JPH06290909A - 電圧非直線抵抗体の製造方法 - Google Patents
電圧非直線抵抗体の製造方法Info
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- JPH06290909A JPH06290909A JP5073826A JP7382693A JPH06290909A JP H06290909 A JPH06290909 A JP H06290909A JP 5073826 A JP5073826 A JP 5073826A JP 7382693 A JP7382693 A JP 7382693A JP H06290909 A JPH06290909 A JP H06290909A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 放電耐量等の電気的特性が良好で、スプレー
ドライヤで造粒可能な電圧非直線抵抗体の製造方法を提
供する。 【構成】 酸化亜鉛を主成分とし、添加物として少なく
ともケイ素成分を含む電圧非直線抵抗体の製造方法にお
いて、前記抵抗体のケイ素成分原料として、ケイ酸ナト
リウムの複分解反応生成物から得た非晶質シリカであっ
てその比表面積（ＢＥＴ法）が100m2/g 以下のものを使
用する。
ドライヤで造粒可能な電圧非直線抵抗体の製造方法を提
供する。 【構成】 酸化亜鉛を主成分とし、添加物として少なく
ともケイ素成分を含む電圧非直線抵抗体の製造方法にお
いて、前記抵抗体のケイ素成分原料として、ケイ酸ナト
リウムの複分解反応生成物から得た非晶質シリカであっ
てその比表面積（ＢＥＴ法）が100m2/g 以下のものを使
用する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、酸化亜鉛を主成分とす
る電圧非直線抵抗体の製造方法に関するもので、特に原
料中添加剤として使用するケイ素成分原料に関するもの
である。
る電圧非直線抵抗体の製造方法に関するもので、特に原
料中添加剤として使用するケイ素成分原料に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来から酸化亜鉛を主成分とし、二酸化
ケイ素、酸化アンチモン、酸化ニッケル、酸化ビスマ
ス、酸化マンガン等の小量の添加物を含有した抵抗体
は、優れた電圧非直線性を示すことが広く知られてお
り、その性質を利用して避雷器等に使用されている。そ
の一例として、酸化亜鉛を主成分とし、添加剤としての
ケイ素成分原料として非晶質シリカを使用する例が、特
開平２−１３５７０１号公報において開示されている。
ケイ素、酸化アンチモン、酸化ニッケル、酸化ビスマ
ス、酸化マンガン等の小量の添加物を含有した抵抗体
は、優れた電圧非直線性を示すことが広く知られてお
り、その性質を利用して避雷器等に使用されている。そ
の一例として、酸化亜鉛を主成分とし、添加剤としての
ケイ素成分原料として非晶質シリカを使用する例が、特
開平２−１３５７０１号公報において開示されている。
【０００３】図２は、上述した従来から知られている電
圧非直線抵抗体の製造方法の一例を示すフローチャート
である。図２に示すように、従来の電圧非直線抵抗体の
製造方法では、まず上述した非晶質シリカ等の添加剤を
湿式で混合し、乾燥し、約５００℃で焙焼し、湿式粉砕
後、酸化亜鉛原料と混合して混合物スラリーを得る。次
に、混合物スラリーをスプレードライヤ等の噴霧乾燥機
で造粒し、造粒物を成形、脱脂、焼成して電圧非直線抵
抗体を得ていた。
圧非直線抵抗体の製造方法の一例を示すフローチャート
である。図２に示すように、従来の電圧非直線抵抗体の
製造方法では、まず上述した非晶質シリカ等の添加剤を
湿式で混合し、乾燥し、約５００℃で焙焼し、湿式粉砕
後、酸化亜鉛原料と混合して混合物スラリーを得る。次
に、混合物スラリーをスプレードライヤ等の噴霧乾燥機
で造粒し、造粒物を成形、脱脂、焼成して電圧非直線抵
抗体を得ていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の電圧非
直線抵抗体の製造方法では、ケイ素原料成分として非晶
質シリカを使用することにより高い放電耐量等を達成す
ることができるが、使用する非晶質シリカの性状によっ
ては放電耐量が低下する問題があった。また、添加剤に
非晶質シリカを使用した場合は、添加剤と酸化亜鉛原料
と所定量の水を単に混合して得た混合物スラリーではそ
の粘性が高くなるため、得られた混合物スラリーをその
ままスプレードライヤで噴霧乾燥して造粒できない問題
もあった。さらに、水分量を増して造粒したとしても、
水分が増えたことにより造粒品が中空品となり、放電耐
量の低下の原因にもなっていた。
直線抵抗体の製造方法では、ケイ素原料成分として非晶
質シリカを使用することにより高い放電耐量等を達成す
ることができるが、使用する非晶質シリカの性状によっ
ては放電耐量が低下する問題があった。また、添加剤に
非晶質シリカを使用した場合は、添加剤と酸化亜鉛原料
と所定量の水を単に混合して得た混合物スラリーではそ
の粘性が高くなるため、得られた混合物スラリーをその
ままスプレードライヤで噴霧乾燥して造粒できない問題
もあった。さらに、水分量を増して造粒したとしても、
水分が増えたことにより造粒品が中空品となり、放電耐
量の低下の原因にもなっていた。
【０００５】本発明の目的は上述した課題を解消して、
放電耐量等の電気的特性が良好で、スプレードライヤで
造粒可能な電圧非直線抵抗体の製造方法を提供しようと
するものである。
放電耐量等の電気的特性が良好で、スプレードライヤで
造粒可能な電圧非直線抵抗体の製造方法を提供しようと
するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の電圧非直線抵抗
体の製造方法は、酸化亜鉛を主成分とし、添加物として
少なくともケイ素成分を含む電圧非直線抵抗体の製造方
法において、前記抵抗体のケイ素成分原料として、ケイ
酸ナトリウムの複分解反応生成物から得た非晶質シリカ
であってその比表面積（ＢＥＴ法）が100m2/g 以下のも
のを使用することを特徴とするものである。
体の製造方法は、酸化亜鉛を主成分とし、添加物として
少なくともケイ素成分を含む電圧非直線抵抗体の製造方
法において、前記抵抗体のケイ素成分原料として、ケイ
酸ナトリウムの複分解反応生成物から得た非晶質シリカ
であってその比表面積（ＢＥＴ法）が100m2/g 以下のも
のを使用することを特徴とするものである。
【０００７】
【作用】上述した構成において、本発明者らは原料とし
て使用する非晶質シリカの製造工程について種々検討し
たところ、ケイ酸ナトリウムの複分解反応生成物から得
た非晶質シリカであってその比表面積（ＢＥＴ法）が10
0m2/g 以下のものを使用すると、各種放電耐量を良好に
でき、混合物スラリーのゲル化を防止スプレードライヤ
等で造粒可能となることを見いだしたことによる。
て使用する非晶質シリカの製造工程について種々検討し
たところ、ケイ酸ナトリウムの複分解反応生成物から得
た非晶質シリカであってその比表面積（ＢＥＴ法）が10
0m2/g 以下のものを使用すると、各種放電耐量を良好に
でき、混合物スラリーのゲル化を防止スプレードライヤ
等で造粒可能となることを見いだしたことによる。
【０００８】ここで、ケイ酸ナトリウムの複分解反応生
成物から得た非晶質シリカを使用することに限定したの
は、後述する実施例から明らかなように、他の方法から
得た非晶質シリカさらにはシリカガラスを使用した場合
と比べて、放電耐量が良好となるとともに、スプレード
ライヤによる造粒が可能なためである。また、比表面積
を100m2/g 以下と限定したのは、100m2/g を越えると放
電耐量が低下するとともにスプレードライヤによる造粒
が不可能となるためであり、またこの比表面積は小さい
ほど優れた放電耐量を示しゲル化のない原料を得ること
ができる。
成物から得た非晶質シリカを使用することに限定したの
は、後述する実施例から明らかなように、他の方法から
得た非晶質シリカさらにはシリカガラスを使用した場合
と比べて、放電耐量が良好となるとともに、スプレード
ライヤによる造粒が可能なためである。また、比表面積
を100m2/g 以下と限定したのは、100m2/g を越えると放
電耐量が低下するとともにスプレードライヤによる造粒
が不可能となるためであり、またこの比表面積は小さい
ほど優れた放電耐量を示しゲル化のない原料を得ること
ができる。
【０００９】
【実施例】図１は本発明における非晶質シリカの製造方
法の一例を示すフローチャートである。図１に示すフロ
ーチャートに従って非晶質シリカの製造方法を説明する
と、まずケイ酸ナトリウム水溶液と酸、二酸化炭素、ア
ンモニウム塩のいずれか、好ましくは塩酸、硫酸などの
酸とを混合して反応させる。複分解反応は好ましくは室
温から100 ℃の温度で行い、またシリカゾルをゲルかす
る工程を含んでいても良い。次に、得られた反応生成物
を洗浄乾燥し、好ましくは700 〜1200℃の温度で焙焼し
て、シリカ成分原料としてのＢＥＴ法による比表面積が
1 〜100m2/gの非晶質シリカを得ている。なお、洗浄の
際十分な洗浄を行い、得られた非晶質シリカが、Ig.los
s 6wt%以下、不純物としてのCl、SO4 は0.01wt% 以下ま
で洗浄すると、バリスタの強度や放電耐量が向上して好
ましい。その後、得られた非晶質シリカを使用して従来
と同様に電圧非直線抵抗体を製造している。
法の一例を示すフローチャートである。図１に示すフロ
ーチャートに従って非晶質シリカの製造方法を説明する
と、まずケイ酸ナトリウム水溶液と酸、二酸化炭素、ア
ンモニウム塩のいずれか、好ましくは塩酸、硫酸などの
酸とを混合して反応させる。複分解反応は好ましくは室
温から100 ℃の温度で行い、またシリカゾルをゲルかす
る工程を含んでいても良い。次に、得られた反応生成物
を洗浄乾燥し、好ましくは700 〜1200℃の温度で焙焼し
て、シリカ成分原料としてのＢＥＴ法による比表面積が
1 〜100m2/gの非晶質シリカを得ている。なお、洗浄の
際十分な洗浄を行い、得られた非晶質シリカが、Ig.los
s 6wt%以下、不純物としてのCl、SO4 は0.01wt% 以下ま
で洗浄すると、バリスタの強度や放電耐量が向上して好
ましい。その後、得られた非晶質シリカを使用して従来
と同様に電圧非直線抵抗体を製造している。
【００１０】酸化亜鉛を主成分とする電圧非直線抵抗体
を得るには、まず所定の粒度に調整した酸化亜鉛原料と
所定の粒度に調整したBi2O3 、Co3O4 、MnO2、Sb2O3 、
Cr2O 3 、SiO2、NiO 等よりなる添加物の所定量を混合す
る。この際、本発明ではSiO2源原料として上述した方法
に従って製造した、好ましくは平均粒子径0.1 〜5.0μm
の非晶質シリカを使用する。これら原料粉末に対して
所定量のポリビニルアルコール水溶液と分散剤を加え、
規定の水分量である30％にし、好ましくはディスパーミ
ルにより混合した後、スプレードライヤにより造粒して
造粒物を得る。造粒後、成形圧力800 〜1000kg/cm2の下
で所定の形状に成形する。そして成形体を昇降温速度1
〜10時間で熱処理し結合剤を飛散除去することが好まし
い。
を得るには、まず所定の粒度に調整した酸化亜鉛原料と
所定の粒度に調整したBi2O3 、Co3O4 、MnO2、Sb2O3 、
Cr2O 3 、SiO2、NiO 等よりなる添加物の所定量を混合す
る。この際、本発明ではSiO2源原料として上述した方法
に従って製造した、好ましくは平均粒子径0.1 〜5.0μm
の非晶質シリカを使用する。これら原料粉末に対して
所定量のポリビニルアルコール水溶液と分散剤を加え、
規定の水分量である30％にし、好ましくはディスパーミ
ルにより混合した後、スプレードライヤにより造粒して
造粒物を得る。造粒後、成形圧力800 〜1000kg/cm2の下
で所定の形状に成形する。そして成形体を昇降温速度1
〜10時間で熱処理し結合剤を飛散除去することが好まし
い。
【００１１】次に、仮焼成した仮焼成体の側面に側面高
抵抗層を形成する。本発明では、ビスマス化合物、アン
チモン化合物、ケイ素化合物等の所定量に有機結合剤と
してエチルセルロース、ブチルカルビトール、酢酸ｎブ
チル等を加えた側面高抵抗層用混合物ペーストを、30〜
300 μm の厚さに仮焼成体側面に塗布する。この際も、
ケイ素化合物として、このマスクは平均粒子径が10μm
以下の非晶質尻かを使用する。次に、これを昇降温速度
40〜60℃／hr、最高保持温度1000〜1300℃好ましくは11
00〜1250℃、3 〜7 時間という条件で本焼成する。
抵抗層を形成する。本発明では、ビスマス化合物、アン
チモン化合物、ケイ素化合物等の所定量に有機結合剤と
してエチルセルロース、ブチルカルビトール、酢酸ｎブ
チル等を加えた側面高抵抗層用混合物ペーストを、30〜
300 μm の厚さに仮焼成体側面に塗布する。この際も、
ケイ素化合物として、このマスクは平均粒子径が10μm
以下の非晶質尻かを使用する。次に、これを昇降温速度
40〜60℃／hr、最高保持温度1000〜1300℃好ましくは11
00〜1250℃、3 〜7 時間という条件で本焼成する。
【００１２】なお、ガラス粉末に有機結合剤としてエチ
ルセルロース、ブチルカルビトール、酢酸ｎブチル等を
加えたガラスペーストを前記の側面高抵抗層上に30〜30
0 μm の厚さに塗布し、空気中で昇降温速度50〜200 ℃
／hr、400 〜800 ℃で保持時間0.5 〜4 時間という条件
で熱処理することによりガラス層を形成すると好まし
い。その後、得られた電圧非直線抵抗体の両端面をSiC
、Al2O3 、ダイヤモンド等の＃400 〜2000相当の研磨
砥石により水好ましくは油を使用して研磨する。次に、
研磨面を洗浄後、研磨した両端面に例えばアルミニウム
等によって電極を例えば溶射により設けて電圧非直線抵
抗体を得ている。
ルセルロース、ブチルカルビトール、酢酸ｎブチル等を
加えたガラスペーストを前記の側面高抵抗層上に30〜30
0 μm の厚さに塗布し、空気中で昇降温速度50〜200 ℃
／hr、400 〜800 ℃で保持時間0.5 〜4 時間という条件
で熱処理することによりガラス層を形成すると好まし
い。その後、得られた電圧非直線抵抗体の両端面をSiC
、Al2O3 、ダイヤモンド等の＃400 〜2000相当の研磨
砥石により水好ましくは油を使用して研磨する。次に、
研磨面を洗浄後、研磨した両端面に例えばアルミニウム
等によって電極を例えば溶射により設けて電圧非直線抵
抗体を得ている。
【００１３】以下、実際に本発明範囲内および範囲外の
電圧非直線抵抗体について各種特性を測定した結果につ
いて説明する。実施例 以下の表１に示すように、ケイ酸ナトリウムと塩酸との
複分解反応を利用するとともに焙焼温度を変化させるこ
とによりＢＥＴ比表面積を1 〜100 m2/gの範囲とした本
発明例No.1〜6 の非晶質シリカと、同様にケイ酸ナトリ
ウムの複分解反応を利用したが比表面積が本発明範囲外
の比較例No.1〜4 の非晶質シリカと、四塩化ケイ素の複
分解反応を利用した比較例No.5〜6 の非晶質シリカと、
比較例No.7としてシリカガラスとを準備した。なお、試
験した抵抗体の組成は、非晶質シリカまたはシリカガラ
スSiO2を2mol% と、それ以外の添加剤であるBi2O3 、Co
3O 4 、MnO2、Sb2O3 、Cr2O3 、NiO を各々0.1 〜2mol%
、Al(NO3)2・9H2Oを0.001〜0.01mol%、銀を含むホウケ
イ酸ビスマスガラスを0.01〜0.3wt%、残部ZnO からなる
組成とし、水分量30％とした混合物スラリーを作製し、
この混合物スラリーから上述した製造方法に従って、直
径47mm、高さ22.5mmの形状でＶ1mA ＝250 Ｖ／mmの電圧
非直線抵抗体を得た。
電圧非直線抵抗体について各種特性を測定した結果につ
いて説明する。実施例 以下の表１に示すように、ケイ酸ナトリウムと塩酸との
複分解反応を利用するとともに焙焼温度を変化させるこ
とによりＢＥＴ比表面積を1 〜100 m2/gの範囲とした本
発明例No.1〜6 の非晶質シリカと、同様にケイ酸ナトリ
ウムの複分解反応を利用したが比表面積が本発明範囲外
の比較例No.1〜4 の非晶質シリカと、四塩化ケイ素の複
分解反応を利用した比較例No.5〜6 の非晶質シリカと、
比較例No.7としてシリカガラスとを準備した。なお、試
験した抵抗体の組成は、非晶質シリカまたはシリカガラ
スSiO2を2mol% と、それ以外の添加剤であるBi2O3 、Co
3O 4 、MnO2、Sb2O3 、Cr2O3 、NiO を各々0.1 〜2mol%
、Al(NO3)2・9H2Oを0.001〜0.01mol%、銀を含むホウケ
イ酸ビスマスガラスを0.01〜0.3wt%、残部ZnO からなる
組成とし、水分量30％とした混合物スラリーを作製し、
この混合物スラリーから上述した製造方法に従って、直
径47mm、高さ22.5mmの形状でＶ1mA ＝250 Ｖ／mmの電圧
非直線抵抗体を得た。
【００１４】準備した本発明例および比較例の電圧非直
線抵抗体に対し、雷サージ耐量及び開閉サージ耐量を測
定するとともに、製造工程におけるスプレードライヤに
よる造粒の可否を予め調べておいた。結果を表１に示
す。なお、表１において、雷サージ耐量は、電流4/10μ
s で２回印加した後破壊したかどうかを調べ、破壊しな
かったものを○破壊したものを×として示した。ここ
で、各レベルで２個結果があるのは、２つの試料に対し
てこの試験を行ったことを示す。また、開閉サージ耐量
は、電流２msで２回印加した後破壊したか草加を調べ、
破壊しなかったものを○破壊したものを×として示し
た。また、造粒のできないものは、水分量を増加して造
粒させてバリスタ特性を求めた（比較例NO.3,4,6）。
線抵抗体に対し、雷サージ耐量及び開閉サージ耐量を測
定するとともに、製造工程におけるスプレードライヤに
よる造粒の可否を予め調べておいた。結果を表１に示
す。なお、表１において、雷サージ耐量は、電流4/10μ
s で２回印加した後破壊したかどうかを調べ、破壊しな
かったものを○破壊したものを×として示した。ここ
で、各レベルで２個結果があるのは、２つの試料に対し
てこの試験を行ったことを示す。また、開閉サージ耐量
は、電流２msで２回印加した後破壊したか草加を調べ、
破壊しなかったものを○破壊したものを×として示し
た。また、造粒のできないものは、水分量を増加して造
粒させてバリスタ特性を求めた（比較例NO.3,4,6）。
【００１５】
【表１】
【００１６】表１の結果から、本発明例は比較例と比べ
て、雷サージ耐量および開閉サージ耐量とも向上すると
ともに、スプレードライヤによる造粒が良好にできるこ
とがわかった。また、原料となる非晶質シリカとして
は、ケイ酸ナトリウムの複分解反応により得られたもの
でＢＥＴ比表面積が100m2/g 以下のものを使用する必要
があることがわかった。
て、雷サージ耐量および開閉サージ耐量とも向上すると
ともに、スプレードライヤによる造粒が良好にできるこ
とがわかった。また、原料となる非晶質シリカとして
は、ケイ酸ナトリウムの複分解反応により得られたもの
でＢＥＴ比表面積が100m2/g 以下のものを使用する必要
があることがわかった。
【００１７】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、原料となるケイ素成分原料として、ケイ酸ナ
トリウムの複分解生成物からなりそのＢＥＴ比表面積が
100m2/g 以下のものを使用することにより、雷サージ放
電耐量および開閉サージ放電耐量がともに良好で、しか
もスプレードライヤによる造粒が可能となる。
によれば、原料となるケイ素成分原料として、ケイ酸ナ
トリウムの複分解生成物からなりそのＢＥＴ比表面積が
100m2/g 以下のものを使用することにより、雷サージ放
電耐量および開閉サージ放電耐量がともに良好で、しか
もスプレードライヤによる造粒が可能となる。
【図１】本発明における非晶質シリカの製造方法の一例
を示すフローチャートである。
を示すフローチャートである。
【図２】従来の電圧非直線抵抗体の製造方法の一例を示
すフローチャートである。
すフローチャートである。
Claims (1)
- 【請求項１】 酸化亜鉛を主成分とし、添加物として少
なくともケイ素成分を含む電圧非直線抵抗体の製造方法
において、前記抵抗体のケイ素成分原料として、ケイ酸
ナトリウムの複分解反応生成物から得た非晶質シリカで
あってその比表面積（ＢＥＴ法）が100m2/g 以下のもの
を使用することを特徴とする電圧非直線抵抗体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5073826A JPH06290909A (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 電圧非直線抵抗体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5073826A JPH06290909A (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 電圧非直線抵抗体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06290909A true JPH06290909A (ja) | 1994-10-18 |
Family
ID=13529347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5073826A Pending JPH06290909A (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 電圧非直線抵抗体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06290909A (ja) |
-
1993
- 1993-03-31 JP JP5073826A patent/JPH06290909A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20000912 |