JPH0627177B2 - 多価フエノ−ルノボラツクグリシジルエ−テル、その製法及び用途 - Google Patents

多価フエノ−ルノボラツクグリシジルエ−テル、その製法及び用途

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JPH0627177B2 JP8977885A JP8977885A JPH0627177B2 JP H0627177 B2 JPH0627177 B2 JP H0627177B2 JP 8977885 A JP8977885 A JP 8977885A JP 8977885 A JP8977885 A JP 8977885A JP H0627177 B2 JPH0627177 B2 JP H0627177B2
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はエポキシ樹脂、なかでも半導体素子などの電子
部品の封止用の素材として優れた性質を示す多価フェノ
ールノボラックグリシジルエーテルに関する。
従来の技術 近年、大規模集積回路等の電子部品において半導体の素
子の高密度化および大形化に伴い、その信頼性の向上に
対する要求が増々強くなってきている。この半導体装置
のパッケージには、安価にかつ大量生産が可能なことか
ら樹脂封止が用いられている。この封止用熱硬化性樹脂
には第一に加水分解性塩素の少ないこと次に半導体素子
にかかる応力が小さいことが要求されている。後者の要
求に対しては硬化物が低弾性率であることが必要となっ
てくる。低弾性率の硬化物を得るのに、クレゾールノボ
ラックのグリシジルエーテルに可撓性付与剤の添加が考
えられているがこれは硬化物のガラス転移温度を低下さ
せ、耐熱性を低下させる。また、分子両末端官能基を有
するブタジエン−アクリロニトリル共重合体を添加する
ことも考えられているが、電気的特性の低下や絶縁抵抗
を小さくするなどの問題がある。
低弾性率の硬化物を得る方法として種々の多価フェノー
ルのグリシジルエーテルが開発されているが、これらも
硬化物のガラス転移温度を低下させ耐熱性を低下させ
る。また封止材料用としての他の要求特性である加水分
解性塩素の含有量の低いことを満足するものは得られて
いない。例えば特公昭51−41919号には1,2−
ポリブタジエンとフェノールとの反応で得られた多価フ
ェノールのグリシジルエーテルは可撓性が良好であると
記載されている。しかしガラス転移温度と相関関係にあ
る熱変形温度は該特許の実施例1によれば市販の固形の
ビスフェノールAのグリシジルエーテルを主剤とする硬
化物よりも約30℃低い。この固形のビスフェノールA
のグリシジルエーテルを主剤とする硬化物の熱変形温度
は、封止材料用として一般に用いられるクレゾールノボ
ラックのグリシジルエーテルを主剤とする硬化物の熱変
性温度よりもさらに約40℃低い。
発明が解決しようとする問題点 一般には、弾性率を下げることにより、ガラス転移温度
が下がってしまう。本発明の目的は、可撓性および耐熱
性にすぐれ、かつ不純物イオンの発生量の少ない硬化物
を提供しうる多価フェノールのグリシジルエーテルを得
ることである。
問題を解決するための手段 本発明者らは、前記の要求を満足する新規な多価フェノ
ールのグリシジルエーテルについて鋭意研究の結果、多
価フェノールの構造において、各フェノール単位が、式 で表わされる特定の基及びメチレン基を介して、結合し
ている分子構造を有する多価フェノールノボラックのグ
リシジルエーテルとすることにより、かかる要求が満足
されることを見出し、本発明に至ったものである。
すなわち、本発明は、一般式 (式中R1〜R6は水素原子、炭素数1〜8のアルキル
基、芳香族基及びハロゲン原子からなる群より選ばれた
同一もしくは異なる基であり、R7は水素原子、炭素数
1〜4個のアルキル基及び芳香族基からなる群より選ば
れた基であり、nは平均1.5以上25以下の数であ
る。) で表わされる多価フェノールノボラックのグリシジルエ
ーテルに関する。
置換基R1〜R6を具体的に例示すると、水素原子、メチ
ル基、フェニル基、ベンジル基、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子などであり、好ましくは、水素原子、臭素原
子である。
置換基R7を具体的に例示すると、水素原子、メチル
基、エチル基などであり、好ましくは水素原子である。
数平均繰り返し単位数nは平均1.5以上25以下であ
り、好ましくは2以上15以下である。nが25を越え
ると高分子量体が多く生成し、該グリシジルエーテルは
高温条件でも高粘度となり、取扱いが困難となる。ま
た、該単位数nが2より小さいと、該グリシジルエーテ
ルは常温で半固形もしくは粘調な液となって取扱いが困
難となる。また、数平均分子量は約500〜10000
の範囲である。数平均分子量は、蒸気圧浸透圧法により
決定され、これより数平均繰り返し単位数が算出され
る。
本発明の多価フェノールのグリシジルエーテルは、一般
(式中、R1〜R6は、水素原子、炭素数1〜8のアルキ
ル基、芳香族基、ハロゲン原子からなる群より選ばれた
同一もしくは異なる基である。) で表わされるビスフェノールを、一般式 R CHO (III) (式中、Rは水素原子、炭素数1〜4個のアルキル基及
び芳香族基からなる群より選ばれた基である。) で表わされるアルデヒド類と縮重合して多価フェノール
とし、ついで該多価フェノールをエピハロヒドリンでも
ってグリシジルエーテル化することにより製造できる。
本発明のビスフェノールは、例えば、米国特許第3,294,
746号明細書に記載の方法で製造できる。すなわち、一
般式 (式中、R8〜R10は、水素原子、炭素数1〜8のアル
キル基、芳香族基、ハロゲン原子からなる群より選ばれ
た同一もしくは異なる基である。) で表わされるパラ−イソプロペニルフェノール類を加熱
により、一般式 (式中、R1〜R6は水素原子、炭素数1〜8のアルキル
基、芳香族基及びハロゲン原子からなる群より選ばれた
同一もしくは異なる基である。) で表わされる二量体を得る。さらに、この二量体を水添
することにより、一般式(II)で表わされるビスフェノー
ルが得られる。
本発明の多価フェノールノボラックの製造で用いられる
アルデヒド類の具体例としては、ホルムアルデヒド、ア
セトアルデヒド、ベンズアルデヒドなどである。
本発明のビスフェノールとアルデヒド類を縮重合し、多
価フェノールノボラックとするには、通常用いられるノ
ボラック型フェノール樹脂の製造方法が適用でき、回分
式でも特開昭51−130498号公報記載のように連続法で
もよい。製法の一例を示すと、エンサイクロペディア・
オブ・ポリマーサイエンス・アンド・テクノロジー(イ
ンターサイエンス・パブリッシャーズ)第10巻1頁の
フェノリック・レジンズの項に記載されるように、塩
酸、リン酸、硫酸などの無機酸又はパラトルエンスルホ
ン酸、シュウ酸などの有機酸又は酢酸亜鉛などの金属塩
を触媒としてフェノール類とアルデヒド類からの縮重合
により製造される。また、必要により芳香族系などの溶
剤を使用してもよい。このようにして得られる多価フェ
ノールは一般式 (式中R1〜R6は水素原子、炭素数1〜8個のアルキル
基、芳香族基及びハロゲン原子からなる群より選ばれた
同一もしくは異なる基であり、R7は水素原子及び炭素
数1〜4個のアルキル基からなる群より選ばれた基であ
り、nは平均1.5以上25以下の数である。) で表わされる。
本発明の新規な多価フェノールノボラックは、一般にエ
ポキシ樹脂を主剤とするときの硬化剤としても使用する
ことができる。
このようにして得た多価フェノールノボラックをグリシ
ジルエーテル化するには、一価または多価のフェノール
からそのグリシジルエーテルを製造するのに通常用いら
れる方法が適用できる。例えば、多価フェノール類をエ
ピハロヒドリンに溶解し、この溶液にアルカリ金属水酸
化物水溶液を連続的に添加しその間反応混合物から水及
びエピハロヒドリンを蒸留し、蒸留した液を分液して水
層は除去しエピハロヒドリンは反応系内に戻すという製
造法を用いることができる。エピハロヒドリンの具体例
としては、エピクロルヒドリン、エピブロムヒドリンな
どがあるが、工業的な入手の容易性からエピクロルヒド
リンが好ましい。
本発明の多価フェノールノボラックのグリシジルエーテ
ルはこれに硬化剤、硬化促進剤、無機質充填剤を配合し
た組成物として各種の用途に用いられる。
硬化剤としては、フェノールノボラック、ジアミノジフ
ェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、メタフェ
ニレンジアミン、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタ
ル酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸などがある。無機質充填剤としては、シリ
カ、アルミナ、タルク、クレー、ガラス繊維などがあ
る。
硬化促進剤としては、イミダゾール類、三級アミン類、
フェノール類などである。又必要に応じてステアリン
酸、ステアリン酸カルシウム、カルナバワックス、モン
タンワックスなどの内部離型剤、テトラブロムビスフェ
ノールのグリシジルエーテルなどの難燃性付与剤を配合
することができる。
硬化剤、充填剤、硬化促進剤および内部離型剤の配合量
はそれぞれの種類によって変化するが、原則として硬化
剤は多価フェノールノボラックのグリシジルエーテルの
エポキシ基のモル数と同等な硬化剤の官能基のモル数に
なるような配合量、充填剤は全配合量の体積に対して充
填剤がほぼ最密充填に近くなるような配合量、硬化促進
剤は触媒量程度の配合量、内部離型剤は全配合量に対し
て約0.2〜2.0重量%がそれぞれ使用される。
本発明の方法により得た多価フェノールノボラックのグ
リシジルエーテルは、従来よりあるオルソクレゾールノ
ボラックのグリシジルエーテルまたはフェノールノボラ
ックのグリシジルエーテルよりも低弾性率の硬化物が得
られ、かつガラス転移温度の低下を防ぐことができ、ま
た加水分解性塩素の含有量が小さい。
このため本発明の多価フェノールノボラックグリシジル
エーテルは、上記の各種の配合剤を配合して特に半導体
集積回路の封止剤として好適に使用できる。
また、本発明のグリシジルエーテルを主成分とし、これ
とジシアンジアミド、メタフェニレンジアミン、ジアミ
ノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ヘ
キサヒドロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、ジエチ
ルトリアミン、トリエチレントリアミンなどの硬化剤、
硬化促進剤を溶剤に溶解させ、ガラスクロス、ガラス不
織布、ポリエステルクロス、ポリエステル不織布、アス
ベスト紙などの有機、無機繊維基材に含浸後乾燥したプ
リプレグを積層成形するなどの方法により、本発明の新
規なグリシジルエーテルを積層板用の主剤として使用す
ることができる。
実施例 以下本発明を実施例をもって説明する。
なお本発明でいうエポキシ当量とはグリシジルエーテル
基1モル当りのグラム当量で定義される。また加水分解
性塩素とはノボラック型置換フェノール樹脂のグリシジ
ルエーテルをジオキサンに溶解し水酸化カリウムのアル
コール溶液を加え還流状態で30分間加熱したときに脱
離する塩素イオンを硝酸銀溶液で逆滴定により定量し該
化合物中の塩素原子の重量百分率で定義したものであ
る。また、軟化点はJIS−K2531(石油アスファルト軟
化点試験法(環状法))で測定したものである。数平均
分子量は、蒸気圧浸透法で測定した。
実施例1 (1)多価フェノールノボラックの合成 温度計、冷却管、滴下ロート、撹拌器を取り付けた1
フラスコに、2−メチル−2,4ビス(p−ヒドロキシ
フェニル)ペンタン(純度95%)0.5モルと触媒と
してパラトルエンスルホン酸0.01モルを入れ、約10
0℃に加熱した。続いて37%ホルマリン水溶液(ホル
ムアルデヒド0.2モルを含む)を滴下ロートより1時
間で連続的に添加した。滴下後5時間保温した後、NaOH
水溶液で触媒を中和し、濃縮により未反応物、水分を取
り除き、常温で固型の樹脂を得た。この樹脂の軟化点は
101℃、数平均分子量は730であった。この樹脂を
重水素置換クロロホルムを溶媒として18C−NMRを測定
した。そのチャートを第1図に示す。
第1図の18C−NMRチャートのピークの帰属は次のとお
りである。
29.8ppm,36.7ppm,53.0ppm 36.0ppm,25.2ppm,31.1ppm 芳香環炭素:約112〜155ppm (2)多価フェノールノボラックのグリシジルエーテルの
合成 温度計、分離管、滴下ロート、撹拌器を取り付けた1
フラスコに(1)で得られた多価フェノール1.0モル
(フェノール性水酸基として)をエピクロルヒドリン
7.0モルに溶解する。温度80℃、圧力250mmHgに
保ち、6時間で48%NaOH水溶液を連続的に添加した。
この間エピクロルヒドリンと水とを共沸させて液化し分
離管で有機層と水層とに分離し、水層は系外に除去し有
機層は系内に循環した。反応終了後1時間保温し未反応
のエピクロルヒドリンを蒸発除去し、反応生成物をメチ
ルイソブチルケトンに溶解した。次に副生塩を別した
のちメチルイソブチルケトンを蒸発して除去して室温で
固型の樹脂を得た。
この樹脂の軟化点は69℃、数平均分子量1050、エ
ポキシ当量216、加水分解性塩素は0.06wt%であ
った。また、この樹脂を重水素置換アセトンに溶かし、
13C−NMRを測定した。そのチャートを第2図に示す。
第2図の13C−NMRチャートのピークの帰属は次のとお
りである。
27.2ppm,36.7ppm,51.9ppm 35.7ppm,24.2ppm,29.2ppm 42.6ppm,49.0ppm,68.3ppm 芳香環炭素:約110〜157ppm (3)硬化物の粘弾性測定 (2)で得られた多価フェノールのグリシジルエーテルを
1.0モル(エポキシ基として、具体的には206g)
とフェノールノボラック1.0モル(フェノール性水酸
基として)と硬化促進剤として全量に対し0.8重量部
のトリス フェノール(住友化学工業株式会社製、スミキュアー
D)をロール混練し組成物とした。次にこの組成物を加
圧・加熱プレスにより1mmのシートに成型した。この成
形物を170℃で5時間後硬化して硬化成形物を作っ
た。この成形物の粘弾性測定結果を第3図に示す。ガラ
ス転移温度は199℃であった。
比較例1 市販のクレゾールノボラックのグリシジルエーテル(住
友化学工業株式会社製スミエポキシ ESCN−220)を主
剤として、実施例1の(3)と同様な処方で硬化成形物を
作った。この成形物の粘弾性測定結果を第3図に示す。
ガラス転移温度は200℃であった。
比較例2 2−メチル−2,4−ビス(p−ヒドロキシフェニル)
ペンタン(純度95%)を原料として、実施例1の(2)
の方法で多価フェノールのグリシジルエーテルを得た。
この多価フェノールのグリシジルエーテルは常温で液状
であり、エポキシ当量は200、加水分解性塩素は0.
09wt%であった。
この多価フェノールのグリシジルエーテルを主剤として
実施例1の(3)と同様な処方で硬化成形物を作った。こ
の成形物の粘弾性測定結果を第3図に示す。ガラス転移
温度は136℃であった。
第3図を詳細に説明するならば、横軸は、粘弾性測定時
の温度、縦軸の左側は動的弾性率、縦軸の右側はtanδ
を示す。実線は実施例1、点線は比較例1、一点鎖線は
比較例2の硬化成形物についての測定結果である。上側
の実線1、点線2および一点鎖線3は、動的弾性率を示
し、本文中では単に弾性率と表現した。また、下側の実
線1′,点線2′および一点鎖線3′は、tanδを示
す。
−70℃付近でのtanδのピークは副分散とよばれ分子
のミクロブラウン運動に帰因する。140℃付近および
200℃付近のtanδのピークは、主分散とよばれ分子
全体の運動に帰因し、tanδのピーク点での温度をガラ
ス転移温度とする。
発明の効果 現在、半導体封止用には、主として、比較例1に示した
ようなクレゾールノボラックのグリシジルエーテルが用
いられている。これに対してより低弾性率で、より高い
ガラス転移温度を持つグリシジルエーテルが要求されて
いる。
本発明の多価フェノールノボラックのグリシジルエーテ
ルは、従来からのクレゾールノボラックのグリシジルエ
ーテルや可撓性のグリシジルエーテルに比べて低弾性率
であり、かつ、ガラス転移温度及び加水分解性塩素含有
量は同等であり、半導体封止用の組成物の主剤として、
優れた特性を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、実施例1の(1)で得られた多価フェノールノ
ボラックの13C−NMRチャートである。 第2図は、実施例1の(2)で得られた多価フェノールノ
ボラックのグリシジルエーテルの13C−NMRチャートで
ある。 第3図は、実施例1、比較例1および2の硬化成形物に
ついての粘弾性測定結果(動的弾性率またはtanδ−温
度関係図)である。 第3図において、1,2,3はそれぞれ実施例1、比較
例1,2の硬化成形物の動的弾性率−温度関係を示す。 また、1′,2′,3′はそれぞれ実施例1、比較例
1,2の硬化成形物のtanδ−温度関係を示す。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−133218(JP,A) 特開 昭59−36123(JP,A) 特開 昭59−109514(JP,A) 特開 昭59−147015(JP,A)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 (式中R1〜R6は水素原子、炭素数1〜8のアルキル
    基、芳香族基及びハロゲン原子からなる群より選ばれた
    基であり、R7は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基
    及び芳香族基からなる群より選ばれた基であり、nは平
    均1.5以上25以下の数である。) で表わされる多価フェノールノボラックグリシジルエー
    テル。
  2. 【請求項2】一般式 (式中、R〜Rは水素原子、炭素数1〜8のアルキ
    ル基、芳香族基及びハロゲン原子からなる群より選ばれ
    た基である。) で表わされるビスフェノールを、一般式 RCHO (III) (式中、Rは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基及
    び芳香族基からなる群より選ばれた基である。)で表わ
    されるアルデヒド類と縮重合して多価フェノールとし、
    ついで該多価フェノールをエピハロヒドリンでもってグ
    リシジルエーテル化することを特徴とする、一般式 (式中R1〜R6は水素原子、炭素数1〜8のアルキル
    基、芳香族基及びハロゲン原子からなる群より選ばれた
    基であり、R7は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基
    及び芳香族基からなる群より選ばれた基であり、nは平
    均1.5以上25以下の数である。) で表わされる多価フェノールノボラックのグリシジルエ
    ーテルの製造法。
  3. 【請求項3】一般式 (式中R1〜R6は水素原子、炭素数1〜8のアルキル
    基、芳香族基及びハロゲン原子からなる群より選ばれた
    基であり、R7は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基
    及び芳香族基からなる群より選ばれた基であり、nは平
    均1.5以上25以下の数である。) で表わされる多価フェノールノボラックグリシジルエー
    テルからなる半導体集積回路封止剤。
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