JPH06204295A - フィルムキャリアテープ及びそのリードのボンディング方法 - Google Patents
フィルムキャリアテープ及びそのリードのボンディング方法Info
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- JPH06204295A JPH06204295A JP4358706A JP35870692A JPH06204295A JP H06204295 A JPH06204295 A JP H06204295A JP 4358706 A JP4358706 A JP 4358706A JP 35870692 A JP35870692 A JP 35870692A JP H06204295 A JPH06204295 A JP H06204295A
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- lead
- leads
- semiconductor chip
- carrier tape
- resin film
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/701—Tape-automated bond [TAB] connectors
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 リードにおける接続の信頼性を高めるととも
に、電気的な短絡を防止して半導体装置不良を未然に防
止するフィルムキャリアテープと、リード接続を好適に
行うためのボンディング方法を提供する。 【構成】 絶縁性のテープ1の表面に金属箔でリード6
を形成し、このリードを半導体チップ10の電極11や
実装基板20の回路21に接続するようにしたフィルム
キャリアテープにおいて、リード6の少なくとも露呈さ
れた面に樹脂皮膜8を形成し、リード表面酸化を防止す
る一方でリード変形による半導体チップや実装基板との
電気的な短絡を防止する。また、リードのボンディング
に際しては、ボンディングツールBT1により接続部に
超音波を印加し、樹脂皮膜8を破壊してリードの接続を
可能とする。
に、電気的な短絡を防止して半導体装置不良を未然に防
止するフィルムキャリアテープと、リード接続を好適に
行うためのボンディング方法を提供する。 【構成】 絶縁性のテープ1の表面に金属箔でリード6
を形成し、このリードを半導体チップ10の電極11や
実装基板20の回路21に接続するようにしたフィルム
キャリアテープにおいて、リード6の少なくとも露呈さ
れた面に樹脂皮膜8を形成し、リード表面酸化を防止す
る一方でリード変形による半導体チップや実装基板との
電気的な短絡を防止する。また、リードのボンディング
に際しては、ボンディングツールBT1により接続部に
超音波を印加し、樹脂皮膜8を破壊してリードの接続を
可能とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明の半導体装置に用いられる
フィルムキャリアテープの構造と、このフィルムキャリ
アテープを用いて半導体チップや実装基板への電気接続
を行うボンディング方法に関する。
フィルムキャリアテープの構造と、このフィルムキャリ
アテープを用いて半導体チップや実装基板への電気接続
を行うボンディング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般にフィルムキャリアテープは、図4
(a)及び(b)に半導体チップを搭載した状態の平面
図とC─C線断面図を示すように、ポリイミド等の絶縁
性のテープ1に、搬送及び位置決め用のスプロケットホ
ール2を形成し、かつ半導体チップ10が入る開孔部と
してのデバイスホール3を形成する。そして、テープ1
の表面には銅等の金属箔を接着し、かつこれをフォトリ
ソグラフィ技術により所要パターンに形成してリード6
及び電気選別のためのパッド7等を形成する。前記リー
ド6はデバイスホール3内に突出されたインナーリード
6Aと、これにつながってデバイスホールの外側に延出
されるアウターリード6Bとで構成され、表面に金、
錫、半田等の金属メッキ9が施されている。また、アウ
ターリード6Bの先端部はテープ1に開孔したアウター
リードホール4に臨ませられ、かつアウターリードホー
ル4とデバイスホール3との間はリード6を保持するサ
スペンダ5として構成される。
(a)及び(b)に半導体チップを搭載した状態の平面
図とC─C線断面図を示すように、ポリイミド等の絶縁
性のテープ1に、搬送及び位置決め用のスプロケットホ
ール2を形成し、かつ半導体チップ10が入る開孔部と
してのデバイスホール3を形成する。そして、テープ1
の表面には銅等の金属箔を接着し、かつこれをフォトリ
ソグラフィ技術により所要パターンに形成してリード6
及び電気選別のためのパッド7等を形成する。前記リー
ド6はデバイスホール3内に突出されたインナーリード
6Aと、これにつながってデバイスホールの外側に延出
されるアウターリード6Bとで構成され、表面に金、
錫、半田等の金属メッキ9が施されている。また、アウ
ターリード6Bの先端部はテープ1に開孔したアウター
リードホール4に臨ませられ、かつアウターリードホー
ル4とデバイスホール3との間はリード6を保持するサ
スペンダ5として構成される。
【0003】そして、このフィルムキャリアテープのリ
ード6と半導体チップ10とをボンディングする際に
は、予め半導体チップ10の電極上に金属突起物である
バンプ11を設けておき、このバンプ11上にインナー
リード6Aを載せ、かつその背後からボンディングツー
ルでインナーリード6Aを押圧しながら加熱し、或いは
スクラブすることにより熱圧着法又は共晶法によりイン
ナーリード6Aをバンプ11にボンディングしている
(このことを、ILBと略称する)。なお、インナーリ
ードのボンディング完了後は、パッド7に図外の接触針
を接触させ、この接触針及びパッドを介して半導体チッ
プ10に通電し、電気的特性試験を行い、電気選別等を
行う。なお、半導体装置の信頼性向上及び機械的保護の
ために、ポッティング等により半導体チップ及びインナ
ーリードを封止することが行われる。このように構成さ
れた半導体装置を実装する場合は、図5に示すように、
アウターリード6Bを所要の長さに切断し、プリント基
板20の所要箇所に接着剤23等により半導体チップ1
0を固定し、その上でアウターリード6Bを導電パター
ンとして形成されたプリント基板の回路パターン21に
ボンディングする(このことを、OLBと略称する)。
ボンディングには、半田等のロウ付けが利用される。ま
た、24はポッティンク材である。
ード6と半導体チップ10とをボンディングする際に
は、予め半導体チップ10の電極上に金属突起物である
バンプ11を設けておき、このバンプ11上にインナー
リード6Aを載せ、かつその背後からボンディングツー
ルでインナーリード6Aを押圧しながら加熱し、或いは
スクラブすることにより熱圧着法又は共晶法によりイン
ナーリード6Aをバンプ11にボンディングしている
(このことを、ILBと略称する)。なお、インナーリ
ードのボンディング完了後は、パッド7に図外の接触針
を接触させ、この接触針及びパッドを介して半導体チッ
プ10に通電し、電気的特性試験を行い、電気選別等を
行う。なお、半導体装置の信頼性向上及び機械的保護の
ために、ポッティング等により半導体チップ及びインナ
ーリードを封止することが行われる。このように構成さ
れた半導体装置を実装する場合は、図5に示すように、
アウターリード6Bを所要の長さに切断し、プリント基
板20の所要箇所に接着剤23等により半導体チップ1
0を固定し、その上でアウターリード6Bを導電パター
ンとして形成されたプリント基板の回路パターン21に
ボンディングする(このことを、OLBと略称する)。
ボンディングには、半田等のロウ付けが利用される。ま
た、24はポッティンク材である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のフィ
ルムキャリアテープでは、リード6に金属メッキ8を形
成しておかないと、ILB時にリードに加えられる熱に
より主材である銅の表面が酸化し、半導体チップの電極
(バンプ)11との良好な接続ができなくなり、機械的
な接続強度が低下され、かつ接続部の電気的抵抗が大き
くなるという問題が生じる。このため、金、錫、半田等
の金属メッキを施しているが、特に電極との接続に際し
て高い信頼性が得られる金メッキを施すと、半導体装置
のコスト高をまねくという問題がある。
ルムキャリアテープでは、リード6に金属メッキ8を形
成しておかないと、ILB時にリードに加えられる熱に
より主材である銅の表面が酸化し、半導体チップの電極
(バンプ)11との良好な接続ができなくなり、機械的
な接続強度が低下され、かつ接続部の電気的抵抗が大き
くなるという問題が生じる。このため、金、錫、半田等
の金属メッキを施しているが、特に電極との接続に際し
て高い信頼性が得られる金メッキを施すと、半導体装置
のコスト高をまねくという問題がある。
【0005】また、従来のフィルムキャリアテープは、
リードの金属メッキが露呈された状態にあるため、図5
に示したようにILBやOLBを行う際、或いは行った
後に、リードが変形されたときにリード6の一部が半導
体チップ10やプリント基板20に接触し、両者が電気
的に短絡して半導体装置不良を生じるという問題があ
る。本発明の目的は、半導体チップとリードとの接続の
信頼性を高めるとともに、電気的な短絡を防止して半導
体装置不良を未然に防止するフィルムキャリアテープを
提供することにある。また、本発明の他の目的は、フィ
ルムキャリアテープのリードを良好に接続することを可
能にしたボンディング方法を提供することにある。
リードの金属メッキが露呈された状態にあるため、図5
に示したようにILBやOLBを行う際、或いは行った
後に、リードが変形されたときにリード6の一部が半導
体チップ10やプリント基板20に接触し、両者が電気
的に短絡して半導体装置不良を生じるという問題があ
る。本発明の目的は、半導体チップとリードとの接続の
信頼性を高めるとともに、電気的な短絡を防止して半導
体装置不良を未然に防止するフィルムキャリアテープを
提供することにある。また、本発明の他の目的は、フィ
ルムキャリアテープのリードを良好に接続することを可
能にしたボンディング方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、絶縁性のテー
プの表面に金属箔で形成されたリードの少なくとも露呈
された面に樹脂皮膜を形成する。この樹脂皮膜は、リー
ドを含むテープの全面に形成してもよい。また、本発明
は、絶縁性のテープの表面に金属箔で形成され、かつそ
の表面に樹脂皮膜が形成されたリードと、半導体チップ
の電極や実装基板の回路パターンとを電気的に接続する
ボンディングに際し、リードをボンディングツールによ
り電極や回路パターンに押圧するとともに、ボンディン
グツールを介して接続部に樹脂皮膜を破壊する強度の超
音波を印加する。この場合、接続部を加熱してリードと
電極や回路パターンを熱圧着或いはロウ付けする方法が
採用される。
プの表面に金属箔で形成されたリードの少なくとも露呈
された面に樹脂皮膜を形成する。この樹脂皮膜は、リー
ドを含むテープの全面に形成してもよい。また、本発明
は、絶縁性のテープの表面に金属箔で形成され、かつそ
の表面に樹脂皮膜が形成されたリードと、半導体チップ
の電極や実装基板の回路パターンとを電気的に接続する
ボンディングに際し、リードをボンディングツールによ
り電極や回路パターンに押圧するとともに、ボンディン
グツールを介して接続部に樹脂皮膜を破壊する強度の超
音波を印加する。この場合、接続部を加熱してリードと
電極や回路パターンを熱圧着或いはロウ付けする方法が
採用される。
【0007】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明のフィルムキャリアテープの一実施例
を示しており、(a)は平面図、(b)はそのA−A線
拡大断面図である。同図(a)は従来のフィルムキャリ
アテープと略同じ平面構成をしており、絶縁性のテープ
1にスプロケットホール2、デバイスホール3、アウタ
ーリードホール4、サスペンダ5を形成する。また、テ
ープ1の表面には銅等の金属箔を接着し、これをフォト
リソグラフィ技術により所要パターンに形成してリード
6及び電気選別のためのパッド7を形成する。リード6
はデバイスホール3内に突出されたインナーリード6A
と、アウターリードホール4を跨いで延長されるアウタ
ーリード6Bとで構成される。
る。図1は本発明のフィルムキャリアテープの一実施例
を示しており、(a)は平面図、(b)はそのA−A線
拡大断面図である。同図(a)は従来のフィルムキャリ
アテープと略同じ平面構成をしており、絶縁性のテープ
1にスプロケットホール2、デバイスホール3、アウタ
ーリードホール4、サスペンダ5を形成する。また、テ
ープ1の表面には銅等の金属箔を接着し、これをフォト
リソグラフィ技術により所要パターンに形成してリード
6及び電気選別のためのパッド7を形成する。リード6
はデバイスホール3内に突出されたインナーリード6A
と、アウターリードホール4を跨いで延長されるアウタ
ーリード6Bとで構成される。
【0008】そして、図1(b)に示されるように、リ
ード6の表面には樹脂皮膜8を形成している。この樹脂
皮膜8は、例えばフッ素系、ポリイミド系、ポリエステ
ル系等の樹脂で構成され、リード6を形成した後にリー
ド表面に塗布して形成されている。なお、この場合、樹
脂皮膜8の膜厚は、後述するボンディングを良好に行う
ために可及的に薄く形成することが好ましい。また、テ
ープ全体を樹脂液中に浸漬させるディッピング法により
樹脂皮膜を形成してもよく、この場合にはリード6を含
むテープ1の全面に樹脂皮膜8を形成することになる。
ード6の表面には樹脂皮膜8を形成している。この樹脂
皮膜8は、例えばフッ素系、ポリイミド系、ポリエステ
ル系等の樹脂で構成され、リード6を形成した後にリー
ド表面に塗布して形成されている。なお、この場合、樹
脂皮膜8の膜厚は、後述するボンディングを良好に行う
ために可及的に薄く形成することが好ましい。また、テ
ープ全体を樹脂液中に浸漬させるディッピング法により
樹脂皮膜を形成してもよく、この場合にはリード6を含
むテープ1の全面に樹脂皮膜8を形成することになる。
【0009】このフィルムキャリアテープのリード6を
半導体チップ10の電極11にボンディングし、かつプ
リント基板20に搭載した状態を図2に示す。このイン
ナーリード6のボンディング(IBL)に際しては、半
導体チップ10の電極11にはバンプは設けてはおら
ず、電極11の表面にインナーリード6Aを載置する。
そして、インナーリード6Aの上面から図3(a)に示
すボンディングツールBT1を所要の荷重で押圧させ、
かつ加熱しながらボンディングツールBT1に超音波を
印加する。これにより、インナーリード6Aと電極11
の接触部では、インナーリード6A表面の樹脂皮膜8が
破壊され、主材の銅箔面が露呈される。同時に電極11
の表面の酸化膜12が破壊され、電極金属面が露呈され
る。そして、インナーリード6Aと電極11の各露呈さ
れた面を熱圧着させることで、両者を接合させ、好適な
ボンディングが実現される。なお、前記したボンディン
グツールに印加する超音波出力は、樹脂皮膜と酸化膜を
安定して破壊することができる最低出力に設定される。
また、ボンディングツールの押圧荷重は、インナーリー
ドと電極の接合面を十分に安定して密着できる最低な荷
重に設定される。
半導体チップ10の電極11にボンディングし、かつプ
リント基板20に搭載した状態を図2に示す。このイン
ナーリード6のボンディング(IBL)に際しては、半
導体チップ10の電極11にはバンプは設けてはおら
ず、電極11の表面にインナーリード6Aを載置する。
そして、インナーリード6Aの上面から図3(a)に示
すボンディングツールBT1を所要の荷重で押圧させ、
かつ加熱しながらボンディングツールBT1に超音波を
印加する。これにより、インナーリード6Aと電極11
の接触部では、インナーリード6A表面の樹脂皮膜8が
破壊され、主材の銅箔面が露呈される。同時に電極11
の表面の酸化膜12が破壊され、電極金属面が露呈され
る。そして、インナーリード6Aと電極11の各露呈さ
れた面を熱圧着させることで、両者を接合させ、好適な
ボンディングが実現される。なお、前記したボンディン
グツールに印加する超音波出力は、樹脂皮膜と酸化膜を
安定して破壊することができる最低出力に設定される。
また、ボンディングツールの押圧荷重は、インナーリー
ドと電極の接合面を十分に安定して密着できる最低な荷
重に設定される。
【0010】したがって、樹脂皮膜8を形成したリード
6を有するフィルムキャリアテープ1を用いて半導体チ
ップ10をインナーリード6Aにボンディングした半導
体装置では、リード6が変形されてその中間一部が半導
体チップ10に接触するようなことが生じても、樹脂皮
膜8によってリード6と半導体チップ10とが電気的に
短絡することが防止され、半導体装置の信頼性を高める
ことができる。また、この樹脂皮膜8を形成することに
よってリードの主材である銅箔の表面酸化を防止し、半
導体チップの電極との良好な接合が確保できるので、従
来のような金属メッキを施す必要がなく、コスト低減に
有効となる。
6を有するフィルムキャリアテープ1を用いて半導体チ
ップ10をインナーリード6Aにボンディングした半導
体装置では、リード6が変形されてその中間一部が半導
体チップ10に接触するようなことが生じても、樹脂皮
膜8によってリード6と半導体チップ10とが電気的に
短絡することが防止され、半導体装置の信頼性を高める
ことができる。また、この樹脂皮膜8を形成することに
よってリードの主材である銅箔の表面酸化を防止し、半
導体チップの電極との良好な接合が確保できるので、従
来のような金属メッキを施す必要がなく、コスト低減に
有効となる。
【0011】一方、樹脂皮膜8を形成したインナーリー
ド6Aと半導体チップ電極11とのボンディングに際し
ては、従来のように電極11にバンプを設ける必要がな
くなる。このバンプは、これを設ける理由の一つが、リ
ードの変形による半導体チップとの短絡を防止するため
であり、半導体チップの表面高さを稼ぐものであるが、
前記したように樹脂皮膜8によりその短絡防止が期待で
きるためにその理由の一つがなくなる。また、バンプを
設ける他の理由であるインナーリードとの半田付け接続
においても、前記したボンディングのように超音波を併
用した熱圧着法を採用することで、半田等のロウ材が存
在しなくともインナーリードと電極とを接合させること
が可能となる。したがって、電極のバンプは全く不要と
なり、半導体チップ側のコスト低減にも有効となる。な
お、ボンディングツールとして、図3(b)に示すよう
に、先端が細いロッド状に突出された形状のボンディン
グツールBT2を用いることもできる。
ド6Aと半導体チップ電極11とのボンディングに際し
ては、従来のように電極11にバンプを設ける必要がな
くなる。このバンプは、これを設ける理由の一つが、リ
ードの変形による半導体チップとの短絡を防止するため
であり、半導体チップの表面高さを稼ぐものであるが、
前記したように樹脂皮膜8によりその短絡防止が期待で
きるためにその理由の一つがなくなる。また、バンプを
設ける他の理由であるインナーリードとの半田付け接続
においても、前記したボンディングのように超音波を併
用した熱圧着法を採用することで、半田等のロウ材が存
在しなくともインナーリードと電極とを接合させること
が可能となる。したがって、電極のバンプは全く不要と
なり、半導体チップ側のコスト低減にも有効となる。な
お、ボンディングツールとして、図3(b)に示すよう
に、先端が細いロッド状に突出された形状のボンディン
グツールBT2を用いることもできる。
【0012】また、図2に示したように、アウターリー
ド6Bをプリント基板20の回路パターン21にボンデ
ィング(OBL)する場合にも、インナーリードのボン
ディングと同様にボンディングツールを利用して超音波
を加えながらロウ材22による接続を行えば、超音波に
よって樹脂皮膜8が破壊され、銅箔表面が露呈されてロ
ウ材22による接続が可能となる。そして、この場合に
も、リード6の一部が変形してプリント基板20の回路
パターン21に接触するようなことが生じても、リード
の表面に設けた樹脂皮膜8によってリードと回路パター
ンとの電気的な短絡が防止でき、信頼性を高めることが
可能となる。なお、前記実施例では低コスト化を図るた
めにリード表面に金属メッキを形成していないが、コス
トを問題としない場合には、リードに金、錫等の金属メ
ッキを施した上に樹脂皮膜を形成するようにしてもよ
い。このようにすれば、リードの金属メッキが半導体チ
ップの電極に接触されて接合が行われるため、電極の金
属材料の種類によっては接合の信頼性を一層高めること
が可能となる。
ド6Bをプリント基板20の回路パターン21にボンデ
ィング(OBL)する場合にも、インナーリードのボン
ディングと同様にボンディングツールを利用して超音波
を加えながらロウ材22による接続を行えば、超音波に
よって樹脂皮膜8が破壊され、銅箔表面が露呈されてロ
ウ材22による接続が可能となる。そして、この場合に
も、リード6の一部が変形してプリント基板20の回路
パターン21に接触するようなことが生じても、リード
の表面に設けた樹脂皮膜8によってリードと回路パター
ンとの電気的な短絡が防止でき、信頼性を高めることが
可能となる。なお、前記実施例では低コスト化を図るた
めにリード表面に金属メッキを形成していないが、コス
トを問題としない場合には、リードに金、錫等の金属メ
ッキを施した上に樹脂皮膜を形成するようにしてもよ
い。このようにすれば、リードの金属メッキが半導体チ
ップの電極に接触されて接合が行われるため、電極の金
属材料の種類によっては接合の信頼性を一層高めること
が可能となる。
【0013】ここで、リードを含むフィルムキャリアテ
ープの全面に樹脂皮膜を形成した場合には、インナーリ
ードを半導体チップに接続した後にパッドを利用して電
気的特性の試験を行う際には、先の尖った接触針をパッ
ドに押圧させることで、樹脂皮膜を突き破って接触針と
パッドとの電気接続を行うことができる。また、リード
を半導体チップや実装基板に接続する際に超音波による
ボンディングが採用できない場合には、予めフィルムキ
ャリアテープを樹脂液にディッピングする前にマスクテ
ープを必要箇所に貼り付けておき、ボンディングの直前
にマスクテープを剥がすようにすれば、リード面を清浄
なままで露呈させ、超音波を用いない好適な接続が可能
となる。
ープの全面に樹脂皮膜を形成した場合には、インナーリ
ードを半導体チップに接続した後にパッドを利用して電
気的特性の試験を行う際には、先の尖った接触針をパッ
ドに押圧させることで、樹脂皮膜を突き破って接触針と
パッドとの電気接続を行うことができる。また、リード
を半導体チップや実装基板に接続する際に超音波による
ボンディングが採用できない場合には、予めフィルムキ
ャリアテープを樹脂液にディッピングする前にマスクテ
ープを必要箇所に貼り付けておき、ボンディングの直前
にマスクテープを剥がすようにすれば、リード面を清浄
なままで露呈させ、超音波を用いない好適な接続が可能
となる。
【0014】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、フィルム
キャリアテープに金属箔で形成したリードの表面に樹脂
皮膜を形成しているので、リード金属の表面酸化を防止
して半導体チップや実装基板との好適な接続を可能と
し、リード表面の金属メッキを不要にして、低コスト化
が実現できる。また、リードが変形して半導体チップや
実装基板に接触した場合でも樹脂皮膜によって電気的な
短絡が防止でき、信頼性を高めることができる。また、
リードを半導体チップの電極や実装基板の回路パターン
に接続する際に超音波ボンディングを併用することによ
り、樹脂皮膜を破壊してリード表面を電極や回路パター
ンに接触させ、好適な接続を行うことができる。
キャリアテープに金属箔で形成したリードの表面に樹脂
皮膜を形成しているので、リード金属の表面酸化を防止
して半導体チップや実装基板との好適な接続を可能と
し、リード表面の金属メッキを不要にして、低コスト化
が実現できる。また、リードが変形して半導体チップや
実装基板に接触した場合でも樹脂皮膜によって電気的な
短絡が防止でき、信頼性を高めることができる。また、
リードを半導体チップの電極や実装基板の回路パターン
に接続する際に超音波ボンディングを併用することによ
り、樹脂皮膜を破壊してリード表面を電極や回路パター
ンに接触させ、好適な接続を行うことができる。
【図1】本発明のフィルムキャリアテープの一実施例を
示し、(a)は平面図、(b)はA−A線の拡大断面図
である。
示し、(a)は平面図、(b)はA−A線の拡大断面図
である。
【図2】図1のフィルムキャリアテープを用いて半導体
チップをプリント基板に実装した状態を示す断面図であ
る。
チップをプリント基板に実装した状態を示す断面図であ
る。
【図3】本発明のボンディング方法に用いるボンディン
グツールの外観図である。
グツールの外観図である。
【図4】従来の一般的なフィルムキャリアテープを示
し、(a)は平面図、(b)は断面図である。
し、(a)は平面図、(b)は断面図である。
【図5】従来のフィルムキャリアテープを用いて半導体
チップをプリント基板に実装した状態を示す断面図であ
る。
チップをプリント基板に実装した状態を示す断面図であ
る。
1 テープ 6 リード、6A インナーリード、6B アウターリ
ード 8 樹脂皮膜 10 半導体チップ 11 電極 20 プリント基板 21 回路パターン
ード 8 樹脂皮膜 10 半導体チップ 11 電極 20 プリント基板 21 回路パターン
Claims (4)
- 【請求項1】 絶縁性のテープの表面に金属箔でリード
を形成し、このリードのインナーリードを半導体チップ
の電極に接続し、アウターリードを実装基板の回路に接
続するようにしたフィルムキャリアテープにおいて、前
記リードの少なくとも露呈された面に樹脂皮膜を形成し
たことを特徴とするフィルムキャリアテープ。 - 【請求項2】 リードを含むテープの全面に樹脂皮膜を
形成する請求項1のフィルムキャリアテープ。 - 【請求項3】 絶縁性のテープの表面に金属箔で形成さ
れ、かつその表面に樹脂皮膜が形成されたリードと、半
導体チップの電極や実装基板の回路パターンとを電気的
に接続するボンディング方法において、前記リードをボ
ンディングツールにより電極や回路パターン側に押圧
し、かつボンディングツールを介して接続部に樹脂皮膜
を破壊する強度の超音波を印加することを特徴とするリ
ードのボンディング方法。 - 【請求項4】 ボンディングツールを介して接続部に超
音波を印加すると共に、接続部を加熱してリードと電極
や回路パターンを熱圧着或いはロウ付けする請求項3の
リードのボンディング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4358706A JP2614005B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | フィルムキャリアテープ及びそのリードのボンディング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP4358706A JP2614005B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | フィルムキャリアテープ及びそのリードのボンディング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06204295A true JPH06204295A (ja) | 1994-07-22 |
| JP2614005B2 JP2614005B2 (ja) | 1997-05-28 |
Family
ID=18460699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4358706A Expired - Lifetime JP2614005B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | フィルムキャリアテープ及びそのリードのボンディング方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP2614005B2 (ja) |
Citations (2)
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| JPS5197373A (ja) * | 1975-02-24 | 1976-08-26 | ||
| JPS62104127A (ja) * | 1985-10-31 | 1987-05-14 | Toshiba Corp | 絶縁ワイヤボンデイング方法 |
-
1992
- 1992-12-28 JP JP4358706A patent/JP2614005B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5197373A (ja) * | 1975-02-24 | 1976-08-26 | ||
| JPS62104127A (ja) * | 1985-10-31 | 1987-05-14 | Toshiba Corp | 絶縁ワイヤボンデイング方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2614005B2 (ja) | 1997-05-28 |
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