JPH0621115B2 - ヒドロキシ吉草酸誘導体およびこれを含む液晶組成物 - Google Patents
ヒドロキシ吉草酸誘導体およびこれを含む液晶組成物Info
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- JPH0621115B2 JPH0621115B2 JP62187500A JP18750087A JPH0621115B2 JP H0621115 B2 JPH0621115 B2 JP H0621115B2 JP 62187500 A JP62187500 A JP 62187500A JP 18750087 A JP18750087 A JP 18750087A JP H0621115 B2 JPH0621115 B2 JP H0621115B2
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Description
【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は光学活性を有するヒドロキシ吉草酸誘導体、そ
れを含有する液晶組成物に関するもので、更に詳しくは
光学活性なヒドロキシ吉草酸誘導体であるところの液晶
性化合物およびそれを含有する液晶組成物ならびに該液
晶組成物を使用する液晶素子に関するものである。
れを含有する液晶組成物に関するもので、更に詳しくは
光学活性なヒドロキシ吉草酸誘導体であるところの液晶
性化合物およびそれを含有する液晶組成物ならびに該液
晶組成物を使用する液晶素子に関するものである。
背景技術 従来の液晶素子としては、例えばエム・シャット( M.S
chadt)とダブリュー・ヘルフリヒ(W.Helfrich)
著、”アプライド、フィズィクス、レターズ”18巻4
号(”Applied Physics Letters”、Vol.18, No.4 )
(1971.2.15)、P.127 〜128 の「捩れネマチック液晶
の電圧依存光学挙動」(” Voltage− Dependent Opti
cal Activity of a Twisted Nematic Liquid Crysta
l”)に記載されたTN(ツイステッド・ネマチック)
液晶を用いたものが知られている。しかしながら、この
TN液晶は、画素密度を高くしたマトリクス電極構造を
用いた時分割駆動の時、クロストークを発生する問題点
をあるため、画素数が制限されていた。また、電界応答
が遅く視野角特性が悪いためにディスプレイとしての用
途は限定されていた。
chadt)とダブリュー・ヘルフリヒ(W.Helfrich)
著、”アプライド、フィズィクス、レターズ”18巻4
号(”Applied Physics Letters”、Vol.18, No.4 )
(1971.2.15)、P.127 〜128 の「捩れネマチック液晶
の電圧依存光学挙動」(” Voltage− Dependent Opti
cal Activity of a Twisted Nematic Liquid Crysta
l”)に記載されたTN(ツイステッド・ネマチック)
液晶を用いたものが知られている。しかしながら、この
TN液晶は、画素密度を高くしたマトリクス電極構造を
用いた時分割駆動の時、クロストークを発生する問題点
をあるため、画素数が制限されていた。また、電界応答
が遅く視野角特性が悪いためにディスプレイとしての用
途は限定されていた。
更に、各画素に薄膜トランジスタによるスイッチング素
子を接続し、各画素毎をスイッチングする方式の表示素
子が知られているが、基板上に薄膜トランジスタを形成
する工程が極めて煩雑な上、大面積の表示素子を作成す
ることが難しい問題点がある。
子を接続し、各画素毎をスイッチングする方式の表示素
子が知られているが、基板上に薄膜トランジスタを形成
する工程が極めて煩雑な上、大面積の表示素子を作成す
ることが難しい問題点がある。
このような従来型の液晶素子の欠点を改善するものとし
て、双安定性を有する液晶素子の使用が、クラーク(Cl
ark)およびラガウエル(Lagerwall)により提案されて
いる(特開昭56−107216号公報、米国特許第4367924 号
明細書等)。双安定性を有する液晶としては、一般に、
カイラルスメクティックC相(SmC*)又はH相(S
mH*)を有する強誘電性液晶が用いられる。
て、双安定性を有する液晶素子の使用が、クラーク(Cl
ark)およびラガウエル(Lagerwall)により提案されて
いる(特開昭56−107216号公報、米国特許第4367924 号
明細書等)。双安定性を有する液晶としては、一般に、
カイラルスメクティックC相(SmC*)又はH相(S
mH*)を有する強誘電性液晶が用いられる。
この強誘電性液晶は自発分極を有するために非常に速い
応答速度を有する上にメモリー性のある双安定状態を発
現させることができさらに視野角特性もすぐれているこ
とから大容量大画面のディスプレイとして適している。
応答速度を有する上にメモリー性のある双安定状態を発
現させることができさらに視野角特性もすぐれているこ
とから大容量大画面のディスプレイとして適している。
強誘電性液晶に用いられるところの液晶性化合物は不斉
炭素を有しているためにそのカイラルスメクチック相を
用いるところの強誘電性液晶として利用する以外に次の
ような光学素子に対しても使用することができる。
炭素を有しているためにそのカイラルスメクチック相を
用いるところの強誘電性液晶として利用する以外に次の
ような光学素子に対しても使用することができる。
1)液晶状態においてコレステリック・ネマティック相
転移効果を利用するもの(J.J.Wysoki,A.Adams and W.H
aas;Phys.Rev.Lett.,20,1024(1968))、 2)液晶状態においてホワイト・テイラー形ゲスト・ホ
スト効果を利用するもの( D.L.White and G.N.Taylor;
J.Appl. Phys.,45,4718(1974))、 3)液晶状態においてコレステリック相を持つものをマ
トリックス中へ固定することにより、その選択散乱特性
を利用し、ノッチフィルターやバンドバスフィルターと
して利用するもの(F.J.Kahn,Appl.Phys.Lett.,18,231
(1971))、円偏光特性を利用した円偏光ビームスプリッ
ターとして利用するもの(S.D.Jacobs,SPIE,37,98(198
1)):等。
転移効果を利用するもの(J.J.Wysoki,A.Adams and W.H
aas;Phys.Rev.Lett.,20,1024(1968))、 2)液晶状態においてホワイト・テイラー形ゲスト・ホ
スト効果を利用するもの( D.L.White and G.N.Taylor;
J.Appl. Phys.,45,4718(1974))、 3)液晶状態においてコレステリック相を持つものをマ
トリックス中へ固定することにより、その選択散乱特性
を利用し、ノッチフィルターやバンドバスフィルターと
して利用するもの(F.J.Kahn,Appl.Phys.Lett.,18,231
(1971))、円偏光特性を利用した円偏光ビームスプリッ
ターとして利用するもの(S.D.Jacobs,SPIE,37,98(198
1)):等。
個々の方式についての詳細な説明は省略するが、いずれ
も表示素子や変調素子として重要である。
も表示素子や変調素子として重要である。
従来、光学活性を有することを特徴とする光学素子に必
要な機能性材料は合成するための光学活性中間体として
は、2−メチルブタノール、2級オクチルアルコール、
2級ブチルアルコール、塩化p−(2−メチルブチル)
安息香酸、2級フェネチルアルコール、アミノ酸誘導
体、ショウノウ誘導体、コレステロール誘導体等が知ら
れている。
要な機能性材料は合成するための光学活性中間体として
は、2−メチルブタノール、2級オクチルアルコール、
2級ブチルアルコール、塩化p−(2−メチルブチル)
安息香酸、2級フェネチルアルコール、アミノ酸誘導
体、ショウノウ誘導体、コレステロール誘導体等が知ら
れている。
しかし、これらは次のような欠点を有している。光学活
性な鎖状炭化水素誘導体は構造の変更が困難で、しかも
一部のものを除き非常に高価なものである。アミノ酸誘
導体は比較的安価な上に構造の変更も容易であるがアミ
ンの水素基が化学的に活性が強く、水素結合や化学反応
を生じやすいために機能性材料の特性を制限してしまい
やすい。ショウノウ誘導体、コレステロール誘導体は構
造の変更が困難なうえに立体的な障害によって機能性材
料の特性に悪影響を与えやすい。
性な鎖状炭化水素誘導体は構造の変更が困難で、しかも
一部のものを除き非常に高価なものである。アミノ酸誘
導体は比較的安価な上に構造の変更も容易であるがアミ
ンの水素基が化学的に活性が強く、水素結合や化学反応
を生じやすいために機能性材料の特性を制限してしまい
やすい。ショウノウ誘導体、コレステロール誘導体は構
造の変更が困難なうえに立体的な障害によって機能性材
料の特性に悪影響を与えやすい。
上記のような欠点は、種々の材料を開発する上で大きな
制約となっていた。
制約となっていた。
発明の目的 上述の事情に鑑み、本発明の主要な目的は、液晶状態の
制御に有用な光学活性化合物、およびこれを含む液晶組
成物を提供することにある。
制御に有用な光学活性化合物、およびこれを含む液晶組
成物を提供することにある。
より具体的には、本発明は、液晶・LB膜・二分子膜等
を形成するための適度な分子間力と形状をもった機能性
材料中間体と光学活性を損なうことなく結合させること
ができ、分子設計を自由に行うことができるとともにそ
れ自体で結晶性の化合物を提供することを目的とする。
を形成するための適度な分子間力と形状をもった機能性
材料中間体と光学活性を損なうことなく結合させること
ができ、分子設計を自由に行うことができるとともにそ
れ自体で結晶性の化合物を提供することを目的とする。
また、本発明は不斉炭素原子に隣接して酸素原子が存在
するために強誘電性液晶として使用する場合に大きな自
発分極を生じる化合物を提供することを目的とする。
するために強誘電性液晶として使用する場合に大きな自
発分極を生じる化合物を提供することを目的とする。
また、本発明はアルキル基の長さを変更することが容易
で、このことにより H.Arnold,Z.Phys.Chem.,226,146(1
964)に示されるように液晶状態において発現する液晶相
の種類や温度範囲を制御することが可能な液相性化合物
及びそれを少なくとも1種類配合成分として含有する液
晶組成物を提供することを目的とする。
で、このことにより H.Arnold,Z.Phys.Chem.,226,146(1
964)に示されるように液晶状態において発現する液晶相
の種類や温度範囲を制御することが可能な液相性化合物
及びそれを少なくとも1種類配合成分として含有する液
晶組成物を提供することを目的とする。
更に本発明は LB( Langmuir-Blodgett)膜法により単分
子累積膜を作製する場合には容易に疎水基を制御するこ
とが出来、安定に成膜することが可能な化合物の提供を
目的とする。
子累積膜を作製する場合には容易に疎水基を制御するこ
とが出来、安定に成膜することが可能な化合物の提供を
目的とする。
発明の概要 すなわち、本発明は、一般式(I) [上記一般式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を示
し、C*は不斉炭素原子を示す。lは0または1であ
り、l=1のときm、nは0または1である。またAは (ただし、R1は炭素数4〜18のアルキル基またはア
ルコキシ基を示し、 は、それぞれ を示し、p、q、rは0または1でありp+q+r≧1
の関係を満たす)である]で表わされる光学活性なヒド
ロキシ吉草酸誘導体およびそれを少なくとも1種配合成
分として含有する液晶組成物を提供するものである。
し、C*は不斉炭素原子を示す。lは0または1であ
り、l=1のときm、nは0または1である。またAは (ただし、R1は炭素数4〜18のアルキル基またはア
ルコキシ基を示し、 は、それぞれ を示し、p、q、rは0または1でありp+q+r≧1
の関係を満たす)である]で表わされる光学活性なヒド
ロキシ吉草酸誘導体およびそれを少なくとも1種配合成
分として含有する液晶組成物を提供するものである。
特にAが である上記光学活性なヒドロキシ吉草酸誘導体はそれ自
体で液晶性を示し、それを少なくとも1種類配合成分と
して含有することにより良好な特性の液晶組成物が得ら
れる。また本発明はこのような液晶組成物を使用する液
晶素子をも提供するものである。
体で液晶性を示し、それを少なくとも1種類配合成分と
して含有することにより良好な特性の液晶組成物が得ら
れる。また本発明はこのような液晶組成物を使用する液
晶素子をも提供するものである。
発明の具体的説明 上記光学活性物質を示す一般式(I)中、Rは炭素原子
数1〜18の直鎖状、分岐状または環状の飽和もしくは
不飽和の炭化水素基のものである。19以上では最終的
な機能材料としたときの粘度やモル体積が増加するため
好ましくない。また、好ましいRの炭素原子数は4〜1
6である。Rの具体例としては直鎖状アルキル基、分岐
状アルキル基、シクロアルキル基、直鎖状アルケニル
基、分岐状アルケニル基、シクロアルケニル基、直鎖状
アルカディエニル基、分岐状アルカディエニル基、シク
ロアルカディエニル基、直鎖状アルカトリエニル基、分
岐状アルカトリエニル基、直鎖状アルキニル基、分岐状
アルキニル基、アラルキル基がある。液晶性化合物を与
えるためには、特にアルキル基が好ましい。また、C*
は不斉炭素原子を示す。上記一般式(I)構造におい
て、仮にAが水酸基である光学活性中間体に、反応させ
る試薬を種々変化させることにより、本発明の光学活性
ヒドロキシ吉草酸誘導体からなる液晶性化合物を得るこ
とができる。
数1〜18の直鎖状、分岐状または環状の飽和もしくは
不飽和の炭化水素基のものである。19以上では最終的
な機能材料としたときの粘度やモル体積が増加するため
好ましくない。また、好ましいRの炭素原子数は4〜1
6である。Rの具体例としては直鎖状アルキル基、分岐
状アルキル基、シクロアルキル基、直鎖状アルケニル
基、分岐状アルケニル基、シクロアルケニル基、直鎖状
アルカディエニル基、分岐状アルカディエニル基、シク
ロアルカディエニル基、直鎖状アルカトリエニル基、分
岐状アルカトリエニル基、直鎖状アルキニル基、分岐状
アルキニル基、アラルキル基がある。液晶性化合物を与
えるためには、特にアルキル基が好ましい。また、C*
は不斉炭素原子を示す。上記一般式(I)構造におい
て、仮にAが水酸基である光学活性中間体に、反応させ
る試薬を種々変化させることにより、本発明の光学活性
ヒドロキシ吉草酸誘導体からなる液晶性化合物を得るこ
とができる。
すなわち、Aが (ただし、R1は炭素数4〜18のアルキル基またはア
ルコキシ基を示し、 は、それぞれ を示し、p、q、rは0または1でありp+q+r≧1
の関係を満たす)である本発明の光学活性吉草酸誘導体
が得られる。この場合R1の特に好ましい炭素原子数は
6〜16である。
ルコキシ基を示し、 は、それぞれ を示し、p、q、rは0または1でありp+q+r≧1
の関係を満たす)である本発明の光学活性吉草酸誘導体
が得られる。この場合R1の特に好ましい炭素原子数は
6〜16である。
次に、本発明の一般式(I)で示される光学活性なヒド
ロキシ吉草酸誘導体の合成方法の例を示す。
ロキシ吉草酸誘導体の合成方法の例を示す。
上記反応式におけるRIは炭素数の広い範囲にわたって
選択することが可能であり、具体的にはヨードブタン、
ヨードペンタン、ヨードヘキサン、ヨードヘプタン、ヨ
ードオクタン、ヨードノナン、ヨードデカン、ヨードウ
ンデカン、ヨードドデカン、ヨードトリデカン、ヨード
テトラデカン、ヨードペンタデカン、ヨードヘキサデカ
ン、ヨードヘプタデカン、ヨードオクタデカン、ヨード
ノナデカン、ヨードエイコサン等の直鎖状飽和炭化水素
ヨウ化物;2−ヨードブタン、1−ヨード−2−メチル
プロパン、1−ヨード−3−メチルブタン等の分岐状飽
和炭化水素ヨウ化物;ヨードベンジル、ヨードフェナシ
ル、3−ヨード−1−シクロヘキセン等の環状不飽和炭
化水素ヨウ化物;ヨードシクロペンタン、ヨードシクロ
ヘキサン、1−ヨード−3−メチルシクロヘキサン、ヨ
ードシクロヘプタン、ヨードシクロオクタン等の環状飽
和炭化水素ヨウ化物がある。
選択することが可能であり、具体的にはヨードブタン、
ヨードペンタン、ヨードヘキサン、ヨードヘプタン、ヨ
ードオクタン、ヨードノナン、ヨードデカン、ヨードウ
ンデカン、ヨードドデカン、ヨードトリデカン、ヨード
テトラデカン、ヨードペンタデカン、ヨードヘキサデカ
ン、ヨードヘプタデカン、ヨードオクタデカン、ヨード
ノナデカン、ヨードエイコサン等の直鎖状飽和炭化水素
ヨウ化物;2−ヨードブタン、1−ヨード−2−メチル
プロパン、1−ヨード−3−メチルブタン等の分岐状飽
和炭化水素ヨウ化物;ヨードベンジル、ヨードフェナシ
ル、3−ヨード−1−シクロヘキセン等の環状不飽和炭
化水素ヨウ化物;ヨードシクロペンタン、ヨードシクロ
ヘキサン、1−ヨード−3−メチルシクロヘキサン、ヨ
ードシクロヘプタン、ヨードシクロオクタン等の環状飽
和炭化水素ヨウ化物がある。
以上のようなヨウ化物から自由に選択することによりR
の異なる光学活性なヒドロキシ吉草酸誘導体(b)を得
ることができる。
の異なる光学活性なヒドロキシ吉草酸誘導体(b)を得
ることができる。
また得られたヒドロキシ吉草酸誘導体(b)により次に
示す合成経路によって下記に示される本発明のヒドロキ
シ吉草酸誘導体 が得られる。
示す合成経路によって下記に示される本発明のヒドロキ
シ吉草酸誘導体 が得られる。
(上記においてR、R1およびl、m、n、p、q、r
は前記で定義した通りである。) このようにして得られた液晶性のヒドロキシ吉草酸誘導
体の例を後記表1に示す。
は前記で定義した通りである。) このようにして得られた液晶性のヒドロキシ吉草酸誘導
体の例を後記表1に示す。
表中、相転移温度の欄における記号は、それぞれ以下の
相を示す。
相を示す。
Cryst.:結晶相、SmA:スメクチックA相、 SmC*:カイラルスメクチックC相、 N:ネマチック相、Ch.:コルステリック相、 Iso:等方相、Sm3:SmA 、SmC *以外のスメクチック相
(未同定)。
(未同定)。
また、表1記載の化合物及び前述の合成法をもとに以下
の化合物が得られる。
の化合物が得られる。
本発明の液晶組成物は、上記一般式(I)で表わされ
る、光学活性な液相性のヒドロキシ吉草酸誘導体を少な
くとも1種類配合成分として含有するものである。
る、光学活性な液相性のヒドロキシ吉草酸誘導体を少な
くとも1種類配合成分として含有するものである。
上記組成物のうち下式(1)〜(13)に代表して示さ
れるような強誘電性液晶を配合成分とするものは、自発
分極を増大させることが可能でありさらに粘度を低下さ
せる効果とあいまって応答速度を改善することができ好
ましい。このような場合には一般式(I)で示される本
発明のヒドロキシ吉草酸誘導体は0.1〜99重量%の
比率で使用することが好ましく、特に好ましくは1〜9
0重量%で使用される。
れるような強誘電性液晶を配合成分とするものは、自発
分極を増大させることが可能でありさらに粘度を低下さ
せる効果とあいまって応答速度を改善することができ好
ましい。このような場合には一般式(I)で示される本
発明のヒドロキシ吉草酸誘導体は0.1〜99重量%の
比率で使用することが好ましく、特に好ましくは1〜9
0重量%で使用される。
(1) 4−オクチルオキシ安息香酸 4′−(2−メチルブチ
ルオキシ)フェニルエステル (2) 4−ノニルオキシ安息香酸 4′−(2−メチルブチル
オキシ)フェニルエステル (3) 4−デシルオキシ安息香酸 4′−(2−メチルブチル
オキシ)フェニルエステル (4) 4−ウンデシルオキシ安息香酸 4′−(2−メチルブ
チルオキシ)フェニルエステル (5) 4−ドデシルオキシ安息香酸 4′−(2−メチルブチ
ルオキシ)フェニルエステル (6) P−デシロキシベンジリテン−P′−アミノ−2−−メ
チルブチルシンナメート(DOBAMBC) (7) 4,4′−アゾキシシンナミックアシッド−ビス(2−
メチルブチル)エステル (8) 4−o−(2−メチル)−ブチルレゾルシリデン−4′
−オクチルアニリン(MBRA 8) (9) 4−(2′−メチルブチル)フェニル−4′オクチルオ
キシビフェニル−4−カルボキシレート (10) 4−ヘキシルオキシフェニル−4−(2″−メチルブチ
ル)ビフェニル−4′−カルボキシレート (11) 4−オクチルオキシフェニル−4−(2″−メチルブチ
ル)ビフェニル−4′−カルボキシレート (12) 4−ヘプチルフェニル−4−(4″−メチルヘキシル)
ビフェニル−4′−カルボキシレート (13) 4−(2″−メチルブチル)フェニル−4−(4″−メ
チルヘキシル)ビフェニル−4′−カルボキシレート また下式1)〜5)で示されるような、それ自体はカイ
ラルでないスメクチック液晶に配合することにより、強
誘電性液晶として使用可能な組成物が得られる。
ルオキシ)フェニルエステル (2) 4−ノニルオキシ安息香酸 4′−(2−メチルブチル
オキシ)フェニルエステル (3) 4−デシルオキシ安息香酸 4′−(2−メチルブチル
オキシ)フェニルエステル (4) 4−ウンデシルオキシ安息香酸 4′−(2−メチルブ
チルオキシ)フェニルエステル (5) 4−ドデシルオキシ安息香酸 4′−(2−メチルブチ
ルオキシ)フェニルエステル (6) P−デシロキシベンジリテン−P′−アミノ−2−−メ
チルブチルシンナメート(DOBAMBC) (7) 4,4′−アゾキシシンナミックアシッド−ビス(2−
メチルブチル)エステル (8) 4−o−(2−メチル)−ブチルレゾルシリデン−4′
−オクチルアニリン(MBRA 8) (9) 4−(2′−メチルブチル)フェニル−4′オクチルオ
キシビフェニル−4−カルボキシレート (10) 4−ヘキシルオキシフェニル−4−(2″−メチルブチ
ル)ビフェニル−4′−カルボキシレート (11) 4−オクチルオキシフェニル−4−(2″−メチルブチ
ル)ビフェニル−4′−カルボキシレート (12) 4−ヘプチルフェニル−4−(4″−メチルヘキシル)
ビフェニル−4′−カルボキシレート (13) 4−(2″−メチルブチル)フェニル−4−(4″−メ
チルヘキシル)ビフェニル−4′−カルボキシレート また下式1)〜5)で示されるような、それ自体はカイ
ラルでないスメクチック液晶に配合することにより、強
誘電性液晶として使用可能な組成物が得られる。
このような場合においては一般式(I)で示される本発
明のヒドロキシ吉草酸誘導体である光学活性な液晶性化
合を0.1〜99重量%の比率で使用することができ
る。
明のヒドロキシ吉草酸誘導体である光学活性な液晶性化
合を0.1〜99重量%の比率で使用することができ
る。
1) (4−ノニルオキシフェニル)−4′−オクチルオキシ
ビフェニル−4−カルボキシレート 2) 4,4′−デシルオキシアゾキシベンゼン 3) 2−(4′−ヘキシルオキシフェニル)−5−(4−ヘ
キシルオキシフェニル)ピリミジン 4) 2−(4′−オクチルオキシフェニル)−5−ノニルピ
リミジン 5) 4′−ベンチルオキシフェニル−4−オクチルオキシベ
ンゾエート ここで、記号は、それぞれ以下の相を示す。
ビフェニル−4−カルボキシレート 2) 4,4′−デシルオキシアゾキシベンゼン 3) 2−(4′−ヘキシルオキシフェニル)−5−(4−ヘ
キシルオキシフェニル)ピリミジン 4) 2−(4′−オクチルオキシフェニル)−5−ノニルピ
リミジン 5) 4′−ベンチルオキシフェニル−4−オクチルオキシベ
ンゾエート ここで、記号は、それぞれ以下の相を示す。
Cryst.:結晶相、 SmA :スメクチックA
相、 SmB:スメクチックB相、 SmC :スメクチックC相、 N:ネマチック相、 Iso.:等方相。
相、 SmB:スメクチックB相、 SmC :スメクチックC相、 N:ネマチック相、 Iso.:等方相。
また本発明のヒドロキシ吉草酸誘導体を少なくとも1種
類配合成分として含有するネマチック液晶はツイステッ
ドネマチック(TN)型セルにして使用する場合にリバ
ースドメインの発生を防止することができ好ましい。
類配合成分として含有するネマチック液晶はツイステッ
ドネマチック(TN)型セルにして使用する場合にリバ
ースドメインの発生を防止することができ好ましい。
これらの液晶材料を用いて素子を構成する場合、液晶材
料が例えばSmC*相またはSmH*相となるような温
度状態に保持する為、必要に応じて素子をヒーターが埋
め込まれた銅ブロック等により支持することができる。
料が例えばSmC*相またはSmH*相となるような温
度状態に保持する為、必要に応じて素子をヒーターが埋
め込まれた銅ブロック等により支持することができる。
第1図は、強誘電性液晶の動作説明のために、セルの例
を模式的に描いたものである。11aと、11bは、そ
れぞれIn3O3、SnO2あるいはITO(Indium−
Tin 0xide)等の薄膜からなる透明電極で被覆された基
板(ガラス板)であり、その間に液晶分子層12がガラ
ス面に垂直になるよう配向したSmCc相又はSmH*
相の液晶が封入されている。太線で示した線13が液晶
分子を表わしており、この液晶分子13はその分子に直
交した方向に双極子モーメント(P⊥)14を有してい
る。基板21と11b上の電極間に一定の閾値以上の電
圧を印加すると、液晶分子13のらせん構造がほどけ、
双極子モーメント(P⊥)14がすべて電界方向に向く
よう、液晶分子13は配向方向を変えることができる。
液晶分子13は、細長い形状を有しており、その長軸方
向と短軸方向で屈折率異方性を示し、従って例えばガラ
ス面の上下に互いにクロスニコルの偏光子を置けば、電
圧印加極性によって光学特性が変わる液晶光学変調素子
となることは、容易に理解される。
を模式的に描いたものである。11aと、11bは、そ
れぞれIn3O3、SnO2あるいはITO(Indium−
Tin 0xide)等の薄膜からなる透明電極で被覆された基
板(ガラス板)であり、その間に液晶分子層12がガラ
ス面に垂直になるよう配向したSmCc相又はSmH*
相の液晶が封入されている。太線で示した線13が液晶
分子を表わしており、この液晶分子13はその分子に直
交した方向に双極子モーメント(P⊥)14を有してい
る。基板21と11b上の電極間に一定の閾値以上の電
圧を印加すると、液晶分子13のらせん構造がほどけ、
双極子モーメント(P⊥)14がすべて電界方向に向く
よう、液晶分子13は配向方向を変えることができる。
液晶分子13は、細長い形状を有しており、その長軸方
向と短軸方向で屈折率異方性を示し、従って例えばガラ
ス面の上下に互いにクロスニコルの偏光子を置けば、電
圧印加極性によって光学特性が変わる液晶光学変調素子
となることは、容易に理解される。
本発明の光学変調素子で好ましく用いられる液晶セル
は、その厚さを充分に薄く(例えば10μ以下)するこ
とができる。このように液晶相が薄くなるにしたがい、
第2図に示すように電界を印加していない状態でも液晶
分子のらせん構造がほどけ、その双極子モーメントPa
またはPbは上向き(24a)又は下向き(24b)の
どちらかの状態をとる。このようなセルに、第2図に示
す如く一定の閾値以上の極性の異る電界Ea又はEbを
電圧印加手段21aと21bにより付与すると、双極子
モーメントは、電界Ea又はEbの電界ベクトルに対応
して上向き24a又は下向き24bと向きを変え、それ
に応じて液晶分子は、第1の安定状態23aかあるいは
第2の安定状態23bの何れか1方に配向する。
は、その厚さを充分に薄く(例えば10μ以下)するこ
とができる。このように液晶相が薄くなるにしたがい、
第2図に示すように電界を印加していない状態でも液晶
分子のらせん構造がほどけ、その双極子モーメントPa
またはPbは上向き(24a)又は下向き(24b)の
どちらかの状態をとる。このようなセルに、第2図に示
す如く一定の閾値以上の極性の異る電界Ea又はEbを
電圧印加手段21aと21bにより付与すると、双極子
モーメントは、電界Ea又はEbの電界ベクトルに対応
して上向き24a又は下向き24bと向きを変え、それ
に応じて液晶分子は、第1の安定状態23aかあるいは
第2の安定状態23bの何れか1方に配向する。
このような強誘電性を光学変調素子として用いることの
利点は、先にも述べたが2つある。
利点は、先にも述べたが2つある。
その第1は、応答速度が極めて速いことであり、第2は
液晶分子の配向が双安定性を有することである。第2の
点を、例えば第2図によって更に説明すると、電界Ea
を印加すると液晶分子は第1の安定状態23aに配向す
るが、この状態は電界を切っても安定である。又、逆向
きの電界Ebを印加すると、液晶分子は第2の安定状態
23bに配向してその分子の向きを変えるが、やはり電
界を切ってもこの状態に留つている。又、与える電界E
aあるいはEbが一定の閾値を越えない限り、それぞれ
前の配向状態にやはり維持されている。このような応答
速度の速さと、双安定性が有効に実現されるにはセルと
しては出来るだけ薄い方が好ましく、一般的には0.5
μ〜20μ、特に1μ〜5μが適している。
液晶分子の配向が双安定性を有することである。第2の
点を、例えば第2図によって更に説明すると、電界Ea
を印加すると液晶分子は第1の安定状態23aに配向す
るが、この状態は電界を切っても安定である。又、逆向
きの電界Ebを印加すると、液晶分子は第2の安定状態
23bに配向してその分子の向きを変えるが、やはり電
界を切ってもこの状態に留つている。又、与える電界E
aあるいはEbが一定の閾値を越えない限り、それぞれ
前の配向状態にやはり維持されている。このような応答
速度の速さと、双安定性が有効に実現されるにはセルと
しては出来るだけ薄い方が好ましく、一般的には0.5
μ〜20μ、特に1μ〜5μが適している。
次に強誘電性液晶の駆動法の具体例を、第3図〜第5図
を用いて説明する。
を用いて説明する。
第3図は、中間に強誘電性液晶化合物(図示せず)が挾
まれたマトリクス電極構造を有するセル31の模式図で
ある。32は、走査電極群であり、33は信号電極群で
ある。最初に走査電極S1が選択された場合について述
べる。第4図(a)と第4図(b)は走査信号であっ
て、それぞれ選択された走査電極S1に印加される電気
信号とそれ以外の走査電極(選択されない走査電極)S
2、S3、S4・・・に印加される電気信号を示してい
る。第4図(c)と第4図(d)は、情報信号であって
それぞれ選択された信号電極I1、I3、I5と選択さ
れない信号電極I2、I4に与えられる電気信号を示し
ている。
まれたマトリクス電極構造を有するセル31の模式図で
ある。32は、走査電極群であり、33は信号電極群で
ある。最初に走査電極S1が選択された場合について述
べる。第4図(a)と第4図(b)は走査信号であっ
て、それぞれ選択された走査電極S1に印加される電気
信号とそれ以外の走査電極(選択されない走査電極)S
2、S3、S4・・・に印加される電気信号を示してい
る。第4図(c)と第4図(d)は、情報信号であって
それぞれ選択された信号電極I1、I3、I5と選択さ
れない信号電極I2、I4に与えられる電気信号を示し
ている。
第4図および第5図においては、それぞれ横軸が時間
を、縦軸が電圧を表す。例えば、動画を表示するような
場合には、走査電極群32は逐次、周期的に選択され
る。今、所定の電圧印加時間t1またはt2に対して双
安定性を有する液晶セルの、第1の安定状態を与えるた
めの閾値電圧を−Vtn1とし、2の安定状態を与えるた
めの閾値電圧を+Vth2とすると、選択された走査電極
32(S1)に与えられる電極信号は、第4図(a)に
示される如く位相(時間)t1では、2Vを、位相(時
間)t2では、−2Vとなるような交番する電圧であ
る。このように選択された走査電極に互いに電圧の異な
る複数の位相間隔を有する電気信号を印加すると、光学
的「暗」あるいは「明」状態に相当する液晶の第1ある
いは第2の安定状態間での状態変化を、速やかに起こさ
せることができるという重要な効果が得られる。
を、縦軸が電圧を表す。例えば、動画を表示するような
場合には、走査電極群32は逐次、周期的に選択され
る。今、所定の電圧印加時間t1またはt2に対して双
安定性を有する液晶セルの、第1の安定状態を与えるた
めの閾値電圧を−Vtn1とし、2の安定状態を与えるた
めの閾値電圧を+Vth2とすると、選択された走査電極
32(S1)に与えられる電極信号は、第4図(a)に
示される如く位相(時間)t1では、2Vを、位相(時
間)t2では、−2Vとなるような交番する電圧であ
る。このように選択された走査電極に互いに電圧の異な
る複数の位相間隔を有する電気信号を印加すると、光学
的「暗」あるいは「明」状態に相当する液晶の第1ある
いは第2の安定状態間での状態変化を、速やかに起こさ
せることができるという重要な効果が得られる。
一方、それ以外の走査電極S2〜S5・・・は、第4図
(b)に示す如くアース状態となっており、電気信号0
である。また、選択された信号電極I1、I3、I5に
与えられる電気信号は、第4図(c)に示される如くV
であり、また選択されない信号電極I2、I4に与えら
れる電気信号は、第4図(d)に示される如く−Vであ
る。以上に於て各々の電圧値は、以下の関係を満足する
所望の値に設定される。
(b)に示す如くアース状態となっており、電気信号0
である。また、選択された信号電極I1、I3、I5に
与えられる電気信号は、第4図(c)に示される如くV
であり、また選択されない信号電極I2、I4に与えら
れる電気信号は、第4図(d)に示される如く−Vであ
る。以上に於て各々の電圧値は、以下の関係を満足する
所望の値に設定される。
V<Vth2<3V −3V<−Vth1<−V この様な電気信号が与えられたときの各画素のうち、例
えば第3図中の画素AとBにそれぞれ印加される電圧波
形を第5図(a)と(b)に示す。すなわち、第5図
(a)と(b)より明らかな如く、選択された走査線上
にある画素Aでは、位相t2に於て、閾値Vth2を越え
る電圧3Vが印加される。また、同一走査線上に存在す
る画素Bでは位相t1に於て閾値−Vth1を越える電圧
−3Vが印加される。従って、選択された走査電極線上
に於て、信号電極が選択されたか否かに応じて、選択さ
れた場合には、液晶分子は第1の安定状態に配向を揃
え、選択されない場合には第2の安定状態に配向を揃え
る。
えば第3図中の画素AとBにそれぞれ印加される電圧波
形を第5図(a)と(b)に示す。すなわち、第5図
(a)と(b)より明らかな如く、選択された走査線上
にある画素Aでは、位相t2に於て、閾値Vth2を越え
る電圧3Vが印加される。また、同一走査線上に存在す
る画素Bでは位相t1に於て閾値−Vth1を越える電圧
−3Vが印加される。従って、選択された走査電極線上
に於て、信号電極が選択されたか否かに応じて、選択さ
れた場合には、液晶分子は第1の安定状態に配向を揃
え、選択されない場合には第2の安定状態に配向を揃え
る。
一方、第5図(c)と(d)に示される如く、選択され
ない走査線上では、すべての画素に印加される電圧はV
または−Vであって、いずれも閾値電圧を越えない。従
って、選択された走査線上以外の各画素における液晶分
子は、配向状態を変えることなく前回走査されたときの
信号状態に対応した配向を、そのまま保持している。即
ち、走査電極が選択されたときにその1ライン分の信号
の書き込みが行われ、1フレームが終了して次回選択さ
れるまでの間は、その信号状態を保持し得るわけであ
る。従って、走査電極数が増えても、実質的なデューテ
イ比はかわらず、コントラストの低下は全く生じない。
ない走査線上では、すべての画素に印加される電圧はV
または−Vであって、いずれも閾値電圧を越えない。従
って、選択された走査線上以外の各画素における液晶分
子は、配向状態を変えることなく前回走査されたときの
信号状態に対応した配向を、そのまま保持している。即
ち、走査電極が選択されたときにその1ライン分の信号
の書き込みが行われ、1フレームが終了して次回選択さ
れるまでの間は、その信号状態を保持し得るわけであ
る。従って、走査電極数が増えても、実質的なデューテ
イ比はかわらず、コントラストの低下は全く生じない。
次に、ディスプレイ装置として駆動を行った場合の実際
に生じ得る問題点について考えてみる。第3図に於て、
走査電極S1〜S5・・・と信号電極I1〜I5・・・
の交点で形成する画素のうち、斜線部の画素は「明」状
態に、白地で示した画素は、「暗」状態に対応するもの
とする。今、第3図中の信号電極I1上の表示に注目す
ると、走査電極S1に対応する画素(A)では「明」状
態であり、それ以外の画素(B)はすべて「暗」状態で
ある。この場合の駆動法の一例として、走査信号と信号
電極I1に与えられる情報信号及び画素Aに印加される
電圧を時系列的に表したものが第6図である。
に生じ得る問題点について考えてみる。第3図に於て、
走査電極S1〜S5・・・と信号電極I1〜I5・・・
の交点で形成する画素のうち、斜線部の画素は「明」状
態に、白地で示した画素は、「暗」状態に対応するもの
とする。今、第3図中の信号電極I1上の表示に注目す
ると、走査電極S1に対応する画素(A)では「明」状
態であり、それ以外の画素(B)はすべて「暗」状態で
ある。この場合の駆動法の一例として、走査信号と信号
電極I1に与えられる情報信号及び画素Aに印加される
電圧を時系列的に表したものが第6図である。
例えば第6図のようにして、駆動した場合、走査信号S
1が走査されたとき、時間t2に於て画素Aには、閾値
Vth2を越える電圧3Vが印加されるため、前歴に関係
なく、画素Aは一方向の安定状態、即ち「明」状態に転
移(スイッチ)する。その後は、S2〜S5・・・が走
査される間は第6図に示される如く−Vの電圧が印加さ
れ続けるが、これは閾値−Vth1を越えないため画素A
は「明」状態を保ち得るはずであるが、実際にはこのよ
うに1つの信号電極上で一方の信号(今の場合「暗」に
対応)が与えられ続けるような情報の表示を行う場合に
は、走査線数が極めて多く、しかも高速駆動が求められ
るときには反転現象を生じるが、前述した特定の液晶化
合物またはそれを含有した液晶組成物を用いることによ
って、この様な反転現象は完全に防止される。
1が走査されたとき、時間t2に於て画素Aには、閾値
Vth2を越える電圧3Vが印加されるため、前歴に関係
なく、画素Aは一方向の安定状態、即ち「明」状態に転
移(スイッチ)する。その後は、S2〜S5・・・が走
査される間は第6図に示される如く−Vの電圧が印加さ
れ続けるが、これは閾値−Vth1を越えないため画素A
は「明」状態を保ち得るはずであるが、実際にはこのよ
うに1つの信号電極上で一方の信号(今の場合「暗」に
対応)が与えられ続けるような情報の表示を行う場合に
は、走査線数が極めて多く、しかも高速駆動が求められ
るときには反転現象を生じるが、前述した特定の液晶化
合物またはそれを含有した液晶組成物を用いることによ
って、この様な反転現象は完全に防止される。
さらに、本発明では、前述の反転現象を防止する上で液
晶セルを構成している方向電極のうち少なくとも一方の
電極に絶縁物質により形成した絶縁膜を設けることが好
ましい。
晶セルを構成している方向電極のうち少なくとも一方の
電極に絶縁物質により形成した絶縁膜を設けることが好
ましい。
この際に使用する絶縁物質としては、特に制限されるも
のではないが、シリコン窒化物、水素を含有するシリコ
ン窒化物、シリコン炭化物、水素を含有するシリコン炭
化物、シリコン酸化物、硼素窒化物、水素を含有する硼
素窒化物、セリウム酸化物、アルミニウム酸化物、ジル
コニウム酸化物、チタン酸化物やフッ化マグネシウムな
どの無機絶縁物質、あるいはポリビニルアルコール、ポ
リイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポ
リバラキシレン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポ
リビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリアミド、ポリスチレン、セルロース樹脂、メラ
ミン樹脂、ユリヤ樹脂、アクリル樹脂やフォトレジスト
樹脂などの有機絶縁物質が絶縁膜として使用される。こ
れらの絶縁膜の膜厚は5000Å以下、好ましくは10
0Å〜1000Å、特に500Å〜3000Åが適して
いる。
のではないが、シリコン窒化物、水素を含有するシリコ
ン窒化物、シリコン炭化物、水素を含有するシリコン炭
化物、シリコン酸化物、硼素窒化物、水素を含有する硼
素窒化物、セリウム酸化物、アルミニウム酸化物、ジル
コニウム酸化物、チタン酸化物やフッ化マグネシウムな
どの無機絶縁物質、あるいはポリビニルアルコール、ポ
リイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポ
リバラキシレン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポ
リビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリアミド、ポリスチレン、セルロース樹脂、メラ
ミン樹脂、ユリヤ樹脂、アクリル樹脂やフォトレジスト
樹脂などの有機絶縁物質が絶縁膜として使用される。こ
れらの絶縁膜の膜厚は5000Å以下、好ましくは10
0Å〜1000Å、特に500Å〜3000Åが適して
いる。
発明の効果 本発明の光学活性なヒドロキシ吉草酸誘導体は、アルキ
ル基の長さを選択することにより液晶状態において発現
する液晶相の種類や温度範囲を制御することが可能であ
る。また本発明の光学活性な液晶性のヒドロキシ吉草酸
誘導体を少なくとも1種類を配合成分として含有すると
ころの液晶組成物は、カイラルネマチック液晶、カイラ
ルスメクチック液晶として使用することにより、自発分
極の増加、粘度調整等の通じて、応答速度の向上、リバ
ースドメインの発生防止等の性能改善が可能である。
ル基の長さを選択することにより液晶状態において発現
する液晶相の種類や温度範囲を制御することが可能であ
る。また本発明の光学活性な液晶性のヒドロキシ吉草酸
誘導体を少なくとも1種類を配合成分として含有すると
ころの液晶組成物は、カイラルネマチック液晶、カイラ
ルスメクチック液晶として使用することにより、自発分
極の増加、粘度調整等の通じて、応答速度の向上、リバ
ースドメインの発生防止等の性能改善が可能である。
以下、参考例(中間体の製造例)および実施例により本
発明の光学活性物質および液晶性化合物について更に具
体的に説明する。
発明の光学活性物質および液晶性化合物について更に具
体的に説明する。
参考例1 下記工程により、(S)−4−オクチルオキシペンタノ
ールを製造した。
ールを製造した。
L(+)−乳酸エチル98g、ヨウ化オクチル380g
および酸化銀245gを加え、60℃で16時間撹拌し
た。不溶物を過後、減圧蒸留し、110〜130℃/
3mmHgの留分として、2−オクチルオキシプロピオン酸
エチル77gを得た。
および酸化銀245gを加え、60℃で16時間撹拌し
た。不溶物を過後、減圧蒸留し、110〜130℃/
3mmHgの留分として、2−オクチルオキシプロピオン酸
エチル77gを得た。
次に、ジエチルエーテル250mlにLiA1H47.5
gを加え、しばらく攪拌後、上記エステル体56gのジ
エチルエーテル50ml溶液を5℃以下で2時間かけて滴
下し、滴下後室温で2時間攪拌し、さらに15時間放置
した。反応終了後5%塩酸30mlを加え、さらに6N塩
酸で塩酸酸性(pH〜1)とし、エーテル抽出した。水
洗後、乾燥し、溶媒を留去した。減圧蒸留し、107℃
/3mmHgの留分として2−オクチルオキシプロパノール
39.5gを得た。
gを加え、しばらく攪拌後、上記エステル体56gのジ
エチルエーテル50ml溶液を5℃以下で2時間かけて滴
下し、滴下後室温で2時間攪拌し、さらに15時間放置
した。反応終了後5%塩酸30mlを加え、さらに6N塩
酸で塩酸酸性(pH〜1)とし、エーテル抽出した。水
洗後、乾燥し、溶媒を留去した。減圧蒸留し、107℃
/3mmHgの留分として2−オクチルオキシプロパノール
39.5gを得た。
次に上記アルコール体70gにピリジン230mlを加
え、攪拌下、トシルクロライド85gを10℃以下で3
0分かけて加えた。この温度で15分攪拌後、昇温して
20〜24℃で3.5時間攪拌した。冷水に注入後、ベ
ンゼン抽出し、5%塩酸、水の順で洗浄し、乾燥した。
ベンゼンを留去し、(2−オクチルオキシプロピル)p
−トルエンスルホネート127gを得た。
え、攪拌下、トシルクロライド85gを10℃以下で3
0分かけて加えた。この温度で15分攪拌後、昇温して
20〜24℃で3.5時間攪拌した。冷水に注入後、ベ
ンゼン抽出し、5%塩酸、水の順で洗浄し、乾燥した。
ベンゼンを留去し、(2−オクチルオキシプロピル)p
−トルエンスルホネート127gを得た。
エタノール220ml中に95%ナトリウムエトキシド2
6.7gを加え、攪拌下98%マロン酸ジエチル73.
1gを36〜38゜で50分かけて滴下した。さらに3
0分攪拌後、上記トシレート体127gを、36〜38
℃で1時間かけて滴下した。さらに15分攪拌後昇温
し、18時間還流した。反応後氷水を注入し、ベンゼン
抽出し水洗後乾燥した。溶媒留去して、149gの4−
オクチルオキシ−2−エトキシカルボニル吉草酸エチル
を得た。
6.7gを加え、攪拌下98%マロン酸ジエチル73.
1gを36〜38゜で50分かけて滴下した。さらに3
0分攪拌後、上記トシレート体127gを、36〜38
℃で1時間かけて滴下した。さらに15分攪拌後昇温
し、18時間還流した。反応後氷水を注入し、ベンゼン
抽出し水洗後乾燥した。溶媒留去して、149gの4−
オクチルオキシ−2−エトキシカルボニル吉草酸エチル
を得た。
次いで、85%KOH88.5gを水90mlに溶かし上
記エステル体149gを20〜25℃で50分かけて滴
下し、30分攪拌後、2時間還流した。冷却後、15℃
以下に保ち、濃硫酸153gを水196mlに溶かし、こ
れを1時間かけて滴下した。30分攪拌後、3時間還流
した。室温まで冷却した後、ベンゼンで抽出した。ベン
ゼン層を5%NaOH水溶液で洗い、水層に加えた。水
層を6N塩酸で酸性(pH1)とし、ベンゼン抽出、水
洗を行い、無水MgSO4で乾燥した。溶媒を留去して
4−オクチルオキシ吉草酸54gを得た。
記エステル体149gを20〜25℃で50分かけて滴
下し、30分攪拌後、2時間還流した。冷却後、15℃
以下に保ち、濃硫酸153gを水196mlに溶かし、こ
れを1時間かけて滴下した。30分攪拌後、3時間還流
した。室温まで冷却した後、ベンゼンで抽出した。ベン
ゼン層を5%NaOH水溶液で洗い、水層に加えた。水
層を6N塩酸で酸性(pH1)とし、ベンゼン抽出、水
洗を行い、無水MgSO4で乾燥した。溶媒を留去して
4−オクチルオキシ吉草酸54gを得た。
乾燥エーテル210ml中にLiA1H410gを加え攪
拌下、上記カルボン酸54gのエーテル70ml溶液を、
2〜6℃に保ちながら70分かけて滴下した。滴下後、
23℃まで昇温し3時間攪拌した。12時間放置後、5
%塩酸を15℃以下に保ちながら加え、塩酸酸性とした
後、エーテル抽出し、水、5%NaOH水溶液、水の順
に洗い無水MgSO4で乾燥した。溶媒留去しついで減
圧蒸留し、150℃/5mmHgの留分として(S)−4−
オクチルオキシペンタノール10gを得た。
拌下、上記カルボン酸54gのエーテル70ml溶液を、
2〜6℃に保ちながら70分かけて滴下した。滴下後、
23℃まで昇温し3時間攪拌した。12時間放置後、5
%塩酸を15℃以下に保ちながら加え、塩酸酸性とした
後、エーテル抽出し、水、5%NaOH水溶液、水の順
に洗い無水MgSO4で乾燥した。溶媒留去しついで減
圧蒸留し、150℃/5mmHgの留分として(S)−4−
オクチルオキシペンタノール10gを得た。
生成物について、下記のIR(赤外吸収)データを得
た。
た。
IR(cm-1): 3360、2970〜2860、1460、 1370、1340、1080。
参考例2〜3 参考例1と同様な合成法により以下の化合物を合成し
た。生成物を、そのIRデータとともに示す。
た。生成物を、そのIRデータとともに示す。
・(S)−4−プロポキシペンタノール IR(cm-1): 3370、2970〜2870、1460、 1370、1340、1080。
・(S)−4−ペンチルオキシペンタノール IR(cm-1): 3360、2970〜2870、1460、 1370、1340、1080。
参考例4 (R)−4−プロポキシペンタノールの製造 D−乳酸メチル(Methy1-D-Lactate)160gと、1−
ヨードプロパン524gを四ツ口フラスコへ混合し、新
しく合成したAg2O471gをゆっくり添加した。次
に液温を60〜65℃にて1時間撹拌した後、過し、
過物をエーテルにてよく洗い、液のエーテルを留去
した後、減圧蒸留して、メチル−2−プロポキシプロピ
オネーオ161gを得た。
ヨードプロパン524gを四ツ口フラスコへ混合し、新
しく合成したAg2O471gをゆっくり添加した。次
に液温を60〜65℃にて1時間撹拌した後、過し、
過物をエーテルにてよく洗い、液のエーテルを留去
した後、減圧蒸留して、メチル−2−プロポキシプロピ
オネーオ161gを得た。
次に、LiA1H435.3gを750mlのエーテルに
加え3時間撹拌し、10℃以下に保って、上記で得たメ
チル−2−プロポキシプロピオネート161gとエーテ
ル150mlの溶液を3.5時間で滴下した。滴下終了
後、液温を17〜20℃にて2.5時間撹拌し、12時
間室温にて放置した。その後、5%塩酸水溶液にて、酸
性とし(pH1)、エーテル抽出した。エーテル層を
水、5%NaHCO3水溶液、水の順に洗い、無水硫酸
マグネシウムにて乾燥した。過して減圧蒸留して、9
5〜103℃/150mmHgの留分を集めると72gの2
−プロポキシプロパノールが得られた。
加え3時間撹拌し、10℃以下に保って、上記で得たメ
チル−2−プロポキシプロピオネート161gとエーテ
ル150mlの溶液を3.5時間で滴下した。滴下終了
後、液温を17〜20℃にて2.5時間撹拌し、12時
間室温にて放置した。その後、5%塩酸水溶液にて、酸
性とし(pH1)、エーテル抽出した。エーテル層を
水、5%NaHCO3水溶液、水の順に洗い、無水硫酸
マグネシウムにて乾燥した。過して減圧蒸留して、9
5〜103℃/150mmHgの留分を集めると72gの2
−プロポキシプロパノールが得られた。
次に2−プロポキシプロパノール70gにピリジン11
4ml、ベンゼン228mlを加え、この溶液を10℃以下
に保って撹拌下、塩化メタンスルホニル81.5gを1
時間かけて加えた、25〜30℃まで昇温させ、3.5
時間撹拌した。冷水に注入後、エーテル抽出し、5%塩
酸、水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、エーテルを留去し、(2−プロポキシプロピル)メ
タンスルホネート114gを得た。
4ml、ベンゼン228mlを加え、この溶液を10℃以下
に保って撹拌下、塩化メタンスルホニル81.5gを1
時間かけて加えた、25〜30℃まで昇温させ、3.5
時間撹拌した。冷水に注入後、エーテル抽出し、5%塩
酸、水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、エーテルを留去し、(2−プロポキシプロピル)メ
タンスルホネート114gを得た。
エタノール345mlに95%ナトリウムエトキシド4
3.3gを加え、撹拌下98%のマロン酸ジエチル11
4gを33〜36℃で55分かけて滴下した。さらに3
0分撹拌後、上記(2−プロポキシプロピル)メタンス
ルホネート114gを34〜38℃で1時間かけて滴下
した。昇温し、80〜82℃で18時間還流させた。終
了後、冷水に注入後、ベンゼンで抽出し、水洗後、ベン
ゼンを留去し、減圧蒸留して、100gの4−プロポキ
シ−2−エトキシカルボニル吉草酸エチルを得た(75
〜115℃/5mmHg)。
3.3gを加え、撹拌下98%のマロン酸ジエチル11
4gを33〜36℃で55分かけて滴下した。さらに3
0分撹拌後、上記(2−プロポキシプロピル)メタンス
ルホネート114gを34〜38℃で1時間かけて滴下
した。昇温し、80〜82℃で18時間還流させた。終
了後、冷水に注入後、ベンゼンで抽出し、水洗後、ベン
ゼンを留去し、減圧蒸留して、100gの4−プロポキ
シ−2−エトキシカルボニル吉草酸エチルを得た(75
〜115℃/5mmHg)。
次いで、85%KOH87gを水87mlに溶かし、上記
4−プロポキシ−2−エトキシカルボニル吉草酸エチル
100gを15〜25℃で45分かけて滴下し、90〜
96℃で2時間撹拌した後、冷却した。液温を20℃以
下に保ち、濃硫酸138gと水194mlの溶液を30分
かけて滴下した。90〜95℃で3時間撹拌した後、室
温まで冷却し、エーテルで抽出した。エーテル層を飽和
食塩水にて洗浄した後、エーテルを留去し減圧蒸留し、
100〜130℃/5mmHgの留分47gを得た。これを
ベンゼンを加え、5%NaOH水溶液で洗い、水層を6
N塩酸で酸性(pH=1)とし、エーテルにて抽出後、
飽和食塩水で洗浄し、エーテルを留去し、38gの4−
プロポキシ吉草酸を得た。
4−プロポキシ−2−エトキシカルボニル吉草酸エチル
100gを15〜25℃で45分かけて滴下し、90〜
96℃で2時間撹拌した後、冷却した。液温を20℃以
下に保ち、濃硫酸138gと水194mlの溶液を30分
かけて滴下した。90〜95℃で3時間撹拌した後、室
温まで冷却し、エーテルで抽出した。エーテル層を飽和
食塩水にて洗浄した後、エーテルを留去し減圧蒸留し、
100〜130℃/5mmHgの留分47gを得た。これを
ベンゼンを加え、5%NaOH水溶液で洗い、水層を6
N塩酸で酸性(pH=1)とし、エーテルにて抽出後、
飽和食塩水で洗浄し、エーテルを留去し、38gの4−
プロポキシ吉草酸を得た。
次に乾燥エーテル217mlにLiAlH410.1gを
加え、撹拌下上記4−プロポキシ吉草酸38g、エーテ
ル44mlの溶液を10℃以下に保ち、3.5時間かけて
滴下した。滴下後、20〜25℃まで昇温し、3時間撹
拌後、12時間放置した。5%塩酸水溶液を加え、酸性
(pH=1)とし、エーテル抽出し、5%NaOH水溶
液、飽和食塩水の順に洗い無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、エーテルを留去した。ついで減圧蒸留し、109〜
117℃/35mmHgの留分である(R)−4−プロポキ
シペンタノール26gを得た。
加え、撹拌下上記4−プロポキシ吉草酸38g、エーテ
ル44mlの溶液を10℃以下に保ち、3.5時間かけて
滴下した。滴下後、20〜25℃まで昇温し、3時間撹
拌後、12時間放置した。5%塩酸水溶液を加え、酸性
(pH=1)とし、エーテル抽出し、5%NaOH水溶
液、飽和食塩水の順に洗い無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、エーテルを留去した。ついで減圧蒸留し、109〜
117℃/35mmHgの留分である(R)−4−プロポキ
シペンタノール26gを得た。
参考例5 下記の工程により4−(4′−ペンチルオキシペンチル
オキシ)フェノールを製造した。
オキシ)フェノールを製造した。
4−ペンチルオキシペンタノール17gをピリジン60
mlに溶かし攪拌下、トシルクロリド22.4gを10℃
以下にて40分かけて加えた。昇温して25℃とし3時
間攪拌した。反応後冷水を加え、エーテル抽出し、5%
塩酸、水の順で洗い、無水MgSO4で乾燥した。溶媒
留去して(4−ペンチルオキシペンチル)p−トルエン
スルホネート31.9gを得た。
mlに溶かし攪拌下、トシルクロリド22.4gを10℃
以下にて40分かけて加えた。昇温して25℃とし3時
間攪拌した。反応後冷水を加え、エーテル抽出し、5%
塩酸、水の順で洗い、無水MgSO4で乾燥した。溶媒
留去して(4−ペンチルオキシペンチル)p−トルエン
スルホネート31.9gを得た。
次にハイドロキノン16.1g、85%KOH6.6
g、メタノール30ml、およびエタノール120mlを加
えて溶かした。50〜55℃で上記トシレート体31.
9gのエタノール溶液を40分かけて滴下した。滴下後
65℃まで昇温し、さらに2時間攪拌した。7時間還流
後冷却し、冷水中に注入した。ヘキサン抽出し、5%N
aOH水溶液で洗い水層に加えた。水層を6N塩酸で酸
性(pH1)とし、ヘキサン抽出、水洗を行い、無水M
gSO4で乾燥した。溶媒留去して褐色液体18gを得
た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒エーテル:ヘキサン=3:1)により精製し、4−
(4′−ペンチルオキシペンチルオキシ)フェノール
8.5gを得た。
g、メタノール30ml、およびエタノール120mlを加
えて溶かした。50〜55℃で上記トシレート体31.
9gのエタノール溶液を40分かけて滴下した。滴下後
65℃まで昇温し、さらに2時間攪拌した。7時間還流
後冷却し、冷水中に注入した。ヘキサン抽出し、5%N
aOH水溶液で洗い水層に加えた。水層を6N塩酸で酸
性(pH1)とし、ヘキサン抽出、水洗を行い、無水M
gSO4で乾燥した。溶媒留去して褐色液体18gを得
た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒エーテル:ヘキサン=3:1)により精製し、4−
(4′−ペンチルオキシペンチルオキシ)フェノール
8.5gを得た。
生成物について下記のIRデータを得た。
IR(cm-1): 3350、2960〜2870、1510、 1450、1380、1230、1100、 820。
参考例6 下記の工程により4−(4′−プロピルオキシペンチル
オキシカルボニル)フェノールを製造した。
オキシカルボニル)フェノールを製造した。
p−アセトキシ安息香酸19.7gのベンゼン120ml
溶液中に五塩化リン23.4gを室温で攪拌下少量ずつ
加えた。その後、4時間加熱還流し、溶媒留去し、酸塩
化物21.5gを得た。
溶液中に五塩化リン23.4gを室温で攪拌下少量ずつ
加えた。その後、4時間加熱還流し、溶媒留去し、酸塩
化物21.5gを得た。
次に4−プロポキシペンタノール16.0g、N,N−
ジメチルアニリン13.3gを、エーテル32mlに溶か
し、室温で攪拌下、上記酸塩化物21.5gを40分か
けて滴下した。滴下後2.5時間加熱還流した。反応
後、水80mlを加えて結晶を溶かし、エーテル抽出し
た。エーテル層を10%硫酸、水の順で洗浄し、無水N
a2SO4で乾燥し、溶媒留去して33.9gの油状物
を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
[ヘキサン:イソプロピルエーテル=2:1〜1:1
(グラジエント)]にて精製し、エステル体23.9g
を得た。
ジメチルアニリン13.3gを、エーテル32mlに溶か
し、室温で攪拌下、上記酸塩化物21.5gを40分か
けて滴下した。滴下後2.5時間加熱還流した。反応
後、水80mlを加えて結晶を溶かし、エーテル抽出し
た。エーテル層を10%硫酸、水の順で洗浄し、無水N
a2SO4で乾燥し、溶媒留去して33.9gの油状物
を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
[ヘキサン:イソプロピルエーテル=2:1〜1:1
(グラジエント)]にて精製し、エステル体23.9g
を得た。
次に上記エステル体23.9gをメタノール80mlに溶
かし、メタノール/アンモニア水(28%)=1/1溶
液を攪拌下で加えた。反応後、エーテル抽出し、水洗
後、無水Na2SO4で乾燥した。溶媒留去して4−
(4′−プロピルオキシペンチルオキシカルボニル)フ
ェノール18gを得た。生成物について下記のIRデー
タを得た。
かし、メタノール/アンモニア水(28%)=1/1溶
液を攪拌下で加えた。反応後、エーテル抽出し、水洗
後、無水Na2SO4で乾燥した。溶媒留去して4−
(4′−プロピルオキシペンチルオキシカルボニル)フ
ェノール18gを得た。生成物について下記のIRデー
タを得た。
IR(cm-1): 3350、2970〜2870、1720、 1615、1590、1520、1280、 1170、1100。
実施例1 下記の工程により5−オクチル−2−[4−(4′−オ
クチルオキシペンチルオキシ)フェニル]ピリミジンを
製造した。
クチルオキシペンチルオキシ)フェニル]ピリミジンを
製造した。
4−オクチルオキシペンタノール7g、p−トルエンス
ルホニルクロリド4.34g、ピリジン1.8g、ベン
ゼン10mlを加え、N2気流下で室温にて22時間攪拌
した。その後反応混合物中に熱濃NaOH水溶液6.5
mlを入れ、5分間攪拌した。次いで、冷10%塩酸中に
そそぎヘキサンにて抽出した。ヘキサン層を、冷5%塩
酸、飽和NaHCO3水溶液、水の順で洗浄し、無水M
gSO4で乾燥した。溶媒留去し、アルミナカラム(ヘ
キサン)にて処理して、(4−オクチルオキシペンチ
ル)p−トルエンスルホネート6.6gを得た。
ルホニルクロリド4.34g、ピリジン1.8g、ベン
ゼン10mlを加え、N2気流下で室温にて22時間攪拌
した。その後反応混合物中に熱濃NaOH水溶液6.5
mlを入れ、5分間攪拌した。次いで、冷10%塩酸中に
そそぎヘキサンにて抽出した。ヘキサン層を、冷5%塩
酸、飽和NaHCO3水溶液、水の順で洗浄し、無水M
gSO4で乾燥した。溶媒留去し、アルミナカラム(ヘ
キサン)にて処理して、(4−オクチルオキシペンチ
ル)p−トルエンスルホネート6.6gを得た。
次に5−オクチル−2−(4−ヒドロキシフェニル)ピ
リミジン5.75g、KOH1.007g、DMF28
mlを加え、100℃で50分攪拌した。その後上記トシ
レート体6.0gを加えて、100℃でさらに2.5時
間攪拌した。反応終了後、冷水500ml中に注ぎ、ベン
ゼンにて抽出した。ベンゼン層を無水MgSO4にて乾
燥した後、溶媒留去した。さらにアルミナカラム(ヘキ
サン)で処理し、3.1gの結晶を得た。これをエタノ
ールより再結晶して5−オクチル−2−[4−(4′−
オクチルオキシペンチルオキシ)フェニル]ピリミジン
1.62gを得た。生成物について、下記のIRデータ
およびNMRデータを得た。
リミジン5.75g、KOH1.007g、DMF28
mlを加え、100℃で50分攪拌した。その後上記トシ
レート体6.0gを加えて、100℃でさらに2.5時
間攪拌した。反応終了後、冷水500ml中に注ぎ、ベン
ゼンにて抽出した。ベンゼン層を無水MgSO4にて乾
燥した後、溶媒留去した。さらにアルミナカラム(ヘキ
サン)で処理し、3.1gの結晶を得た。これをエタノ
ールより再結晶して5−オクチル−2−[4−(4′−
オクチルオキシペンチルオキシ)フェニル]ピリミジン
1.62gを得た。生成物について、下記のIRデータ
およびNMRデータを得た。
IR(cm-1): 2970〜2860、1610、1590、 1440、1260。
NMR(CDC13)δ: 8.5〜6.8(6H)、 4.2〜2.3(7H)、 2.1〜0.6(37H) ppm。
実施例2〜3 実施例1と同様な方法により、以下の化合物を合成し
た。生成物を、IRおよびNMRデータとともに示す。
た。生成物を、IRおよびNMRデータとともに示す。
・5−デシル−2−[4−(4′−プロポキシペンチル
オキシ)フェニル]ピリミジン IR(cm-1): 2970〜2860、1610、1590、 1440、1260。
オキシ)フェニル]ピリミジン IR(cm-1): 2970〜2860、1610、1590、 1440、1260。
NMR(CDC13)δ: 8.6〜6.8(6H)、 4.2〜2.3(7H)、 2.1〜0.6(31H)。
・5−ノニル−2−[4−(4′−ペンチルオキシペン
チルオキシ)フェニル]ピリミジン IR(cm-1): 2970〜2860、1610、1590、 1440、1260。
チルオキシ)フェニル]ピリミジン IR(cm-1): 2970〜2860、1610、1590、 1440、1260。
NMR(CDC13)δ: 8.6〜6.8(6H)、 4.2〜2.3(7H)、 2.1〜0.6(33H)。
実施例4 下記の工程により4−(4′−デシルオキシフェニル)
安息香酸4−オクチルオキシペンチルを製造した。
安息香酸4−オクチルオキシペンチルを製造した。
4−(4′−デシルオキシフェニル)安息香酸3.28
gのベンゼン10ml溶液中に、五塩化リン1.97g
を、室温で攪拌下少しずつ加えた。その後6時間還流
し、溶媒留去して酸塩化物3.60gを得た。
gのベンゼン10ml溶液中に、五塩化リン1.97g
を、室温で攪拌下少しずつ加えた。その後6時間還流
し、溶媒留去して酸塩化物3.60gを得た。
次に、4−オクチルオキシペンタノール2.0gを、ピ
リジン16mlに入れ、2℃にて上記酸塩化物のトルエン
10ml溶液を滴下した。滴下後7時間攪拌し、氷水中に
そそぎ、6N塩酸で酸性にし、生じた結晶を別した。
有機層を水、2NNaOH水溶液、水の順に洗浄し、無
水MgSO4で乾燥した。
リジン16mlに入れ、2℃にて上記酸塩化物のトルエン
10ml溶液を滴下した。滴下後7時間攪拌し、氷水中に
そそぎ、6N塩酸で酸性にし、生じた結晶を別した。
有機層を水、2NNaOH水溶液、水の順に洗浄し、無
水MgSO4で乾燥した。
溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン:酢酸エチル=20:1)にて精製し、2.
7gの結晶を得た。さらにエタノールから再結晶して、
4−(4′−デシルオキシフェニル)安息香酸4−オク
チルオキシペンチル1.2gを得た。生成物について、
下記のIRおよびNMRデータを得た。
(ヘキサン:酢酸エチル=20:1)にて精製し、2.
7gの結晶を得た。さらにエタノールから再結晶して、
4−(4′−デシルオキシフェニル)安息香酸4−オク
チルオキシペンチル1.2gを得た。生成物について、
下記のIRおよびNMRデータを得た。
IR(cm-1): 2970〜2860、1720、1610、 1290、1200、1120。
NMR(CDC13)δ: 8.3〜6.9(8H)、 4.6〜3.2(7H)、 2.2〜0.7(41H)。
実施例5 下記の工程により、4−オクチルオキシ安息香酸4−
(4′−ペンチルオキシペンチルオキシ)フェニルを製
造した。
(4′−ペンチルオキシペンチルオキシ)フェニルを製
造した。
4−オクチルオキシ安息香酸2.5gに塩酸チオニル8
mlを加え、2時間還流した。過剰の塩化チオニルを留去
し、酸塩化物を得た。
mlを加え、2時間還流した。過剰の塩化チオニルを留去
し、酸塩化物を得た。
次に、4−(4′−ペンチルオキシペンチルオキシ)フ
ェノール2.6gのピリジン12ml溶液に、上記酸塩化
物のトルエン溶液を10℃以下で15分かけて滴下し
た。滴下後、室温にて15時間攪拌した。反応後、冷水
中にそそぎ、エーテル抽出した。エーテル層を5%塩
酸、水、5%NaOH水溶液、水の順で洗浄し無水Na
2SO4で乾燥し。溶媒留去してエタノールで再結晶
し、4−オクチルオキシ安息香酸4−(4′−ペンチル
オキシペンチルオキシ)フェニル4.4gを得た。
ェノール2.6gのピリジン12ml溶液に、上記酸塩化
物のトルエン溶液を10℃以下で15分かけて滴下し
た。滴下後、室温にて15時間攪拌した。反応後、冷水
中にそそぎ、エーテル抽出した。エーテル層を5%塩
酸、水、5%NaOH水溶液、水の順で洗浄し無水Na
2SO4で乾燥し。溶媒留去してエタノールで再結晶
し、4−オクチルオキシ安息香酸4−(4′−ペンチル
オキシペンチルオキシ)フェニル4.4gを得た。
IR(cm-1): 2960〜2860、1730、1600、 1510、1470、1250、1190、 1070、 760。
実施例6〜7 実施例5と同様な方法により、以下の化合物を合成し
た。
た。
・4−デシルオキシ安息香酸4−(4′−ペンチルオキ
シペンチルオキシ)フェニル IR(cm-1): 2970〜2850、1730、1600、 1510、1470、1250、1190、 1070、 760。
シペンチルオキシ)フェニル IR(cm-1): 2970〜2850、1730、1600、 1510、1470、1250、1190、 1070、 760。
・4−(4′−ドデシルオキシフェニル)安息香酸4−
(4′−ペンチルオキシペンチルオキシ)フェニル IR(cm-1): 2970〜2850、1730、1600、 1510、1470、1250、1190、 1070、 760。
(4′−ペンチルオキシペンチルオキシ)フェニル IR(cm-1): 2970〜2850、1730、1600、 1510、1470、1250、1190、 1070、 760。
実施例8 下記の工程により4−オクチルオキシ安息香酸4−
(4′−プロポキシペンチルオキシカルボニル)フェニ
ルを製造した。
(4′−プロポキシペンチルオキシカルボニル)フェニ
ルを製造した。
4−オクチルオキシ安息香酸4.0gのベンゼン13ml
溶液中に、五塩化リン3.40gを室温で攪拌下に少量
ずつ加えた。その後4時間還流し、溶媒留去して酸塩化
物4.6gを得た。
溶液中に、五塩化リン3.40gを室温で攪拌下に少量
ずつ加えた。その後4時間還流し、溶媒留去して酸塩化
物4.6gを得た。
次に、4−(4′−プロポキシペンチルオキシカルボニ
ル)フェノール4.26gをピリジン20mlに溶かし、
3℃にて上記酸塩化物4.6gのトルエン13ml溶液を
滴下した。その後、室温で18時間攪拌した。反応後、
氷水中にそそぎ6N塩酸で酸性にし、生じた結晶を別
した。有機層を、水、2NNaOH水溶液、水の順で洗
浄し、無水Na2SO4で乾燥した。溶媒を留去してシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム)に
て精製し、エタノールから再結晶して、4−オクチルオ
キシ安息香酸4−(4′−プロポキシペンチルオキシカ
ルボニル)フェニル1.16gを得た。
ル)フェノール4.26gをピリジン20mlに溶かし、
3℃にて上記酸塩化物4.6gのトルエン13ml溶液を
滴下した。その後、室温で18時間攪拌した。反応後、
氷水中にそそぎ6N塩酸で酸性にし、生じた結晶を別
した。有機層を、水、2NNaOH水溶液、水の順で洗
浄し、無水Na2SO4で乾燥した。溶媒を留去してシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム)に
て精製し、エタノールから再結晶して、4−オクチルオ
キシ安息香酸4−(4′−プロポキシペンチルオキシカ
ルボニル)フェニル1.16gを得た。
IR(cm-1): 2970〜2860、1730、1720、 1610、1270。
NMR(CDC13)δ: 8.3〜6.8(8H)、 4.5〜3.1(7H)、 2.2〜0.7(27H) ppm。
実施例9〜10 実施例8と同様な方法により以下の化合物を合成した。
・4−ドデシルオキシ安息香酸4−(4′−プロポキシ
ペンチルオキシカルボニル)フェニル IR(cm-1): 2970〜2860、1730、1720、 1610、1270。
ペンチルオキシカルボニル)フェニル IR(cm-1): 2970〜2860、1730、1720、 1610、1270。
NMR(CDC13)δ: 8.3〜6.8(8H)、 4.5〜3.1(7H)、 2.2〜0.7(35H) ppm。
・4−(4′−オクチルオキシフェニル)安息香酸4−
(4′−プロポキシペンチルオキシカルボニル)フェニ
ル IR(cm-1): 2970〜2860、1730、1720、 1610、1270。
(4′−プロポキシペンチルオキシカルボニル)フェニ
ル IR(cm-1): 2970〜2860、1730、1720、 1610、1270。
NMR(CDC13)δ: 8.3〜6.8(12H)、 4.5〜3.1(7H)、 2.2〜0.7(27H) ppm。
実施例11 5−ドデシル−2−[4−(4−プロポキシプロピルオ
キシ)フェニル]ピリミジンの製造。
キシ)フェニル]ピリミジンの製造。
(R)−4−プロポキシペンタノール15gをピリジン
50mlに溶解し、氷冷により15℃以下に保ち、P−ト
ルエンスルホニルクロリド21.3gを加え室温にもど
し、15時間撹拌した。その後、氷水500ml中に反応
繹を撹拌下そそぎ込み、5%塩酸を加え、酸性(pH=
1〜2)と、塩化メチレンにより抽出した。塩化メチレ
ン層を水洗の後、無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、
溶媒を留去して、[(R)−4−プロポキシプロピル]
P−トルエンスルホネート14.4gを得た。
50mlに溶解し、氷冷により15℃以下に保ち、P−ト
ルエンスルホニルクロリド21.3gを加え室温にもど
し、15時間撹拌した。その後、氷水500ml中に反応
繹を撹拌下そそぎ込み、5%塩酸を加え、酸性(pH=
1〜2)と、塩化メチレンにより抽出した。塩化メチレ
ン層を水洗の後、無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、
溶媒を留去して、[(R)−4−プロポキシプロピル]
P−トルエンスルホネート14.4gを得た。
次に、5−ドデシル−2−(4−ヒドロキシフェニル)
ピリミジン2.5g、85%KOH0.49g、N,N
−ジメチルホルムアミド20mlの混合物を100℃で1
時間撹拌した。その後、上記トシレート体2.0gを加
えて、100℃で5時間撹拌した。反応終了後冷水25
0ml中にそそぎ込み、イソプロピルエーテルにて抽出し
た。イソプロピルエーテル層を水洗した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒n−ヘキサン/酢酸エ
チル=10/2)で処理して、n−ヘキサンにより再結
晶を行ない、5−ドデシル−2−[4−(4−プロポキ
シプロピル)フェニル]ピリミジン1.77gを得た。
ピリミジン2.5g、85%KOH0.49g、N,N
−ジメチルホルムアミド20mlの混合物を100℃で1
時間撹拌した。その後、上記トシレート体2.0gを加
えて、100℃で5時間撹拌した。反応終了後冷水25
0ml中にそそぎ込み、イソプロピルエーテルにて抽出し
た。イソプロピルエーテル層を水洗した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒n−ヘキサン/酢酸エ
チル=10/2)で処理して、n−ヘキサンにより再結
晶を行ない、5−ドデシル−2−[4−(4−プロポキ
シプロピル)フェニル]ピリミジン1.77gを得た。
相転移温度(℃) 実施例12 交差した帯状のITOで形成した対向マトリクス電極の
それぞれに1000Åの膜厚を有するポリイミド膜(ピ
ロメリット酸無水物と4,4′−ジアミノジフェニルエ
ーテルとの結合物からなるポリアミック酸樹脂の5重量
%N−メチルピロリドン溶液を塗布し、250℃の温度
で加熱閉環反応により形成した)を設け、このポリイミ
ド膜の表面を互いに平行になる様にラビングし、セル厚
を1μにしたセルを作成した。
それぞれに1000Åの膜厚を有するポリイミド膜(ピ
ロメリット酸無水物と4,4′−ジアミノジフェニルエ
ーテルとの結合物からなるポリアミック酸樹脂の5重量
%N−メチルピロリドン溶液を塗布し、250℃の温度
で加熱閉環反応により形成した)を設け、このポリイミ
ド膜の表面を互いに平行になる様にラビングし、セル厚
を1μにしたセルを作成した。
次いで、下記組成物Aを等方相下で前述のセル中に真空
注入法によって注入し、封口した。しかる後に、徐冷
(1℃/時間)によってSmC*の液晶セルを作成し
た。
注入法によって注入し、封口した。しかる後に、徐冷
(1℃/時間)によってSmC*の液晶セルを作成し
た。
液晶組成物A: この液晶セルの両側にクロスニコルの偏光子と検光子を
配置し、対向マトリクス電極間に第4図及び第5図に示
す波形の信号を印加した。この際、走査信号は第4図
(a)に示す+8ボルトと−8ボルトの交番波形とし、
書込み情報は、それぞれ+4ボルトと−4ボルトとし
た。また、1フレーム期間を30m・secとした。
配置し、対向マトリクス電極間に第4図及び第5図に示
す波形の信号を印加した。この際、走査信号は第4図
(a)に示す+8ボルトと−8ボルトの交番波形とし、
書込み情報は、それぞれ+4ボルトと−4ボルトとし
た。また、1フレーム期間を30m・secとした。
この結果、この液晶素子は前述のメモリー駆動型時分割
駆動を行なっても、書込み状態は、何ら反転することな
く正常な動画表示が得られた。
駆動を行なっても、書込み状態は、何ら反転することな
く正常な動画表示が得られた。
実施例13 実施例12で用いた液晶に代えて下記の液晶組成物Bを
用いたほかは実施例12と同様の方法で液晶素子を作成
し、その液晶素子について実施例12で用いた方法と同
様の駆動法により動画表示を行なった結果、何れの例で
も画面中に反転現象は見られなかった。
用いたほかは実施例12と同様の方法で液晶素子を作成
し、その液晶素子について実施例12で用いた方法と同
様の駆動法により動画表示を行なった結果、何れの例で
も画面中に反転現象は見られなかった。
液晶組成物B: 比較例1 実施例13の液晶素子を作成する際に用いた液晶組成物
B中の、前述の一般式(I)で示された光学活性物質を
省略した下記の比較用液晶B′を調製し、その比較用液
晶を用いて液晶素子を作成した。この液晶素子を前述と
同様の方法で駆動させたが、反転現象を生じているため
に、正常な動画が表示されなかった。
B中の、前述の一般式(I)で示された光学活性物質を
省略した下記の比較用液晶B′を調製し、その比較用液
晶を用いて液晶素子を作成した。この液晶素子を前述と
同様の方法で駆動させたが、反転現象を生じているため
に、正常な動画が表示されなかった。
比較用液晶B′:
第1図および第2図は、本発明で用いる時分割駆動用液
晶素子を模式的に表わす斜視図、第3図は、本発明で用
いるマトリクス電極構造の平面図、第4図(a)〜
(d)は、マトリクス電極に印加する電気信号を表わす
説明図、第5図(a)〜(d)は、マトリクス電極間に
付与された電圧の波形を表わす説明図、第6図は、本発
明の液晶素子に印加する電気信号を表わしたタイムチャ
ートの説明図である。 11a、11b……基板、 12……液晶分子層、 13……液晶分子、 14……双極子モーメント(P⊥)、 23a……第1の安定状態、 23b……第2の安定状態、 24a……上向き双極子モーメント、 24b……下向き双極子モーメント、 31……セル、 32……(S1、S2、S3、・・・)……走査電極
群、 33……(I1、I2、I3、・・・)……信号電極
群。
晶素子を模式的に表わす斜視図、第3図は、本発明で用
いるマトリクス電極構造の平面図、第4図(a)〜
(d)は、マトリクス電極に印加する電気信号を表わす
説明図、第5図(a)〜(d)は、マトリクス電極間に
付与された電圧の波形を表わす説明図、第6図は、本発
明の液晶素子に印加する電気信号を表わしたタイムチャ
ートの説明図である。 11a、11b……基板、 12……液晶分子層、 13……液晶分子、 14……双極子モーメント(P⊥)、 23a……第1の安定状態、 23b……第2の安定状態、 24a……上向き双極子モーメント、 24b……下向き双極子モーメント、 31……セル、 32……(S1、S2、S3、・・・)……走査電極
群、 33……(I1、I2、I3、・・・)……信号電極
群。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 69/94 9279−4H C07D 239/26 8615−4C C09K 19/12 7457−4H 19/20 7457−4H 19/30 7457−4H 19/34 7457−4H 19/46 7457−4H 19/48 7457−4H // G02F 1/13 500 (72)発明者 山下 眞孝 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 片桐 一春 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内
Claims (3)
- 【請求項1】一般式(I) [上記一般式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を示
し、C*は不斉炭素原子を示す。lは0または1であ
り、l=1のときm、nは0または1である。またAは (ただし、R1は炭素数4〜18のアルキル基またはア
ルコキシ基を示し、 は、それぞれ を示し、p、q、rは0または1でありp+q+r≧1
の関係を満たす)である] で表わされる光学活性なヒドロキシ吉草酸誘導体。 - 【請求項2】一般式(I) [上記一般式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を示
し、C*は不斉炭素原子を示す。lは0または1であ
り、l=1のときm、nは0または1である。またAは (ただし、R1は炭素数4〜18のアルキル基またはア
ルコキシ基を示し、 は、それぞれ を示し、p、q、rは0または1でありp+q+r≧1
の関係を満たす)である] で表わされる光学活性なヒドロキシ吉草酸誘導体を少な
くとも1種類配合成分として含有することを特徴とする
液晶組成物。 - 【請求項3】一般式(I) [上記一般式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を示
し、C*は不斉炭素原子を示す。lは0または1であ
り、l=1のときm、nは0または1である。またAは (ただし、R1は炭素数4〜18のアルキル基またはア
ルコキシ基を示し、 は、それぞれ を示し、p、q、rは0または1でありp+q+r≧1
の関係を満たす)である] で表わされる光学活性なヒドロキシ吉草酸誘導体を少な
くとも1種類配合成分として含有する液晶組成物を使用
することを特徴とする液晶素子。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62187500A JPH0621115B2 (ja) | 1986-08-08 | 1987-07-29 | ヒドロキシ吉草酸誘導体およびこれを含む液晶組成物 |
| DE8787111475T DE3783826T2 (de) | 1986-08-08 | 1987-08-07 | Optisch aktive mesomorphische verbindung. |
| EP87111475A EP0255962B1 (en) | 1986-08-08 | 1987-08-07 | Optically active mesomorphic compound |
| US07/373,640 US5143643A (en) | 1986-08-08 | 1989-07-03 | Optically active mesomorphic compound |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61-186578 | 1986-08-08 | ||
| JP18657886 | 1986-08-08 | ||
| JP62187500A JPH0621115B2 (ja) | 1986-08-08 | 1987-07-29 | ヒドロキシ吉草酸誘導体およびこれを含む液晶組成物 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5096494A Division JP2623428B2 (ja) | 1986-08-08 | 1993-04-01 | ヒドロキシ吉草酸誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63152347A JPS63152347A (ja) | 1988-06-24 |
| JPH0621115B2 true JPH0621115B2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=26503852
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62187500A Expired - Fee Related JPH0621115B2 (ja) | 1986-08-08 | 1987-07-29 | ヒドロキシ吉草酸誘導体およびこれを含む液晶組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0621115B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0312480A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-01-21 | Canon Inc | 強誘電性カイラルスメクチック液晶組成物およびこれを含む液晶素子 |
| JPH0228289A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-30 | Canon Inc | 液晶組成物およびこれを含む液晶素子 |
| JP3039651B2 (ja) * | 1988-07-13 | 2000-05-08 | キヤノン株式会社 | 強誘電性カイラルスメクチック液晶組成物及びこれを有する液晶素子 |
| JPH0224387A (ja) * | 1988-07-13 | 1990-01-26 | Canon Inc | 液晶組成物およびこれを含む液晶素子 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6122072A (ja) * | 1984-07-09 | 1986-01-30 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 液晶化合物 |
-
1987
- 1987-07-29 JP JP62187500A patent/JPH0621115B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63152347A (ja) | 1988-06-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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