JPH0616723A - 光学用樹脂材料 - Google Patents
光学用樹脂材料Info
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- JPH0616723A JPH0616723A JP4172792A JP17279292A JPH0616723A JP H0616723 A JPH0616723 A JP H0616723A JP 4172792 A JP4172792 A JP 4172792A JP 17279292 A JP17279292 A JP 17279292A JP H0616723 A JPH0616723 A JP H0616723A
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- JP
- Japan
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- bis
- benzene
- sulfur
- meth
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F228/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a bond to sulfur or by a heterocyclic ring containing sulfur
- C08F228/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a bond to sulfur or by a heterocyclic ring containing sulfur by a bond to sulfur
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】硫黄を10重量%以上含み、かつα−メチルス
チレンを3重量%以上、20重量%以下含む含硫黄樹脂
からなることを特徴とする光学用樹脂材料。 【効果】光学用途に適する高い屈折率を有し、かつ、軽
量で、さらに研磨臭気が軽減化された含硫黄透明樹脂を
提供することができた。
チレンを3重量%以上、20重量%以下含む含硫黄樹脂
からなることを特徴とする光学用樹脂材料。 【効果】光学用途に適する高い屈折率を有し、かつ、軽
量で、さらに研磨臭気が軽減化された含硫黄透明樹脂を
提供することができた。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、めがねレンズ、サング
ラスレンズ、ファッションレンズ、カメラ用レンズなど
光学用途、なかでもプラスチックレンズに好ましく使用
できる光学用樹脂材料に関するものである。
ラスレンズ、ファッションレンズ、カメラ用レンズなど
光学用途、なかでもプラスチックレンズに好ましく使用
できる光学用樹脂材料に関するものである。
【0002】
【従来の技術】プラスチックレンズは軽量、割れにくさ
などの長所をもつことから近年ガラスレンズにとって替
わりつつある。特に眼鏡用プラスチックレンズはレンズ
素材の高屈折率化、低比重化により大きくシェアを伸ば
している。
などの長所をもつことから近年ガラスレンズにとって替
わりつつある。特に眼鏡用プラスチックレンズはレンズ
素材の高屈折率化、低比重化により大きくシェアを伸ば
している。
【0003】従来は、プラスチックレンズ素材の高屈折
率化の手法として、分子内にハロゲン類、特に臭素を導
入することが一般に行われてきた。しかし、より高屈折
率化を図るためにハロゲン類を分子内に大量に導入する
ことは、反面比重の増加を伴う。めがねレンズの永遠の
目標は“より薄くより軽く”であるが、高屈折率化のた
め“より薄く”を達成することができても、高比重化に
よって“より重く”なってしまう結果になる。
率化の手法として、分子内にハロゲン類、特に臭素を導
入することが一般に行われてきた。しかし、より高屈折
率化を図るためにハロゲン類を分子内に大量に導入する
ことは、反面比重の増加を伴う。めがねレンズの永遠の
目標は“より薄くより軽く”であるが、高屈折率化のた
め“より薄く”を達成することができても、高比重化に
よって“より重く”なってしまう結果になる。
【0004】このため、最近の研究開発の動向は、プラ
スチックレンズ素材の高屈折率化の手法としては、ハロ
ゲン類のかわりに硫黄を分子内に導入する方法がとられ
ている(例えば、特開平3-56459 号公報など)。硫黄を
分子内導入の結果、プラスチックレンズ素材の高屈折率
化とともに低比重化も達成できるようになった。
スチックレンズ素材の高屈折率化の手法としては、ハロ
ゲン類のかわりに硫黄を分子内に導入する方法がとられ
ている(例えば、特開平3-56459 号公報など)。硫黄を
分子内導入の結果、プラスチックレンズ素材の高屈折率
化とともに低比重化も達成できるようになった。
【0005】一方、プラスチックレンズは、レンズの周
囲(コバ)をめがねフレームの形状に研磨したうえでめ
がねフレームに入れられる(枠入れ)。研磨は通常、回
転するやすり状の金属や砥石との接触による摩滅法で行
なわれる。
囲(コバ)をめがねフレームの形状に研磨したうえでめ
がねフレームに入れられる(枠入れ)。研磨は通常、回
転するやすり状の金属や砥石との接触による摩滅法で行
なわれる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述のとおり、プラス
チックレンズ素材の軽量高屈折率化の手法として、分子
内に硫黄を導入するようになった結果、枠入れのための
レンズの研磨を行なう際に、メルカプタン臭やにんにく
臭、硫化水素臭などいわゆる硫黄系臭気が強く発生して
枠入れ作業の障害になるようになってきた。
チックレンズ素材の軽量高屈折率化の手法として、分子
内に硫黄を導入するようになった結果、枠入れのための
レンズの研磨を行なう際に、メルカプタン臭やにんにく
臭、硫化水素臭などいわゆる硫黄系臭気が強く発生して
枠入れ作業の障害になるようになってきた。
【0007】本発明は、軽量、高屈折率であり、かつ、
研磨臭気の軽減化された光学用樹脂材料を提供すること
を目的とする。
研磨臭気の軽減化された光学用樹脂材料を提供すること
を目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、下記の構成を有する。
成するために、下記の構成を有する。
【0009】「硫黄を10重量%以上含み、かつα−メ
チルスチレンを3重量%以上、20重量%以下含む含硫
黄樹脂からなることを特徴とする光学用樹脂材料。」本
発明の含硫黄樹脂は、一般には注型重合法で作られる。
チルスチレンを3重量%以上、20重量%以下含む含硫
黄樹脂からなることを特徴とする光学用樹脂材料。」本
発明の含硫黄樹脂は、一般には注型重合法で作られる。
【0010】注型重合法は、単官能性または多官能性の
単量体の単独あるいは混合物をガラス製などのモールド
に充填したものを熱や光で硬化し、モールドの形状に賦
型するものである。
単量体の単独あるいは混合物をガラス製などのモールド
に充填したものを熱や光で硬化し、モールドの形状に賦
型するものである。
【0011】硬化つまり重合形式としては、一般にアク
リル系、アリル系、ビニル系などエチレン性二重結合を
有する化合物のラジカル重合を利用するもの、イソシア
ネート系化合物と有機性水酸基、1または2級アミノ
基、メルカプト基などを有する化合物との反応を利用す
るもの、エポキシ基と1または、2級アミノ基、無水カ
ルボン酸基、メルカプト基、有機性水酸基を有する化合
物との反応、あるいは3級アミン、イミダゾール、ルイ
ス酸類による触媒作用を利用するもの、エチレン性二重
結合を有する化合物とメルカプト基を有する化合物との
付加反応を利用するものなどが挙げられる。
リル系、アリル系、ビニル系などエチレン性二重結合を
有する化合物のラジカル重合を利用するもの、イソシア
ネート系化合物と有機性水酸基、1または2級アミノ
基、メルカプト基などを有する化合物との反応を利用す
るもの、エポキシ基と1または、2級アミノ基、無水カ
ルボン酸基、メルカプト基、有機性水酸基を有する化合
物との反応、あるいは3級アミン、イミダゾール、ルイ
ス酸類による触媒作用を利用するもの、エチレン性二重
結合を有する化合物とメルカプト基を有する化合物との
付加反応を利用するものなどが挙げられる。
【0012】光学用樹脂として、中でも、プラスチック
レンズにおいては、耐熱性や耐溶剤性に優れていること
が好ましく、三次元架橋されているプラスチックである
ことが好ましい。従って本発明で最も好ましく用いられ
る含硫黄樹脂は、三次元架橋された注型重合タイプのも
のである。
レンズにおいては、耐熱性や耐溶剤性に優れていること
が好ましく、三次元架橋されているプラスチックである
ことが好ましい。従って本発明で最も好ましく用いられ
る含硫黄樹脂は、三次元架橋された注型重合タイプのも
のである。
【0013】次に本発明に用いられる注型重合タイプの
モノマ及び硬化剤の例を以下に列記する。
モノマ及び硬化剤の例を以下に列記する。
【0014】エチレン性二重結合を有する化合物のう
ち、官能基(二重結合)を1つ持つ化合物の例を以下に
挙げる。
ち、官能基(二重結合)を1つ持つ化合物の例を以下に
挙げる。
【0015】(メタ)アクリル酸メチル、2−(メタ)
アクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−アミノ
エチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アク
リレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェノキシ
エチル(メタ)アクリレート、2−(4−ヒドロキシエ
トキシフェニル)−2−[4−(メタ)アクリロキシエ
トキシフェニル]プロパン、2−(4−ヒドロキシエト
キシフェニル)−2−[4−(メタ)アクリロキシフェ
ニル]プロパン、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、4−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート、4
−ヒドロキシエトキシフェニル(メタ)アクリレート、
(メタ)アクリロキシチオベンゼン、(メタ)アクリロ
キシチオエチレンチオメチレンベンゼン、4−メチル−
1−(メタ)アクリロキシチオベンゼン、3−メチル−
1−アクリロキシチオベンゼン、安息香酸(メタ)アリ
ル、ベンジル(メタ)アリルカーボネート、スチレン、
ビニルナフタレン、N−ビニルカルバゾール、フェニル
マレイミド、イソプロピルマレイミドなどの化合物であ
る。
アクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−アミノ
エチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アク
リレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェノキシ
エチル(メタ)アクリレート、2−(4−ヒドロキシエ
トキシフェニル)−2−[4−(メタ)アクリロキシエ
トキシフェニル]プロパン、2−(4−ヒドロキシエト
キシフェニル)−2−[4−(メタ)アクリロキシフェ
ニル]プロパン、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、4−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート、4
−ヒドロキシエトキシフェニル(メタ)アクリレート、
(メタ)アクリロキシチオベンゼン、(メタ)アクリロ
キシチオエチレンチオメチレンベンゼン、4−メチル−
1−(メタ)アクリロキシチオベンゼン、3−メチル−
1−アクリロキシチオベンゼン、安息香酸(メタ)アリ
ル、ベンジル(メタ)アリルカーボネート、スチレン、
ビニルナフタレン、N−ビニルカルバゾール、フェニル
マレイミド、イソプロピルマレイミドなどの化合物であ
る。
【0016】エチレン性二重結合を有する化合物のう
ち、官能基(二重結合)を2つ以上持つ化合物の例を以
下に挙げる。
ち、官能基(二重結合)を2つ以上持つ化合物の例を以
下に挙げる。
【0017】エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、キ
シリレンジオールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビ
ス[4−(メタ)アクリロキシフェニル]プロパン、
2,2−ビス[4−(メタ)アクリロキシエトキシフェ
ニル]プロパン、ジ(メタ)アクリロキシエチレンフタ
レート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラキス(メタ)アクリレ
ートなど、及びヒドロキシエチルスルフィド、ビス(ヒ
ドロキシエチルチオ)エタン、4,4′−ヒドロキシフ
ェニルスルフィド、1,4−ビス(ヒドロキシエチレン
チオ)ベンゼン、1,4−ベンゼンジチオール、1,3
−ベンゼンジチオール、1,2−ベンゼンジチオール、
4−t−ブチル−1,2−ベンゼンジチオール、1,2
−ビス(メルカプトメチレン)ベンゼン、1,3−ビス
(メルカプトメチレン)ベンゼン、1,4−ビス(メル
カプトメチレン)ベンゼン、1,2−ビス(メルカプト
エチレン)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトエチレ
ン)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトエチレン)ベ
ンゼン、1,2−ビス(メルカプトメチレンチオ)ベン
ゼン、1,3−ビス(メルカプトメチレンチオ)ベンゼ
ン、1,4−ビス(メルカプトメチレンチオ)ベンゼ
ン、1,2−ビス(2−メルカプトエチレンチオ)ベン
ゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエチレンチオ)ベ
ンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチレンチオ)
ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプトエチレンチオ
メチレン)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエ
チレンチオメチレン)ベンゼン、1,4−ビス(2−メ
ルカプトエチレンチオメチレン)ベンゼン、1,2−ビ
ス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビ
ス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビ
ス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,2−ビ
ス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビ
ス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビ
ス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、4,4′−
チオジチオフェノール、4,4′−ビフェニルジチオー
ル、1,2−エタンジチオール、1,3−プロパンジチ
オール、1,6−ヘキサンジチオール、1,12−ドデ
カンジチオール、メルカプトメチルスルフィド、2−メ
ルカプトエチルスルフィド、3−メルカプトプロピルス
ルフィド、6−メルカプトヘキシルスルフィド、1,2
−ビス−2−メルカプトエチルチオエタン、1,2−ビ
ス−3−メルカプトプロピルチオエタン、1,3−ビス
−2−メルカプトエチルチオプロパン、1,4−ビス−
2−メルカプトエチルチオブタン、1,6−ビス−2−
メルカプトエチルチオヘキサイ、ビス−2−(2−メル
カプトエチルチオ)エチルスルフィド、2−メルカプト
エチルエーテル、3−メルカプトプロピルエーテル、6
−メルカプトヘキシルエーテル、1,4−シクロヘキサ
ンジチオール、ビス−2−メルカプトエトキシメタン、
1,2−ビス−2−メルカプトエトキシエタン、ビス−
2−(2−メルカプトエトキシ)エチルエーテル、1,
3,5−トリメルカプトベンゼン、トリメルカプトエチ
ルイソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラチオ
グリコート、ペンタエリスリトールトリチオグリコレー
トなどの(メタ)アクリレート、及びジエチレングリコ
ールジ(メタ)アリルカーボネート、1,4−ベンゼン
ビス(メタ)アリルカーボネート、4,4´−ジフェニ
ルプロパンビス(メタ)アリルカーボネート、4,4´
−ジフェニルスルホンビス(メタ)アリルカーボネー
ト、4,4′−ビス(ヒドロキシエトキシ)ジフェニル
プロパンビス(メタ)アリルカーボネート、フタル酸ビ
ス(メタ)アリルエステル、テレフタル酸ビス[(メ
タ)アリロキシエチル]エステル、フマル酸ビス(メ
タ)アリルエステル、トリメリット酸トリ(メタ)アリ
ルエステル、ジビニルベンゼンなどの化合物である。
ト、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、キ
シリレンジオールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビ
ス[4−(メタ)アクリロキシフェニル]プロパン、
2,2−ビス[4−(メタ)アクリロキシエトキシフェ
ニル]プロパン、ジ(メタ)アクリロキシエチレンフタ
レート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラキス(メタ)アクリレ
ートなど、及びヒドロキシエチルスルフィド、ビス(ヒ
ドロキシエチルチオ)エタン、4,4′−ヒドロキシフ
ェニルスルフィド、1,4−ビス(ヒドロキシエチレン
チオ)ベンゼン、1,4−ベンゼンジチオール、1,3
−ベンゼンジチオール、1,2−ベンゼンジチオール、
4−t−ブチル−1,2−ベンゼンジチオール、1,2
−ビス(メルカプトメチレン)ベンゼン、1,3−ビス
(メルカプトメチレン)ベンゼン、1,4−ビス(メル
カプトメチレン)ベンゼン、1,2−ビス(メルカプト
エチレン)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトエチレ
ン)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトエチレン)ベ
ンゼン、1,2−ビス(メルカプトメチレンチオ)ベン
ゼン、1,3−ビス(メルカプトメチレンチオ)ベンゼ
ン、1,4−ビス(メルカプトメチレンチオ)ベンゼ
ン、1,2−ビス(2−メルカプトエチレンチオ)ベン
ゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエチレンチオ)ベ
ンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチレンチオ)
ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプトエチレンチオ
メチレン)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエ
チレンチオメチレン)ベンゼン、1,4−ビス(2−メ
ルカプトエチレンチオメチレン)ベンゼン、1,2−ビ
ス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビ
ス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビ
ス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,2−ビ
ス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビ
ス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビ
ス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、4,4′−
チオジチオフェノール、4,4′−ビフェニルジチオー
ル、1,2−エタンジチオール、1,3−プロパンジチ
オール、1,6−ヘキサンジチオール、1,12−ドデ
カンジチオール、メルカプトメチルスルフィド、2−メ
ルカプトエチルスルフィド、3−メルカプトプロピルス
ルフィド、6−メルカプトヘキシルスルフィド、1,2
−ビス−2−メルカプトエチルチオエタン、1,2−ビ
ス−3−メルカプトプロピルチオエタン、1,3−ビス
−2−メルカプトエチルチオプロパン、1,4−ビス−
2−メルカプトエチルチオブタン、1,6−ビス−2−
メルカプトエチルチオヘキサイ、ビス−2−(2−メル
カプトエチルチオ)エチルスルフィド、2−メルカプト
エチルエーテル、3−メルカプトプロピルエーテル、6
−メルカプトヘキシルエーテル、1,4−シクロヘキサ
ンジチオール、ビス−2−メルカプトエトキシメタン、
1,2−ビス−2−メルカプトエトキシエタン、ビス−
2−(2−メルカプトエトキシ)エチルエーテル、1,
3,5−トリメルカプトベンゼン、トリメルカプトエチ
ルイソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラチオ
グリコート、ペンタエリスリトールトリチオグリコレー
トなどの(メタ)アクリレート、及びジエチレングリコ
ールジ(メタ)アリルカーボネート、1,4−ベンゼン
ビス(メタ)アリルカーボネート、4,4´−ジフェニ
ルプロパンビス(メタ)アリルカーボネート、4,4´
−ジフェニルスルホンビス(メタ)アリルカーボネー
ト、4,4′−ビス(ヒドロキシエトキシ)ジフェニル
プロパンビス(メタ)アリルカーボネート、フタル酸ビ
ス(メタ)アリルエステル、テレフタル酸ビス[(メ
タ)アリロキシエチル]エステル、フマル酸ビス(メ
タ)アリルエステル、トリメリット酸トリ(メタ)アリ
ルエステル、ジビニルベンゼンなどの化合物である。
【0018】イソシアネート系化合物の例を以下に挙げ
る。ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイ
ソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、トリ
レンジイソシアネート、1,6,11−ウンデカントリ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートのイ
ソシアヌレート変性体などである。
る。ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイ
ソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、トリ
レンジイソシアネート、1,6,11−ウンデカントリ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートのイ
ソシアヌレート変性体などである。
【0019】有機性水酸基を有する化合物の例としては
以下のものが挙げられる。エチレングリコール、トリエ
チレングリコール、プロピレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、
ポリカプロラクトン、4,4´−ビス(ヒドロキシエト
キシフェニル)プロパンなどの化合物などである。
以下のものが挙げられる。エチレングリコール、トリエ
チレングリコール、プロピレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、
ポリカプロラクトン、4,4´−ビス(ヒドロキシエト
キシフェニル)プロパンなどの化合物などである。
【0020】1または2級アミノ基を有する化合物の例
としては次のものが挙げられる。ピペラジン、2−アミ
ノエチルピペラジン、エタノールアミン、エチルアミ
ン、ベンジルアミン、トリメチレンジアミン、テトラメ
チレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレン
トリアミン、キシリレンジアミン、ジアミノ安息香酸、
4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジ
アミノジフェニルメタンなどである。
としては次のものが挙げられる。ピペラジン、2−アミ
ノエチルピペラジン、エタノールアミン、エチルアミ
ン、ベンジルアミン、トリメチレンジアミン、テトラメ
チレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレン
トリアミン、キシリレンジアミン、ジアミノ安息香酸、
4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジ
アミノジフェニルメタンなどである。
【0021】メルカプト基を有する化合物の例としては
次のものが挙げられる。メルカプトエタノール、1,2
−エタンジチオール、1,3−プロパンジチオール、
1,6−ヘキサンジチオール、1,12−ドデカンジチ
オール、メルカプトメチルスルフィド、2−メルカプト
エチルスルフィド、3−メルカプトプロピルスルフィ
ド、6−メルカプトヘキシルスルフィド、1,2−ビス
−2−メルカプトエチルチオエタン、1,2−ビス−3
−メルカプトプロピルチオエタン、1,3−ビス−2−
メルカプトエチルチオプロパン、1,4−ビス−2−メ
ルカプトエチルチオブタン、1,6−ビス−2−メルカ
プトエチルチオヘキサン、ビス−2−(2−メルカプト
エチルチオ)エチルスルフィド、2−メルカプトエチル
エーテル、3−メルカプトプロピルエーテル、6−メル
カプトヘキシルエーテル、1,4−シクロヘキサンジチ
オール、ビス−2−メルカプトエトキシメタン、1,2
−ビス−2−メルカプトエトキシエタン、ビス−2−
(2−メルカプトエトキシ)エチルエーテル、1,4−
ベンゼンジチオール、1,3−ベンゼンジチオール、
1,2−ベンゼンジチオール、4−t−ブチル−1,2
−ベンゼンジチオール、1,2−ビス(メルカプトメチ
レン)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトメチレン)
ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメチレン)ベンゼ
ン、1,2−ビス(メルカプトエチレン)ベンゼン、
1,3−ビス(メルカプトエチレン)ベンゼン、1,4
−ビス(メルカプトエチレン)ベンゼン、1,2−ビス
(メルカプトメチレンチオ)ベンゼン、1,3−ビス
(メルカプトメチレンチオ)ベンゼン、1,4−ビス
(メルカプトメチレンチオ)ベンゼン、1,2−ビス
(2−メルカプトエチレンチオ)ベンゼン、1,3−ビ
ス(2−メルカプトエチレンチオ)ベンゼン、1,4−
ビス(2−メルカプトエチレンチオ)ベンゼン、1,2
−ビス(2−メルカプトエチレンチオメチレン)ベンゼ
ン、1,3−ビス(2−メルカプトエチレンチオメチレ
ン)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチレン
チオメチレン)ベンゼン、1,2−ビス(メルカプトメ
チレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトメ
チレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメ
チレンオキシ)ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプ
トエチレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビス(2−メル
カプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビス(2−
メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、4,4′−チオ
ジチオフェノール、4,4′−ビフェニルジチオール、
1,3,5−トリメルカプトベンゼン、トリメルカプト
エチルイソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ
チオグリコレート、ペンタエリスリトールトリチオグリ
コレートなどである。
次のものが挙げられる。メルカプトエタノール、1,2
−エタンジチオール、1,3−プロパンジチオール、
1,6−ヘキサンジチオール、1,12−ドデカンジチ
オール、メルカプトメチルスルフィド、2−メルカプト
エチルスルフィド、3−メルカプトプロピルスルフィ
ド、6−メルカプトヘキシルスルフィド、1,2−ビス
−2−メルカプトエチルチオエタン、1,2−ビス−3
−メルカプトプロピルチオエタン、1,3−ビス−2−
メルカプトエチルチオプロパン、1,4−ビス−2−メ
ルカプトエチルチオブタン、1,6−ビス−2−メルカ
プトエチルチオヘキサン、ビス−2−(2−メルカプト
エチルチオ)エチルスルフィド、2−メルカプトエチル
エーテル、3−メルカプトプロピルエーテル、6−メル
カプトヘキシルエーテル、1,4−シクロヘキサンジチ
オール、ビス−2−メルカプトエトキシメタン、1,2
−ビス−2−メルカプトエトキシエタン、ビス−2−
(2−メルカプトエトキシ)エチルエーテル、1,4−
ベンゼンジチオール、1,3−ベンゼンジチオール、
1,2−ベンゼンジチオール、4−t−ブチル−1,2
−ベンゼンジチオール、1,2−ビス(メルカプトメチ
レン)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトメチレン)
ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメチレン)ベンゼ
ン、1,2−ビス(メルカプトエチレン)ベンゼン、
1,3−ビス(メルカプトエチレン)ベンゼン、1,4
−ビス(メルカプトエチレン)ベンゼン、1,2−ビス
(メルカプトメチレンチオ)ベンゼン、1,3−ビス
(メルカプトメチレンチオ)ベンゼン、1,4−ビス
(メルカプトメチレンチオ)ベンゼン、1,2−ビス
(2−メルカプトエチレンチオ)ベンゼン、1,3−ビ
ス(2−メルカプトエチレンチオ)ベンゼン、1,4−
ビス(2−メルカプトエチレンチオ)ベンゼン、1,2
−ビス(2−メルカプトエチレンチオメチレン)ベンゼ
ン、1,3−ビス(2−メルカプトエチレンチオメチレ
ン)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチレン
チオメチレン)ベンゼン、1,2−ビス(メルカプトメ
チレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトメ
チレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメ
チレンオキシ)ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプ
トエチレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビス(2−メル
カプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビス(2−
メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、4,4′−チオ
ジチオフェノール、4,4′−ビフェニルジチオール、
1,3,5−トリメルカプトベンゼン、トリメルカプト
エチルイソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ
チオグリコレート、ペンタエリスリトールトリチオグリ
コレートなどである。
【0022】エポキシ基を有する化合物の例としては次
のものが挙げられる。ビスフェノールAジグリシジルエ
ーテル類、ビスフェノールFジグリシジルエーテル類、
ビスフェノールSジグリシジルエーテル類、ヘキサヒド
ロビスフェノールAジグリシジルエーテル類、フタル酸
ジグリシジルエステル類、ポリプロピレングリコールジ
グリシジルエーテル類、トリグリシジルイソシアヌレー
ト、クレゾールノボラックポリグリシジルエーテル類、
フェノールノボラックポリグリシジルエーテル類などの
化合物などである。
のものが挙げられる。ビスフェノールAジグリシジルエ
ーテル類、ビスフェノールFジグリシジルエーテル類、
ビスフェノールSジグリシジルエーテル類、ヘキサヒド
ロビスフェノールAジグリシジルエーテル類、フタル酸
ジグリシジルエステル類、ポリプロピレングリコールジ
グリシジルエーテル類、トリグリシジルイソシアヌレー
ト、クレゾールノボラックポリグリシジルエーテル類、
フェノールノボラックポリグリシジルエーテル類などの
化合物などである。
【0023】無水カルボン酸基を有する化合物の例とし
ては次のものが挙げられる。無水フタル酸、テトラヒド
ロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水クロレン
デック酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸無水物、無水トリメリット酸などの化合物で
ある。
ては次のものが挙げられる。無水フタル酸、テトラヒド
ロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水クロレン
デック酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸無水物、無水トリメリット酸などの化合物で
ある。
【0024】3級アミンの例としては、トリエチルアミ
ン、N−ジメチルアミノエタン、トリエタノールアミ
ン、ピリジン、N,N´−ジメチルピペラジン、ベンジ
ルジメチルアミンなどが挙げられる。
ン、N−ジメチルアミノエタン、トリエタノールアミ
ン、ピリジン、N,N´−ジメチルピペラジン、ベンジ
ルジメチルアミンなどが挙げられる。
【0025】イミダゾールの例としては、2−メチルイ
ミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2
−フェニルイミダゾールなどが挙げられる。
ミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2
−フェニルイミダゾールなどが挙げられる。
【0026】ルイス酸類の例としては、フッ化ホウ素、
フッ化アンチモン及びそのアミン錯体、ベンゼンジアゾ
ニウム・フッ化アンチモン塩などが挙げられる。
フッ化アンチモン及びそのアミン錯体、ベンゼンジアゾ
ニウム・フッ化アンチモン塩などが挙げられる。
【0027】上記に挙げたモノマと硬化剤は単独あるい
は2種以上混ぜられて使用されるか、場合によってはラ
ジカル重合とウレタン化反応のように重合形式の異なる
複数の組合わせ状態でも使用できる。なかでも、含硫黄
樹脂がエチレン性二重結合を有する化合物の(共)重合
体である場合は、後述するようにα−メチルスチレンの
重合性を高められるので特に好ましい。
は2種以上混ぜられて使用されるか、場合によってはラ
ジカル重合とウレタン化反応のように重合形式の異なる
複数の組合わせ状態でも使用できる。なかでも、含硫黄
樹脂がエチレン性二重結合を有する化合物の(共)重合
体である場合は、後述するようにα−メチルスチレンの
重合性を高められるので特に好ましい。
【0028】本発明では、上述のようにして得られる含
硫黄樹脂に含まれる硫黄が10重量%以上であることが
必要であり、特に20重量%以上であることが好まし
い。硫黄が10重量%未満のときには、プラスチックレ
ンズの枠入れ作業時に特に不快になるほどの硫黄系の臭
気がしなくなる傾向があるので、本発明を実施する必要
性が低く、また、屈折率が低くなるため好ましくない。
また、硫黄の量が40重量%を越えると、プラスチック
レンズを代表とする光学用途で必要とされる破壊強度や
靱性、熱や光に対する化学的安定性などが一般に不足し
てくるといった問題点を有する。
硫黄樹脂に含まれる硫黄が10重量%以上であることが
必要であり、特に20重量%以上であることが好まし
い。硫黄が10重量%未満のときには、プラスチックレ
ンズの枠入れ作業時に特に不快になるほどの硫黄系の臭
気がしなくなる傾向があるので、本発明を実施する必要
性が低く、また、屈折率が低くなるため好ましくない。
また、硫黄の量が40重量%を越えると、プラスチック
レンズを代表とする光学用途で必要とされる破壊強度や
靱性、熱や光に対する化学的安定性などが一般に不足し
てくるといった問題点を有する。
【0029】本発明は、上記のような含硫黄樹脂中にα
−メチルスチレンを3重量%以上、20重量%以下、好
ましくは5重量%以上、15重量%以下重合により含む
ことによって達成される。α−メチルスチレンの量が3
重量%未満の場合は、枠入れ作業時の研磨臭気の改善効
果が少なくなる。また、20重量%を越えると、α−メ
チルスチレンの重合性が本来低いために、未重合のα−
メチルスチレンが多く樹脂内に残留するため、樹脂の破
壊強度や靱性、熱や光に対する化学的安定性が低下しや
すくなる。
−メチルスチレンを3重量%以上、20重量%以下、好
ましくは5重量%以上、15重量%以下重合により含む
ことによって達成される。α−メチルスチレンの量が3
重量%未満の場合は、枠入れ作業時の研磨臭気の改善効
果が少なくなる。また、20重量%を越えると、α−メ
チルスチレンの重合性が本来低いために、未重合のα−
メチルスチレンが多く樹脂内に残留するため、樹脂の破
壊強度や靱性、熱や光に対する化学的安定性が低下しや
すくなる。
【0030】前記に例示したモノマと硬化剤のうち、ラ
ジカル重合以外の重合方式を用いて含硫黄樹脂を得る場
合、即ち、イソシアネート系化合物と有機性水酸基、1
または2級アミノ基、メルカプト基などを有する化合物
との反応を利用するもの、エポキシ基と1または2級ア
ミノ基、無水カルボン酸基、メルカプト基、有機性水酸
基を有する化合物との反応、あるいは3級アミン、イミ
ダゾール、ルイス酸類による触媒作用を利用するもので
ある場合は、α−メチルスチレンとの重合性を高める目
的で、先に例示したような二重結合を1あるいは2つ以
上持つ化合物の少なくとも1種とともに用いることが好
ましい。その結果、α−メチルスチレンの重合性が向上
するとともに、2種あるいはそれ以上の重合形式で重合
体になる、いわゆる相互かん入型ポリマ(IPN)が形
成される。
ジカル重合以外の重合方式を用いて含硫黄樹脂を得る場
合、即ち、イソシアネート系化合物と有機性水酸基、1
または2級アミノ基、メルカプト基などを有する化合物
との反応を利用するもの、エポキシ基と1または2級ア
ミノ基、無水カルボン酸基、メルカプト基、有機性水酸
基を有する化合物との反応、あるいは3級アミン、イミ
ダゾール、ルイス酸類による触媒作用を利用するもので
ある場合は、α−メチルスチレンとの重合性を高める目
的で、先に例示したような二重結合を1あるいは2つ以
上持つ化合物の少なくとも1種とともに用いることが好
ましい。その結果、α−メチルスチレンの重合性が向上
するとともに、2種あるいはそれ以上の重合形式で重合
体になる、いわゆる相互かん入型ポリマ(IPN)が形
成される。
【0031】本発明の含硫黄樹脂は、注型重合する前の
モノマ、硬化剤へ必要に応じて、有機パーオキサイド
系、アゾ系などの重合開始剤、ベンゾトリアゾール系や
ベンゾフェノン系などの紫外線吸収剤、ヒンダードフェ
ノール系、ヒンダードアミン系、ホスファイト系やスル
フィド系などの一次あるいは二次酸化防止剤、モールド
への密着剤、離型剤、香料、ブルーイング染料などの添
加剤が加えられていてもよい。
モノマ、硬化剤へ必要に応じて、有機パーオキサイド
系、アゾ系などの重合開始剤、ベンゾトリアゾール系や
ベンゾフェノン系などの紫外線吸収剤、ヒンダードフェ
ノール系、ヒンダードアミン系、ホスファイト系やスル
フィド系などの一次あるいは二次酸化防止剤、モールド
への密着剤、離型剤、香料、ブルーイング染料などの添
加剤が加えられていてもよい。
【0032】重合は、通常ガラス、セラミックス、メタ
ル等で製作されているモールドの内部にモノマおよび硬
化剤と添加剤の混合物を充填し、続いて60℃ないし1
40℃くらいの温度で、5時間ないし36時間程度の時
間をかけて熱重合するか、活性光線を短時間照射して光
重合する方法をとり得る。
ル等で製作されているモールドの内部にモノマおよび硬
化剤と添加剤の混合物を充填し、続いて60℃ないし1
40℃くらいの温度で、5時間ないし36時間程度の時
間をかけて熱重合するか、活性光線を短時間照射して光
重合する方法をとり得る。
【0033】本発明の光学用樹脂材料は、めがねレン
ズ、サングラスレンズ、ファッションレンズ、カメラ用
レンズなどのプラスチックレンズとして好ましく用いら
れ、その表面にハードコート層やマルチコート層を設け
ることによって擦傷抵抗性や光線透過性を高めることも
好ましい。
ズ、サングラスレンズ、ファッションレンズ、カメラ用
レンズなどのプラスチックレンズとして好ましく用いら
れ、その表面にハードコート層やマルチコート層を設け
ることによって擦傷抵抗性や光線透過性を高めることも
好ましい。
【0034】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。
に説明する。
【0035】実施例1〜3 下記式(I)で示される化合物とα−メチルスチレンと
を表1に示す混合比で混合調整し、重合開始剤としてt
−ブチルパーオキシ(2−エチルヘキサノエート)を
0.1重量%添加して注型用モノマ組成物とした。
を表1に示す混合比で混合調整し、重合開始剤としてt
−ブチルパーオキシ(2−エチルヘキサノエート)を
0.1重量%添加して注型用モノマ組成物とした。
【0036】
【化1】 対向する2枚のガラス板と厚さ3mmのガスケットで構
成されているモールドに各注型用モノマを充填し、熱風
乾燥機に入れて50℃で2時間、70℃で6時間、90
℃で6時間、120℃で3時間かけて厚さ3mmの含硫
黄透明樹脂板を重合した。
成されているモールドに各注型用モノマを充填し、熱風
乾燥機に入れて50℃で2時間、70℃で6時間、90
℃で6時間、120℃で3時間かけて厚さ3mmの含硫
黄透明樹脂板を重合した。
【0037】重合終了後、60℃の温水にモールドを浸
漬してヒートショックを与えることにより、ガラス板か
ら樹脂板を離型した。
漬してヒートショックを与えることにより、ガラス板か
ら樹脂板を離型した。
【0038】得られた含硫酸透明樹脂板を、全自動玉摺
機510−S2(株式会社タクボ精機製作所製)にか
け、樹脂板の周辺部を研磨する時に発生する臭気とポリ
マの熱軟化性を評価した。結果を表1に示す。
機510−S2(株式会社タクボ精機製作所製)にか
け、樹脂板の周辺部を研磨する時に発生する臭気とポリ
マの熱軟化性を評価した。結果を表1に示す。
【0039】比較例1,2 実施例1〜3と同様にして、α−メチルスチレンの混合
比を、表1に示すとおりに変えて含硫黄透明樹脂板を作
製し、実施例1〜3と同様の方法で研磨臭気とポリマの
熱軟化性を評価した。結果を表1に示す。
比を、表1に示すとおりに変えて含硫黄透明樹脂板を作
製し、実施例1〜3と同様の方法で研磨臭気とポリマの
熱軟化性を評価した。結果を表1に示す。
【0040】
【表1】 表1中、*1、*2、*3は次のとおりである。
【0041】*1の分析方法としては、次の方法を用い
た。
た。
【0042】酸素ガスを充填してあるフラスコ内で少量
の試料を完全に燃焼させる。過酸化水素を含む水に、発
生したガスを吸収させて、全硫黄を硫酸として回収す
る。トリン/メチレンブルー混合物を指示薬にして、酢
酸バリウム水溶液で滴定して硫黄量を求める。
の試料を完全に燃焼させる。過酸化水素を含む水に、発
生したガスを吸収させて、全硫黄を硫酸として回収す
る。トリン/メチレンブルー混合物を指示薬にして、酢
酸バリウム水溶液で滴定して硫黄量を求める。
【0043】*2の研磨臭気は次のとおりの基準で判定し
た。
た。
【0044】× 硫黄系臭気が強くて耐えられない。
【0045】△ α−メチレスチレン臭気が強くてほ
とんど耐えられない。
とんど耐えられない。
【0046】○ 硫黄系臭気が大幅に軽減化されてい
て、許容範囲内にある。
て、許容範囲内にある。
【0047】◎ 硫黄系臭気がほとんど感じられな
い。
い。
【0048】*3の評価方法としては、100℃における
ショアD硬度を求めた。
ショアD硬度を求めた。
【0049】実施例4〜5、比較例3 下記式(II)で示される化合物とα−メチルスチレンと
を、表2に示す混合比で、混合調整した。
を、表2に示す混合比で、混合調整した。
【0050】実施例1〜3と同様に重合し、得られた含
硫黄透明樹脂について、実施例1〜3と同様の方法で研
磨臭気を評価した。結果を表2に示す。
硫黄透明樹脂について、実施例1〜3と同様の方法で研
磨臭気を評価した。結果を表2に示す。
【0051】
【化2】
【表2】 実施例6〜7、比較例4 式(III )で示される化合物とα−メチルスチレンと
を、表3に示す混合比で混合調整した。
を、表3に示す混合比で混合調整した。
【0052】実施例1〜3と同様に重合し、得られた含
硫黄透明樹脂について、実施例1〜3と同様の方法で研
磨臭気を評価した。結果を表3に示す。
硫黄透明樹脂について、実施例1〜3と同様の方法で研
磨臭気を評価した。結果を表3に示す。
【0053】
【化3】
【表3】
【0054】
【発明の効果】光学用途に適する高い屈折率を有し、か
つ、軽量で、さらに研磨臭気が軽減化された含硫黄透明
樹脂を提供することができた。
つ、軽量で、さらに研磨臭気が軽減化された含硫黄透明
樹脂を提供することができた。
Claims (2)
- 【請求項1】硫黄を10重量%以上含み、かつα−メチ
ルスチレンを3重量%以上、20重量%以下含む含硫黄
樹脂からなることを特徴とする光学用樹脂材料。 - 【請求項2】光学用樹脂材料が、プラスチックレンズで
あることを特徴とする請求項1記載の光学用樹脂材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4172792A JPH0616723A (ja) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | 光学用樹脂材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4172792A JPH0616723A (ja) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | 光学用樹脂材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0616723A true JPH0616723A (ja) | 1994-01-25 |
Family
ID=15948448
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4172792A Pending JPH0616723A (ja) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | 光学用樹脂材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0616723A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08227885A (ja) * | 1995-02-21 | 1996-09-03 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
| KR100497148B1 (ko) * | 2002-11-12 | 2005-06-28 | 주식회사 엘지화학 | 홀로그램 광 확산판용 고굴절 감광성 조성물 |
-
1992
- 1992-06-30 JP JP4172792A patent/JPH0616723A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08227885A (ja) * | 1995-02-21 | 1996-09-03 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
| KR100497148B1 (ko) * | 2002-11-12 | 2005-06-28 | 주식회사 엘지화학 | 홀로그램 광 확산판용 고굴절 감광성 조성물 |
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