JPH0621902B2 - ビームポジショナ - Google Patents
ビームポジショナInfo
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- JPH0621902B2 JPH0621902B2 JP60082650A JP8265085A JPH0621902B2 JP H0621902 B2 JPH0621902 B2 JP H0621902B2 JP 60082650 A JP60082650 A JP 60082650A JP 8265085 A JP8265085 A JP 8265085A JP H0621902 B2 JPH0621902 B2 JP H0621902B2
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- Japan
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/082—Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
- G02B27/0031—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration for scanning purposes
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はレーザビームを使用して抵抗膜などのトリミン
グを行うレーザトリマ装置等に関するもので、特に該装
置において光ビームの移動を行うビームポジショナに関
するものである。
グを行うレーザトリマ装置等に関するもので、特に該装
置において光ビームの移動を行うビームポジショナに関
するものである。
一般にレーザトリマ装置等において、レーザ加工を行う
ためにはビーム位置を移動するか被加工物を移動するこ
とが必要であるが、通常処理能力の観点からビーム移動
方式、さらに多くの場合、高速動作が可能なガルバノメ
ータ型のオプティカルスキャナを用いたビームポジショ
ナが採用されている。
ためにはビーム位置を移動するか被加工物を移動するこ
とが必要であるが、通常処理能力の観点からビーム移動
方式、さらに多くの場合、高速動作が可能なガルバノメ
ータ型のオプティカルスキャナを用いたビームポジショ
ナが採用されている。
第３図は従来のこのようなタイプのビームポジショナの
概略構成を示す図であって、おのおのミラーを持つ２組
のガルバノメータ型オプティカルスキャナ１と２をその
走査方向が直交するように配置し、Ｘ軸位置制御信号１
０１，Ｙ軸位置制御信号１０２を用いて光ビーム３を２
個のオプティカルスキャナ１，２のミラーで偏向し、ｆ
・θ型の対物レンズ４を通したのち、偏向角に比例した
加工面上の所要の位置に集光させる。この所要の位置へ
の光ビームの偏向は２つの位置制御信号１０１，１０２
によりそれぞれオプティカルスキャナのミラーを微小回
転させることにより行うが、その慣性が小さいことから
例えば１０メートル／秒の高速移動も可能であるという
特長があり、レーザトリマ装置を中心に多用されてい
る。
概略構成を示す図であって、おのおのミラーを持つ２組
のガルバノメータ型オプティカルスキャナ１と２をその
走査方向が直交するように配置し、Ｘ軸位置制御信号１
０１，Ｙ軸位置制御信号１０２を用いて光ビーム３を２
個のオプティカルスキャナ１，２のミラーで偏向し、ｆ
・θ型の対物レンズ４を通したのち、偏向角に比例した
加工面上の所要の位置に集光させる。この所要の位置へ
の光ビームの偏向は２つの位置制御信号１０１，１０２
によりそれぞれオプティカルスキャナのミラーを微小回
転させることにより行うが、その慣性が小さいことから
例えば１０メートル／秒の高速移動も可能であるという
特長があり、レーザトリマ装置を中心に多用されてい
る。
しかし上記のビームポジショナでは、光ビームは２個の
オプティカルスキャナで順次偏向され、かつｆ・θ型の
対物レンズを使用していることから、このビームポジシ
ョナを使用して正方形の軌跡を画くと実際には歪を生じ
る欠点がある。
オプティカルスキャナで順次偏向され、かつｆ・θ型の
対物レンズを使用していることから、このビームポジシ
ョナを使用して正方形の軌跡を画くと実際には歪を生じ
る欠点がある。
第４図はこのような歪の一例を示す図である。この歪は
一般にスキャン歪と呼ばれ、Ｘ軸上およびＹ軸上では発
生せずそれ以外の位置で生じる。
一般にスキャン歪と呼ばれ、Ｘ軸上およびＹ軸上では発
生せずそれ以外の位置で生じる。
上記のようなスキャン歪があると微細パターンのトリミ
ングができなくなるので、従来特定の用途では、位置デ
ータを入力する際にあらかじめ歪量相当分だけ値を変え
ておく方法が採られている。しかし任意の走査を行うた
めには、コンピュータにより自動的に補正演算を行うよ
うにしても、ごく低速度の走査を除き一般的には補正し
ながら走査を行うことは難しく、高速度で走査する場合
にも有効なスキャン歪の補正手段は知られていなかっ
た。
ングができなくなるので、従来特定の用途では、位置デ
ータを入力する際にあらかじめ歪量相当分だけ値を変え
ておく方法が採られている。しかし任意の走査を行うた
めには、コンピュータにより自動的に補正演算を行うよ
うにしても、ごく低速度の走査を除き一般的には補正し
ながら走査を行うことは難しく、高速度で走査する場合
にも有効なスキャン歪の補正手段は知られていなかっ
た。
したがって本発明の目的は、高速度で任意の走査を行う
場合でも、常に自動的にスキャン歪を補正し、所望の軌
跡でビームを走査できるビームポジショナを提供するこ
とにある。
場合でも、常に自動的にスキャン歪を補正し、所望の軌
跡でビームを走査できるビームポジショナを提供するこ
とにある。
本発明は上記の目的を達成するために、３つの乗算器を
用いたスキャン歪補正回路を設けてＸ軸，Ｙ軸位置制御
信号を補正するようにしたものである。
用いたスキャン歪補正回路を設けてＸ軸，Ｙ軸位置制御
信号を補正するようにしたものである。
すなわち本発明によれば、第１及び第２の位置制御信号
を個々に用いて動作する、光ビームの偏向方向が互いに
直交する２つのオプティカルスキャナと、これら２つの
オプティカルスキャナで偏向された光ビームを集光する
対物レンズとを備えたビームポジショナにおいて、前記
第１の位置制御信号と第１の帰還信号を減算する差回路
及び前記第２の位置制御信号と第２の帰還信号を加算す
る和回路から成る加減算手段と、前記差回路の出力信号
と前記和回路の出力信号を乗算して二次値の信号を出力
する第１の乗算器、該出力された二次値の信号と前記差
回路の出力信号を乗算して三次値に比例した信号からな
る第１の補正信号を前記第２の帰還信号として出力する
第２の乗算器、及び前記出力された二次値の信号と前記
和回路の出力信号を乗算して三次値に比例した信号から
なる第２の補正信号を前記第１の帰還信号として出力す
る第３の乗算器を有する補正信号発生手段とを設けるこ
とにより、前記第１及び第２の帰還信号が同時に歪補償
された補正信号として出力されることを特徴とするビー
ムポジショナが得られる。
を個々に用いて動作する、光ビームの偏向方向が互いに
直交する２つのオプティカルスキャナと、これら２つの
オプティカルスキャナで偏向された光ビームを集光する
対物レンズとを備えたビームポジショナにおいて、前記
第１の位置制御信号と第１の帰還信号を減算する差回路
及び前記第２の位置制御信号と第２の帰還信号を加算す
る和回路から成る加減算手段と、前記差回路の出力信号
と前記和回路の出力信号を乗算して二次値の信号を出力
する第１の乗算器、該出力された二次値の信号と前記差
回路の出力信号を乗算して三次値に比例した信号からな
る第１の補正信号を前記第２の帰還信号として出力する
第２の乗算器、及び前記出力された二次値の信号と前記
和回路の出力信号を乗算して三次値に比例した信号から
なる第２の補正信号を前記第１の帰還信号として出力す
る第３の乗算器を有する補正信号発生手段とを設けるこ
とにより、前記第１及び第２の帰還信号が同時に歪補償
された補正信号として出力されることを特徴とするビー
ムポジショナが得られる。
このビームポジショナでは光学的に生じるスキャン歪を
電気回路的に補正することが可能となるので、実現容易
であり且つ応答速度も速いので、高速移動を行う場合で
も適正にスキャン歪の補正を行うことが可能である。
電気回路的に補正することが可能となるので、実現容易
であり且つ応答速度も速いので、高速移動を行う場合で
も適正にスキャン歪の補正を行うことが可能である。
次に図面を参照して、本発明について詳細に説明する。
まず、本発明の実施例を説明する前に、第１図に示すフ
ィードバックをかけていない場合のスキャナ歪補正回路
について説明する。
ィードバックをかけていない場合のスキャナ歪補正回路
について説明する。
このスキャナ歪補正回路は第３図に示した従来のビーム
ポジショナの構成において、Ｘ軸，Ｙ軸位置制御信号１
０１，１０２をオプティカルスキャナ１，２に入力する
部分にスキャン歪補正回路を追加したものである。従っ
て全体の構成は第３図から容易に分かるので全体図は省
略する。
ポジショナの構成において、Ｘ軸，Ｙ軸位置制御信号１
０１，１０２をオプティカルスキャナ１，２に入力する
部分にスキャン歪補正回路を追加したものである。従っ
て全体の構成は第３図から容易に分かるので全体図は省
略する。
第１図に示すスキャン歪補正回路は３個のアナログ乗算
器１１〜１３を用いて構成されている。この回路におい
て、Ｘ軸位置制御信号１０１とＹ軸位置制御信号１０２
の電圧をそれぞれＶ１とＶ２で表わし、アナログ乗算器
１１〜１３の乗算係数（定数）をｋ１〜ｋ３とすると、
これらアナログ乗算器１１〜１３の出力電圧Ｐ１〜Ｐ３
は Ｐ１：ｋ１Ｖ１Ｖ２ Ｐ２：ｋ１ｋ２Ｖ１ ２Ｖ２ Ｐ３：ｋ１ｋ３Ｖ１Ｖ２ ２ で表される。従って差回路１４及び和回路１５の出力信
号１０３と１０４の電圧Ｖ３とＶ４は、可変抵抗器１６
と１７により設定される減衰量によって決まる定数をａ
とｂとすると、 Ｖ３＝Ｖ１−ａｋ１ｋ３Ｖ１Ｖ２ ２ …（１） Ｖ４＝Ｖ２＋ｂｋ１ｋ２Ｖ１ ２Ｖ２ …（２） のように表される。なお上式のａｋ１ｋ３およびｂｋ１
ｋ２は定数である。
器１１〜１３を用いて構成されている。この回路におい
て、Ｘ軸位置制御信号１０１とＹ軸位置制御信号１０２
の電圧をそれぞれＶ１とＶ２で表わし、アナログ乗算器
１１〜１３の乗算係数（定数）をｋ１〜ｋ３とすると、
これらアナログ乗算器１１〜１３の出力電圧Ｐ１〜Ｐ３
は Ｐ１：ｋ１Ｖ１Ｖ２ Ｐ２：ｋ１ｋ２Ｖ１ ２Ｖ２ Ｐ３：ｋ１ｋ３Ｖ１Ｖ２ ２ で表される。従って差回路１４及び和回路１５の出力信
号１０３と１０４の電圧Ｖ３とＶ４は、可変抵抗器１６
と１７により設定される減衰量によって決まる定数をａ
とｂとすると、 Ｖ３＝Ｖ１−ａｋ１ｋ３Ｖ１Ｖ２ ２ …（１） Ｖ４＝Ｖ２＋ｂｋ１ｋ２Ｖ１ ２Ｖ２ …（２） のように表される。なお上式のａｋ１ｋ３およびｂｋ１
ｋ２は定数である。
一方先に第４図に例示したようなスキャン歪は幾何光学
的な論理検討から求めることができ、導出過程は省略す
るが、制御したいビーム位置の座標を（ｘ，ｙ）とする
と、実際のビーム位置の座標（ｘ′，ｙ′）は、対物レ
ンズの焦点距離をｆで表すと、下記のように表される。
的な論理検討から求めることができ、導出過程は省略す
るが、制御したいビーム位置の座標を（ｘ，ｙ）とする
と、実際のビーム位置の座標（ｘ′，ｙ′）は、対物レ
ンズの焦点距離をｆで表すと、下記のように表される。
但し なお上式はＸ軸スキャナを出たビームがｙ軸スキャナに
入射するように配置した場合の式であり、もし逆の順序
の場合には上記（３），（４）式のｘとｙおよびｘ′と
ｙ′を入れ替えればよい。
入射するように配置した場合の式であり、もし逆の順序
の場合には上記（３），（４）式のｘとｙおよびｘ′と
ｙ′を入れ替えればよい。
前記（３），（４）式は、ｘおよびｙの値が対物レンズ
の焦点距離ｆに比べて充分に小さいことを考慮して近似
式をもとめると、 のように表される。（５），（６）式をｆ》ｘ′，ｙ′
という条件を用いてｘ，ｙについて解き第３項以下を省
略すると と表すことができる。
の焦点距離ｆに比べて充分に小さいことを考慮して近似
式をもとめると、 のように表される。（５），（６）式をｆ》ｘ′，ｙ′
という条件を用いてｘ，ｙについて解き第３項以下を省
略すると と表すことができる。
一方、Ｘ軸位置制御信号１０１，Ｙ軸位置制御信号１０
２の電圧Ｖ１，Ｖ２，補償後のＸ軸位置制御信号１０
３，Ｙ軸位置制御信号１０４の電圧Ｖ３，Ｖ４におい
て、Ｘ軸，Ｙ軸スキャナのドライバへの単位入力電圧当
たりのビーム集光位置の移動量をｇとすると、次式の関
係が成立する。
２の電圧Ｖ１，Ｖ２，補償後のＸ軸位置制御信号１０
３，Ｙ軸位置制御信号１０４の電圧Ｖ３，Ｖ４におい
て、Ｘ軸，Ｙ軸スキャナのドライバへの単位入力電圧当
たりのビーム集光位置の移動量をｇとすると、次式の関
係が成立する。
ｘ′＝ｇＶ１，ｙ′＝ｇＶ２ …（９） ｘ ＝ｇＶ３，ｙ ＝ｇＶ４ …（１０） 上式を（７），（８）式に代入すると が得られる。（１１），（１２）式において、第２項が
歪補償成分である。
歪補償成分である。
（１），（２）式で得られる出力信号が（１１），（１
２）式の出力信号であるためには でなければならない。したがって上式の関係を満たすよ
うに可変抵抗器１６及び１７によってａ，ｂの値を調整
すれば、光学的なスキャン歪を電気回路で補正すること
ができて、スキャン歪を大幅に低減したビームポジショ
ナが得られる。
２）式の出力信号であるためには でなければならない。したがって上式の関係を満たすよ
うに可変抵抗器１６及び１７によってａ，ｂの値を調整
すれば、光学的なスキャン歪を電気回路で補正すること
ができて、スキャン歪を大幅に低減したビームポジショ
ナが得られる。
この第１図のスキャン歪補正回路に於いては、乗算器と
して１１〜１３の３個の乗算器で必要な補正信号を得る
ことが出来るので、構成が簡単となる。
して１１〜１３の３個の乗算器で必要な補正信号を得る
ことが出来るので、構成が簡単となる。
アナログ乗算器にはＰ−Ｎ接合の対数特性を利用したア
ナログ演算器などが使用でき、また差回路および和回路
はいわゆるオペアンプを使用できるので、市販されてい
る部品のみで容易にスキャン歪補正回路を構成できる。
ナログ演算器などが使用でき、また差回路および和回路
はいわゆるオペアンプを使用できるので、市販されてい
る部品のみで容易にスキャン歪補正回路を構成できる。
このスキャン歪補正回路において、（１３），（１４）
式の関係になるようにスキャン歪の補正を行ったときの
効果を数式的に表すために、まず、（１０）式の関係を
（５），（６）式に代入して補正後の位置制御信号の電
圧Ｖ３，Ｖ４とビーム位置の座標（ｘ′，ｙ′）の関係
を求めると となる。これらの式に歪補正回路の関係式である
（１），（２）式を代入すると が得られる。
式の関係になるようにスキャン歪の補正を行ったときの
効果を数式的に表すために、まず、（１０）式の関係を
（５），（６）式に代入して補正後の位置制御信号の電
圧Ｖ３，Ｖ４とビーム位置の座標（ｘ′，ｙ′）の関係
を求めると となる。これらの式に歪補正回路の関係式である
（１），（２）式を代入すると が得られる。
ところが、上記式では（１３），（１４）式の関係があ
っても、５次以上の項が残ってしまい、十分な歪補正を
行うことができない。
っても、５次以上の項が残ってしまい、十分な歪補正を
行うことができない。
そこで、本発明のスキャン歪補正回路は、より正確な歪
補正を行うために、第２図に示す様に差回路３１及び和
回路３２を入力側にもってくる様に構成されている。こ
の構成では、図から分かるように、乗算器１３と１２の
出力信号をそれぞれ差回路３１及び和回路３２に帰還し
ている。つまり、入力制御信号の電圧Ｖ１，Ｖ２と補正
後の制御信号Ｖ３，Ｖ４の関係は Ｖ３＝Ｖ１／（１＋ａｋ１ｋ３Ｖ４ ２） …（１９） Ｖ４＝Ｖ２／（１−ｂｋ１ｋ２Ｖ３ ２） …（２０） のように表される。
補正を行うために、第２図に示す様に差回路３１及び和
回路３２を入力側にもってくる様に構成されている。こ
の構成では、図から分かるように、乗算器１３と１２の
出力信号をそれぞれ差回路３１及び和回路３２に帰還し
ている。つまり、入力制御信号の電圧Ｖ１，Ｖ２と補正
後の制御信号Ｖ３，Ｖ４の関係は Ｖ３＝Ｖ１／（１＋ａｋ１ｋ３Ｖ４ ２） …（１９） Ｖ４＝Ｖ２／（１−ｂｋ１ｋ２Ｖ３ ２） …（２０） のように表される。
よって、位置制御信号電圧とビーム位置の座標（ｘ′，
ｙ′）との関係は、（１５），（１６）式に（１９），
（２０）式を代入して となる。
ｙ′）との関係は、（１５），（１６）式に（１９），
（２０）式を代入して となる。
従って、上記式で、（１３），（１４）式の関係があれ
ば ｘ′＝ｇＶ１ …（２３） ｙ′＝ｇＶ２ …（２４） となり、正確に補正ができるので、スキャン歪補償が第
１図に示したスキャン歪補正回路の場合より高い精度で
可能である。
ば ｘ′＝ｇＶ１ …（２３） ｙ′＝ｇＶ２ …（２４） となり、正確に補正ができるので、スキャン歪補償が第
１図に示したスキャン歪補正回路の場合より高い精度で
可能である。
以上詳述した様に、本発明によればガルバノメータ型の
オプティカルスキャナを使用したビームポジショナの本
質的な欠点であったスキャン歪を３個のアナログ乗算器
を用いた電気的手段で補正することができ、所要の位置
に正確にレーザビームを移動することが可能なビームポ
ジショナを提供できる。またこの歪補正回路は高速応答
が可能であるので、高速移動というオプティカルスキャ
ナの特徴をそこなうこともなく、この種のビームポジシ
ョナの適用領域を拡大できる。
オプティカルスキャナを使用したビームポジショナの本
質的な欠点であったスキャン歪を３個のアナログ乗算器
を用いた電気的手段で補正することができ、所要の位置
に正確にレーザビームを移動することが可能なビームポ
ジショナを提供できる。またこの歪補正回路は高速応答
が可能であるので、高速移動というオプティカルスキャ
ナの特徴をそこなうこともなく、この種のビームポジシ
ョナの適用領域を拡大できる。
第１図は本発明の実施例を説明するための参考例である
スキャン歪補正回路の構成を示す図、第２図は本発明の
実施例で用いるスキャン歪補正回路の構成を示す図、第
３図は従来のビームポジショナの概略を示す構成図、第
４図は四角形画いたとき従来のビームポジショナで生じ
るスキャン歪を示す軌跡図である。 記号の説明：１と２はオプティカルスキャナ、３は光ビ
ーム、４は対物レンズ、１１から１３はアナログ乗算
器、１４は差回路、１５は和回路、１６，１７は可変抵
抗器、１０１はＸ軸位置制御信号、１０２はＹ軸位置制
御信号、１０３は補正されたＸ軸位置制御信号、１０４
は補正されたＹ軸位置制御信号をそれぞれあらわしてい
る。
スキャン歪補正回路の構成を示す図、第２図は本発明の
実施例で用いるスキャン歪補正回路の構成を示す図、第
３図は従来のビームポジショナの概略を示す構成図、第
４図は四角形画いたとき従来のビームポジショナで生じ
るスキャン歪を示す軌跡図である。 記号の説明：１と２はオプティカルスキャナ、３は光ビ
ーム、４は対物レンズ、１１から１３はアナログ乗算
器、１４は差回路、１５は和回路、１６，１７は可変抵
抗器、１０１はＸ軸位置制御信号、１０２はＹ軸位置制
御信号、１０３は補正されたＸ軸位置制御信号、１０４
は補正されたＹ軸位置制御信号をそれぞれあらわしてい
る。
Claims (1)
- 【請求項１】第１及び第２の位置制御信号を個々に用い
て動作する、光ビームの偏向方向が互いに直交する２つ
のオプティカルスキャナと、これら２つのオプティカル
スキャナで偏向された光ビームを集光する対物レンズと
を備えたビームポジショナにおいて、 前記第１の位置制御信号と第１の帰還信号を減算する差
回路及び前記第２の位置制御信号と第２の帰還信号を加
算する和回路から成る加減算手段と、 前記差回路の出力信号と前記和回路の出力信号を乗算し
て二次値の信号を出力する第１の乗算器、該出力された
二次値の信号と前記差回路の出力信号を乗算して三次値
に比例した信号からなる第１の補正信号を前記第２の帰
還信号として出力する第２の乗算器、及び前記出力され
た二次値の信号と前記和回路の出力信号を乗算して三次
値に比例した信号からなる第２の補正信号を前記第１の
帰還信号として出力する第３の乗算器を有する補正信号
発生手段とを設けることにより、 前記第１及び第２の帰還信号が同時に歪補償された補正
信号として出力されることを特徴とするビームポジショ
ナ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60082650A JPH0621902B2 (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | ビームポジショナ |
| US06/854,042 US4714830A (en) | 1985-04-19 | 1986-04-21 | Light beam positioner with scan distortion compensation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60082650A JPH0621902B2 (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | ビームポジショナ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61241720A JPS61241720A (ja) | 1986-10-28 |
| JPH0621902B2 true JPH0621902B2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=13780303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60082650A Expired - Lifetime JPH0621902B2 (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | ビームポジショナ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4714830A (ja) |
| JP (1) | JPH0621902B2 (ja) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4755876A (en) * | 1987-07-27 | 1988-07-05 | Eastman Kodak Company | Image scanner |
| US5514861A (en) * | 1988-05-11 | 1996-05-07 | Symbol Technologies, Inc. | Computer and/or scanner system mounted on a glove |
| JPH03110512A (ja) * | 1989-09-26 | 1991-05-10 | Canon Inc | 光ビーム走査装置 |
| US5543610A (en) * | 1989-10-30 | 1996-08-06 | Symbol Technologies, Inc. | Compact bar code scanning arrangement |
| US4974810A (en) * | 1989-12-18 | 1990-12-04 | Eastman Kodak Company | Flare light compensation |
| JP2780409B2 (ja) * | 1990-01-20 | 1998-07-30 | キヤノン株式会社 | 角度検出装置 |
| US5150249A (en) * | 1990-07-06 | 1992-09-22 | General Scanning, Inc. | Two-mirror scanner with pincushion error correction |
| KR950007875B1 (ko) * | 1991-01-30 | 1995-07-20 | 삼성전자주식회사 | 레이저를 이용한 표시장치 |
| DE4103298A1 (de) * | 1991-02-04 | 1992-08-13 | Heidelberg Engineering Optisch | Vorrichtung zur abbildung eines objektes |
| JPH04283792A (ja) * | 1991-03-13 | 1992-10-08 | Pioneer Electron Corp | ２次元情報表示装置 |
| US5173796A (en) * | 1991-05-20 | 1992-12-22 | Palm Steven G | Three dimensional scanning system |
| US5184012A (en) * | 1991-12-26 | 1993-02-02 | Olympus Optical Co., Ltd. | Optical scanning apparatus with axis deviation correction |
| US5206497A (en) * | 1992-04-06 | 1993-04-27 | At&T Bell Laboratories | Free-space optical switching apparatus |
| JP3389270B2 (ja) * | 1992-05-15 | 2003-03-24 | シンボル テクノロジイズ インコーポレイテッド | 小型バーコード走査装置 |
| US5708262A (en) * | 1992-05-15 | 1998-01-13 | Symbol Technologies, Inc. | Miniature high speed scan element mounted on a personal computer interface card |
| US6036098A (en) * | 1992-05-15 | 2000-03-14 | Symbol Technologies, Inc. | Miniature scan element operably connected to a personal computer interface card |
| US5646765A (en) * | 1994-10-05 | 1997-07-08 | Synrad, Inc. | Laser scanner |
| US5633736A (en) * | 1995-03-28 | 1997-05-27 | Eastman Kodak Company | Scan lens and an optical scanner system incorporating two deflectors |
| EP0885426B1 (en) * | 1996-03-07 | 2001-09-26 | Accu-Sort Systems, Inc. | Dynamic focusing apparatus for optical imaging systems |
| US6072898A (en) * | 1998-01-16 | 2000-06-06 | Beaty; Elwin M. | Method and apparatus for three dimensional inspection of electronic components |
| US6915007B2 (en) | 1998-01-16 | 2005-07-05 | Elwin M. Beaty | Method and apparatus for three dimensional inspection of electronic components |
| US6915006B2 (en) * | 1998-01-16 | 2005-07-05 | Elwin M. Beaty | Method and apparatus for three dimensional inspection of electronic components |
| US6350085B1 (en) * | 1998-08-04 | 2002-02-26 | Sonsub International, Inc. | Cable deployment system and method of using same |
| ES2190901B1 (es) * | 2002-02-13 | 2005-09-16 | Fundacion Fatronik | Maquina-herramienta con regulacion de posicion en continuo. |
| EP1676077A2 (en) * | 2003-09-23 | 2006-07-05 | Greenco L.L.C. DBA LFI International | Programmable laser illuminated sign apparatus |
| JP4961870B2 (ja) * | 2006-07-18 | 2012-06-27 | オムロン株式会社 | 光走査装置 |
| US8426768B2 (en) * | 2008-02-20 | 2013-04-23 | Aerotech, Inc. | Position-based laser triggering for scanner |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52108142A (en) * | 1976-03-08 | 1977-09-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | Light beam scanning system |
| JPS5596916A (en) * | 1979-01-17 | 1980-07-23 | Canon Inc | Two-dimensional scanner |
| JPS5596917A (en) * | 1979-01-17 | 1980-07-23 | Canon Inc | Two-dimensional scanner |
| JPS59163947A (ja) * | 1983-03-08 | 1984-09-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像変形方法 |
| JPS59206194A (ja) * | 1983-05-10 | 1984-11-21 | Fuji Electric Co Ltd | レ−ザ加工装置 |
| JPS6044193A (ja) * | 1983-08-22 | 1985-03-09 | Fuji Electric Co Ltd | レ−ザ加工装置 |
-
1985
- 1985-04-19 JP JP60082650A patent/JPH0621902B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-04-21 US US06/854,042 patent/US4714830A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| JPS61241720A (ja) | 1986-10-28 |
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