JPH03250407A - 積層型磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

積層型磁気ヘッドの製造方法

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JPH03250407A
JPH03250407A JP4740590A JP4740590A JPH03250407A JP H03250407 A JPH03250407 A JP H03250407A JP 4740590 A JP4740590 A JP 4740590A JP 4740590 A JP4740590 A JP 4740590A JP H03250407 A JPH03250407 A JP H03250407A
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JP
Japan
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substrates
glass
magnetic
magnetic head
contg
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Application number
JP4740590A
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English (en)
Inventor
Masami Horiuchi
正美 堀内
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Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業ユ11旧また肚 この発明は、磁性体コアを非磁性基板で挟んだコア構造
を有する積層型磁気ヘッドの製造に関する技術である。
従来旦伎1 従来より高密度記録媒体対応ヘッドとして、パーマロイ
、センダスト等の磁性体合金を約50μm以下の薄板で
形成し、耐摩耗性の良好な非磁性基板で両側から挟持し
たいわゆるサンドイッチコア構造の積層型ヘッドが実用
化されている。
この積層型ヘッドを製造する場合問題となるのは、磁性
体と非磁性基板の接着である。有機接着剤は取り扱いが
簡単で硬化するための加熱を比較的簡単であるが実用的
な強度を得るには数10μmの接着層が必要であるし、
接着後の温度・湿度の変化に対する信頼性は乏しい。
従って、現在のところ、無機接着剤であるガラスを用い
て接着することが信頼性が高い接着として用いられてい
る。
また、ハードディスクヘッド等には耐摩耗性が要求され
磁性体を挟持する非磁性基板にAl2O2−TICセラ
ミックス等の優れた耐摩耗性をもつ複合セラミックスの
適用が望まれている。
従来、積層型磁気ヘッドの製造方法としては、第1図に
示すように非磁性基板上にスパッタリング等により、磁
性膜、拡散防止膜、および接着剤となるガラス膜を形成
させ、その基板を数枚重ね合わせガラス作業点“まで加
熱し積層体にして磁気ヘッドを製造していた。
しかしながら、複合セラミックスを非磁性基板に用いる
とき、その複合セラミックスに非酸化物が含有されてい
ると、その非酸化物は接着剤となるガラスとのぬれ性が
悪いので、その部分に気泡を生ずる場合がある。
また、Al203−TICセラミックスのように含有さ
れている非酸化物が炭化物の場合、炭化物とガラスとの
反応が生じ、その結果気泡を生じるほか、ガラスは本来
の性質を失ってしまう。複合セラミックスを非磁性基板
に用いる場合は、基板とガラスとの間に単に拡散防止を
図るだけでな(炭化物の反応を阻止するため、数μmの
酸化物膜あるいはCr、 Pt等の金属膜を挟んでやる
必要があった。
−、の 本発明は、上記の気泡発生の問題を解消するために、磁
性膜を形成する前の非磁性基板を予め酸化雰囲気中で熱
処理した後、磁性膜を形成する技術手段を採用するもの
である。
1且 本発明は、非磁性基板を予め酸化雰囲気中で熱処理する
上記の手段によって、非磁性基板中の表面の非酸化物が
酸化されて、非酸化物と接着剤であるガラスのぬれ性の
悪さが解消される。また炭化物も表面のみ酸化されガラ
スとの反応を防止することができ、非磁性基板とガラス
の間に酸化物膜あるいはOr、 Ptなどの金属膜を挟
まなくても、無気泡かつ高接合強度のコア積層体を得る
ことができる。
爽五医 本発明の実施例として非磁性基板にAl203−Tic
セラミックスを用いたコア積層体とする磁気ヘッドの場
合について説明する。
Aj20z−TICセラミックス基板は、Al203(
〜7゜wt%)にTIG(〜30wt%)を分散させた
場合(分散強化型)セラミックスである。
そのためにAl203とTICのガラスに対するぬれ性
の差、またはTICは炭化物であるが故にガラスと反応
し気泡等を生じる性質をもつ。
従って、Al203−Ticセラミックス基板を非磁性
基板に用いて積層型ヘッドを製造するには、ガラスと基
板との間にガラスとぬれ性のよい酸化物等の膜を挟んで
やる必要があった。
A1□03−TIGセラミックス等の性質を調べるうち
に、大気中で基板を700°C以上まで加熱すると、表
面のTLCのみ酸化されてTiO□になることが判明し
た。各温度でのA1゜03(113)、 Tic(20
0)およびTi09(110)のX線回折強度を曲線I
、IIおよび■とした特性曲線図を第1図に示す。
このことを利用して磁性膜を形成させる前のA/20G
−Ticセラミックス基板を予め大気中で700°C以
上で熱処理する。その後洗浄工程を経てスパッタリング
等で磁性膜、拡散防止膜、ガラス膜を形成し、その基板
を数枚重ね合わせガラス作業点まで加熱し積層体とし積
層型磁気ヘッドを製造する。
予め大気中で700°C以上に加熱しであることにより
、Al203−TiGセラミックス基板表面のTjCは
TjO□に酸化され、ガラスとTICの反応を抑制する
ことができ、気泡の発生の防止で無気泡、高強度の積層
型ヘッドが歩留りよく製造することができる。
なお、加熱温度の上限は、必ずしも明確に規定はできな
いが、セラミックス基板本来の性質を損なわない(セラ
ミックス基板の表面のみの酸化でおさえる)という理由
でl000℃程度までが適用である。
上述した実施例では、大気中で熱処理を行ったが、本発
明はこの実施例に限定されるものではなく、セラミック
ス基板表面が酸化される酸素含有雰囲気であればよい。
生肌二対果 以上の説明から明らかなように、本発明によれば非磁性
基板に非酸化物を含有する複合セラミックスを用いた場
合、予め非磁性基板を熱処理することにより、基板とガ
ラスの反応を抑えることができ、酸化物膜、金属膜を挟
むことなしでコア構造は簡単化し、しかも接合強度が大
かつ信頼性大となる積層型磁気ヘッドを製造することが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を説明するためのAr203
−Ticセラミックス基板の各温度におけるA!。03
. Tic、 TiO3のX線回折強度特性曲線図、第
2図は積層型磁気ヘッドの製造工程図である。 1・・・・・・非磁性基板、 4・・・・・・ガラス膜、 ■・・・・・・A!20G(113)のX線回折強度、
■・・・・・・TiC(200)のX線回折強度、■・
・・・・・TiC2(110)のX線回折強度。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 磁性体コアの両側を非磁性基板で挟んだコア構造を有す
    る積層型磁気ヘッドの製造において、上記非磁性基板を
    非酸化物を含有する複合セラミックス材料とするととも
    に、大気中もしくは酸素含有雰囲気中で、700〜10
    00℃で予め熱処理することを特徴とする磁気ヘッドの
    製造方法。
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