JPH06239923A - ラジカルによるカルボニル含有化合物 - Google Patents
ラジカルによるカルボニル含有化合物Info
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- JPH06239923A JPH06239923A JP5271656A JP27165693A JPH06239923A JP H06239923 A JPH06239923 A JP H06239923A JP 5271656 A JP5271656 A JP 5271656A JP 27165693 A JP27165693 A JP 27165693A JP H06239923 A JPH06239923 A JP H06239923A
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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- C07C51/367—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups by introduction of functional groups containing oxygen only in singly bound form
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- C07C67/343—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 新規なカルボニル構造体を提供する。
【構成】 ラジカル開始剤の存在下に、飽和炭化水素、
置換飽和炭化水素、ポリマー及びこれらの混合物からな
る群から選ばれる第１の化合物と次式で示される構造を
有するカルボニル含有化合物又はそれらの混合物とを接
触させることにより調製されるカルボニル含有構造体： 【化１】 ここに、Ｘ及びＹは独立にＯＨ、ＯＲ1 、ＮＲ1 Ｒ2 及
びＲ1 から選ばれ、ここにＲ1 及びＲ2 は炭素原子数１
〜１８のアリール基又はアルキル基である。
置換飽和炭化水素、ポリマー及びこれらの混合物からな
る群から選ばれる第１の化合物と次式で示される構造を
有するカルボニル含有化合物又はそれらの混合物とを接
触させることにより調製されるカルボニル含有構造体： 【化１】 ここに、Ｘ及びＹは独立にＯＨ、ＯＲ1 、ＮＲ1 Ｒ2 及
びＲ1 から選ばれ、ここにＲ1 及びＲ2 は炭素原子数１
〜１８のアリール基又はアルキル基である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な飽和炭化水素、
特にポリマー状炭化水素を含むカルボニル含有化合物に
関する。
特にポリマー状炭化水素を含むカルボニル含有化合物に
関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】米国特
許Ｎo.５，０５７，５６４には、新規な環状カルボニル
含有化合物が開示されている。これらの化合物はエン反
応性カルボニル基を有するカルボニル化合物と不飽和ポ
リマーの混合物を加熱することにより製造される。この
方法と生成物は非常に有用であるが、それでも飽和炭化
水素、特に飽和ポリマーのカルボニル変性化合物を形成
することができるのは望ましいであろう。
許Ｎo.５，０５７，５６４には、新規な環状カルボニル
含有化合物が開示されている。これらの化合物はエン反
応性カルボニル基を有するカルボニル化合物と不飽和ポ
リマーの混合物を加熱することにより製造される。この
方法と生成物は非常に有用であるが、それでも飽和炭化
水素、特に飽和ポリマーのカルボニル変性化合物を形成
することができるのは望ましいであろう。
【０００３】
【課題を解決するための手段】従って、ラジカル開始剤
の存在下に、飽和炭化水素、置換飽和炭化水素、ポリマ
ー及びこれらの混合物から選ばれる化合物と次式で示さ
れる構造を有するカルボニル含有化合物又はそれらの混
合物とを接触させることにより、新規なカルボニル含有
構造体が調製される：
の存在下に、飽和炭化水素、置換飽和炭化水素、ポリマ
ー及びこれらの混合物から選ばれる化合物と次式で示さ
れる構造を有するカルボニル含有化合物又はそれらの混
合物とを接触させることにより、新規なカルボニル含有
構造体が調製される：
【化３】 ここに、Ｘ及びＹは独立にＯＨ、ＯＲ1 、ＮＲ1 Ｒ2 及
びＲ1 から選ばれ、ここにＲ1 及びＲ2 は独立に炭素原
子数１〜１８のアリール基又はアルキル基からなる群か
ら選ばれる。
びＲ1 から選ばれ、ここにＲ1 及びＲ2 は独立に炭素原
子数１〜１８のアリール基又はアルキル基からなる群か
ら選ばれる。
【０００４】一般に、前記接触は、新規な構造体を生成
するに充分な温度及び時間行われる。好ましくは、この
接触はラジカル開始剤のほぼ分解温度で行われる。
するに充分な温度及び時間行われる。好ましくは、この
接触はラジカル開始剤のほぼ分解温度で行われる。
【０００５】本発明の構造体は、特に溶液ビスコシフィ
ケイション(viscosification) 剤として有用である。
ケイション(viscosification) 剤として有用である。
【０００６】本発明によれば、ラジカル開始剤の存在下
に、飽和炭化水素、置換飽和炭化水素、ポリマー、又は
それらの混合物と次式で示される構造を有するカルボニ
ル含有化合物又はそれらの混合物とを接触させることに
より、新規なカルボニル含有構造体が調製される：
に、飽和炭化水素、置換飽和炭化水素、ポリマー、又は
それらの混合物と次式で示される構造を有するカルボニ
ル含有化合物又はそれらの混合物とを接触させることに
より、新規なカルボニル含有構造体が調製される：
【化４】 ここに、Ｘ及びＹは独立にＯＨ、ＯＲ1 、ＮＲ1 Ｒ2 及
びＲ1 から選ばれ、ここにＲ1 及びＲ2 は炭素原子数１
〜１８のアリール基又はアルキル基である。
びＲ1 から選ばれ、ここにＲ1 及びＲ2 は炭素原子数１
〜１８のアリール基又はアルキル基である。
【０００７】カルボニルモノマーのラジカル開始反応
は、広範な炭化水素に適用可能である。前記炭化水素
は、ノルマルアルカン、例えば、デカン、ヘキサデカ
ン、オクタデカン、トリコサン、炭素原子数１０〜約５
０のパラフィン；分岐アルカン、例えば、ジメチルヘキ
サン、トリメチルデカン、テトラメチルデカン（プリス
タン）；ホワイトオイル、ヌジョール、エチレン、プロ
ピレン、ブチレン及び炭素原子数１０〜約５００の高分
子量オレフィンオリゴマーの水素化したオリゴマー又は
共オリゴマー；ＯＨ、Ｏ（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）x Ｈ（ここ
にｘ＝１〜１０）、Ｃｌ、ＣＮ、ＣＯＯＨ、ＣＯＯアル
キル、Ｃ（＝Ｏ）アルキル（ここに、アルキルは炭素原
子数１〜１８である）、アリール及びエチレン基の少な
くとも１つを含むノルマル及び分岐アルカンからなる置
換炭化水素である。有用な置換炭化水素の例は、デカノ
ール、オクタデカノール、エトキシル化オクタデカノー
ル、ステアリン酸、ステアリン酸エチル、メチルデシル
ケトン、テトラプロピルベンゼン、オクタデカン、テト
ラプロピレン、テトライソブチレン、鉱物油及び合成潤
滑油からなる。
は、広範な炭化水素に適用可能である。前記炭化水素
は、ノルマルアルカン、例えば、デカン、ヘキサデカ
ン、オクタデカン、トリコサン、炭素原子数１０〜約５
０のパラフィン；分岐アルカン、例えば、ジメチルヘキ
サン、トリメチルデカン、テトラメチルデカン（プリス
タン）；ホワイトオイル、ヌジョール、エチレン、プロ
ピレン、ブチレン及び炭素原子数１０〜約５００の高分
子量オレフィンオリゴマーの水素化したオリゴマー又は
共オリゴマー；ＯＨ、Ｏ（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）x Ｈ（ここ
にｘ＝１〜１０）、Ｃｌ、ＣＮ、ＣＯＯＨ、ＣＯＯアル
キル、Ｃ（＝Ｏ）アルキル（ここに、アルキルは炭素原
子数１〜１８である）、アリール及びエチレン基の少な
くとも１つを含むノルマル及び分岐アルカンからなる置
換炭化水素である。有用な置換炭化水素の例は、デカノ
ール、オクタデカノール、エトキシル化オクタデカノー
ル、ステアリン酸、ステアリン酸エチル、メチルデシル
ケトン、テトラプロピルベンゼン、オクタデカン、テト
ラプロピレン、テトライソブチレン、鉱物油及び合成潤
滑油からなる。
【０００８】有用なポリマーは、次のモノマーの１又は
それ以上から誘導されたポリマーを含むが、これらに限
定されない：エチレン、プロピレン、ブテン、高級アル
ファーオレフィン、スチレン、アリルエステル、ビニル
エステル、及びハロゲン化物、例えば、酢酸ビニル及び
塩化ビニル；アクリル酸、アクリロニトリル等。ポリマ
ーは直鎖状又は分岐状でありえ、高分子量又は低分子量
（Ｍｎ＝５００〜１０００万）でありうる。高密度及び
低密度ポリエチレンのようなエチレンのホモポリマー、
アタクチック又は結晶性ポリプロピレン、ポリブテン、
ポリイソブチレン、高級アルファオレフィンのホモポリ
マー又はコポリマー、エチレンとプロピレンのコポリマ
ー、ＥＰＲ、非共役ジエンを含むＥＰＲ（ＥＰＤＭ）、
エチレンとブテン又は高級アルファオレフィンとのコポ
リマー、プロピレンとブテン類及び高級アルファオレフ
ィンとのコポリマー。ジエン、例えばブタジエン及びイ
ソプレンをコポリマーの形成に用いたときは、得られる
ポリマーは、好ましくは水素化され、実質的に全てのエ
チレン性不飽和は飽和される。有用なポリマーとして
は、水素化スチレンブタジエンブロック及びスターポリ
マー並びに水素化スチレンイソプレンブロック及びスタ
ーポリマーである。
それ以上から誘導されたポリマーを含むが、これらに限
定されない：エチレン、プロピレン、ブテン、高級アル
ファーオレフィン、スチレン、アリルエステル、ビニル
エステル、及びハロゲン化物、例えば、酢酸ビニル及び
塩化ビニル；アクリル酸、アクリロニトリル等。ポリマ
ーは直鎖状又は分岐状でありえ、高分子量又は低分子量
（Ｍｎ＝５００〜１０００万）でありうる。高密度及び
低密度ポリエチレンのようなエチレンのホモポリマー、
アタクチック又は結晶性ポリプロピレン、ポリブテン、
ポリイソブチレン、高級アルファオレフィンのホモポリ
マー又はコポリマー、エチレンとプロピレンのコポリマ
ー、ＥＰＲ、非共役ジエンを含むＥＰＲ（ＥＰＤＭ）、
エチレンとブテン又は高級アルファオレフィンとのコポ
リマー、プロピレンとブテン類及び高級アルファオレフ
ィンとのコポリマー。ジエン、例えばブタジエン及びイ
ソプレンをコポリマーの形成に用いたときは、得られる
ポリマーは、好ましくは水素化され、実質的に全てのエ
チレン性不飽和は飽和される。有用なポリマーとして
は、水素化スチレンブタジエンブロック及びスターポリ
マー並びに水素化スチレンイソプレンブロック及びスタ
ーポリマーである。
【０００９】典型的なカルボニル化合物はケトマロン
酸、並びにアルキルエステル及びアリールエステルを含
むケトマロン酸のエステルである。他の有用なケト酸
は、アルファ−ケトコハク酸、ジケトコハク酸、並びに
いずれかのアルファケトヒドロカルボイック酸(alpha k
etohydrocarboic acid) 、及びいずれかのアルファ−、
ベータ−ジケトヒドロカルボイック酸、並びにそれらの
エステル及びアミン誘導体を含む。有用なケトンモノマ
ーは、ジメチル−、ジフェニル−、及びジトリル−トリ
−ケトン、並びにテトラ−ケトンである。
酸、並びにアルキルエステル及びアリールエステルを含
むケトマロン酸のエステルである。他の有用なケト酸
は、アルファ−ケトコハク酸、ジケトコハク酸、並びに
いずれかのアルファケトヒドロカルボイック酸(alpha k
etohydrocarboic acid) 、及びいずれかのアルファ−、
ベータ−ジケトヒドロカルボイック酸、並びにそれらの
エステル及びアミン誘導体を含む。有用なケトンモノマ
ーは、ジメチル−、ジフェニル−、及びジトリル−トリ
−ケトン、並びにテトラ−ケトンである。
【００１０】本発明の化合物を形成するに用いられる有
用なラジカル開始剤は、ジアルキルパーオキサイド、例
えばジ−ターシャリー−ブチルパーオキサイド、２，５
−ジメチル−２，５−ジ−ターシャリーブチル−パーオ
キシヘキサン、ジ−クミルパーオキサイド；アルキルパ
ーオキサイド、例えばターシャリー−ブチルハイドロパ
ーオキサイド、ターシャリー−オクチルハイドロパーオ
キサイド、クメンハイドロパーオキサイド；アロイルパ
ーオキサイド、例えばベンゾイルパーオキサイド；パー
オキシエステル、例えばターシャリーブチル−パーオキ
シ−ピバレート、ターシャリーブチル−パーベンゾエー
ト；及びアゾ化合物、例えばアゾビスイソブチロニトリ
ルを含む。
用なラジカル開始剤は、ジアルキルパーオキサイド、例
えばジ−ターシャリー−ブチルパーオキサイド、２，５
−ジメチル−２，５−ジ−ターシャリーブチル−パーオ
キシヘキサン、ジ−クミルパーオキサイド；アルキルパ
ーオキサイド、例えばターシャリー−ブチルハイドロパ
ーオキサイド、ターシャリー−オクチルハイドロパーオ
キサイド、クメンハイドロパーオキサイド；アロイルパ
ーオキサイド、例えばベンゾイルパーオキサイド；パー
オキシエステル、例えばターシャリーブチル−パーオキ
シ−ピバレート、ターシャリーブチル−パーベンゾエー
ト；及びアゾ化合物、例えばアゾビスイソブチロニトリ
ルを含む。
【００１１】溶液中でラジカルグラフトするときは、ポ
リマーを、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、又は鉱
油に溶解し、用いられるラジカル開始剤の性質に依存し
て約９０℃〜約２００℃の範囲の温度に加熱する。開始
剤は、一括して又は適当な時間間隔、通常５〜６０分に
わたって滴々加えうる。他の選択肢は、適当な溶媒中の
モノマー及び過酸化物の混合物を、炭化水素又はポリマ
ー溶液に、ラジカル開始剤の半減期に調和した添加速度
及び温度にて加えることである。カルボニルモノマーの
炭化水素又はポリマーへの付加が完了したことを赤外及
び／又はＮＭＲ分析が示す迄、反応混合物を攪拌しつつ
混合する。温度及び濃度にもよるが、高水準のモノマー
の使用を達成するには、通常反応時間約０．１〜約１２
時間で充分である。必要であれば、蒸発法を用いる溶媒
除去により、又はポリマーの場合には、ラジカルで官能
化したポリマーを沈殿する傾向のあるメタノール又はア
セトンのような極性溶媒に、反応混合物を加えることに
より、ラジカル付加物を単離しうる。
リマーを、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、又は鉱
油に溶解し、用いられるラジカル開始剤の性質に依存し
て約９０℃〜約２００℃の範囲の温度に加熱する。開始
剤は、一括して又は適当な時間間隔、通常５〜６０分に
わたって滴々加えうる。他の選択肢は、適当な溶媒中の
モノマー及び過酸化物の混合物を、炭化水素又はポリマ
ー溶液に、ラジカル開始剤の半減期に調和した添加速度
及び温度にて加えることである。カルボニルモノマーの
炭化水素又はポリマーへの付加が完了したことを赤外及
び／又はＮＭＲ分析が示す迄、反応混合物を攪拌しつつ
混合する。温度及び濃度にもよるが、高水準のモノマー
の使用を達成するには、通常反応時間約０．１〜約１２
時間で充分である。必要であれば、蒸発法を用いる溶媒
除去により、又はポリマーの場合には、ラジカルで官能
化したポリマーを沈殿する傾向のあるメタノール又はア
セトンのような極性溶媒に、反応混合物を加えることに
より、ラジカル付加物を単離しうる。
【００１２】ポリマーのラジカルグラフトは、溶媒無し
で、溶融物中で、又はポリマー加工装置、例えばゴム用
ロール機、押出機、バンバリーミキサー、ブラベンダー
ミキサー、等の中でも行いうる。ラジカルグラフトをバ
ルク中で行うときは、一般には、反応温度は約９０℃〜
約２２０℃であり、反応時間は約０．０５〜約１時間で
ある。
で、溶融物中で、又はポリマー加工装置、例えばゴム用
ロール機、押出機、バンバリーミキサー、ブラベンダー
ミキサー、等の中でも行いうる。ラジカルグラフトをバ
ルク中で行うときは、一般には、反応温度は約９０℃〜
約２２０℃であり、反応時間は約０．０５〜約１時間で
ある。
【００１３】一般に、用いられるカルボニル化合物の量
は、得られる生成物中に望まれる官能基の量により指示
される。０．１ｗｔ％〜約２０ｗｔ％のカルボニルモノ
マーの範囲の炭化水素及びポリマー上へのラジカルグラ
フト量は容易に達成しうる。望むならば、追加のモノマ
ー及びラジカル開始剤を用いることにより、より多量の
官能基付与を実現できる。
は、得られる生成物中に望まれる官能基の量により指示
される。０．１ｗｔ％〜約２０ｗｔ％のカルボニルモノ
マーの範囲の炭化水素及びポリマー上へのラジカルグラ
フト量は容易に達成しうる。望むならば、追加のモノマ
ー及びラジカル開始剤を用いることにより、より多量の
官能基付与を実現できる。
【００１４】典型的な反応は次式で示される：
【化５】 ここに、Ｘ及びＹは先に述べたのと同じ意味であり、Ｒ
Ｈは適当な飽和炭化水素を表し、Ｉはラジカル開始剤を
表す。
Ｈは適当な飽和炭化水素を表し、Ｉはラジカル開始剤を
表す。
【００１５】用いられるラジカル開始剤の量は一般にカ
ルボニル化合物の重量を基準にして１〜１００ｗｔ％で
あり、しばしば、ラジカル開始剤の性質、及びグラフト
される炭化水素又はポリマー基体に依存する。ある種の
ポリマーは架橋及び／又は鎖切断し易いので薬剤濃度、
時間、温度、及びプロセス条件に関する注意深い裁量が
必要である。これらパラメーターは、全てグラフト過程
における従属変数だからである。通常、約９０℃〜約１
８０℃の範囲のグラフト温度で、酸素の無い反応器中で
約１０ｗｔ％〜約５０ｗｔ％の量のラジカル開始剤を用
いるグラフト過程は、相当量の付加カルボニルモノマー
の付いた官能性ポリマーを生ずる。
ルボニル化合物の重量を基準にして１〜１００ｗｔ％で
あり、しばしば、ラジカル開始剤の性質、及びグラフト
される炭化水素又はポリマー基体に依存する。ある種の
ポリマーは架橋及び／又は鎖切断し易いので薬剤濃度、
時間、温度、及びプロセス条件に関する注意深い裁量が
必要である。これらパラメーターは、全てグラフト過程
における従属変数だからである。通常、約９０℃〜約１
８０℃の範囲のグラフト温度で、酸素の無い反応器中で
約１０ｗｔ％〜約５０ｗｔ％の量のラジカル開始剤を用
いるグラフト過程は、相当量の付加カルボニルモノマー
の付いた官能性ポリマーを生ずる。
【００１６】
（例１）還流コンデンサー、温度計、及び添加ロートを
備え、窒素でシールした反応器中に、１０モル（２６．
８ｇ）の２，６，１０，１４−テトラメチルペンタデカ
ン（プリスタン）、及び０．０１モル（１．７４ｇ）の
ジエチルケトマロネートを入れ、攪拌した。攪拌されて
いる混合物を約１５０℃に加熱し、数滴の開始剤、ｔ−
ブチルパーオキサイドで処理した。数分以内に反応温度
は自発的に１５５℃〜１６０℃に上昇した。前記パーオ
キサイドを、１分間に１滴の割合で再び滴々添加した。
前記パーオキサイドの添加（１mL添加）が終わったと
き、反応温度は１７５℃に上がり、１７５℃に２時間維
持した。反応混合物を真空蒸留すると残渣が得られ、こ
れは赤外スペクトルにおいて５．８５μm の所に強いエ
ステルカルボニル吸収帯を示し、分子イオン（ｍ／ｅ＝
４３２）を有する幾つかの異性体に一致するＧＣ−質量
スペクトルを示し、これはカルボニル変性プリスタンを
示すものである。
備え、窒素でシールした反応器中に、１０モル（２６．
８ｇ）の２，６，１０，１４−テトラメチルペンタデカ
ン（プリスタン）、及び０．０１モル（１．７４ｇ）の
ジエチルケトマロネートを入れ、攪拌した。攪拌されて
いる混合物を約１５０℃に加熱し、数滴の開始剤、ｔ−
ブチルパーオキサイドで処理した。数分以内に反応温度
は自発的に１５５℃〜１６０℃に上昇した。前記パーオ
キサイドを、１分間に１滴の割合で再び滴々添加した。
前記パーオキサイドの添加（１mL添加）が終わったと
き、反応温度は１７５℃に上がり、１７５℃に２時間維
持した。反応混合物を真空蒸留すると残渣が得られ、こ
れは赤外スペクトルにおいて５．８５μm の所に強いエ
ステルカルボニル吸収帯を示し、分子イオン（ｍ／ｅ＝
４３２）を有する幾つかの異性体に一致するＧＣ−質量
スペクトルを示し、これはカルボニル変性プリスタンを
示すものである。
【００１７】（例２）１０ｇのメチルノナノエート及び
１ｇのジエチルケトマロネートを窒素でシールした反応
器に入れ、約１７０℃に加熱した。１mLのｔ−ブチルパ
ーオキサイドを一括して入れ、反応混合物を１８０℃で
約２．５時間攪拌した。反応混合物を蒸発すると残渣が
得られ、これは赤外スペクトルにおいて５．８μm の所
に特徴のあるエステルカルボニル吸収帯を示し、ジエチ
ルケトマロネート及びメチルノナノエートの異性体ラジ
カル付加物に帰せられるピークを有するＧＣ−質量スペ
クトルを示した。
１ｇのジエチルケトマロネートを窒素でシールした反応
器に入れ、約１７０℃に加熱した。１mLのｔ−ブチルパ
ーオキサイドを一括して入れ、反応混合物を１８０℃で
約２．５時間攪拌した。反応混合物を蒸発すると残渣が
得られ、これは赤外スペクトルにおいて５．８μm の所
に特徴のあるエステルカルボニル吸収帯を示し、ジエチ
ルケトマロネート及びメチルノナノエートの異性体ラジ
カル付加物に帰せられるピークを有するＧＣ−質量スペ
クトルを示した。
【００１８】（例３）１０ｇのポリイソブチレン（Ｍｎ
＝９５０）及び１．５mLのジエチルケトマロネートを窒
素でシールした反応器に入れ、１６０℃に加熱した。１
mLのｔ−ブチルパーオキサイドを攪拌された溶液に一括
して入れ、これを１６０℃に約８時間加熱した。反応混
合物を回転蒸発すると残渣が得られ、これは赤外スペク
トルにおいて約５．８μm の所に強いエステルカルボニ
ル吸収帯を示した。元素分析すると官能化されたポリマ
ーは１．９２％の酸素を含んでいた。
＝９５０）及び１．５mLのジエチルケトマロネートを窒
素でシールした反応器に入れ、１６０℃に加熱した。１
mLのｔ−ブチルパーオキサイドを攪拌された溶液に一括
して入れ、これを１６０℃に約８時間加熱した。反応混
合物を回転蒸発すると残渣が得られ、これは赤外スペク
トルにおいて約５．８μm の所に強いエステルカルボニ
ル吸収帯を示した。元素分析すると官能化されたポリマ
ーは１．９２％の酸素を含んでいた。
【００１９】（例４）１０ｇのエチレン−プロピレンコ
ポリマー（５５ｗｔ％のプロピレンを含み、Ｍｎ＝５
４，０００を有する）、１ｇのジエチルケトマロネート
及び９０ｇの１，２−ジクロロベンゼンを窒素でシール
した反応器に入れ約１５０℃に加熱した。１mLのラジカ
ル開始剤、ｔ−ブチルパーオキサイドを半時間かけて滴
々添加し、この溶液を１６０℃で約８時間攪拌した。更
に１mLのｔ−ブチルパーオキサイドを添加し、この混合
物を１６０℃で約１２時間攪拌した。この溶液を１Ｌの
アセトンに加えて官能化ポリマーを沈殿させ、次いでこ
れをシクロヘキサンに溶解し、大量のアセトン中で再び
沈殿させた。乾燥したポリマーは、赤外スペクトルにお
いて５．８５μm の所に顕著なエステルカルボニル吸収
帯を示し、分析すると３．７６％の酸素を含んでいた。
ポリマー（５５ｗｔ％のプロピレンを含み、Ｍｎ＝５
４，０００を有する）、１ｇのジエチルケトマロネート
及び９０ｇの１，２−ジクロロベンゼンを窒素でシール
した反応器に入れ約１５０℃に加熱した。１mLのラジカ
ル開始剤、ｔ−ブチルパーオキサイドを半時間かけて滴
々添加し、この溶液を１６０℃で約８時間攪拌した。更
に１mLのｔ−ブチルパーオキサイドを添加し、この混合
物を１６０℃で約１２時間攪拌した。この溶液を１Ｌの
アセトンに加えて官能化ポリマーを沈殿させ、次いでこ
れをシクロヘキサンに溶解し、大量のアセトン中で再び
沈殿させた。乾燥したポリマーは、赤外スペクトルにお
いて５．８５μm の所に顕著なエステルカルボニル吸収
帯を示し、分析すると３．７６％の酸素を含んでいた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジャクリーン オグレトリー アメリカ合衆国，ニュージャージー 08889，ホワイトハウス ステーション, フロックス コート 52
Claims (2)
- 【請求項１】 ラジカル開始剤の存在下に、飽和炭化水
素、置換飽和炭化水素、ポリマー及びこれらの混合物か
らなる群から選ばれる第１の化合物と次式で示される構
造を有するカルボニル含有化合物とを接触させることに
より形成されるカルボニル含有構造体： 【化１】 ここに、Ｘ及びＹは独立にＯＨ、ＯＲ1 、ＮＲ1 Ｒ2 及
びＲ1 から選ばれ、ここにＲ1 及びＲ2 は炭素原子数１
〜１８のアリール基又はアルキル基である。 - 【請求項２】 次の（ａ）及び（ｂ）からなる化合物： （ａ）飽和炭化水素基、置換飽和炭化水素基、ポリマー
基及びこれらの混合物から選ばれる炭化水素基、及び
（ｂ）次式で示されるカルボニル基： 【化２】 ここに、Ｘ及びＹは独立にＯＨ、ＯＲ1 、ＮＲ1 Ｒ2 及
びＲ1 から選ばれ、ここにＲ1 及びＲ2 は炭素原子数１
〜１８のアリール基又はアルキル基である。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/972,271 US5274051A (en) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | Carbonyl containing compounds via radical grafting |
| US972271 | 1992-11-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06239923A true JPH06239923A (ja) | 1994-08-30 |
Family
ID=25519440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5271656A Pending JPH06239923A (ja) | 1992-11-05 | 1993-10-29 | ラジカルによるカルボニル含有化合物 |
Country Status (7)
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|---|---|
| US (1) | US5274051A (ja) |
| EP (1) | EP0596672B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06239923A (ja) |
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| CA (1) | CA2102471A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| US6206764B1 (en) * | 1997-04-17 | 2001-03-27 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce | Methods for machining hard materials using alcohols |
| US6117941A (en) * | 1997-06-05 | 2000-09-12 | The Lubrizol Corporation | Intermediates useful for preparing dispersant-viscosity improvers for lubricating oils |
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| US4424317A (en) * | 1982-12-06 | 1984-01-03 | Standard Oil Company (Indiana) | Mannich condensation product of ethylene/propylene/carbonyl polymers |
| NL8301035A (nl) * | 1983-03-23 | 1984-10-16 | Organon Teknika Bv | Macromoleculair materiaal met carbonylgroepen geschikt als sorbent voor stikstofverbindingen. |
| US4566984A (en) * | 1984-11-16 | 1986-01-28 | The Procter & Gamble Company | Ether polycarboxylates |
| IT1223051B (it) * | 1987-11-04 | 1990-09-12 | Vedril Spa | Polimeri acrilici immidizzati e procedimento per la loro preparazione |
| US5017649A (en) * | 1988-01-19 | 1991-05-21 | Eastman Kodak Company | Low temperature Michael addition reactions |
| US5057564A (en) * | 1990-07-23 | 1991-10-15 | Exxon Research And Engineering Company | Cyclic carbonyl containing polymers |
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- 1992-11-05 US US07/972,271 patent/US5274051A/en not_active Expired - Fee Related
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1993
- 1993-10-29 DE DE69318799T patent/DE69318799T2/de not_active Expired - Fee Related
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- 1993-10-29 JP JP5271656A patent/JPH06239923A/ja active Pending
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- 1993-11-04 CA CA002102471A patent/CA2102471A1/en not_active Abandoned
Also Published As
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| BR9304462A (pt) | 1994-07-05 |
| DE69318799T2 (de) | 1998-11-12 |
| EP0596672A3 (en) | 1994-11-23 |
| KR100249987B1 (ko) | 2000-03-15 |
| KR940011510A (ko) | 1994-06-21 |
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| CA2102471A1 (en) | 1994-05-06 |
| DE69318799D1 (de) | 1998-07-02 |
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