JPH062728B2 - ホルミルアルキルベンゼンスルホニルフルオライド及びその製造方法 - Google Patents
ホルミルアルキルベンゼンスルホニルフルオライド及びその製造方法Info
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- JPH062728B2 JPH062728B2 JP2054761A JP5476190A JPH062728B2 JP H062728 B2 JPH062728 B2 JP H062728B2 JP 2054761 A JP2054761 A JP 2054761A JP 5476190 A JP5476190 A JP 5476190A JP H062728 B2 JPH062728 B2 JP H062728B2
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- reaction
- group
- carbon monoxide
- formyl
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、医薬品、染料、エンジニアリングプラスティ
ックなどの原料として有用な、新規なホルミルアルキル
ベンゼンスルホニルフルオライド及びその製造方法に関
し、更に詳しくは、アルキルベンゼンにホルミル基とス
ルホニル基の２つの官能基を同時に導入した新規化合物
及びその製造方法に関する。
ックなどの原料として有用な、新規なホルミルアルキル
ベンゼンスルホニルフルオライド及びその製造方法に関
し、更に詳しくは、アルキルベンゼンにホルミル基とス
ルホニル基の２つの官能基を同時に導入した新規化合物
及びその製造方法に関する。
従来の技術とその課題 芳香族スルホニル化合物は、医薬品や染料等の合成中間
体として、また透明で耐熱性の高いポリスルホン系樹脂
の製造原料として、工業上重要な化合物である。
体として、また透明で耐熱性の高いポリスルホン系樹脂
の製造原料として、工業上重要な化合物である。
芳香族化合物にスルホン基を導入する方法としては、ク
ロロベンゼンとクロロスルホン酸とを反応させて、４−
クロロベンゼンスルホニルクロライドを合成する方法
が、特開昭５９− １４１５５６号公報で知られているが、同時にホルミル
基を導入する方法は知られていない。
ロロベンゼンとクロロスルホン酸とを反応させて、４−
クロロベンゼンスルホニルクロライドを合成する方法
が、特開昭５９− １４１５５６号公報で知られているが、同時にホルミル
基を導入する方法は知られていない。
一方、アルキルベンゼンにホルミル基を導入する方法と
しては、特公昭３９−２９７６０号公報等に記載のよう
に、フッ化水素−三フッ化ホウ素中で、一酸化炭素と反
応させる方法が知られているが、この反応系ではスルホ
ン基を導入することはできない。
しては、特公昭３９−２９７６０号公報等に記載のよう
に、フッ化水素−三フッ化ホウ素中で、一酸化炭素と反
応させる方法が知られているが、この反応系ではスルホ
ン基を導入することはできない。
そこで本発明者は、先にｍ−キシレン、ｏ−キシレンな
どのジアルキルベンゼンにホルミル基やハロゲン化スル
ホニル基を容易に挿入させて、ホルミルジアルキルベン
ゼンスルホニルハライドを製造する方法を見出した（特
願昭６３− ２３０３８８号）。しかしながら、この方法は、ｍ−キ
シレン、ｏ−キシレンなどのジアルキルベンゼンを用い
た場合に限られるものであり、これと同じ反応条件下で
は、トルエンなどのモノアルキルベンゼン、ｐ−キシレ
ンなどの１，４−ジアルキルベンゼン、或いはトリアル
キルベンゼン、テトラアルキルベンゼンなどを用いた場
合には、ホルミル基は容易に挿入するが、ハロゲン化ス
ルホニル基の挿入は不可能であった。
どのジアルキルベンゼンにホルミル基やハロゲン化スル
ホニル基を容易に挿入させて、ホルミルジアルキルベン
ゼンスルホニルハライドを製造する方法を見出した（特
願昭６３− ２３０３８８号）。しかしながら、この方法は、ｍ−キ
シレン、ｏ−キシレンなどのジアルキルベンゼンを用い
た場合に限られるものであり、これと同じ反応条件下で
は、トルエンなどのモノアルキルベンゼン、ｐ−キシレ
ンなどの１，４−ジアルキルベンゼン、或いはトリアル
キルベンゼン、テトラアルキルベンゼンなどを用いた場
合には、ホルミル基は容易に挿入するが、ハロゲン化ス
ルホニル基の挿入は不可能であった。
課題を解決するための手段 本発明の目的とするところは、アルキルベンゼンにホル
ミル基とフルオロスルホニル基を導入した新規化合物を
合成することにある。
ミル基とフルオロスルホニル基を導入した新規化合物を
合成することにある。
本発明者は、アルキルベンゼンのスルホン化反応と、カ
ルボニル化反応に関して鋭意研究した結果、５−フッ化
アンチモンの共存下、アルキルベンゼンとフルオロスル
ホン酸と一酸化炭素とを反応させることにより、常温常
圧下一段反応で、アルキルベンゼンにホルミル基とフル
オロスルホニル基を同時に導入し得ることを見出し、本
発明を完成するに至った。
ルボニル化反応に関して鋭意研究した結果、５−フッ化
アンチモンの共存下、アルキルベンゼンとフルオロスル
ホン酸と一酸化炭素とを反応させることにより、常温常
圧下一段反応で、アルキルベンゼンにホルミル基とフル
オロスルホニル基を同時に導入し得ることを見出し、本
発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、下記の化合物及びその製造法に係る： 一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
５のアルキル基を示す。但し、 Ｒ１〜Ｒ４のうち２つがＨで、ホルミル基及びフルオロ
スルホニル基がそれぞれＲ１〜Ｒ４の残り２つのアルキ
ル基のパラ位に位置するものを除く。） で表されるホルミルアルキルベンゼンスルホニルフルオ
ライド。
５のアルキル基を示す。但し、 Ｒ１〜Ｒ４のうち２つがＨで、ホルミル基及びフルオロ
スルホニル基がそれぞれＲ１〜Ｒ４の残り２つのアルキ
ル基のパラ位に位置するものを除く。） で表されるホルミルアルキルベンゼンスルホニルフルオ
ライド。
５−フッ化アンチモンの存在下にフルオロスルホン
酸と一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＣ１〜Ｃ５のアルキ
ル基を示す。） で表されるアルキルベンゼンと一酸化炭素とを反応させ
ることを特徴とする。
酸と一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＣ１〜Ｃ５のアルキ
ル基を示す。） で表されるアルキルベンゼンと一酸化炭素とを反応させ
ることを特徴とする。
一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
５のアルキル基を示す。但し、 Ｒ１〜Ｒ４のうち２つがＨで、ホルミル基及びフルオロ
スルホニル基がそれぞれＲ１〜Ｒ４の残り２つのアルキ
ル基のパラ位に位置するものを除く。） で表されるホルミルアルキルベンゼンスルホニルフルオ
ライドの製造方法。
５のアルキル基を示す。但し、 Ｒ１〜Ｒ４のうち２つがＨで、ホルミル基及びフルオロ
スルホニル基がそれぞれＲ１〜Ｒ４の残り２つのアルキ
ル基のパラ位に位置するものを除く。） で表されるホルミルアルキルベンゼンスルホニルフルオ
ライドの製造方法。
フルオロスルホン酸と５−フッ化アンチモンとを混合し
て得られる超強酸の酸強度は１００％硫酸の１００倍以
上であり、そのために、従来の硫酸やポリリン酸系では
不可能であった反応が可能になるものである。なぜなら
ば、超強酸中では種々のカチオンが安定に存在し、芳香
族化合物への求電子置換反応が起こりやすくなる。
て得られる超強酸の酸強度は１００％硫酸の１００倍以
上であり、そのために、従来の硫酸やポリリン酸系では
不可能であった反応が可能になるものである。なぜなら
ば、超強酸中では種々のカチオンが安定に存在し、芳香
族化合物への求電子置換反応が起こりやすくなる。
本発明の特徴とするところは、５−フッ化アンチモンの
添加比を従来よりも増加して酸強度を高めた反応溶液中
で、反応を行うことにより従来反応しなかった化合物に
対してもフルオロスルホニル基の挿入を可能にしたこと
にある。
添加比を従来よりも増加して酸強度を高めた反応溶液中
で、反応を行うことにより従来反応しなかった化合物に
対してもフルオロスルホニル基の挿入を可能にしたこと
にある。
すなわち、５−フッ化アンチモンをフルオロスルホン酸
に対してモル比で０．５倍以上加えた溶液（ハメットの
酸度関数−Ｈｏ＞２２．５）中においてのみ、本発明に
おける反応が進行する。
に対してモル比で０．５倍以上加えた溶液（ハメットの
酸度関数−Ｈｏ＞２２．５）中においてのみ、本発明に
おける反応が進行する。
本発明における反応過程を次式に示す。
前式のように、上述した条件下に一酸化炭素雰囲気下で
超強酸にアルキルベンゼンを加え、室温で撹拌するだけ
で、スルホニル基とホルミル基は、ベンゼン核に導入さ
れ、一段で３−ホルミル−２，４，６−アルキルベンゼ
ンスルホニルフルオライドが合成される。
超強酸にアルキルベンゼンを加え、室温で撹拌するだけ
で、スルホニル基とホルミル基は、ベンゼン核に導入さ
れ、一段で３−ホルミル−２，４，６−アルキルベンゼ
ンスルホニルフルオライドが合成される。
上記反応式（３）の反応における５−フッ化アンチモン
の添加量と生成物との関係を第１表に示す。
の添加量と生成物との関係を第１表に示す。
前記一般式（２）で表わされるアルキルベンゼンとして
は、モノアルキルベンゼン、ジアルキルベンゼン、トリ
アルキルベンゼン、テトラアルキルベンゼン等が挙げら
れる。モノアルキルベンゼンとしては、例えばトルエ
ン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、ブチルベンゼ
ン、ペンチルベンゼン等のベンゼン核に１つのアルキル
置換基を有する化合物、ジアルキルベンゼンとしては、
例えばパラキシレン、１，４−ジエチルベンゼン、１，
４−ジプロピルベンゼン、１，４−ジブチルベンゼン等
のベンゼン核に２つのアルキル置換基を有する化合物、
トリアルキルベンゼンとしては、例えば１，２，４−ト
リメチルベンゼン、１，３，５−トリメチルベンゼン、
１，２，３−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリエ
チルベンゼン、１，３，５−トリプロピルベンゼン等の
ベンゼン核に３つのアルキル置換基を有する化合物、テ
トラアルキルベンゼンとしては、例えば１，２，３，４
−テトラメチルベンゼン、１，２，３，５−テトラメチ
ルベンゼン、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン等
のベンゼン核に４つのアルキル置換基を有する化合物が
挙げられる。
は、モノアルキルベンゼン、ジアルキルベンゼン、トリ
アルキルベンゼン、テトラアルキルベンゼン等が挙げら
れる。モノアルキルベンゼンとしては、例えばトルエ
ン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、ブチルベンゼ
ン、ペンチルベンゼン等のベンゼン核に１つのアルキル
置換基を有する化合物、ジアルキルベンゼンとしては、
例えばパラキシレン、１，４−ジエチルベンゼン、１，
４−ジプロピルベンゼン、１，４−ジブチルベンゼン等
のベンゼン核に２つのアルキル置換基を有する化合物、
トリアルキルベンゼンとしては、例えば１，２，４−ト
リメチルベンゼン、１，３，５−トリメチルベンゼン、
１，２，３−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリエ
チルベンゼン、１，３，５−トリプロピルベンゼン等の
ベンゼン核に３つのアルキル置換基を有する化合物、テ
トラアルキルベンゼンとしては、例えば１，２，３，４
−テトラメチルベンゼン、１，２，３，５−テトラメチ
ルベンゼン、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン等
のベンゼン核に４つのアルキル置換基を有する化合物が
挙げられる。
合成法は一般的に次のようにして実施される。
一酸化炭素雰囲気中でフルオロスルホン酸と５−フッ化
アンチモンとの混合物中にアルキルベンゼンを徐々に加
えると、スルホン化反応及びカルボニル化反応は容易に
進行する。反応に用いられる原料と触媒のモル比は、ア
ルキルベンゼン：フルオロスルホン酸：５−フッ化アン
チモン＝ ［０．０５〜０．４］：１：［０．５〜０．８］とする
のがよく、ここで５−フッ化アンチモンはモル比でフル
オロスルホン酸に対して、０．５倍以上とする必要があ
る。反応温度は、２０〜６０℃程度が望ましい。反応混
合物を氷水に移した後、ベンゼン抽出により目的とする
ホルミルアルキルベンゼンスルホニルフルオライドが分
離される。
アンチモンとの混合物中にアルキルベンゼンを徐々に加
えると、スルホン化反応及びカルボニル化反応は容易に
進行する。反応に用いられる原料と触媒のモル比は、ア
ルキルベンゼン：フルオロスルホン酸：５−フッ化アン
チモン＝ ［０．０５〜０．４］：１：［０．５〜０．８］とする
のがよく、ここで５−フッ化アンチモンはモル比でフル
オロスルホン酸に対して、０．５倍以上とする必要があ
る。反応温度は、２０〜６０℃程度が望ましい。反応混
合物を氷水に移した後、ベンゼン抽出により目的とする
ホルミルアルキルベンゼンスルホニルフルオライドが分
離される。
このとき、上記反応の進行とともに、粘度が高くなるの
で、溶媒として、トリフロロ酢酸、トリクロロ酢酸、ジ
クロロ酢酸、硫酸、無水酢酸等を使用すると、反応は良
好に進行する。
で、溶媒として、トリフロロ酢酸、トリクロロ酢酸、ジ
クロロ酢酸、硫酸、無水酢酸等を使用すると、反応は良
好に進行する。
生成物の構造は、ＮＭＲ、ＩＲ、質量分析により確認さ
れた。
れた。
実施例 次に実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例１ 一酸化炭素ガスビューレットを接続した三ツ口フラスコ
を一酸化炭素で置換し、フルオロスルホン酸２０ml、５
−フッ化アンチモン２０mlを加える。２０℃でトルエン
１０．６mlを徐々に加え撹拌すると一酸化炭素２．２３
が反応で消費された。トルエン：フルオロスルホン
酸：５−フッ化アンチモン等のモル比は、１：３．５：
２．８であった。
を一酸化炭素で置換し、フルオロスルホン酸２０ml、５
−フッ化アンチモン２０mlを加える。２０℃でトルエン
１０．６mlを徐々に加え撹拌すると一酸化炭素２．２３
が反応で消費された。トルエン：フルオロスルホン
酸：５−フッ化アンチモン等のモル比は、１：３．５：
２．８であった。
６時間後反応混合物を氷水に移した。ベンゼンにより生
成物を抽出し、濃縮した。油状の物質をガスクロマトグ
ラフィー、ＮＭＲ、ＩＲ及び質量分析により分析した結
果、トルエンを基準にして、３−ホルミル−６−メチル
ベンゼンスルホニルフルオライド９．０９ｇ（収率４５
％）と、３−ホルミル−４−メチルベンゼンスルホニル
フルオライド３．０３ｇ（収率１５％）が生成してい
た。
成物を抽出し、濃縮した。油状の物質をガスクロマトグ
ラフィー、ＮＭＲ、ＩＲ及び質量分析により分析した結
果、トルエンを基準にして、３−ホルミル−６−メチル
ベンゼンスルホニルフルオライド９．０９ｇ（収率４５
％）と、３−ホルミル−４−メチルベンゼンスルホニル
フルオライド３．０３ｇ（収率１５％）が生成してい
た。
性値は以下に示される。
３−ホルミル−６−メチルベンゼンスルホニルフルオラ
イド ＭＳスペクトル：Ｍ+（m/e）＝ ０２ 1ＨＮＭＲケミカルシフト δ（ＣＣｌ4）： ２．７４（３Ｈ，ｓ） ７．５０（１Ｈ，ｄ） ８．００（１Ｈ，ｄ） ８．３０（１Ｈ，ｓ） ９．８８（１Ｈ，ｓ） ＩＲスペクトル（cm-1）： １７１５，１６００，１４２０，１２２０，７７
０ ３−ホルミル−４−メチルベンゼンスルホニルフルオラ
イド ＭＳスペクトル：Ｍ+ （m/e）＝２０２ 1ＨＮＭＲケミカルシフト δ（ＣＣｌ4） ２．７８（３Ｈ，ｓ） ７．４５（１Ｈ，ｄ） ７．９５（１Ｈ，ｄ） ８．２２（１Ｈ，ｓ） １０．２０（１Ｈ，ｓ） ＩＲスペクトル（cm-1）： １７００，１６００，１４１０，１１８０，８９
０，７３５ 実施例２ フルオロスルホン酸２０ml、５−フッ化アンチモン２０
ml、ｎ−ペンチルベンゼン８．６mlを実施例１と同様
に、一酸化炭素雰囲気で撹拌下に反応させた。ｎ−ペン
チルベンゼン：フルオロスルホン酸：５−フッ化アンチ
モンのモル比は、１：７．０：５．６であった。反応温
度３５℃、反応時間８時間、一酸化炭素消費量４５０m
l。実施例１と同様に反応生成物を抽出し、分析して、
３−ホルミル−６−ペンチルベンゼンスルホニルフルオ
ライド５．１６ｇがｎ−ペンチルベンゼンを基準にして
４０％の収率で生成していることを確認した。
イド ＭＳスペクトル：Ｍ+（m/e）＝ ０２ 1ＨＮＭＲケミカルシフト δ（ＣＣｌ4）： ２．７４（３Ｈ，ｓ） ７．５０（１Ｈ，ｄ） ８．００（１Ｈ，ｄ） ８．３０（１Ｈ，ｓ） ９．８８（１Ｈ，ｓ） ＩＲスペクトル（cm-1）： １７１５，１６００，１４２０，１２２０，７７
０ ３−ホルミル−４−メチルベンゼンスルホニルフルオラ
イド ＭＳスペクトル：Ｍ+ （m/e）＝２０２ 1ＨＮＭＲケミカルシフト δ（ＣＣｌ4） ２．７８（３Ｈ，ｓ） ７．４５（１Ｈ，ｄ） ７．９５（１Ｈ，ｄ） ８．２２（１Ｈ，ｓ） １０．２０（１Ｈ，ｓ） ＩＲスペクトル（cm-1）： １７００，１６００，１４１０，１１８０，８９
０，７３５ 実施例２ フルオロスルホン酸２０ml、５−フッ化アンチモン２０
ml、ｎ−ペンチルベンゼン８．６mlを実施例１と同様
に、一酸化炭素雰囲気で撹拌下に反応させた。ｎ−ペン
チルベンゼン：フルオロスルホン酸：５−フッ化アンチ
モンのモル比は、１：７．０：５．６であった。反応温
度３５℃、反応時間８時間、一酸化炭素消費量４５０m
l。実施例１と同様に反応生成物を抽出し、分析して、
３−ホルミル−６−ペンチルベンゼンスルホニルフルオ
ライド５．１６ｇがｎ−ペンチルベンゼンを基準にして
４０％の収率で生成していることを確認した。
物性値は以下に示される。
ＭＳスペクトル：Ｍ+（m/e）＝２５８ 1ＨＮＭＲケミカルシフト δ（ＣＣｌ4）： １．２（３Ｈ，ｔ） １．７（４Ｈ，ｍ） ２．６（４Ｈ，ｍ） ７．０−８．０（３Ｈ，ｍ） ９．９（１Ｈ，ｓ） ＩＲスペクトル（cm-1）： １７１０，１４１０，１２２０，７７０ 実施例３ 一酸化炭素ガスビューレットを接続した三ツ口フラスコ
を一酸化炭素で置換し、フルオロスルホン酸２０ml、５
−フッ化アンチモン２０mlを加えた。２５℃でｐ−キシ
レン７．２mlを徐々に加え撹拌すると、一酸化炭素１３
４０mlが反応で消費された。８時間後、反応混合物を氷
水に移し、生成物をベンゼン抽出により分離、濃縮し、
ガスクロマトグラフィー、ＮＭＲ、ＩＲ及び質量分析に
より分析した。３−ホルミル−２，５−ジメチルベンゼ
ンスルホニルフルオライド５．２ｇがｐ−キシレンを基
準にして４０％の収率で得られた。
を一酸化炭素で置換し、フルオロスルホン酸２０ml、５
−フッ化アンチモン２０mlを加えた。２５℃でｐ−キシ
レン７．２mlを徐々に加え撹拌すると、一酸化炭素１３
４０mlが反応で消費された。８時間後、反応混合物を氷
水に移し、生成物をベンゼン抽出により分離、濃縮し、
ガスクロマトグラフィー、ＮＭＲ、ＩＲ及び質量分析に
より分析した。３−ホルミル−２，５−ジメチルベンゼ
ンスルホニルフルオライド５．２ｇがｐ−キシレンを基
準にして４０％の収率で得られた。
物性値は以下に示される。
ＭＳスペクトル：Ｍ+ （m/e）＝２１６ 1ＨＮＭＲケミカルシフト δ（ＣＣｌ4）： ２．６０（３Ｈ，ｓ） ３．０７（３Ｈ，ｓ） ８．２３（１Ｈ，ｓ） ８．３４（１Ｈ，ｓ） １０．８０（１Ｈ，ｓ） ＩＲスペクトル（cm-1）： １６９０，１６００，１４６０，１３８０， １２３０，１２００，７８０ 実施例４ 一酸化炭素ガスビューレットを接続した三ツ口フラスコ
を一酸化炭素で置換し、フルオロスルホン酸２０ml、５
−フッ化アンチモン２０ml、トリフルオロ酢酸１０mlを
加えた。２０℃で１，３，５−トリメチルベンゼン１
３．９mlを徐々に加え撹拌すると、一酸化炭素２．２４
が反応で消費された。１，３，５−トリメチルベンゼ
ン：フルオロスルホン酸：５−フッ化アンチモンのモル
比は、１：３．５：２．８であった。８時間後、反応混
合物を氷水に移した。ベンゼンにより生成物を抽出し、
濃縮した。得られた油状の物質をガスクロマトグラフィ
ー、ＮＭＲ、ＩＲ及び質量分析により分析して、生成物
が３−ホルミル−２，４，６−トリメチルベンゼンスル
ホニルフルオライド１３．８ｇ（収率６０％）であるこ
とを確認した。
を一酸化炭素で置換し、フルオロスルホン酸２０ml、５
−フッ化アンチモン２０ml、トリフルオロ酢酸１０mlを
加えた。２０℃で１，３，５−トリメチルベンゼン１
３．９mlを徐々に加え撹拌すると、一酸化炭素２．２４
が反応で消費された。１，３，５−トリメチルベンゼ
ン：フルオロスルホン酸：５−フッ化アンチモンのモル
比は、１：３．５：２．８であった。８時間後、反応混
合物を氷水に移した。ベンゼンにより生成物を抽出し、
濃縮した。得られた油状の物質をガスクロマトグラフィ
ー、ＮＭＲ、ＩＲ及び質量分析により分析して、生成物
が３−ホルミル−２，４，６−トリメチルベンゼンスル
ホニルフルオライド１３．８ｇ（収率６０％）であるこ
とを確認した。
物性値は以下に示される。
ＭＳスペクトル：Ｍ+ （m/e）＝２３０ 1ＨＮＭＲケミカルシフト δ（ＣＣｌ3）： ２．５０（３Ｈ，ｓ） ２．６５（３Ｈ，ｓ） ２．７１（３Ｈ，ｓ） ６．９５（１Ｈ，ｓ） １０．５８（１Ｈ，ｓ） ＩＲスペクトル（cm-1）： ３０００，１７００，１５９０，１４００， １２０５，７６０ 実施例５ フルオロスルホン酸２０ml、５−フッ化アンチモン２０
ml、１，３，５−トリエチルベンゼン９．３mlを実施例
１と同様に一酸化炭素雰囲気で撹拌下に反応させた。
１，３，５−トリエチルベンゼン：フルオロスルホン
酸：５−フッ化アンチモンのモル比は、１：７：５．６
であった。反応時間は８時間で、一酸化炭素消費量は
１．１３であった。実施例１と同様に反応生成物を抽
出し、分析して、３−ホルミル−２，４，６−トリエチ
ルベンゼンスルホニルフルオライド４．０８ｇが１，
３，５−トリエチルベンゼンを基準にして３０％の収率
で生成していることを確認した。
ml、１，３，５−トリエチルベンゼン９．３mlを実施例
１と同様に一酸化炭素雰囲気で撹拌下に反応させた。
１，３，５−トリエチルベンゼン：フルオロスルホン
酸：５−フッ化アンチモンのモル比は、１：７：５．６
であった。反応時間は８時間で、一酸化炭素消費量は
１．１３であった。実施例１と同様に反応生成物を抽
出し、分析して、３−ホルミル−２，４，６−トリエチ
ルベンゼンスルホニルフルオライド４．０８ｇが１，
３，５−トリエチルベンゼンを基準にして３０％の収率
で生成していることを確認した。
物性値は以下に示される。
ＭＳスペクトル：Ｍ+ （m/e）＝２７２1 ＨＮＭＲケミカルシフト δ（ＣＤＣｌ4）： １．３（９Ｈ，ｍ） ２．０（６Ｈ，ｍ） ７．４（１Ｈ，ｓ） １０．１（１Ｈ，ｓ） ＩＲスペクトル（cm-1）： １７００，１４１０，１２００ 実施例６ 一酸化炭素ガスビューレットを接続した三ツ口フラスコ
を一酸化炭素で置換し、フルオロスルホン酸２０ml、５
−フッ化アンチモン２０mlを加えた。２０℃で１，２，
４−トリメチルベンゼン７．０mlを徐々に加え撹拌する
と、一酸化炭素１．１０が反応で消費された。１，
３，５−トリメチルベンゼン：フルオロスルホン酸：５
−フッ化アンチモンのモル比は、１：７．０：５．６で
あった。８時間後、反応混合物を氷水に移した。ベンゼ
ンにより生成物を抽出、濃縮した。生成物をガスクロマ
トグラフィー、ＮＭＲ、ＩＲ及び質量分析により分析し
た結果、３−ホルミル−２，５，６−トリメチルベンゼ
ンスルホニルフルオライド１．１５ｇ（収率１０％）が
生成していることが明らかになった。
を一酸化炭素で置換し、フルオロスルホン酸２０ml、５
−フッ化アンチモン２０mlを加えた。２０℃で１，２，
４−トリメチルベンゼン７．０mlを徐々に加え撹拌する
と、一酸化炭素１．１０が反応で消費された。１，
３，５−トリメチルベンゼン：フルオロスルホン酸：５
−フッ化アンチモンのモル比は、１：７．０：５．６で
あった。８時間後、反応混合物を氷水に移した。ベンゼ
ンにより生成物を抽出、濃縮した。生成物をガスクロマ
トグラフィー、ＮＭＲ、ＩＲ及び質量分析により分析し
た結果、３−ホルミル−２，５，６−トリメチルベンゼ
ンスルホニルフルオライド１．１５ｇ（収率１０％）が
生成していることが明らかになった。
物性値は以下に示される。
ＭＳスペクトル：Ｍ+ （m/e）＝２３０ ＩＲスペクトル（cm-1）： ３０００，１７００，１５９０，１４００， １２０５ 実施例７ フルオロスルホン酸２０ml、５−フッ化アンチモン２０
ml、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン８mlを実施
例１と同様に一酸化炭素雰囲気下、１気圧、２０℃で反
応させた。１，２，４，５−テトラメチルベンゼン：フ
ルオロスルホン酸：５−フッ化アンチモンのモル比は、
１：７：５．５であった。一酸化炭素１．１が反応で
消費された。８時間後に反応混合物を氷水に移し、ベン
ゼンによって生成物を抽出した。４−ホルミル−２，
３，５，６−テトラメチルベンゼンスルホニルフルオラ
イド０．６６ｇが１，２，４，５−テトラメチルベンゼ
ンを基準にして５％の収率で生成した。
ml、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン８mlを実施
例１と同様に一酸化炭素雰囲気下、１気圧、２０℃で反
応させた。１，２，４，５−テトラメチルベンゼン：フ
ルオロスルホン酸：５−フッ化アンチモンのモル比は、
１：７：５．５であった。一酸化炭素１．１が反応で
消費された。８時間後に反応混合物を氷水に移し、ベン
ゼンによって生成物を抽出した。４−ホルミル−２，
３，５，６−テトラメチルベンゼンスルホニルフルオラ
イド０．６６ｇが１，２，４，５−テトラメチルベンゼ
ンを基準にして５％の収率で生成した。
物性値は以下に示される。
ＭＳスペクトル：Ｍ+ （m/e）＝２４４ ＩＲスペクトル（cm-1）： ２９９５，１７０５，１５９０，１４００， １２１０
Claims (2)
- 【請求項１】一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
５のアルキル基を示す。但し、 Ｒ１〜Ｒ４のうち２つがＨで、ホルミル基及びフルオロ
スルホニル基がそれぞれＲ１〜Ｒ４の残り２つのアルキ
ル基のパラ位に位置するものを除く。） で表されるホルミルアルキルベンゼンスルホニルフルオ
ライド。 - 【請求項２】５−フッ化アンチモンの存在下にフルオロ
スルホン酸と一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＣ１〜Ｃ５のアルキ
ル基を示す。） で表されるアルキルベンゼンと一酸化炭素とを反応させ
ることを特徴とする 一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
５のアルキル基を示す。但し、 Ｒ１〜Ｒ４のうち２つがＨで、ホルミル基及びフルオロ
スルホニル基がそれぞれＲ１〜Ｒ４の残り２つのアルキ
ル基のパラ位に位置するものを除く。） で表されるホルミルアルキルベンゼンスルホニルフルオ
ライドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2054761A JPH062728B2 (ja) | 1990-03-05 | 1990-03-05 | ホルミルアルキルベンゼンスルホニルフルオライド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2054761A JPH062728B2 (ja) | 1990-03-05 | 1990-03-05 | ホルミルアルキルベンゼンスルホニルフルオライド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03255062A JPH03255062A (ja) | 1991-11-13 |
| JPH062728B2 true JPH062728B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=12979753
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2054761A Expired - Lifetime JPH062728B2 (ja) | 1990-03-05 | 1990-03-05 | ホルミルアルキルベンゼンスルホニルフルオライド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH062728B2 (ja) |
-
1990
- 1990-03-05 JP JP2054761A patent/JPH062728B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03255062A (ja) | 1991-11-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |