JPH0625414A - 線状ポリイミド及びそれらの製造方法 - Google Patents

線状ポリイミド及びそれらの製造方法

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JPH0625414A
JPH0625414A JP5113321A JP11332193A JPH0625414A JP H0625414 A JPH0625414 A JP H0625414A JP 5113321 A JP5113321 A JP 5113321A JP 11332193 A JP11332193 A JP 11332193A JP H0625414 A JPH0625414 A JP H0625414A
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JP
Japan
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polyimide
acid
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represented
aromatic
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JP5113321A
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English (en)
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Takuma Teshirogi
琢磨 手代木
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Daicel Corp
Original Assignee
Daicel Chemical Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 実質的に下記繰り返し構造単位(I)からな
る線状ポリイミド。 【化1】 (式中、R′:芳香族対称ジアミン)。このポリイミド
は下記式(II) 【化2】 で表わされるp−フェニレンビスグルタル酸無水物と芳
香族対称ジアミンとを重縮合させて得られる。 【効果】 このポリイミドは脂肪族構造を持ちながら、
透明性、強靱性、耐熱性など全芳香族ポリイミドに匹敵
する物性を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規テトラカルボン酸
から導かれる線状ポリイミド及びその製造方法に関す
る。詳しくは、耐熱性にすぐれ、予備成形が可能な脂肪
族線状ポリイミド及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】成型可能で且つ耐熱性、絶縁性、耐摩耗
性および耐放射能性にすぐれた材料としてポリイミドが
注目され、プリント基板、積層板、構造部材などに使用
され、その利用度は増大しつつある。
【0003】最近、カルボン酸成分として、脂肪族構造
を有するものであって、適当なものを用いると全芳香族
ポリイミドよりも安価で且つ全芳香族ポリイミドに近い
物性の樹脂を得る可能性があるので注目されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述の脂肪族構造を有
するカルボン酸を用いる方法は、テトラカルボン酸の合
成が比較的面倒であるという問題を有し、実用上満足し
難い。
【0005】本発明の目的は、工業的有利に合成するこ
とができ、脂肪族構造を有するテトラカルボン酸から予
備成形性があり、透明、強靱で耐熱性に富む脂肪族構造
を有するポリイミドを提供するにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】発明者は、新規なテトラ
カルボン酸であるp−フェニレンビスグルタル酸に注目
し、その合成方法につき研究した結果、テレフタルアル
デヒドを出発原料とする工業的に有利な方法を見出し
た。そして、p−フェニレンビスグルタル酸無水物を芳
香族ジアミンと縮合させて得られるポリイミドは、予備
成形性があり、透明強靱で耐熱性に富むものであること
を見出した。
【0007】即ち、本発明は、第一に、実質的に下記の
繰返し構造単位(I)からなることを特徴とする線状ポ
リイミドに係わる。
【0008】
【化4】
【0009】(式中、R′は芳香族対称ジアミン残基で
ある。)
【0010】さらに、本発明は、第二に、実質的に上記
繰返し単位(I)からなる線状ポリイミドの製造方法に
係わり、その製造方法は下記式(II)
【0011】
【化5】
【0012】で表わされるp−フェニレンビスグルタル
酸無水物と芳香族対称ジアミンを溶媒中に共存させて加
熱することにより重縮合させることを特徴とする。
【0013】前記p−フェニレンビスグルタル酸は下記
の構造式(III )で表わされる。
【0014】
【化6】
【0015】上記構造式(III )で表わされるp−フェ
ニレンビスグルタル酸は、下記一般式(IV)
【0016】
【化7】
【0017】(Rは炭素数1〜4のアルキル基であ
る。)で表わされるp−フェニレンビス(α−シアノア
クリル酸エステル)と下記構造式(V)
【0018】
【化8】
【0019】で表されるメルドラム酸のアルカリ塩を反
応させることにより製造できる。
【0020】上記製造方法において出発原料として用い
られる一般式(IV)で表わされるp−フェニレンビス
(α−シアノアクリル酸エステル)は、既知であって、
エイチ・カウフマン(H.Kauffmann):ベリ
ヒテ(Ber.)50,525(1917)に記載され
ており、この化合物はテレフタルアルデヒドとシアノ酢
酸エステルの縮合によって得られる。この縮合反応は、
次の反応式で表わすことができる。
【0021】
【化9】
【0022】但し、Rは炭素数1〜4のアルキル基であ
る。
【0023】上記p−フェニレンビスグルタル酸の製造
方法において用いられるメルドラム酸(前記式V)はマ
ロン酸とアセトンから容易に得ることができ、工業的に
製造された市販品がある(米国Aldrich社)
【0024】
【化10】
【0025】メルドラム酸は活性メチレンによって酸性
を示し、水酸化ナトリウムと反応してナトリウム塩とな
る。
【0026】メルドラム酸ナトリウムとp−フェニレン
ビス(α−シアノアクリル酸エステル)の反応は無触媒
で進行し、付加化合物が生成することが判明した。この
付加化合物を塩酸々性で加水分解し、p−フェニレンビ
スグルタル酸(式(III ))を得た。この反応は次式で
表わされる。
【0027】
【化11】
【0028】上記のように得られるp−フェニレンビス
グルタル酸は新規なテトラカルボン酸である(融点26
0〜261℃)。
【0029】p−フェニレンビスグルタル酸は無水酢酸
と煮沸することにより酸無水物(下記式(II))に変換
される。
【0030】
【化12】
【0031】p−フェニレンビスグルタル酸無水物を芳
香族対称ジアミンとともに適当な溶媒、例えば、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセ
トアミドに溶解し、常温常圧下に攪拌することにより、
これらの反応溶媒に可溶なポリアミド酸が得られる。
【0032】得られるポリアミド酸は還元粘度0.3〜
1g/dl(30℃において、重合体濃度0.2g/dlの
ジメチルアセトアミド溶液で測定)を有する。
【0033】上記ポリアミド酸を溶液から流延してフイ
ルムに成形した後、減圧下に加熱することにより対応す
る新規なポリイミドが得られる。
【0034】p−フェニレンビスグルタル酸無水物と反
応させる芳香族対称ジアミンの具体例としては、次式
(VII ),(VIII),(IX)および(X)で表わされる
ものが挙げられる。
【0035】
【化13】
【0036】
【実施例】以下、実施例について本発明を具体的に説明
する。
【0037】(参考例1)p−フェニレンビスグルタル酸の合成 p−フェニレン−ビス(α−シアノアクリル酸エチル)
64.8g(0.2モル)をよく粉砕し、800mlのエ
タノール中に分散させてマグネチックスターラーで攪拌
状態に保っておいた。一方、水酸化ナトリウム20gを
水200mlに溶解した水溶液にメルドラム酸63.4g
(0.44モル)を少しづつ加え、メルドラム酸ナトリ
ウム塩の水溶液とした。p−フェニレン−ビス(α−シ
アノ)アクリル酸エチルのエタノール溶液にメルドラム
酸ナトリウムの水溶液を攪拌下2時間にわたって滴下
し、さらに室温下に10時間攪拌した。これにより完全
に均一な反応液が得られた。
【0038】反応液に濃塩酸を加えてpH=3に調整し、
ロータリーエバポレーターによりエタノールと水を完全
に溜去した。得られた固形物に濃塩酸200mlを加え、
12時間還流加熱して溶解させた。放置冷却により析出
した結晶を濾別し、乾燥した。収量52.1g(収率7
7.1%)であった。
【0039】上記結晶を酢酸:水=9:1の混合溶媒か
ら再結晶し、融点260〜261℃の結晶を得た。p−
フェニレンビスグルタル酸である。元素分析値は次の通
りである。
【0040】 実測値 C:56.26%,H:5.50% 計算値 C:56.80%,H:5.33%
【0041】得られた試料の赤外吸収スペクトル(KB
r錠剤)を第1図に示す。ジメチルスルホキシド溶液で
測定したNMRスペクトルは次の通りであった。(ppm
【0042】12.06(s,4H、カルボキシル
基)、7.16(s,4H、ベンゼン核)、3.34〜
3.42(m,2H、メチン基)、2.44〜2.65
(m,8H、メチレン基)。
【0043】p−フェニレンビスグルタル酸無水物の合
p−フェニレン−ビスグルタル酸33.8g(0.1モ
ル)を無水酢酸250ml中に分散し、均一溶液となるま
で加熱還流した。反応液を放冷後、析出する生成物を濾
別し、エーテルで洗滌乾燥して、融点279〜280℃
の結晶を得た。p−フェニレンビスグルタル酸無水物で
ある。収量19.6g(収率64.9%)であった。元
素分析値は次の通りであった。
【0044】 実測値 C:63.28% H:4.77% 計算値 C:63.58% H:4.64%
【0045】得られた試料の赤外吸収スペクトル(KB
r錠剤)を第2図に示す。
【0046】ジメチルスルホキシド溶液で測定したNM
Rスペクトルは次の通りであった。(ppm )
【0047】7.30(s,4H、ベンゼン核)、3.
50〜3.61(m,2H、メチン基)、2.91〜
3.10(m,8H、メチレン基)。
【0048】(実施例1)ジアミノジフェニルエーテルからのポリイミドの合成 ジアミノジフェニルエーテル0.60g(0.03モ
ル)を6.4mlのジメチルアセトアミドに溶解し、常温
攪拌下にp−フェニレンビスグルタル酸無水物0.91
g(0.03モル)を少量づつ加えた。反応溶液は時間
の経過とともに粘性を増すのが観察された。酸無水物添
加後、さらに室温で24時間攪拌し、得られた粘稠な反
応液をガラス板上に流延した。流延後、ガラス板ととも
に120℃で2時間、さらに200℃で1時間加熱し溶
媒を蒸発させた後、減圧下に200℃、10時間加熱し
て透明な帯黄色フイルムを得た。得られたものはポリイ
ミドであり、反応式は次式に従うと考えられる。
【0049】
【化14】
【0050】得られたポリイミドはジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、蟻
酸などの溶剤に不溶であるが、減圧加熱前のポリマー
(ポリアミド酸)は、これらの溶剤に可溶であるので還
元粘度を測定した。ジメチルアセトアミドを溶媒とし、
濃度0.2g/dl、30℃における還元粘度は0.79
であった。第3図にポリイミドの赤外吸収スペクトル
(フイルム)を示す。また、得られたポリイミドの空気
中及び窒素ガス中における加熱減量曲線(昇温速度5℃
/分、実線が空気中、点線が窒素ガス中に相当する。以
下、第5図〜第9図も同様。)を第4図に示す。第4図
から10%減量を示す温度を求めたところ、空気中40
5℃、窒素中440℃であった。
【0051】(実施例2〜6)実施例1のジアミノジフ
ェニルエーテルにかえて、ジアミノジフェニルスルフィ
ド(実施例2)、ジアミノジフェニルメタン(実施例
3)、p,p′−ジアミノ−m,m′−ジメトキシジフ
ェニル(実施例4)、m−フェニレンジアミン(実施例
5)、p−フェニレンジアミンをそれぞれ等モル(0.
03モル)量用いたほかは実施例1と同様にしてそれぞ
れ対応するポリイミドを合成した。
【0052】得られたポリイミドの加熱減量曲線を第5
図〜第9図に示す。それぞれのポリイミドの10%減量
を示す温度および対応するポリアミド酸の還元粘度の測
定結果を表1にまとめて示す。
【0053】
【表1】
【0054】
【発明の効果】p−フェニレンビスグルタル酸無水物と
芳香族ジアミンから得られる本発明のポリイミドは透明
性、強靱性、耐熱性など全芳香族ポリイミドに匹敵する
物性を有しており、成形材料、フイルム、コーティング
材、エナメルワニス、積層材など広汎な用途に可能性を
有している。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のポリイミドの原料であるp−フェニレ
ンビスグルタル酸の赤外吸収スペクトルである。
【図2】p−フェニレンビスグルタル酸無水物の赤外吸
収スペクトルである。
【図3】p−フェニレンビスグルタル酸無水物とジアミ
ノジフェニルエーテルから得られたポリイミドの赤外吸
収スペクトルである。
【図4】上記ポリイミドの空気中における加熱減量曲線
(実線)および窒素ガス中における加熱減量曲線(点
線)である。
【図5】上記とは異なるポリイミドのそれぞれ空気中に
おける加熱減量曲線(実線)および窒素ガス中における
加熱減量曲線(点線)である。
【図6】上記とは異なるポリイミドのそれぞれ空気中に
おける加熱減量曲線(実線)および窒素ガス中における
加熱減量曲線(点線)である。
【図7】上記とは異なるポリイミドのそれぞれ空気中に
おける加熱減量曲線(実線)および窒素ガス中における
加熱減量曲線(点線)である。
【図8】上記とは異なるポリイミドのそれぞれ空気中に
おける加熱減量曲線(実線)および窒素ガス中における
加熱減量曲線(点線)である。
【図9】上記とは異なるポリイミドのそれぞれ空気中に
おける加熱減量曲線(実線)および窒素ガス中における
加熱減量曲線(点線)である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 実質的に下記の繰返し構造単位(I)か
    らなることを特徴とする線状ポリイミド。 【化1】 (式中、R′は芳香族対称ジアミン残基である。)
  2. 【請求項2】 下記式(II) 【化2】 で表わされるp−フェニレンビスグルタル酸無水物と芳
    香族対称ジアミンを溶媒中に共存させて加熱することに
    より重縮合させることを特徴とする、実質的に下記の繰
    返し構造単位(I)からなる線状ポリイミドの製造方
    法。 【化3】 (式中、R′は芳香族対称ジアミン残基である。)
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