JPH0622043B2 - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPH0622043B2 JPH0622043B2 JP8160685A JP8160685A JPH0622043B2 JP H0622043 B2 JPH0622043 B2 JP H0622043B2 JP 8160685 A JP8160685 A JP 8160685A JP 8160685 A JP8160685 A JP 8160685A JP H0622043 B2 JPH0622043 B2 JP H0622043B2
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、情報の記録、再生を行うための磁気ヘッドに
関するものである。
関するものである。
従来の技術 従来の垂直磁気ヘッドは、例えば特公昭５７−１７２８
１号公報や特開昭５８−１３９３２３号公報に示されて
いるような構成が採られており、その概要を第４図によ
って説明すると、第１の基板１０１はアルミナ、チタン
カーバイドからなる非磁性基板１０２上に高透磁率膜か
らなる主磁極膜１０３を形成している。第２の基板１０
４はフェライト基板１０５と記録媒体（図示せず）と接
触する非磁性材料製のヘッド先端部１０６とより形成さ
れている。この第１の基板１０１の主磁極膜１０３が第
２の基板１０４のフェライト基板１０５とヘッド先端部
１０６に接着され、これら第１と第２の基板１０１と１
０４に記録再生用のコイル（図示せず）が施されてい
る。この様な構造の磁気ヘッドにおいて、第２の基板１
０４を製造するにはヘッド先端部１０６はその非磁性材
料として耐摩耗性の良いアルミナとチタンカーバイドの
焼結体であるセラミックスを用い、このヘッド先端部１
０６とフェライト基板１０５とを有機物の接着剤、例え
ばエポキシ樹脂等を用いて接着していた。
１号公報や特開昭５８−１３９３２３号公報に示されて
いるような構成が採られており、その概要を第４図によ
って説明すると、第１の基板１０１はアルミナ、チタン
カーバイドからなる非磁性基板１０２上に高透磁率膜か
らなる主磁極膜１０３を形成している。第２の基板１０
４はフェライト基板１０５と記録媒体（図示せず）と接
触する非磁性材料製のヘッド先端部１０６とより形成さ
れている。この第１の基板１０１の主磁極膜１０３が第
２の基板１０４のフェライト基板１０５とヘッド先端部
１０６に接着され、これら第１と第２の基板１０１と１
０４に記録再生用のコイル（図示せず）が施されてい
る。この様な構造の磁気ヘッドにおいて、第２の基板１
０４を製造するにはヘッド先端部１０６はその非磁性材
料として耐摩耗性の良いアルミナとチタンカーバイドの
焼結体であるセラミックスを用い、このヘッド先端部１
０６とフェライト基板１０５とを有機物の接着剤、例え
ばエポキシ樹脂等を用いて接着していた。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記従来の磁気ヘッドのようにフェライト
基板１０５とアルミナ、チタンカーバイドを主成分とす
るセラミックス基板よりなるヘッド先端部１０６との接
着に有機物の接着剤を用いると、接着強度が弱く、磁気
ヘッド加工時に剥れたり、又耐環境試験では接着部に段
作が生じたりして実用上に問題があった。一方、無機質
のガラス接着手段を用いると、接着強度が強く、耐候性
も良いことが実用の磁気ヘッドから実証されているが、
上記アルミナ、チタンカーバイドを主成分とするヘッド
先端部１０６とフェライト基板１０５の接着はガラス接
着手段を用いることができなかった。それはアルミナ、
チタンカーバイド基板とガラスとはいわゆるぬれ性がな
く、なじまないばかりでなく、基板からガスが発生し、
ガラスとの密着性を妨げているからである。
基板１０５とアルミナ、チタンカーバイドを主成分とす
るセラミックス基板よりなるヘッド先端部１０６との接
着に有機物の接着剤を用いると、接着強度が弱く、磁気
ヘッド加工時に剥れたり、又耐環境試験では接着部に段
作が生じたりして実用上に問題があった。一方、無機質
のガラス接着手段を用いると、接着強度が強く、耐候性
も良いことが実用の磁気ヘッドから実証されているが、
上記アルミナ、チタンカーバイドを主成分とするヘッド
先端部１０６とフェライト基板１０５の接着はガラス接
着手段を用いることができなかった。それはアルミナ、
チタンカーバイド基板とガラスとはいわゆるぬれ性がな
く、なじまないばかりでなく、基板からガスが発生し、
ガラスとの密着性を妨げているからである。
そこで、本発明は確実に接着することができるばかりで
なく、耐摩耗性を向上させることができ、しかも耐候性
を向上させ、信頼性を向上させることができるようにし
た磁気ヘッドを提供しようとするものである。
なく、耐摩耗性を向上させることができ、しかも耐候性
を向上させ、信頼性を向上させることができるようにし
た磁気ヘッドを提供しようとするものである。
問題点を解決するための手段 そして上記問題点を解決するための本発明の磁気ヘッド
は、非磁性材から形成された第１の基板と、磁性材から
形成された第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の
基板との間に設けられた非磁性材から形成されたヘッド
先端部と、前記第１の基板と前記ヘッド先端部との間に
設けられた主磁極膜とを有する磁気ヘッドであって、前
記ヘッド先端部の非磁性材は、チタンカーバイドを含む
セラミックス材であり、前記ヘッド先端部の前記第２の
基板側の表面層に変質により二酸化チタン層が形成さ
れ、前記ヘッド先端部の二酸化チタン層が前記第２の基
板にガラス接着されたものである。
は、非磁性材から形成された第１の基板と、磁性材から
形成された第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の
基板との間に設けられた非磁性材から形成されたヘッド
先端部と、前記第１の基板と前記ヘッド先端部との間に
設けられた主磁極膜とを有する磁気ヘッドであって、前
記ヘッド先端部の非磁性材は、チタンカーバイドを含む
セラミックス材であり、前記ヘッド先端部の前記第２の
基板側の表面層に変質により二酸化チタン層が形成さ
れ、前記ヘッド先端部の二酸化チタン層が前記第２の基
板にガラス接着されたものである。
作 用 本発明は、上記構成により、予めチタンカーバイドを含
むセラミックス基板を電気炉中で熱処理することにより
基板の成分中の炭化チタン(TiC)を酸化反応させ、炭酸
ガス(CO2)と二酸化チタン(TiO2)に変化させてその表面
に二酸化チタン層を形成することができる。この時生成
された二酸化チタンはガラスと融着し易い物質であるの
で、基板とのガラス接着を容易に行なうことができ、又
基板から発生する炭酸ガス(CO2)は予め熱処理温度をガ
ラス融着温度よりも高温で処理することにより十分出し
切っておくことができ、これによりガラス接着時に新た
に発生するガスを未然に防止し、密着性の良いガラス接
着を行なうことができる。
むセラミックス基板を電気炉中で熱処理することにより
基板の成分中の炭化チタン(TiC)を酸化反応させ、炭酸
ガス(CO2)と二酸化チタン(TiO2)に変化させてその表面
に二酸化チタン層を形成することができる。この時生成
された二酸化チタンはガラスと融着し易い物質であるの
で、基板とのガラス接着を容易に行なうことができ、又
基板から発生する炭酸ガス(CO2)は予め熱処理温度をガ
ラス融着温度よりも高温で処理することにより十分出し
切っておくことができ、これによりガラス接着時に新た
に発生するガスを未然に防止し、密着性の良いガラス接
着を行なうことができる。
実施例 以下、本発明の一実施例について図面を用いて説明す
る。第１図は記録媒体（図示せず）と接触するヘッド先
端部１とフェライト基板２よりなる第２の基板３の製造
工程説明用の概略図である。ヘッド先端部１はアルミ
ナ、チタンカーバイドを含むセラミックス基板４が空気
中又は酸化性雰囲気中において９００℃で３０分間、熱
処理され、基板４の表面に変質により薄い二酸化チタン
層５が形成されている。この二酸化チタン層５の表面に
はガラス６が塗布法又はスパッタリング法により形成さ
れている。一方、フェライト基板２はその表面にガラス
７が塗布法又はスパッタリング法により形成されてい
る。これらガラス６，７の接着面は滑らかに仕上げ研摩
され、この接着面が付き合わされ、ガラス融着温度の７
５０℃で接着されている。
る。第１図は記録媒体（図示せず）と接触するヘッド先
端部１とフェライト基板２よりなる第２の基板３の製造
工程説明用の概略図である。ヘッド先端部１はアルミ
ナ、チタンカーバイドを含むセラミックス基板４が空気
中又は酸化性雰囲気中において９００℃で３０分間、熱
処理され、基板４の表面に変質により薄い二酸化チタン
層５が形成されている。この二酸化チタン層５の表面に
はガラス６が塗布法又はスパッタリング法により形成さ
れている。一方、フェライト基板２はその表面にガラス
７が塗布法又はスパッタリング法により形成されてい
る。これらガラス６，７の接着面は滑らかに仕上げ研摩
され、この接着面が付き合わされ、ガラス融着温度の７
５０℃で接着されている。
このようにガラス接着されたアルミナ、チタンカーバイ
ドを含むセラミックス基板４よりなるヘッド先端部１
と、フェライト基板２よりなる第２の基板３はエポキシ
ン樹脂等の有機物の接着に比べて接着力が強く、耐環境
試験によっても接着部に段差を生じることなく強固に接
着された複合基板となった。
ドを含むセラミックス基板４よりなるヘッド先端部１
と、フェライト基板２よりなる第２の基板３はエポキシ
ン樹脂等の有機物の接着に比べて接着力が強く、耐環境
試験によっても接着部に段差を生じることなく強固に接
着された複合基板となった。
上記の如くアルミナ、チタンカーバイドを含むセラミッ
クス基板４を熱処理することにより表面層がTiCからTiO
2に変質する実験結果をＸ線回折データから示す。第２
図(a)，(b)はそれぞれアルミナ、チタンカーバイドを含
むセラミックス基板４の熱処理前、熱処理後の表面のＸ
線回折のパターンの一部である。第２図(a)では基板４
の主成分であるAl2O3のピーク（イ、ロ、ニ）とTiCのピ
ーク(ハ)のみが観測されている。第２図(b)ではAl2O3の
ピーク（イ′、ロ′、ニ′）の値は熱処理前とほとんど
変わっていない。それに対してTiCのピーク(ハ′)値は
減少し、変わりにTiO2のピーク(ホ)が現われ、明らかに
表面層がTiO2に変化していることを示している。
クス基板４を熱処理することにより表面層がTiCからTiO
2に変質する実験結果をＸ線回折データから示す。第２
図(a)，(b)はそれぞれアルミナ、チタンカーバイドを含
むセラミックス基板４の熱処理前、熱処理後の表面のＸ
線回折のパターンの一部である。第２図(a)では基板４
の主成分であるAl2O3のピーク（イ、ロ、ニ）とTiCのピ
ーク(ハ)のみが観測されている。第２図(b)ではAl2O3の
ピーク（イ′、ロ′、ニ′）の値は熱処理前とほとんど
変わっていない。それに対してTiCのピーク(ハ′)値は
減少し、変わりにTiO2のピーク(ホ)が現われ、明らかに
表面層がTiO2に変化していることを示している。
第３図は基板４の熱処理を行なったサンプルを少しずつ
研摩し、その時のＸ線回折のTiO2のピークをAl2O3のピ
ークで規格化し、深さ方向の分布を示す。この第３図か
らTiO2の変質層５は基板４の表面層のみの数μｍ以内ま
でであることが明らかである。このことは、ガラス接着
に寄与している層は数μｍ以内であり、他の部分は全く
変質してないことを意味している。即ち、アルミナ、チ
タンカーバイドを含むセラミックス基板４の本来の高硬
度、緻密性等の特性が損なわれないでガラス密着できる
ことを表わしている。
研摩し、その時のＸ線回折のTiO2のピークをAl2O3のピ
ークで規格化し、深さ方向の分布を示す。この第３図か
らTiO2の変質層５は基板４の表面層のみの数μｍ以内ま
でであることが明らかである。このことは、ガラス接着
に寄与している層は数μｍ以内であり、他の部分は全く
変質してないことを意味している。即ち、アルミナ、チ
タンカーバイドを含むセラミックス基板４の本来の高硬
度、緻密性等の特性が損なわれないでガラス密着できる
ことを表わしている。
上記のように構成した第２の基板３を非磁性基板に主磁
極膜を形成した第１の基板（図示せず）と接着すること
により磁気ヘッドを構成することができる。
極膜を形成した第１の基板（図示せず）と接着すること
により磁気ヘッドを構成することができる。
発明の効果 以上の説明より明らかなように本発明によれば、ヘッド
先端部は少なくともチタンカーバイドを含むセラミック
ス基板の少なくとも一部に変質により二酸化チタン層を
形成しているので、このヘッド先端部と基板とをガラス
接着を行うことができ、しかもガスの発生を阻止するこ
とができるので、接着強度を向上させることができる。
又ヘッド先端部を構成するセラミックス基板は表面層の
みしか変質しないので、本来の材料特性を変えないでガ
ラス接着できるので、ヘッド耐摩耗性の良好なヘッドを
得ることができるばかりでなく、ヘッド加工時に接着部
の剥がれがなく、しかも耐候性を向上させ、信頼性の高
いヘッドを得ることができる。
先端部は少なくともチタンカーバイドを含むセラミック
ス基板の少なくとも一部に変質により二酸化チタン層を
形成しているので、このヘッド先端部と基板とをガラス
接着を行うことができ、しかもガスの発生を阻止するこ
とができるので、接着強度を向上させることができる。
又ヘッド先端部を構成するセラミックス基板は表面層の
みしか変質しないので、本来の材料特性を変えないでガ
ラス接着できるので、ヘッド耐摩耗性の良好なヘッドを
得ることができるばかりでなく、ヘッド加工時に接着部
の剥がれがなく、しかも耐候性を向上させ、信頼性の高
いヘッドを得ることができる。
第１図は本発明の磁気ヘッドの一実施例の製造工程図、
第２図(a)，(b)はそれぞれヘッド先端部に用いる基板の
熱処理前と熱処理後の表面のＸ線回折図、第３図はヘッ
ド先端部に用いる基板の熱処理後の二酸化チタンの深さ
方向の分布を示す図、第４図は従来の垂直磁気ヘッドの
代表的なヘッドチップ部の斜視図である。 １……ヘッド先端部、２……フェライト基板、４……チ
タンカーバイドを含むセラミックス基板、５……二酸化
チタン層、６，７……ガラス。
第２図(a)，(b)はそれぞれヘッド先端部に用いる基板の
熱処理前と熱処理後の表面のＸ線回折図、第３図はヘッ
ド先端部に用いる基板の熱処理後の二酸化チタンの深さ
方向の分布を示す図、第４図は従来の垂直磁気ヘッドの
代表的なヘッドチップ部の斜視図である。 １……ヘッド先端部、２……フェライト基板、４……チ
タンカーバイドを含むセラミックス基板、５……二酸化
チタン層、６，７……ガラス。
Claims (1)
- 【請求項１】非磁性材から形成された第１の基板と、磁
性材から形成された第２の基板と、前記第１の基板と前
記第２の基板との間に設けられた非磁性材から形成され
たヘッド先端部と、前記第１の基板と前記ヘッド先端部
との間に設けられた主磁極膜とを有する磁気ヘッドであ
って、前記ヘッド先端部の非磁性材は、チタンカーバイ
ドを含むセラミックス材であり、前記ヘッド先端部の前
記第２の基板側の表面層に変質により二酸化チタン層が
形成され、前記ヘッド先端部の二酸化チタン層が前記第
２の基板にガラス接着されている磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8160685A JPH0622043B2 (ja) | 1985-04-17 | 1985-04-17 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8160685A JPH0622043B2 (ja) | 1985-04-17 | 1985-04-17 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61240410A JPS61240410A (ja) | 1986-10-25 |
| JPH0622043B2 true JPH0622043B2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=13750973
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8160685A Expired - Fee Related JPH0622043B2 (ja) | 1985-04-17 | 1985-04-17 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0622043B2 (ja) |
-
1985
- 1985-04-17 JP JP8160685A patent/JPH0622043B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61240410A (ja) | 1986-10-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |