）の溝１
６ａ〜１６ｃは、スタンパで形成できる。したがって、
大量生産が可能である。
【００１５】図４は線速度計測用円盤１０にランド・溝
部１２の他に１／４のランド・溝部１９を形成した状態
を示す平面図である。図４において、この例はランド・
溝部１２の端部のランド又は溝と交わらないランド又は
溝を有する扇形の１／４のランド・溝部１９が形成され
ている。そして、このランド・溝部１２とランド・溝部
１９のランド又は溝の一端部が全て直径の線Ｌに揃えて
配置している。この二つのランド・溝部１２，１９を、
図１をもって説明したように半径ｒかつ矢印ｍに示す軌
跡のように走査すると、この一回転の走査で二つのパル
ス列信号が出力される。したがって、一回転で２回計測
するので、一方がエラーになっても計測ができる。線Ｌ
を設けているのでパルス列幅のバラツキがなくなる。す
なわち、パルスの終端が揃うことになり、より正確な回
転数が得られる。なお、さらに、正確な線速度を計測す
る場合はランド・溝部１２のランド又は溝間の幅を狭く
すれば良い。
部１２の他に１／４のランド・溝部１９を形成した状態
を示す平面図である。図４において、この例はランド・
溝部１２の端部のランド又は溝と交わらないランド又は
溝を有する扇形の１／４のランド・溝部１９が形成され
ている。そして、このランド・溝部１２とランド・溝部
１９のランド又は溝の一端部が全て直径の線Ｌに揃えて
配置している。この二つのランド・溝部１２，１９を、
図１をもって説明したように半径ｒかつ矢印ｍに示す軌
跡のように走査すると、この一回転の走査で二つのパル
ス列信号が出力される。したがって、一回転で２回計測
するので、一方がエラーになっても計測ができる。線Ｌ
を設けているのでパルス列幅のバラツキがなくなる。す
なわち、パルスの終端が揃うことになり、より正確な回
転数が得られる。なお、さらに、正確な線速度を計測す
る場合はランド・溝部１２のランド又は溝間の幅を狭く
すれば良い。
【００１６】図５はランド・溝部１２のランド又は溝の
配置を示す平面図である。図５において、半径ｒ方向の
分解能は、平行に形成されるピッチＰ1 ，Ｐ2 ，Ｐ3 ，
Ｐ4 ，Ｐ5 に照射するレーザ光などのビーム径で決定さ
れる。すなわち、ビーム径がピッチ間Ｑより十分小さい
場合は、ピッチ間Ｑが小さいほど分解能が向上すること
になる。したがって、回転数ｆは、線速度計測用円盤１
０のランド・溝部（１２，１９）の配置数で決定され、
より多く配置すると正確な回転数ｆが得られる。次に、
図１〜図５を適用して線速度計測を行う線速度計測装置
について説明する。
配置を示す平面図である。図５において、半径ｒ方向の
分解能は、平行に形成されるピッチＰ1 ，Ｐ2 ，Ｐ3 ，
Ｐ4 ，Ｐ5 に照射するレーザ光などのビーム径で決定さ
れる。すなわち、ビーム径がピッチ間Ｑより十分小さい
場合は、ピッチ間Ｑが小さいほど分解能が向上すること
になる。したがって、回転数ｆは、線速度計測用円盤１
０のランド・溝部（１２，１９）の配置数で決定され、
より多く配置すると正確な回転数ｆが得られる。次に、
図１〜図５を適用して線速度計測を行う線速度計測装置
について説明する。
【００１７】図６は、本発明の線速度計測装置を使った
光ディスク原盤装置の構成を示す側面図である。図６に
おいて、この線速度計測装置は、ガラス原盤３１と、ガ
ラス原盤３１が載せ置かれるターンテーブル３２と、固
定した位置に配置されるピックアップ３３とを有してい
る。さらに、ターンテーブル３２とともにガラス原盤３
１を回転させる回転用モータ３４と、ガラス原盤３１に
ピックアップ３３からのレーザ光をスパイラル状に照射
するために横方向に移動させる横送り用モータ３５及び
エアスライダー３６とを有している。さらに、図１，図
３，図４に示す線速度計測用円盤１０としての線速度エ
ンコーダ３９ａと、この線速度エンコーダ３９ａのラン
ド・溝部（図１中のランド・溝部１２、図４中のランド
・溝部１２，１９）にレーザ光を照射し、その反射光を
受光するとともに、固定して配置された線速度信号検出
部３９ｂと、回転数ｆを算出して計測する回転数計測部
４２と、図４中のランド・溝部１２，１９の半径ｒを算
出して計測する半径位置計測部４３とを有している。
光ディスク原盤装置の構成を示す側面図である。図６に
おいて、この線速度計測装置は、ガラス原盤３１と、ガ
ラス原盤３１が載せ置かれるターンテーブル３２と、固
定した位置に配置されるピックアップ３３とを有してい
る。さらに、ターンテーブル３２とともにガラス原盤３
１を回転させる回転用モータ３４と、ガラス原盤３１に
ピックアップ３３からのレーザ光をスパイラル状に照射
するために横方向に移動させる横送り用モータ３５及び
エアスライダー３６とを有している。さらに、図１，図
３，図４に示す線速度計測用円盤１０としての線速度エ
ンコーダ３９ａと、この線速度エンコーダ３９ａのラン
ド・溝部（図１中のランド・溝部１２、図４中のランド
・溝部１２，１９）にレーザ光を照射し、その反射光を
受光するとともに、固定して配置された線速度信号検出
部３９ｂと、回転数ｆを算出して計測する回転数計測部
４２と、図４中のランド・溝部１２，１９の半径ｒを算
出して計測する半径位置計測部４３とを有している。
【００１８】この線速度計測装置の構成における動作、
機能について説明する。ターンテーブル３２を回転用モ
ータ３４で回転させる。すなわち、ガラス原盤３１とと
もに線速度エンコーダ３９ａを回転させる。同時に線速
度エンコーダ３９ａに形成されているランド又は溝部
（図１中のランド・溝部１２、図４中のランド・溝部１
２，１９）に線速度信号検出部３９ｂからレーザ光など
を照射し、かつ、反射光を受光する。この線速度信号検
出部３９ｂで受光した反射光を光電変換して回転数計測
部４２と半径位置計測部４３とに供給する。半径位置計
測部４３は、図示しないカウンタ回路と回転数演算部か
らなり、線速度信号検出部３９ｂからの図２に示すパル
ス数ｎをカウンタ回路で計数し、かつ、演算部で演算し
て半径ｒの値に変換する。回転数計測部４２は、パルス
長変換回路と、タイマ回路、半径位置演算部からなる。
線速度信号検出部３９ｂからのパルス数ｎのパルス列を
パルス長変換回路で一つのパルスに変換し、そのパルス
幅をタイマ回路で測定して、演算部で図１に示す回転数
ｆに変換する。
機能について説明する。ターンテーブル３２を回転用モ
ータ３４で回転させる。すなわち、ガラス原盤３１とと
もに線速度エンコーダ３９ａを回転させる。同時に線速
度エンコーダ３９ａに形成されているランド又は溝部
（図１中のランド・溝部１２、図４中のランド・溝部１
２，１９）に線速度信号検出部３９ｂからレーザ光など
を照射し、かつ、反射光を受光する。この線速度信号検
出部３９ｂで受光した反射光を光電変換して回転数計測
部４２と半径位置計測部４３とに供給する。半径位置計
測部４３は、図示しないカウンタ回路と回転数演算部か
らなり、線速度信号検出部３９ｂからの図２に示すパル
ス数ｎをカウンタ回路で計数し、かつ、演算部で演算し
て半径ｒの値に変換する。回転数計測部４２は、パルス
長変換回路と、タイマ回路、半径位置演算部からなる。
線速度信号検出部３９ｂからのパルス数ｎのパルス列を
パルス長変換回路で一つのパルスに変換し、そのパルス
幅をタイマ回路で測定して、演算部で図１に示す回転数
ｆに変換する。
【００１９】図７（ａ），（ｂ）はパルス数ｎのパルス
列をパルス長変換回路で一つのパルスに変換する状態を
示す波形図である。図７（ｂ）に示す一つのパルスを図
７（ｄ）示す一つのパルス幅に変換すれば、図７（ａ）
に示すパルス数ｎの全体のパルス列が図７（ｃ）に示す
一つのパルスに形成される。このようにして回転数計測
部４２で得られた回転数ｆと半径位置計測部４３で得ら
れた半径ｒの値から図１をもって説明した周知の線速度
ｖ＝ｒ・２πｆを図示しない線速度計測回路などで算出
して計測する。
列をパルス長変換回路で一つのパルスに変換する状態を
示す波形図である。図７（ｂ）に示す一つのパルスを図
７（ｄ）示す一つのパルス幅に変換すれば、図７（ａ）
に示すパルス数ｎの全体のパルス列が図７（ｃ）に示す
一つのパルスに形成される。このようにして回転数計測
部４２で得られた回転数ｆと半径位置計測部４３で得ら
れた半径ｒの値から図１をもって説明した周知の線速度
ｖ＝ｒ・２πｆを図示しない線速度計測回路などで算出
して計測する。
【００２０】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１，２の線速度計測方法では、パルス列に含まれるパル
ス数から走査軌跡の半径値を求め、パルス列の時間もし
くはパルス列の開始部又は終端間である被計測円盤の一
回転時間から被計測円盤の回転数を求める。さらに回転
数と半径値とから被計測円盤の光の照射部分の線速度を
求めているため、半径位置、回転数及び線速度が簡単な
方法で計測ができるという効果を有する。
１，２の線速度計測方法では、パルス列に含まれるパル
ス数から走査軌跡の半径値を求め、パルス列の時間もし
くはパルス列の開始部又は終端間である被計測円盤の一
回転時間から被計測円盤の回転数を求める。さらに回転
数と半径値とから被計測円盤の光の照射部分の線速度を
求めているため、半径位置、回転数及び線速度が簡単な
方法で計測ができるという効果を有する。
【００２１】請求項３，４の線速度計測用円盤では、少
なくとも一回転の走査軌跡の半径値を求めるために、ラ
ンド又は溝列若しくは円盤部材を貫通したスリットと
が、円盤部材の中心点から外側方向に対して扇状に設け
られる。またランド又は溝若しくはスリットの両端部が
重なることなく、複数の扇状のランド又は溝列若しくは
スリット列を設けているため、簡単な構成によって高精
度の半径位置、回転数及び線速度の計測が可能になると
いう効果を有する。
なくとも一回転の走査軌跡の半径値を求めるために、ラ
ンド又は溝列若しくは円盤部材を貫通したスリットと
が、円盤部材の中心点から外側方向に対して扇状に設け
られる。またランド又は溝若しくはスリットの両端部が
重なることなく、複数の扇状のランド又は溝列若しくは
スリット列を設けているため、簡単な構成によって高精
度の半径位置、回転数及び線速度の計測が可能になると
いう効果を有する。
【００２２】請求項５の線速度計測装置では、パルス数
から走査軌跡の半径値を計測し、かつ、パルス列の時間
若しくはパルス列の開始部又は終端間である線速度計測
用円盤の一回転時間から被計測円盤の回転数を計測する
とともに、この回転数及び半径値から回転する被計測円
盤の線速度を演算しているため、一つの検出部で得られ
る半径位置と回転数とから線速度が精度良く計測がで
き、その構成が簡単化してコストを低減できるという効
果を有する。
から走査軌跡の半径値を計測し、かつ、パルス列の時間
若しくはパルス列の開始部又は終端間である線速度計測
用円盤の一回転時間から被計測円盤の回転数を計測する
とともに、この回転数及び半径値から回転する被計測円
盤の線速度を演算しているため、一つの検出部で得られ
る半径位置と回転数とから線速度が精度良く計測がで
き、その構成が簡単化してコストを低減できるという効
果を有する。
【図１】本発明の線速度計測方法の実施例を説明するた
めの図である。
めの図である。
【図２】図１の線速度計測方法によって得られるパルス
列信号を示す波形図である。
列信号を示す波形図である。
【図３】図１におけるランド・溝部でのランド又は溝と
レーザ光の入射、反射の状態を示す断面図である。
レーザ光の入射、反射の状態を示す断面図である。
【図４】図１示す線速度計測用円盤に二つのランド・溝
部を形成した状態を示す平面図である。
部を形成した状態を示す平面図である。
【図５】図１示す線速度計測用円盤のランド・溝部にお
けるランド又は溝の配置を示す平面図である。
けるランド又は溝の配置を示す平面図である。
【図６】本発明の線速度計測装置を使った光ディスク原
盤装置の構成を示す側面図である。
盤装置の構成を示す側面図である。
【図７】線速度計測装置におけるパルス数のパルス列を
一つのパルスに変換する状態を示す波形図である。
一つのパルスに変換する状態を示す波形図である。
【図８】従来の光ディスク原盤露光装置の構成を示す側
面図である。
面図である。
１０ 線速度計測用円盤 １２ ランド・溝部 １４ａ〜１４ｄ ランド １６ａ〜１６ｃ 溝 １９ ランド・溝部 ３１ ガラス原盤 ３２ ターンテーブル ３３ ピックアップ ３４ 回転用モータ ３５ 横送り用モータ ３６ エアスライダー ３９ａ 線速度エンコーダ ３９ｂ 線速度信号検出部 ４２ 回転数計測部 ４３ 半径位置計測部
Claims (5)
- 【請求項１】 被計測円盤の回転とともに固定位置から
光を照射して得られる反射光又は透過光を電気変換し、
電気変換したパルス列に含まれるパルス数から走査軌跡
の半径値を求め、パルス列の時間若しくはパルス列の開
始部又は終端間である上記被計測円盤の一回転時間から
上記被計測円盤の回転数を求めることを特徴とする線速
度計測方法。 - 【請求項２】 回転数と半径値とから被計測円盤の光の
照射部分の線速度を求めることを特徴とする請求項１記
載の線速度計測方法。 - 【請求項３】 少なくとも一回転の走査軌跡の半径値を
求めるために、一方の半径線と平行かつ周囲の円盤部材
と反射率が異なるランド又は溝列若しくは円盤部材を貫
通するスリットとが、円盤部材の中心点から外側方向に
対して扇状に設けられることを特徴とする線速度計測用
円盤。 - 【請求項４】 ランド又は溝若しくはスリットの両端部
が重なることなく、複数の扇状のランド又は溝列若しく
はスリット列を設けたことを特徴とする請求項３記載の
線速度計測用円盤。 - 【請求項５】 円盤部材の中心点から外側方向に対して
扇状に形成され、一方の半径線と平行に配置されたラン
ド又は溝列若しくはスリット列を有する線速度計測用円
盤と、少なくとも被計測円盤とともに上記線速度計測用
円盤を回転させる回転手段と、上記線速度計測用円盤の
ランド又は溝列若しくはスリット列に光照射を行うとと
もに、受光して光電変換したパルス列信号を得る線速度
信号検出手段と、上記線速度信号検出手段で得られた上
記全ランド又は溝若しくは全スリットからの光を電気変
換した時にパルス列に含まれるパルス数から走査軌跡の
半径値を計測し、かつ、パルス列の時間若しくはパルス
列の開始部又は終端間である上記線速度計測用円盤の一
回転時間から被計測円盤の回転数を計測する回転数・半
径値計測手段と、上記回転数・半径値計測手段で得られ
た回転数及び半径値から上記回転手段で回転する少なく
とも上記被計測円盤の線速度を演算する線速度演算手段
とを備える線速度計測装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32855992A JPH06160406A (ja) | 1992-11-13 | 1992-11-13 | 線速度計測方法及び線速度計測装置並びにその円盤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32855992A JPH06160406A (ja) | 1992-11-13 | 1992-11-13 | 線速度計測方法及び線速度計測装置並びにその円盤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06160406A true JPH06160406A (ja) | 1994-06-07 |
Family
ID=18211632
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32855992A Pending JPH06160406A (ja) | 1992-11-13 | 1992-11-13 | 線速度計測方法及び線速度計測装置並びにその円盤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06160406A (ja) |
-
1992
- 1992-11-13 JP JP32855992A patent/JPH06160406A/ja active Pending
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