JPH06252556A - 多層セラミック基板 - Google Patents

多層セラミック基板

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Publication number
JPH06252556A
JPH06252556A JP3543793A JP3543793A JPH06252556A JP H06252556 A JPH06252556 A JP H06252556A JP 3543793 A JP3543793 A JP 3543793A JP 3543793 A JP3543793 A JP 3543793A JP H06252556 A JPH06252556 A JP H06252556A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit pattern
ceramic substrate
green sheets
multilayer ceramic
per unit
Prior art date
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Pending
Application number
JP3543793A
Other languages
English (en)
Inventor
Jiyun Mitani
潤 見谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 積層する複数枚のグリーンシートの各々にお
ける単位面積当りのパターン占有率及び全グリーンシー
トの単位面積当りのパターン占有率を一定にし、焼成時
の収縮による多層セラミック基板の縦または横方向の歪
み及び厚さ方向の反りを防止する。 【構成】 所望の回路パターンとは独立した回路パター
ンを設けることにより、あるいは所望の回路パターンを
故意に太く或は細くすることにより、積層する各グリー
ンシート上の単位面積当りのパターン占有率を一定にし
た多層セラミック基板。また所望の回路パターンとは独
立した回路パターンを設けることにより、あるいは所望
の回路パターンを故意に太く或は細くすることにより、
積層する全グリーンシートの単位面積当りのパターン占
有率を等しくした多層セラミック基板。 【効果】 焼成時の収縮によるグリーンシートの各々の
縦又は横方向の歪み及び多層セラミック基板の厚さ方向
の反りを防止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、電子部品を実装して
電子回路を構成するための基板として使用される多層セ
ラミック基板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】多層セラミック基板は、数十層もの高多
層化が可能、熱伝導性が高い、熱膨張系数が小さいため
シリコンチップの直接実装に有利、などの理由でコンピ
ュータの実装基板やハイブリッドICの基板として多く
使用されている。セラミック基板の多層化の方法には、
グリーンシート上に導体ペーストとアルミナを交互に印
刷し、焼成するグリーンシート印刷法と、回路パターン
を印刷したグリーンシートを積み重ね熱圧着した後焼成
するグリーンシート積層法とがある。前記グリーンシー
ト印刷法では、回路パターンの厚みによる段差が上層に
なるほど大きくなってくるため、実用層数の限界が低
い。この問題を解決した多層化方法が、前記グリーンシ
ート積層法である。グリーンシート積層法は、絶縁層を
厚くできるので耐圧が高く、寄生容量が小さい。また、
回路パターンの厚みによる段差が少なく理論的には層数
の制限がない、工程が自動化に適しているため量産に向
いている、などの利点がある。
【0003】図5はグリーンシート積層法によって形成
された従来の多層セラミック基板の未焼成の積層構造を
示す断面図で、グリーンシート1a,1b,1c、1d
の4枚で4層構造の多層セラミック基板2を構成した例
である。グリーンシート1a〜1dにはそれぞれ回路パ
ターン3a〜3d及び4b〜4dが形成してあり、グリ
ーンシート1a〜1cの回路パターン3a〜3c及び4
b〜4cは多層セラミック基板2の内部にある内層パタ
ーンであり、グリーンシート1dにおける回路パターン
3d,4dは部品取付け用のパッドパターンを含む。ま
た、5b〜5dはグリーンシート1a〜1dの回路パタ
ーン3a〜3d、4b〜4dの間の導通が可能となるよ
う導体を埋めたバイアホールであり、バイアホール5b
〜5dにより、回路パターン3a〜3d,4b〜4dが
立体的に相互接続され、多層セラミック基板2が全体と
して1つの回路を構成するものである。
【0004】図6は図5に示したものの層構成を示す斜
視図で、グリーンシート1a〜1dは、それぞれ必要な
位置に回路パターン3a〜3d及び4b〜4dとバイア
ホール5b〜5dを形成し、乾燥させたものである。グ
リーンシート1a〜1dはそれぞれ、まず、バイアホー
ル5b〜5dのための貫通孔を開け、次に、導体ペース
トを用いて、スクリーン印刷法等によって、回路パター
ン3a〜3d、4b〜4dを形成すると共に、貫通孔に
導体ペーストを充填し、バイアホール5b〜5dを形成
するという工程で製作する。このように、別々に製作し
たグリーンシート1a〜1dの回路パターン3a〜3
d、4b〜4c及びバイアホール5b〜5dの位置を合
わせて積み重ね、室温〜100℃の範囲の温度下で全面
を均等に加圧し、グリーンシート1a〜1dにおいて、
それぞれ当接する境界面を圧着する。その後、焼成によ
り圧着したグリーンシート1a〜1dを融合、一体化
し、多層セラミック基板を製作する。
【0005】図7は図6の多層セラミック基板2を焼成
した時のグリーンシート1dを示す平面図である。従来
の多層セラミック基板では、例えば、図6のグリーンシ
ート1dのようにグリーンシートの回路パターン形成可
能領域の一部に回路パターンの配置が偏っている場合、
これを積層し、焼成すると回路パターンとグリーンシー
トの焼成時の収縮率の違いにより、図7のようにグリー
ンシートの縦又は横方向に歪みが発生し易い。
【0006】図8は図5の多層セラミック基板2を焼成
したものを示す断面図である。従来の多層セラミック基
板では、例えば図5の多層セラミック基板のように一部
のグリーンシートに回路パターンの配置が偏っている場
合、これを焼成すると、回路パターンとグリーンシート
の焼成時の収縮率の違いにより、図8のように多層セラ
ミック基板の厚さ方向に反りが発生し易い。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記のような多層セラ
ミック基板2では、グリーンシート1a〜1dの各々に
おける回路パターン3a〜3d、4b〜4dの配置が偏
り、グリーンシートのパターン形成可能領域の一部に回
路パターンが集中し、他の部分は回路パターンが全くな
いというように単位面積当りのパターン占有率は位置に
より全く異なっている。このような回路パターンを形成
したグリーンシートを積層し、焼成すると、焼成時の収
縮率が回路パターン材料よりもグリーンシートの方がは
るかに大きいため、多層セラミック基板を構成する各々
のグリーンシート縦または横方向に扇状の歪みが発生す
るという問題がある。
【0008】また、上記のような多層セラミック基板2
では、グリーンシート1a〜1dのうち一部のグリーン
シートに回路パターンが集中し、他のグリーンシートは
回路パターンがほとんどないというように、単位面積当
りのパターン占有率は各グリーンシートにより全く異な
っている。このようなグリーンシートを積層し、焼成す
ると、上記と同様の理由で、多層セラミック基板の厚さ
方向に反りが発生するという問題がある。
【0009】この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたもので、焼成時の収縮による多層セラミッ
ク基板の長さ方向の歪みあるいは厚さ方向の反りを防止
できる構造の多層セラミック基板を得ることを目的とす
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明は、積層する複
数枚のグリーンシートの各々のパターン形成可能領域
で、所望の回路パターンが形成されてない部分に、この
回路パターンとは独立した回路パターンを設けることに
より、各グリーンシートごとに単位面積当りの回路パタ
ーン占有率をそれぞれ一定にしたものである。
【0011】また、前記と同様にグリーンシートの各々
のパターン形成可能領域で、所望の回路パターンの一部
を、故意に太くあるいは細く設けることにより、各グリ
ーンシートごとに単位面積当りの回路パターン占有率を
それぞれ一定にしたものである。
【0012】また、積層する複数枚のグリーンシートに
ついて、所望の回路パターンが形成されてない部分に、
この回路パターンとは独立した回路パターンを設けるこ
とにより、全てのグリーンシートの単位面積当りの回路
パターン占有率を等しく、一定にしたものである。
【0013】また、前記と同様にグリーンシートの全て
について、所望の回路パターンの一部を故意に太くある
いは細く設けることにより、全てのグリーンシートの単
位面積当りの回路パターン占有率を等しく、一定にした
ものである。
【0014】
【作用】この発明においては、積層するグリーンシート
の各々の単位面積当りのパターン占有率が一定なので、
各グリーンシートを積層し、焼成しても、回路パターン
材料とグリーンシートの焼成時の収縮率の違いによる各
々のグリーンシートの縦または横方向の歪みを防止する
ことができる。
【0015】また、積層するグリーンシートの全てにつ
いても単位面積当りのパターン占有率が等しく、一定な
ので、各グリーンシートを積層し、焼成しても、回路パ
ターン材料とグリーンシートの焼成時の収縮率の違いに
よる多層セラミック基板の厚さ方向の反りを防止するこ
とができる。
【0016】
【実施例】実施例1.図1はこの発明一実施例を示す平
面図で、積層する複数枚のグリーンシートの内の一枚を
表わしており、従来の技術における図6のグリーンシー
ト1dを例としたものである。1dはグリーンシート、
3d、4dはグリーンシート1d上に形成した所望の回
路パターンである。6dはグリーンシート1dにおける
単位面積当りのパターン占有率を一定にするために、所
望の回路パターンの3d、4dが配置されてない部分に
形成した回路パターンであり、回路パターン3d、4d
とは独立している。この実施例では、回路パターン6d
を設け、グリーンシート1dにおける単位面積当りのパ
ターン占有率を一定にすることにより、回路パターンと
グリーンシートの焼成時の収縮率の違いによるグリーン
シートの縦または横方向の歪みを防止することができ
る。
【0017】実施例2.図2はこの発明の一実施例を示
す斜視図で、実施例1ちと同様に、従来の技術における
図6のグリーンシート6dを例としたものである。1d
はグリーンシート、3d、4dはグリーンシート1d上
に形成された所望の回路パターンであるが、回路パター
ン7dはグリーンシート1dにおける単位面積当りの回
路パターン占有率を一定にするために、故意に太くして
いる。この実施例では、回路パターン7dを故意に太く
し、グリーンシート1dにおける単位面積当りの回路パ
ターン占有率を一定にすることにより、実施例1と同様
に回路パターンとグリーンシートの焼成時の収縮率の違
いによるグリーンシートの縦または横方向の歪みを防止
することができる。
【0018】実施例3.図3は、この発明の別の実施例
を示す斜視図で、積層する全てのグリーンシートの単位
面積当りの回路パターン占有率を一定にしてあることを
示してあり、従来の技術の図6に相当する例である。1
a〜1dはグリーンシート、3a〜3d及び4b〜4d
はグリーンシート1a〜1d上に形成した所望の回路パ
ターンである。6a〜6dはグリーンシート1a〜1d
の単位面積当りの回路パターン占有率を等しく、一定に
するために、所望回路パターン3a〜3d及び4b〜4
dが配置されてない部分に形成した回路パターンであ
り、回路パターン3a〜3d、4b〜4dとは独立して
いる。この実施例では回路パターン6a〜6dを設け、
グリーンシート1a〜1dの単位面積当りの回路パター
ン占有率を等しく、一定にすることにより、回路パター
ンとグリーンシートの焼成時の収縮率の違いによるグリ
ーンシートの各々の縦又は横方向の歪みだけでなく、多
層セラセミック基板の厚さ方向の反りも防止することが
できる。
【0019】実施例4.図4は、この発明の別の実施例
を示す斜視図で、実施例3と同様に、従来の技術におけ
る図6に相当する例である。1a〜1dはグリーンシー
ト、7a〜7b及び4b〜4dは、グリーンシート1a
〜1d上に形成した所望の回路パターンであるが、7a
〜7dはグリーンシート1a〜1dの単位面積当りの回
路パターン占有率を等しく、一定にするために、故意に
太くしている。この実施例では、回路パターン7a〜7
dを故意に太くし、グリーンシート1a〜1dの単位面
積当りのパターン占有率を等しく、一定にすることによ
り、実施例3と同様に、回路パターンとグリーンシート
の焼成時の収縮率の違いによるグリーンシートの各々の
縦または横方向の歪みだけだなく、多層セラミック基板
の厚さ方向の反りも防止することができる。
【0020】実施例5.この実施例は、従来の技術の図
6に相当する別の例であり、図6に示す層構成の多層セ
ラミック基板において、グリーンシート1a、1bは実
施例3の図3のグリーンシート1a、1bのように所望
の回路パターン3a、3b、4bとは独立した別の回路
パターン6a、6bを設け、グリーンシート1c、1d
は実施例4の図4のグリーンシートのように所望の回路
パターン7a、7bを故意に太くし、回路パターンとグ
リーンシートの焼成時の収縮率の違いによる、グリーン
シートの各々の縦または横方向の歪みだけでなく、多層
セラミック基板の厚さ方向の反りも防止することができ
る。
【0021】
【発明の効果】この発明は、以上説明したように積層す
る複数枚のグリーンシートの各々における単位面積当り
のパターン占有率及び全グリーンシートの単位面積当り
のパターン占有率を一定にすることができるので、回路
パターンとグリーンシートの焼成時の収縮率の違いに起
因する多層セラミック基板の長さ方向の歪み及び厚さ方
向の反りを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例1を示す平面図である。
【図2】この発明の実施例2を示す平面図である。
【図3】この発明の実施例3を示す斜視図である。
【図4】この発明の実施例4を示す斜視図である。
【図5】従来の多層セラミック基板の未焼成の積層構造
を示す断面図である。
【図6】従来の多層セラミック基板の層構成を示す斜視
図である。
【図7】従来の多層セラミック基板を焼成したときのグ
リーンシートを示す平面図である。
【図8】従来のグリーンシートを積層し、焼成したもの
を示す断面図である。
【符号の説明】
1 グリーンシート 2 多層セラミック基板 3 回路パターン 4 回路パターン 5 バイアホール 6 回路パターン 7 回路パターン 11 グリーンシート

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 それぞれ異なる所望の回路パターンが形
    成してある複数枚のグリーンシートを積層し、焼成して
    形成する多層セラミック基板において、積層する複数枚
    のグリンシートのうち、任意の枚数のグリーンシート上
    の回路パターン占有率を一定にしてあることを特徴とす
    る多層セラミック基板。
  2. 【請求項2】 多層セラミック基板において、積層する
    複数枚のグリーンシートの全ての単位面積当りの回路パ
    ターン占有率を等しくしてあることを特徴とする多層セ
    ラミック基板。
  3. 【請求項3】 複数枚のグリンシートそれぞれに互いに
    異なる所望の回路パターンを形成するとともに、それら
    回路パターンとは別の回路パターンを各グリーンシート
    に形成し、各グリンシート上の単位面積当りの回路パタ
    ーン占有率を一定にするか、または、全てのグリンシー
    トの単位面積当りの回路パターン占有率を等しくしてあ
    ることを特徴とする請求後1または2記載の多層セラミ
    ック基板。
  4. 【請求項4】 複数枚のグリンシートのそれぞれに互い
    に異なる所望の回路パターンを形成すると共に、それら
    回路パターンの一部を太く、あるいは細く設け、それに
    よって、各グリンシートの単位面積当りの回路パターン
    占有率を一定にするか、または、全てのグリンシートの
    単位面積当りの回路パターン占有率を等しくしてあるこ
    とを特徴とする請求項1または2記載の多層セラミック
    基板。
JP3543793A 1993-02-24 1993-02-24 多層セラミック基板 Pending JPH06252556A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6217990B1 (en) 1997-05-07 2001-04-17 Denso Corporation Multilayer circuit board having no local warp on mounting surface thereof
JP2005285907A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Hitachi Metals Ltd セラミックス積層体
JPWO2007052422A1 (ja) * 2005-11-01 2009-04-30 株式会社村田製作所 回路装置の製造方法および回路装置
JP2011517063A (ja) * 2008-03-31 2011-05-26 巨擘科技股▲ふん▼有限公司 多層基板の応力をバランスする方法及び多層基板
JP2012049694A (ja) * 2010-08-25 2012-03-08 Murata Mfg Co Ltd 電子部品

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6217990B1 (en) 1997-05-07 2001-04-17 Denso Corporation Multilayer circuit board having no local warp on mounting surface thereof
JP2005285907A (ja) * 2004-03-29 2005-10-13 Hitachi Metals Ltd セラミックス積層体
JPWO2007052422A1 (ja) * 2005-11-01 2009-04-30 株式会社村田製作所 回路装置の製造方法および回路装置
JP2011517063A (ja) * 2008-03-31 2011-05-26 巨擘科技股▲ふん▼有限公司 多層基板の応力をバランスする方法及び多層基板
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