JPH0629288B2 - オレフイン重合用触媒成分 - Google Patents
オレフイン重合用触媒成分Info
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- JPH0629288B2 JPH0629288B2 JP59126378A JP12637884A JPH0629288B2 JP H0629288 B2 JPH0629288 B2 JP H0629288B2 JP 59126378 A JP59126378 A JP 59126378A JP 12637884 A JP12637884 A JP 12637884A JP H0629288 B2 JPH0629288 B2 JP H0629288B2
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F10/00—Homopolymers and copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
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- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明はオレフイン重合用触媒成分に関し、さらに詳し
くは高立体規則性で嵩密度の高いオレフイン重合体を高
収率で製造し得る触媒成分に関する。
くは高立体規則性で嵩密度の高いオレフイン重合体を高
収率で製造し得る触媒成分に関する。
背景技術 ハロゲンを含まないマグネシウム化合物とチタン化合物
との接触物が、オレフイン重合用触媒成分として有効で
あることは知られているが、その触媒性能は低く、その
改良法として、一般式SiXlR4-lのハロゲン化シラン又は
該ハロゲン化シランと電子供与性化合物の存在下、Mg(O
R)2と四ハロゲン化チタンを接触させる方法（特開昭５
２−９８０７６号公報）、Mg-O-R結合を有するマグネシ
ウム化合物と一般式XmSiRnのケイ素化合物のようなハロ
ゲン化剤を接触させる際、又は接触させた後、電子供与
性化合物を存在させて接触させる方法（特開昭５３−４
３０９４号公報）等で触媒成分を製造する試みがなされ
ている。またハロゲン化アルミニウム、Si-O結合を有す
る有機化合物およびマグネシウムアルコラートの固体状
生成物に少なくとも１個のハロゲン原子を有する４価の
チタン化合物を接触させる方法（特開昭５３−７８２８
７号公報）や、マグネシウム化合物、チタン化合物およ
びケイ素化合物を反応させて得られる反応物と、少なく
とも１種のハロゲン化アルミニウム化合物とを反応させ
る方法（特開昭５６−１５５２０５号公報）のようにハ
ロゲン化アルミニウムを必須反応成分として固体触媒成
分を製造する試みもなされている。
との接触物が、オレフイン重合用触媒成分として有効で
あることは知られているが、その触媒性能は低く、その
改良法として、一般式SiXlR4-lのハロゲン化シラン又は
該ハロゲン化シランと電子供与性化合物の存在下、Mg(O
R)2と四ハロゲン化チタンを接触させる方法（特開昭５
２−９８０７６号公報）、Mg-O-R結合を有するマグネシ
ウム化合物と一般式XmSiRnのケイ素化合物のようなハロ
ゲン化剤を接触させる際、又は接触させた後、電子供与
性化合物を存在させて接触させる方法（特開昭５３−４
３０９４号公報）等で触媒成分を製造する試みがなされ
ている。またハロゲン化アルミニウム、Si-O結合を有す
る有機化合物およびマグネシウムアルコラートの固体状
生成物に少なくとも１個のハロゲン原子を有する４価の
チタン化合物を接触させる方法（特開昭５３−７８２８
７号公報）や、マグネシウム化合物、チタン化合物およ
びケイ素化合物を反応させて得られる反応物と、少なく
とも１種のハロゲン化アルミニウム化合物とを反応させ
る方法（特開昭５６−１５５２０５号公報）のようにハ
ロゲン化アルミニウムを必須反応成分として固体触媒成
分を製造する試みもなされている。
しかしながら、これらの方法で得られた触媒成分は、触
媒活性が低く、立体規則性に劣り又得られる重合体の嵩
密度が低い等の問題点がある。
媒活性が低く、立体規則性に劣り又得られる重合体の嵩
密度が低い等の問題点がある。
さらに、マグネシウム化合物、電子供与性化合物、Si-H
結合を有するケイ素化合物及びチタンハロゲン化合物を
接触してなるオレフイン重合触媒成分も知られている
（特開昭５７−９２００９号公報）が、実質的には、マ
グネシウム化合物はハロゲン化マグネシウムであり、か
つケイ素化合物とチタンハロゲン化合物は同時に用いて
接触させるものであつて、その性能も満足したものでは
ない。
結合を有するケイ素化合物及びチタンハロゲン化合物を
接触してなるオレフイン重合触媒成分も知られている
（特開昭５７−９２００９号公報）が、実質的には、マ
グネシウム化合物はハロゲン化マグネシウムであり、か
つケイ素化合物とチタンハロゲン化合物は同時に用いて
接触させるものであつて、その性能も満足したものでは
ない。
又、高活性触媒と無脱灰プロセスに適用する場合には、
生成ポリマー中の残留灰分量及び臭気の原因となるエス
テル類等の改質剤を低レベルに抑える必要がある。この
目的のためには、触媒活性が高いことは必須要件である
が、更に触媒中のチタン含量が低いこと、重合時の有機
アルミニウム化合物及び改質剤の使用量が少量であつて
も、高活性かつ高立体規則性が維持されることが必要で
ある。しかしながら、従来の触媒では、有機アルミニウ
ム化合物の使用量が減少すると立体規則性が低下する傾
向にあり、特に実用化段階で問題が多かつた。
生成ポリマー中の残留灰分量及び臭気の原因となるエス
テル類等の改質剤を低レベルに抑える必要がある。この
目的のためには、触媒活性が高いことは必須要件である
が、更に触媒中のチタン含量が低いこと、重合時の有機
アルミニウム化合物及び改質剤の使用量が少量であつて
も、高活性かつ高立体規則性が維持されることが必要で
ある。しかしながら、従来の触媒では、有機アルミニウ
ム化合物の使用量が減少すると立体規則性が低下する傾
向にあり、特に実用化段階で問題が多かつた。
更に、高立体規則性を有し、 嵩密度の高いオレフイン重合体を高収率で製造し得るマ
グネシウムアルコキシド、水素−珪素結合を有する珪素
化合物、電子供与性化合物及びチタン化合物を接触して
なる触媒成分が提案されている（特開昭５８−１９８５
０３号公報）が、該触媒成分も、重合時に従来の触媒成
分と同程度の有機アルミニウム化合物の併用が必要であ
る。
グネシウムアルコキシド、水素−珪素結合を有する珪素
化合物、電子供与性化合物及びチタン化合物を接触して
なる触媒成分が提案されている（特開昭５８−１９８５
０３号公報）が、該触媒成分も、重合時に従来の触媒成
分と同程度の有機アルミニウム化合物の併用が必要であ
る。
発明の開示 発明の目的 本発明は、出発原料としてハロゲンを含まないマグネシ
ウム化合物を用いて、重合時に助触媒として用いられる
有機アルミニウム化合物を減らしても、高立体規則性及
び高活性を示し、嵩密度の高いオレフイン重合体を製造
し得る触媒成分を提供することを目的とするものであ
り、本発明者らは鋭意研究を行つた結果、マグネシウム
ジアルコキシド、珪素−水素結合を有する珪素化合物及
びチタン化合物の接触物を、更に炭化水素又は特定のハ
ロゲン含有化合物と接触させることによつて本発明の目
的を達成し得ることを見出して本発明を完成した。
ウム化合物を用いて、重合時に助触媒として用いられる
有機アルミニウム化合物を減らしても、高立体規則性及
び高活性を示し、嵩密度の高いオレフイン重合体を製造
し得る触媒成分を提供することを目的とするものであ
り、本発明者らは鋭意研究を行つた結果、マグネシウム
ジアルコキシド、珪素−水素結合を有する珪素化合物及
びチタン化合物の接触物を、更に炭化水素又は特定のハ
ロゲン含有化合物と接触させることによつて本発明の目
的を達成し得ることを見出して本発明を完成した。
発明の要旨 本発明は、(A)マグネシウムジアルコキシド，(B)一般式
HmRnSiXr 〔但し、Ｒは炭化水素基、R1O-若しくはR2R3
N-、Ｘはハロゲン原子を示し、１ｍ３、０ｒ
３、ｍ＋ｎ＋ｒ＝４である。R1，R2及びR3はそれぞれ炭
化水素基を示す。〕で表わされる珪素化合物及び(C)一
般式TiX4〔但し、Ｘはハロゲン原子を示す。〕のチタン
化合物を接触して得られる生成物を、(D)(イ)炭化水素，
(ロ)ハロゲン化炭化水素化合物及び／又は(ハ)Ｂ，Ａｌ，
Ｓｉ又はＳｎのハロゲン化物と接触してなるオレフイン
重合用触媒成分を要旨とする。
HmRnSiXr 〔但し、Ｒは炭化水素基、R1O-若しくはR2R3
N-、Ｘはハロゲン原子を示し、１ｍ３、０ｒ
３、ｍ＋ｎ＋ｒ＝４である。R1，R2及びR3はそれぞれ炭
化水素基を示す。〕で表わされる珪素化合物及び(C)一
般式TiX4〔但し、Ｘはハロゲン原子を示す。〕のチタン
化合物を接触して得られる生成物を、(D)(イ)炭化水素，
(ロ)ハロゲン化炭化水素化合物及び／又は(ハ)Ｂ，Ａｌ，
Ｓｉ又はＳｎのハロゲン化物と接触してなるオレフイン
重合用触媒成分を要旨とする。
触媒成分調製の原料 本発明で用いられる触媒成分を調製する際に用いられる
各原料について説明する。
各原料について説明する。
(A)マグネシウムジアルコキシド 本発明で用いられるマグネシウムジアルコキシドは、一
般式Mg(OR)(OR′）で表わされるものである。式におい
てはＲ及びＲ′は炭素数１〜２０個、望ましくは１〜１
０個のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリー
ル、アルアルキル基である。又、ＲとＲ′は同じでも異
なつてもよい。
般式Mg(OR)(OR′）で表わされるものである。式におい
てはＲ及びＲ′は炭素数１〜２０個、望ましくは１〜１
０個のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリー
ル、アルアルキル基である。又、ＲとＲ′は同じでも異
なつてもよい。
これら化合物を例示すると、Mg(OCH3)2，Mg(OC2H5)2，M
g(OCH3)(OC2H5)，Mg(Oi-C3H7)2，Mg(OC3H7)2，Mg(OC
4H9)2，Mg(Oi-C4H9)2，Mg(OC4H9)(Oi-C4H9)，Mg(OC4H9)
(Osec-C4H9)，Mg(OC6H13)2，Mg(OC8H17)2，Mg(OC6H11)2
Mg(OC6H5)2，Mg(OC6H4CH3)2，Mg(OCH2C6H5)2等を挙げ
ることができる。
g(OCH3)(OC2H5)，Mg(Oi-C3H7)2，Mg(OC3H7)2，Mg(OC
4H9)2，Mg(Oi-C4H9)2，Mg(OC4H9)(Oi-C4H9)，Mg(OC4H9)
(Osec-C4H9)，Mg(OC6H13)2，Mg(OC8H17)2，Mg(OC6H11)2
Mg(OC6H5)2，Mg(OC6H4CH3)2，Mg(OCH2C6H5)2等を挙げ
ることができる。
これらマグネシウムジアルコキシドは使用する際に、乾
燥するのが望ましく、特に減圧下での加熱乾燥が望まし
い。さらに、これらマグネシウムジアルコキシドは、市
販品を用いてもよく、公知の方法で合成したものを用い
てもよい。
燥するのが望ましく、特に減圧下での加熱乾燥が望まし
い。さらに、これらマグネシウムジアルコキシドは、市
販品を用いてもよく、公知の方法で合成したものを用い
てもよい。
このマグネシウムジアルコキシド、無機或いは有機の不
活性な固体物質と予め接触させて使用することも可能で
ある。
活性な固体物質と予め接触させて使用することも可能で
ある。
無機の固体物質としては、硫酸塩、水酸化物、炭酸塩、
リン酸塩、ケイ酸塩のような金属化合物が適しており、
例えば、Mg(OH)2，BaCO3，Ca3(PO4)2等が挙げられる。
リン酸塩、ケイ酸塩のような金属化合物が適しており、
例えば、Mg(OH)2，BaCO3，Ca3(PO4)2等が挙げられる。
有機の固体物質としては、デユレン、アントラセン、ナ
フタレン、ジフエニルのような芳香族炭化水素等の低分
子量化合物が挙げられる。又、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリビニルトルエン、ポリスチレン、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリアミド、ポリエステル、ポリ塩
化ビニル等の高分子量化合物も用いることができる。
フタレン、ジフエニルのような芳香族炭化水素等の低分
子量化合物が挙げられる。又、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリビニルトルエン、ポリスチレン、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリアミド、ポリエステル、ポリ塩
化ビニル等の高分子量化合物も用いることができる。
(B)珪素化合物 本発明で用いられる珪素化合物は、一般式HmRnSiXrで表
わされる。式において、Ｒは炭化水素基、R1O-（R1
は炭化水素基）、R2R3N-（R2，R3は炭化水素基）であ
る。Ｘはハロゲン原子、１≦ｍ≦３、０≦ｒ≦３、ｍ＋
ｎ＋ｒ＝４である。又、ｎが１を超える場合Ｒは同じで
も異なつてもよい。
わされる。式において、Ｒは炭化水素基、R1O-（R1
は炭化水素基）、R2R3N-（R2，R3は炭化水素基）であ
る。Ｘはハロゲン原子、１≦ｍ≦３、０≦ｒ≦３、ｍ＋
ｎ＋ｒ＝４である。又、ｎが１を超える場合Ｒは同じで
も異なつてもよい。
Ｒ，R1，R2，R3で示される炭化水素基としては、炭素数
１〜１６個のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、
アリール、アルアルキル基等を挙げることができる。ア
ルキルとしては、メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、２−エ
チルヘキシル、ｎ−デシル等が、アルケニルとしては、
ビニル、アリル、イソプロペニル、プロペニル、ブテニ
ル等が、シクロアルキルとしては、シクロペンチル、シ
クロヘキシル等が、アリールとしては、フエニル、トリ
ル、キシリル等が、アルアルキルとしては、ベンジル、
フエネチル、フエニルプロピル等が挙げられる。
１〜１６個のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、
アリール、アルアルキル基等を挙げることができる。ア
ルキルとしては、メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、２−エ
チルヘキシル、ｎ−デシル等が、アルケニルとしては、
ビニル、アリル、イソプロペニル、プロペニル、ブテニ
ル等が、シクロアルキルとしては、シクロペンチル、シ
クロヘキシル等が、アリールとしては、フエニル、トリ
ル、キシリル等が、アルアルキルとしては、ベンジル、
フエネチル、フエニルプロピル等が挙げられる。
これらの中でもメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル等の低級アル
キル及びフエニル、トリル等のアリールが望ましい。
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル等の低級アル
キル及びフエニル、トリル等のアリールが望ましい。
Ｘは塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子であり、望ま
しくは塩素原子である。
しくは塩素原子である。
珪素化合物を例示すると、HSiCl3，H2SiCl2，H3SiCl，H
CH3SiCl2，HC2H5SiCl2，H(t-C4H9)SiCl2，HC6H5SiCl2，
H(CH3)2SiCl，H(i-C3H7)2SiCl，H2C2H5SiCl，H2(n-C
4H9)SiCl，H2(C6H4CH3)SiCl，HSi(CH3)3，HSiCH3(OCH3)
2，HSiCH3(OC2H5)2，HSi(OCH3)3，(C2H5)2SiH2，HSi(CH
3)2(OC2H5)，HSi(CH3)2〔N(CH3)2〕，HSiCH3(C2H5)2，H
SiC2H5(OC2H5)2，HSiCH3〔N(CH3)2〕2，C6H5SiH3，HSi
(C2H5)3，HSi(OC2H5)3，HSi(CH3)2〔N(C2H5)2〕，HSi
〔N(CH3)2〕3，C6H5CH3SiH2，C6H5(CH3)2SiH，(n-C3H7)
3SiH，HSiCl(C6H5)2，H2Si(C6H5)2，HSi(C6H5)2CH3，(n
-C5H11O)3SiH，HSi(C6H5)3，(n-C5H11O)3SiH等を挙げる
ことができる。
CH3SiCl2，HC2H5SiCl2，H(t-C4H9)SiCl2，HC6H5SiCl2，
H(CH3)2SiCl，H(i-C3H7)2SiCl，H2C2H5SiCl，H2(n-C
4H9)SiCl，H2(C6H4CH3)SiCl，HSi(CH3)3，HSiCH3(OCH3)
2，HSiCH3(OC2H5)2，HSi(OCH3)3，(C2H5)2SiH2，HSi(CH
3)2(OC2H5)，HSi(CH3)2〔N(CH3)2〕，HSiCH3(C2H5)2，H
SiC2H5(OC2H5)2，HSiCH3〔N(CH3)2〕2，C6H5SiH3，HSi
(C2H5)3，HSi(OC2H5)3，HSi(CH3)2〔N(C2H5)2〕，HSi
〔N(CH3)2〕3，C6H5CH3SiH2，C6H5(CH3)2SiH，(n-C3H7)
3SiH，HSiCl(C6H5)2，H2Si(C6H5)2，HSi(C6H5)2CH3，(n
-C5H11O)3SiH，HSi(C6H5)3，(n-C5H11O)3SiH等を挙げる
ことができる。
これらの中でも、前記一般式Ｒが炭化水素、ｎが０〜２
の数、ｒが１〜３の数のハロゲン化珪素化合物、すなわ
ちHSiCl3，H2SiCl2，H3SiCl，HCH3SiCl2，HC2H5SiCl2，
H(t-C4H9)SiCl2，HC3H5SiCl2，H(CH3)2SiCl，H(i-C3H7)
2SiCl，H2C2H5SiCl，H2(n-C4H9)SiCl，H2(C6H4CH3)SiC
l，HSiCl(C6H5)2等が望ましく、特にHSiCl3，HCH3SiC
l2，H(CH3)2SiCl等が望ましい。
の数、ｒが１〜３の数のハロゲン化珪素化合物、すなわ
ちHSiCl3，H2SiCl2，H3SiCl，HCH3SiCl2，HC2H5SiCl2，
H(t-C4H9)SiCl2，HC3H5SiCl2，H(CH3)2SiCl，H(i-C3H7)
2SiCl，H2C2H5SiCl，H2(n-C4H9)SiCl，H2(C6H4CH3)SiC
l，HSiCl(C6H5)2等が望ましく、特にHSiCl3，HCH3SiC
l2，H(CH3)2SiCl等が望ましい。
(C)チタン化合物 チタン化合物は、一般式TiX4〔但し、Ｘはハロゲン原子
を示す。〕で表わされ、それらを例示すると、四塩化チ
タン、四臭化チタンを挙げることができる。これらの中
でも、特に四塩化チタンが望ましい。
を示す。〕で表わされ、それらを例示すると、四塩化チ
タン、四臭化チタンを挙げることができる。これらの中
でも、特に四塩化チタンが望ましい。
(D)炭化水素，ハロゲン化炭化水素並びにＢ，Ａｌ，Ｓ
ｉ又はＳｎのハロゲン化物炭化水素は脂肪族、脂環式及
び芳香族炭化水素を用いる事ができるが、それら化合物
の具体的な例としては、 ｎ−ヘキサン、メチルヘキサン、ジメチルヘキサン、エ
チルヘキサン、エチルメチルぺンタン、ｎ−ヘプタン、
メチルヘプタン、トリメチルペンタン、ジメチルヘプタ
ン、エチルヘプタン、トリメチルヘキサン、トリメチル
ヘプタン、ｎ−オクタン、メチルオクタン、ジメチルオ
クタン、ｎ−ウンデカン、ｎ−ドデカン、ｎ−トリデカ
ン、ｎ−テトラデカン、ｎ−ペンタデカン、ｎ−ヘキサ
デカン、ｎ−オクタデカン、ｎ−ノナデカン、ｎ−エイ
コサン、 シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタ
ン、シクロヘプタン、ジメチルシクロペンタン、メチル
シクロヘキサン、エチルシクロペンタン、ジメチルシク
ロヘキサン、エチルシクロヘキサン、シクロオクタン、
インダン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、イソブチルシク
ロヘキサン、アダマンタン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、ｎ−ブ
チルベンゼン、イソブチルベンゼン、プロピルトルエ
ン、デカリン、テトラリン等が挙げられる。
ｉ又はＳｎのハロゲン化物炭化水素は脂肪族、脂環式及
び芳香族炭化水素を用いる事ができるが、それら化合物
の具体的な例としては、 ｎ−ヘキサン、メチルヘキサン、ジメチルヘキサン、エ
チルヘキサン、エチルメチルぺンタン、ｎ−ヘプタン、
メチルヘプタン、トリメチルペンタン、ジメチルヘプタ
ン、エチルヘプタン、トリメチルヘキサン、トリメチル
ヘプタン、ｎ−オクタン、メチルオクタン、ジメチルオ
クタン、ｎ−ウンデカン、ｎ−ドデカン、ｎ−トリデカ
ン、ｎ−テトラデカン、ｎ−ペンタデカン、ｎ−ヘキサ
デカン、ｎ−オクタデカン、ｎ−ノナデカン、ｎ−エイ
コサン、 シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタ
ン、シクロヘプタン、ジメチルシクロペンタン、メチル
シクロヘキサン、エチルシクロペンタン、ジメチルシク
ロヘキサン、エチルシクロヘキサン、シクロオクタン、
インダン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、イソブチルシク
ロヘキサン、アダマンタン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、ｎ−ブ
チルベンゼン、イソブチルベンゼン、プロピルトルエ
ン、デカリン、テトラリン等が挙げられる。
ハロゲン化炭化水素としては、炭素数１〜１２個の飽和
又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素のモノ
及びポリハロゲン置換体である。それら化合物の具体的
な例は、脂肪族化合物では、メチルクロリド、メチルブ
ロミド、メチルアイオダイド、メチレンクロリド、メチ
レンブロミド、メチレンアイオダイド、クロロホルム、
ブロモホルム、ヨードホルム、四塩化炭素、四臭化炭
素、四沃化炭素、エチルクロリド、エチルブロミド、エ
チルアイオダイド、1,2−ジクロルエタン、1,2−ジブロ
ムエタン、1,2−ジヨードエタン、メチルクロロホル
ム、メチルプロモホルム、メチルヨードホルム、1,1,2
−トリクロルエチレン、1,1,2−トリブロムエチレン、
1,1,2,2−テトラクロルエチレン、ペンタクロルエタ
ン、ヘキサクロルエタン、ヘキサブロムエタン、ｎ−プ
ロピルクロリド、1,2−ジクロルプロパン、ヘキサクロ
ルプロピレン、オクタクロルプロパン、デカブロムブタ
ン、塩素化パラフインが、脂環式化合物ではクロルシク
ロプロパン、テトラクロルシクロペンタン、ヘキサクロ
ルシクロペンタジエン、ヘキサクロルシクロヘキサン
が、芳香族化合物ではクロルベンゼン、ブロムベンゼ
ン、ｏ−ジクロルベンゼン、ｐ−ジクロルベンゼン、ヘ
キサクロルベンゼン、ヘキサブロムベンゼン、ベンゾト
リクロリド、ｐ−クロルベンゾトリクロリド等が挙げら
れる。これらの化合物は、一種のみならず二種以上用い
てもよい。
又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素のモノ
及びポリハロゲン置換体である。それら化合物の具体的
な例は、脂肪族化合物では、メチルクロリド、メチルブ
ロミド、メチルアイオダイド、メチレンクロリド、メチ
レンブロミド、メチレンアイオダイド、クロロホルム、
ブロモホルム、ヨードホルム、四塩化炭素、四臭化炭
素、四沃化炭素、エチルクロリド、エチルブロミド、エ
チルアイオダイド、1,2−ジクロルエタン、1,2−ジブロ
ムエタン、1,2−ジヨードエタン、メチルクロロホル
ム、メチルプロモホルム、メチルヨードホルム、1,1,2
−トリクロルエチレン、1,1,2−トリブロムエチレン、
1,1,2,2−テトラクロルエチレン、ペンタクロルエタ
ン、ヘキサクロルエタン、ヘキサブロムエタン、ｎ−プ
ロピルクロリド、1,2−ジクロルプロパン、ヘキサクロ
ルプロピレン、オクタクロルプロパン、デカブロムブタ
ン、塩素化パラフインが、脂環式化合物ではクロルシク
ロプロパン、テトラクロルシクロペンタン、ヘキサクロ
ルシクロペンタジエン、ヘキサクロルシクロヘキサン
が、芳香族化合物ではクロルベンゼン、ブロムベンゼ
ン、ｏ−ジクロルベンゼン、ｐ−ジクロルベンゼン、ヘ
キサクロルベンゼン、ヘキサブロムベンゼン、ベンゾト
リクロリド、ｐ−クロルベンゾトリクロリド等が挙げら
れる。これらの化合物は、一種のみならず二種以上用い
てもよい。
Ｂ，Ａｌ，Ｓｉ又はＳｎのハロゲン化物（以下、金属ハ
ライドという。）としては、塩化物、弗化物、臭化物、
ヨウ化物が挙げられ、特に、BCl3，BBr3，BI3，AlCl3，
AlBr3，AlI3，SiCl4，SnCl4等が好適である。
ライドという。）としては、塩化物、弗化物、臭化物、
ヨウ化物が挙げられ、特に、BCl3，BBr3，BI3，AlCl3，
AlBr3，AlI3，SiCl4，SnCl4等が好適である。
触媒成分の調製法 本発明の触媒成分は、マグネシウムジアルコキシド（Ａ
成分）、珪素化合物（Ｂ成分）及びチタン化合物（Ｃ成
分）を接触させることによつて得られる生成物を、炭化
水素、ハロゲン化炭化水素及び／又は金属ハライド（Ｄ
成分）と接触させることによつて得られる。
成分）、珪素化合物（Ｂ成分）及びチタン化合物（Ｃ成
分）を接触させることによつて得られる生成物を、炭化
水素、ハロゲン化炭化水素及び／又は金属ハライド（Ｄ
成分）と接触させることによつて得られる。
Ａ成分，Ｂ成分及びＣ成分の接触 Ａ成分，Ｂ成分及びＣ成分の接触方法としては、(1)Ａ
成分とＢ成分を接触させた後、Ｃ成分を接触させる方
法、(2)Ａ成分，Ｂ成分及びＣ成分を同時に接触させる
方法等が挙げられるが、特に(1)の方法が望ましくい。
以下(1)の方法について説明する。
成分とＢ成分を接触させた後、Ｃ成分を接触させる方
法、(2)Ａ成分，Ｂ成分及びＣ成分を同時に接触させる
方法等が挙げられるが、特に(1)の方法が望ましくい。
以下(1)の方法について説明する。
Ａ成分とＢ成分との接触 Ａ成分とＢ成分との接触は、両者を炭化水素及び／又は
ハロゲン化炭化水素の存在下又は不存在下に、混合攪拌
する方法、機械的に共粉砕する方法等により達成され
る。
ハロゲン化炭化水素の存在下又は不存在下に、混合攪拌
する方法、機械的に共粉砕する方法等により達成され
る。
炭化水素としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シ
クロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が、ハ
ロゲン化炭化水素としては、1,2−ジクロルエタン、1,2
−ジクロルプロパン、四塩化炭素、塩化ブチル、塩化イ
ソアミル、ブロムベンゼン、クロルトルエン等が挙げら
れる。
クロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が、ハ
ロゲン化炭化水素としては、1,2−ジクロルエタン、1,2
−ジクロルプロパン、四塩化炭素、塩化ブチル、塩化イ
ソアミル、ブロムベンゼン、クロルトルエン等が挙げら
れる。
Ａ成分とＢ成分の接触割合は、Ａ成分１モル当り、Ｂ成
分0.5〜１０モル、望ましくは１〜５モルである。
分0.5〜１０モル、望ましくは１〜５モルである。
機械的共粉砕により両者を接触する場合は、粉砕物を得
るために用いられる通常の粉砕機を用いて行えばよく、
その粉砕機として例えば回転ボールミル、振動ボールミ
ル、衝撃ミル等を挙げることができる。共粉砕処理は必
要に応じて、減圧下又は不活性ガスの雰囲気中で、かつ
水分、酸素等が実質的に存在しない状態で行うことがで
きる。
るために用いられる通常の粉砕機を用いて行えばよく、
その粉砕機として例えば回転ボールミル、振動ボールミ
ル、衝撃ミル等を挙げることができる。共粉砕処理は必
要に応じて、減圧下又は不活性ガスの雰囲気中で、かつ
水分、酸素等が実質的に存在しない状態で行うことがで
きる。
機械的共粉砕する場合の接触温度は、０〜２００℃、接
触時間は0.5〜１００時間である。又、単に攪拌する接
触方法の場合の接触温度は、０〜２００℃、接触時間は
0.5〜１００時間である。Ｂ成分は一種に限らず同時に
二種以上用いてもよい。
触時間は0.5〜１００時間である。又、単に攪拌する接
触方法の場合の接触温度は、０〜２００℃、接触時間は
0.5〜１００時間である。Ｂ成分は一種に限らず同時に
二種以上用いてもよい。
Ａ成分とＢ成分との接触物は、必要に応じて更に電子供
与性化合物と接触させてもよい。電子供与性化合物とし
ては、カルボン酸類、カルボン酸エステル類、アルコー
ル類、エーテル類、ケトン類、アミン類、アミド類、ニ
トリル類、アルデヒド類、アルコレート類、有機基と炭
素もしくは酸素を介して結合した燐、ヒ素およびアンチ
モン化合物類、ホスホアミド類、チオエーテル類、チオ
エステル類、炭酸エステル類が挙げられるが、これらの
うち好ましく、使用されるものとしてはカルボン酸エス
テル、アルコール類、エーテル類である。
与性化合物と接触させてもよい。電子供与性化合物とし
ては、カルボン酸類、カルボン酸エステル類、アルコー
ル類、エーテル類、ケトン類、アミン類、アミド類、ニ
トリル類、アルデヒド類、アルコレート類、有機基と炭
素もしくは酸素を介して結合した燐、ヒ素およびアンチ
モン化合物類、ホスホアミド類、チオエーテル類、チオ
エステル類、炭酸エステル類が挙げられるが、これらの
うち好ましく、使用されるものとしてはカルボン酸エス
テル、アルコール類、エーテル類である。
カルボン酸の具体例としては、ギ酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、ビバリン
酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸の脂肪族モ
ノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸等の脂肪族
ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシカルボン酸、シ
クロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘキセンモノカル
ボン酸、シス−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、シ
ス−４−メチルシクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸等
の脂環式カルボン酸、安息香酸、トルイル酸、アニス
酸、ｐ−第三級ブチル安息香酸、ナフトエ酸、ケイ皮酸
等の芳香族モノカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、
テレフタル酸、ナフタル酸等の芳香族ジカルボン酸等が
挙げられる。
酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、ビバリン
酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸の脂肪族モ
ノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸等の脂肪族
ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシカルボン酸、シ
クロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘキセンモノカル
ボン酸、シス−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、シ
ス−４−メチルシクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸等
の脂環式カルボン酸、安息香酸、トルイル酸、アニス
酸、ｐ−第三級ブチル安息香酸、ナフトエ酸、ケイ皮酸
等の芳香族モノカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、
テレフタル酸、ナフタル酸等の芳香族ジカルボン酸等が
挙げられる。
カルボン酸無水物としては、上記のカルボン酸類の酸無
水物が使用し得る。
水物が使用し得る。
カルボン酸エステルとしては、上記のカルボン酸類のモ
ノ又はジエステルが使用することができ、その具体例と
して、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、イソ酪酸
イソブチル、ビバリン酸プロピル、ビバリン酸イソブチ
ル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリ
ル酸エチル、メタクリル酸イソブチル、マロン酸ジエチ
ル、マロン酸ジイソブチル、コハク酸ジエチル、コハク
酸ジブチル、コハク酸ジイソブチル、グルタル酸ジエチ
ル、グルタル酸ジブチル、グルタル酸ジイソブチル、ア
ジピン酸ジイソブチル、セバシン酸ジブチル、マレイン
酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジイソブ
チル、フマル酸モノメチル、フマル酸ジエチル、フマル
酸ジイソブチル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジブチル、酒
石酸ジイソブチル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、
安息香酸メチル、安息香酸エチル、ｐ−トルイル酸メチ
ル、ｐ−第三級ブチル安息香酸エチル、ｐ−アニス酸エ
チル、α−ナフトエ酸エチル、α−ナフトエ酸イソブチ
ル、ケイ皮酸エチル、フタル酸モノメチル、フタル酸ジ
ブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジヘキシル、
フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ２−エチルヘキシル、
フタル酸ジアリル、フタル酸ジフエニル、イソフタル酸
ジエチル、イソフタル酸ジイソブチル、テレフタル酸ジ
エチル、テレフタル酸ジブチル、ナフタル酸ジエチル、
ナフタル酸ジブチル等が挙げられる。
ノ又はジエステルが使用することができ、その具体例と
して、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、イソ酪酸
イソブチル、ビバリン酸プロピル、ビバリン酸イソブチ
ル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリ
ル酸エチル、メタクリル酸イソブチル、マロン酸ジエチ
ル、マロン酸ジイソブチル、コハク酸ジエチル、コハク
酸ジブチル、コハク酸ジイソブチル、グルタル酸ジエチ
ル、グルタル酸ジブチル、グルタル酸ジイソブチル、ア
ジピン酸ジイソブチル、セバシン酸ジブチル、マレイン
酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジイソブ
チル、フマル酸モノメチル、フマル酸ジエチル、フマル
酸ジイソブチル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジブチル、酒
石酸ジイソブチル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、
安息香酸メチル、安息香酸エチル、ｐ−トルイル酸メチ
ル、ｐ−第三級ブチル安息香酸エチル、ｐ−アニス酸エ
チル、α−ナフトエ酸エチル、α−ナフトエ酸イソブチ
ル、ケイ皮酸エチル、フタル酸モノメチル、フタル酸ジ
ブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジヘキシル、
フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ２−エチルヘキシル、
フタル酸ジアリル、フタル酸ジフエニル、イソフタル酸
ジエチル、イソフタル酸ジイソブチル、テレフタル酸ジ
エチル、テレフタル酸ジブチル、ナフタル酸ジエチル、
ナフタル酸ジブチル等が挙げられる。
カルボン酸ハロゲン化物としては、上記のカルボン酸類
の酸ハロゲン化物が使用することができ、その具体例と
して、酢酸クロリド、酢酸ブロミド、酢酸アイオダイ
ド、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、酪酸ブロミ
ド、酪酸アイオダイド、ビバリン酸クロリド、ビバリン
酸ブロミド、アクリル酸クロリド、アクリル酸ブロミ
ド、アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸クロリド、
メタクリル酸ブロミド、メタクリル酸アイオダイド、ク
ロトン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロン酸ブロミ
ド、コハク酸クロリド、コハク酸ブロミド、グルタル酸
クロリド、グルタル酸ブロミド、アジピン酸クロリド、
アジピン酸ブロミド、セバシン酸クロリド、セバシン酸
ブロミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸ブロミド、
フマル酸クロリド、フマル酸ブロミド、酒石酸クロリ
ド、酒石酸ブロミド、シクロヘキサンカルボン酸クロリ
ド、シクロヘキサンカルボン酸ブロミド、１−シクロヘ
キセンカルボン酸クロリド、シス−４−メチルシクロヘ
キセンカルボン酸クロリド、シス−４−メチルシクロヘ
キセンカルボン酸ブロミド、塩化ベンゾイル、臭化ベン
ゾイル、ｐ−トルイル酸クロリド、ｐ−トルイル酸ブロ
ミド、ｐ−アニス酸クロリド、ｐ−アニス酸ブロミド、
α−ナフトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、ケイ皮酸
ブロミド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブロミド、
イソフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロミド、テ
レフタル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリドが挙げら
れる。又、アジピン酸モノメチルクロリド、マレイン酸
モノエチルクロリド、マレイン酸モノメチルクロリドの
ようなジカルボン酸のモノアルキルハロゲン化物も使用
し得る。
の酸ハロゲン化物が使用することができ、その具体例と
して、酢酸クロリド、酢酸ブロミド、酢酸アイオダイ
ド、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、酪酸ブロミ
ド、酪酸アイオダイド、ビバリン酸クロリド、ビバリン
酸ブロミド、アクリル酸クロリド、アクリル酸ブロミ
ド、アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸クロリド、
メタクリル酸ブロミド、メタクリル酸アイオダイド、ク
ロトン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロン酸ブロミ
ド、コハク酸クロリド、コハク酸ブロミド、グルタル酸
クロリド、グルタル酸ブロミド、アジピン酸クロリド、
アジピン酸ブロミド、セバシン酸クロリド、セバシン酸
ブロミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸ブロミド、
フマル酸クロリド、フマル酸ブロミド、酒石酸クロリ
ド、酒石酸ブロミド、シクロヘキサンカルボン酸クロリ
ド、シクロヘキサンカルボン酸ブロミド、１−シクロヘ
キセンカルボン酸クロリド、シス−４−メチルシクロヘ
キセンカルボン酸クロリド、シス−４−メチルシクロヘ
キセンカルボン酸ブロミド、塩化ベンゾイル、臭化ベン
ゾイル、ｐ−トルイル酸クロリド、ｐ−トルイル酸ブロ
ミド、ｐ−アニス酸クロリド、ｐ−アニス酸ブロミド、
α−ナフトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、ケイ皮酸
ブロミド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブロミド、
イソフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロミド、テ
レフタル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリドが挙げら
れる。又、アジピン酸モノメチルクロリド、マレイン酸
モノエチルクロリド、マレイン酸モノメチルクロリドの
ようなジカルボン酸のモノアルキルハロゲン化物も使用
し得る。
アルコール類は、一般式ROHで表わされる。式において
Ｒは炭素数１〜１２個のアルキル、アルケニル、シクロ
アルキル、アリール、アルアルキルである。その具体例
としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イ
ソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ペンタ
ノール、ヘキサノール、オクタノール、２−エチルヘキ
サノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、
アリルアルコール、フエノール、クレゾール、キシレノ
ール、エチルフエノール、イソプロピルフエノール、ｐ
−ターシヤリーブチルフエノール、ｎ−オクチルフエノ
ール等である。エーテル類は、一般式ROR′で表わされ
る。式においては、Ｒ，Ｒ′は炭素数１〜１２個のアル
キル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルア
ルキルであり、Ｒ，Ｒ′は同じでも異つてもよい。その
具体例としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジ
イソアミルエーテル、ジ−２−エチルヘキシルエーテ
ル、ジアリルエーテル、エチルアリルエーテル、ブチル
アリルエーテル、ジフエニルエーテル、アニソール、エ
チルフエニルエーテル等である。
Ｒは炭素数１〜１２個のアルキル、アルケニル、シクロ
アルキル、アリール、アルアルキルである。その具体例
としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イ
ソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ペンタ
ノール、ヘキサノール、オクタノール、２−エチルヘキ
サノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、
アリルアルコール、フエノール、クレゾール、キシレノ
ール、エチルフエノール、イソプロピルフエノール、ｐ
−ターシヤリーブチルフエノール、ｎ−オクチルフエノ
ール等である。エーテル類は、一般式ROR′で表わされ
る。式においては、Ｒ，Ｒ′は炭素数１〜１２個のアル
キル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルア
ルキルであり、Ｒ，Ｒ′は同じでも異つてもよい。その
具体例としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジ
イソアミルエーテル、ジ−２−エチルヘキシルエーテ
ル、ジアリルエーテル、エチルアリルエーテル、ブチル
アリルエーテル、ジフエニルエーテル、アニソール、エ
チルフエニルエーテル等である。
Ａ成分とＢ成分との接触物と、必要に応じて行う電子供
与性化合物との接触は、両者を不活性な炭化水素の存在
下又は不存在下に、混合攪拌する方法、機械的に共粉砕
する方法等により達成される。不活性な炭化水素として
は、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。
与性化合物との接触は、両者を不活性な炭化水素の存在
下又は不存在下に、混合攪拌する方法、機械的に共粉砕
する方法等により達成される。不活性な炭化水素として
は、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。
機械的共粉砕による接触の場合の接触温度は、０〜１０
０℃、接触時間は0.1〜１００時間である。又、単に攪
拌する接触方法の場合の接触温度は、０〜１５０℃、接
触時間は0.5〜１０時間である。
０℃、接触時間は0.1〜１００時間である。又、単に攪
拌する接触方法の場合の接触温度は、０〜１５０℃、接
触時間は0.5〜１０時間である。
電子供与性化合物は、Ａ成分とＢ成分との接触物中のマ
グネシウム１グラム原子当り0.01〜１０グラムモル、特
に0.05〜１グラムモルの範囲で用いるのが望ましい。
グネシウム１グラム原子当り0.01〜１０グラムモル、特
に0.05〜１グラムモルの範囲で用いるのが望ましい。
又、電子供与性化合物との接触は、チタン化合物（Ｃ成
分）の存在下に接触させることも可能であり、この場
合、Ｃ成分と電子供与性化合物を遂次的に接触させる
か、予めＣ成分と電子供与性化合物とを接触させた後
に、Ａ成分とＢ成分との接触物と接触させることもでき
る。
分）の存在下に接触させることも可能であり、この場
合、Ｃ成分と電子供与性化合物を遂次的に接触させる
か、予めＣ成分と電子供与性化合物とを接触させた後
に、Ａ成分とＢ成分との接触物と接触させることもでき
る。
Ｃ成分との接触 Ａ成分とＢ成分との接触物又はさらに電子供与性化合物
との接触物（以下、これらを該接触物という）は、次い
でＣ成分と接触させる。該接触物はＣ成分と接触させる
前に、適当な洗浄剤、例えば前記の不活性の炭化水素で
洗浄してもよい。
との接触物（以下、これらを該接触物という）は、次い
でＣ成分と接触させる。該接触物はＣ成分と接触させる
前に、適当な洗浄剤、例えば前記の不活性の炭化水素で
洗浄してもよい。
該接触物とＣ成分との接触は、両者をそのまま接触させ
てもよいが、炭化水素、ハロゲン化炭化水素及び／又は
電子供与性化合物の存在下、両者を混合攪拌する方法、
機械的に共粉砕する方法等も採用できる。
てもよいが、炭化水素、ハロゲン化炭化水素及び／又は
電子供与性化合物の存在下、両者を混合攪拌する方法、
機械的に共粉砕する方法等も採用できる。
炭化水素としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シ
クロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭素
数６〜１２個の飽和脂肪族、飽和脂環式及び芳香族炭化
水素が望ましい。
クロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭素
数６〜１２個の飽和脂肪族、飽和脂環式及び芳香族炭化
水素が望ましい。
ハロゲン化炭化水素としては、触媒成分調製原料(D)項
に記載の化合物を用いることができる。又、電子供与性
化合物としては、前記Ａ成分とＢ成分との接触物に、必
要に応じて接触する際に用いられる化合物が用い得る。
に記載の化合物を用いることができる。又、電子供与性
化合物としては、前記Ａ成分とＢ成分との接触物に、必
要に応じて接触する際に用いられる化合物が用い得る。
該接触物とＣ成分との接触における両者の使用割合は、
該接触物中のマグネシウム１グラム原子当り、Ｃ成分0.
1グラムモル以上、望ましくは１〜５０グラムモルであ
る。又、その接触条件は、炭化水素、ハロゲン化炭化水
素又は電子供与性化合物の存在下で行う場合、０〜２０
０℃で0.5〜２０時間、望ましくは６０〜１５０℃で１
〜５時間である。
該接触物中のマグネシウム１グラム原子当り、Ｃ成分0.
1グラムモル以上、望ましくは１〜５０グラムモルであ
る。又、その接触条件は、炭化水素、ハロゲン化炭化水
素又は電子供与性化合物の存在下で行う場合、０〜２０
０℃で0.5〜２０時間、望ましくは６０〜１５０℃で１
〜５時間である。
炭化水素及び／又はハロゲン化炭化水素の使用量は、該
接触物が液体物質（炭化水素及び／又は液状のハロゲン
化炭化水素並びに液状のチタン化合物）１当り、１０
〜３００ｇとなるように用いるのが望ましい。又、電子
供与性化合物の使用量は、該接触物中のマグネシウム１
グラム原子当り、0.01〜１０グラムモル、特に0.05〜１
グラムモルの範囲が望ましい。電子供与性化合物は、予
め不活性な炭化水素に溶解させた後、或いはＣ成分と予
め接触させた後、該接触物を接触することもできる。
接触物が液体物質（炭化水素及び／又は液状のハロゲン
化炭化水素並びに液状のチタン化合物）１当り、１０
〜３００ｇとなるように用いるのが望ましい。又、電子
供与性化合物の使用量は、該接触物中のマグネシウム１
グラム原子当り、0.01〜１０グラムモル、特に0.05〜１
グラムモルの範囲が望ましい。電子供与性化合物は、予
め不活性な炭化水素に溶解させた後、或いはＣ成分と予
め接触させた後、該接触物を接触することもできる。
Ｃ成分との接触は必要に応じて２回以上行つてもよい。
この場合、これらの接触の中間に炭化水素及び／又はハ
ロゲン化炭化水素による洗浄を常温下若しくは加熱下で
行つてもよい。
この場合、これらの接触の中間に炭化水素及び／又はハ
ロゲン化炭化水素による洗浄を常温下若しくは加熱下で
行つてもよい。
上記のようにして得られた固体状生成物は、液状物質か
ら分離し、必要に応じてヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の不活性な炭化水素で洗浄し、次のＤ成分との接触に供
される。接触の前に乾燥してもよい。
ら分離し、必要に応じてヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の不活性な炭化水素で洗浄し、次のＤ成分との接触に供
される。接触の前に乾燥してもよい。
Ｄ成分との接触 Ａ成分，Ｂ成分及びＣ成分の接触により得られる生成物
（以下、該生成物という。）は、次いでＤ成分と接触さ
せて本発明の触媒成分とする。Ｄ成分は、一種に限らず
二種以上を用いてもよい。特に、Ｄ成分が常温において
固体状物質である場合は、該Ｄ成分を可溶化する媒体を
併用するのが望ましい。
（以下、該生成物という。）は、次いでＤ成分と接触さ
せて本発明の触媒成分とする。Ｄ成分は、一種に限らず
二種以上を用いてもよい。特に、Ｄ成分が常温において
固体状物質である場合は、該Ｄ成分を可溶化する媒体を
併用するのが望ましい。
該生成物とＤ成分との接触は、機械的に共粉砕する方法
も採れるが、望ましくは媒体の存在下混合攪拌する方法
である。該接触条件は、０〜２００℃で５分間〜２０時
間、望ましくは１０〜１２０℃で１０分間〜５時間であ
る。Ｄ成分は、Ｄ成分が液状物質である場合、Ｄ成分１
当り該生成物が１〜１０００ｇとなるように用いるの
が望ましく、又Ｄ成分が固体状物質である場合、該生成
物１ｇ当りＤ成分を0.01〜１００ｇとなるように用いる
のが望ましい。該接触は必要に応じて２回以上行つても
よい。
も採れるが、望ましくは媒体の存在下混合攪拌する方法
である。該接触条件は、０〜２００℃で５分間〜２０時
間、望ましくは１０〜１２０℃で１０分間〜５時間であ
る。Ｄ成分は、Ｄ成分が液状物質である場合、Ｄ成分１
当り該生成物が１〜１０００ｇとなるように用いるの
が望ましく、又Ｄ成分が固体状物質である場合、該生成
物１ｇ当りＤ成分を0.01〜１００ｇとなるように用いる
のが望ましい。該接触は必要に応じて２回以上行つても
よい。
該接触終了後、接触生成物を必要に応じて、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の不活性な炭化水素で洗浄し、乾燥し
て本発明の触媒成分とする。
ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の不活性な炭化水素で洗浄し、乾燥し
て本発明の触媒成分とする。
本発明の触媒成分は、ベツト（BET）法で液体窒素の吸
着温度において測定した比表面積が５０〜６５０m2／
ｇ、細孔容積が0.05〜0.4c.c.／ｇであり、その粒度分
布も狭くて大きさが揃つている。又、その組成はマグネ
シウム原子が１０〜２５重量％、チタン原子が0.5〜１
０重量％、ハロゲン原子が４０〜６０重量％であり、そ
の他有機化合物等を含む。又、触媒成分を調製する際に
電子供与性化合物を用いた場合は、通常該化合物が含ま
れる。
着温度において測定した比表面積が５０〜６５０m2／
ｇ、細孔容積が0.05〜0.4c.c.／ｇであり、その粒度分
布も狭くて大きさが揃つている。又、その組成はマグネ
シウム原子が１０〜２５重量％、チタン原子が0.5〜１
０重量％、ハロゲン原子が４０〜６０重量％であり、そ
の他有機化合物等を含む。又、触媒成分を調製する際に
電子供与性化合物を用いた場合は、通常該化合物が含ま
れる。
オレフインの重合触媒 本発明の触媒成分は、有機アルミニウム化合物と組合せ
てオレフインの単独重合又は他のオレフインとの共重合
用の触媒とする。
てオレフインの単独重合又は他のオレフインとの共重合
用の触媒とする。
有機アルミニウム化合物 オレフインを重合する際に触媒成分と組合わせる有機ア
ルミニウム化合物は、一般式RnAlX3-n（但し、Ｒはアル
キル基又はアリール基、Ｘはハロゲン原子、アルコキシ
基又は水素原子を示し、ｎは１ｎ３の範囲の任意の
数である。）で示されるものであり、例えばトリアルキ
ルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムモノハライ
ド、モノアルキルアルミニウムジハライド、アルキルア
ルミニウムセスキハライド、ジアルキルアルミニウムモ
ノアルコキシド及びジアルキルアルミニウムモノハイド
ライドなどの炭素数１ないし１８個、好ましくは炭素数
２ないし６個のアルキルアルミニウム化合物又はその混
合物もしくは錯化合物が特に好ましい。具体的には、ト
リメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ
プロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、
トリヘキシルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニ
ウム、ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミ
ニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、ジエ
チルアルミニウムアイオダイド、ジイソブチルアルミニ
ウムクロリドなどのジアルキルアルミニウムモノハライ
ド、メチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウ
ムジクロリド、エチルアルミニウムジブロミド、エチル
アルミニウムジブロミド、エチルアルミニウムジアイオ
ダイド、イソブチルアルミニウムジクロリドなどのモノ
アルキルアルミニウムジハライド、エチルアルミニウム
セスキクロリドなどのアルキルアルミニウムセスキハラ
イド、ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアル
ミニウムエトキシド、ジエチルアルミニウムフエノキシ
ド、ジプロピルアルミニウムエトキシド、ジイソブチル
アルミニウムエトキシド、ジイソブチルアルミニウムフ
エノキシドなどのジアルキルアルミニウムモノアルコキ
シド、ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルア
ルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなど
のジアルキルアルミニウムハイドライドが挙げられる。
ルミニウム化合物は、一般式RnAlX3-n（但し、Ｒはアル
キル基又はアリール基、Ｘはハロゲン原子、アルコキシ
基又は水素原子を示し、ｎは１ｎ３の範囲の任意の
数である。）で示されるものであり、例えばトリアルキ
ルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムモノハライ
ド、モノアルキルアルミニウムジハライド、アルキルア
ルミニウムセスキハライド、ジアルキルアルミニウムモ
ノアルコキシド及びジアルキルアルミニウムモノハイド
ライドなどの炭素数１ないし１８個、好ましくは炭素数
２ないし６個のアルキルアルミニウム化合物又はその混
合物もしくは錯化合物が特に好ましい。具体的には、ト
リメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ
プロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、
トリヘキシルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニ
ウム、ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミ
ニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、ジエ
チルアルミニウムアイオダイド、ジイソブチルアルミニ
ウムクロリドなどのジアルキルアルミニウムモノハライ
ド、メチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウ
ムジクロリド、エチルアルミニウムジブロミド、エチル
アルミニウムジブロミド、エチルアルミニウムジアイオ
ダイド、イソブチルアルミニウムジクロリドなどのモノ
アルキルアルミニウムジハライド、エチルアルミニウム
セスキクロリドなどのアルキルアルミニウムセスキハラ
イド、ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアル
ミニウムエトキシド、ジエチルアルミニウムフエノキシ
ド、ジプロピルアルミニウムエトキシド、ジイソブチル
アルミニウムエトキシド、ジイソブチルアルミニウムフ
エノキシドなどのジアルキルアルミニウムモノアルコキ
シド、ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルア
ルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなど
のジアルキルアルミニウムハイドライドが挙げられる。
これらの中でも、トリアルキルアルミニウムが、特にト
リエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが
望ましい。又、これらトリアルキルアルミニウムは、そ
の他の有機アルミニウム化合物、例えば、工業的に入手
し易いジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニ
ウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、
ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチルアルミニウ
ムハイドライド又はこれらの混合物若しくは錯化合物等
と併用することができる。
リエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが
望ましい。又、これらトリアルキルアルミニウムは、そ
の他の有機アルミニウム化合物、例えば、工業的に入手
し易いジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニ
ウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、
ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチルアルミニウ
ムハイドライド又はこれらの混合物若しくは錯化合物等
と併用することができる。
さらに、有機アルミニウム化合物は、単独で用いてもよ
いが、電子供与性化合物と組合せて用いてもよい。電子
供与性化合物としては、前記触媒成分調製時の、マグネ
シウムアルコキシドと珪素化合物との接触物に必要に応
じて接触させる電子供与性化合物のどの化合物も用いる
ことができる他、有機珪素化合物からなる電子供与性化
合物や、窒素、イオウ、酸素リン等のヘテロ原子を含む
電子供与性化合物も用いることができる。
いが、電子供与性化合物と組合せて用いてもよい。電子
供与性化合物としては、前記触媒成分調製時の、マグネ
シウムアルコキシドと珪素化合物との接触物に必要に応
じて接触させる電子供与性化合物のどの化合物も用いる
ことができる他、有機珪素化合物からなる電子供与性化
合物や、窒素、イオウ、酸素リン等のヘテロ原子を含む
電子供与性化合物も用いることができる。
有機珪素化合物の具体例としては、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テ
トライソブトキシシラン、テトラフエノキシシラン、テ
トラ（ｐ−メチルフエノキシ）シラン、テトラベンジル
オキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルト
リフエノキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチ
ルトリイソブトキシシラン、エチルトリフエノキシシラ
ン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシ
ラン、ブチルトリブトキシシラン、ブチルトリフエノキ
シシラン、イソブチルトリイソブトキシシラン、ビニル
トリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、フエ
ニルトリメトキシシラン、フエニルトリエトキシシラ
ン、ベンジルトリフエノキシシラン、メチルトリアリル
オキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジ
メチルジブトキシシラン、ジメチルジヘキシルオキシシ
ラン、ジメチルジフエノキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、ジエチルジイソブトキシシラン、ジエチルフ
エノキシシラン、ジブチルジイソプロポキシシラン、ジ
ブチルジブトキシシラン、ジブチルジフエノキシシラ
ン、ジイソブチルジエトキシシラン、ジイソブチルジイ
ソブトキシシラン、ジフエニルジメトキシシラン、ジフ
エニルジエトキシシラン、ジフエニルジブトキシシラ
ン、ジベンジルジエトキシシラン、ジビニルジフエノキ
シシラン、ジアリルジプロポキシシラン、ジフエニルジ
アリルオキシシラン、メチルフエニルジメトキシシラ
ン、クロロフエニルジエトキシシラン等が挙げられる。
ン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テ
トライソブトキシシラン、テトラフエノキシシラン、テ
トラ（ｐ−メチルフエノキシ）シラン、テトラベンジル
オキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルト
リフエノキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチ
ルトリイソブトキシシラン、エチルトリフエノキシシラ
ン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシ
ラン、ブチルトリブトキシシラン、ブチルトリフエノキ
シシラン、イソブチルトリイソブトキシシラン、ビニル
トリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、フエ
ニルトリメトキシシラン、フエニルトリエトキシシラ
ン、ベンジルトリフエノキシシラン、メチルトリアリル
オキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジ
メチルジブトキシシラン、ジメチルジヘキシルオキシシ
ラン、ジメチルジフエノキシシラン、ジエチルジエトキ
シシラン、ジエチルジイソブトキシシラン、ジエチルフ
エノキシシラン、ジブチルジイソプロポキシシラン、ジ
ブチルジブトキシシラン、ジブチルジフエノキシシラ
ン、ジイソブチルジエトキシシラン、ジイソブチルジイ
ソブトキシシラン、ジフエニルジメトキシシラン、ジフ
エニルジエトキシシラン、ジフエニルジブトキシシラ
ン、ジベンジルジエトキシシラン、ジビニルジフエノキ
シシラン、ジアリルジプロポキシシラン、ジフエニルジ
アリルオキシシラン、メチルフエニルジメトキシシラ
ン、クロロフエニルジエトキシシラン等が挙げられる。
ヘテロ原子を含む電子供与性化合物の具体例としては、
窒素原子を含む化合物として、2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン、2,6−ジメチルピペリジン、2,6−ジエチル
ピペリジン、2,6−ジイソプロピルピペリジン、2,2,5,5
−テトラメチルピロリジン、2,5−ジメチルピロリジ
ン、2,5−ジエチルピロリジン、2,5−ジイソプロピルピ
ロリジン、２−メチルピリジン、３−メチルピリジン、
４−メチルピリジン、1,2,4−トリメチルピペリジン、
2,5ジメチルピペリジン、ニコチン酸メチル、ニコチン
酸エチル、ニコチン酸アミド、安息香酸アミド、２−メ
チルピロール、2,5−ジメチルピロール、イミダゾー
ル、トルイル酸アミド、ベンゾニトリル、アセトニトリ
ル、アニリン、パラトルイジン、オルトトルイジン、メ
タトルイジン、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジ
ブチルアミン、テトラメチレンジアミン、トリブチルア
ミン等が、イオウ原子を含む化合物として、チオフエノ
ール、チオフエン、２−チオフエンカルボン酸エチル、
３−チオフエンカルボン酸エチル、２−メチルチオフエ
ン、メチルメルカブタン、エチルメルカブタン、イソプ
ロピルメルカブタン、ブチルメルカプタン、ジエチルチ
オエーテル、ジフエニルチオエーテル、ベンゼンスルフ
オン酸メチル、メサルサルフアイト、エチルサルフアイ
ト等が、酸素原子を含む化合物として、テトラヒドロフ
ラン、２−メチルテトラヒドフラン、３−メチルテトラ
ヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチル
エーテル、ジイソアルミエーテル、ジフエニルエーテ
ル、アニソール、アセトフエノン、アセトン、メチルエ
チルケトン、アセチルアセトン、２−フラル酸エチル、
２−フラル酸イソアミル、２−フラル酸メチル、２−フ
ラル酸プロピル等が、リン原子を含む化合物として、ト
リフエニルホスフイン、トリブチルホスフイン、トリフ
エニルホスフアイト、トリベンジルホスフアイト、ジエ
チルホスフエート、ジフエニルホスフエート等が挙げら
れる。
窒素原子を含む化合物として、2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン、2,6−ジメチルピペリジン、2,6−ジエチル
ピペリジン、2,6−ジイソプロピルピペリジン、2,2,5,5
−テトラメチルピロリジン、2,5−ジメチルピロリジ
ン、2,5−ジエチルピロリジン、2,5−ジイソプロピルピ
ロリジン、２−メチルピリジン、３−メチルピリジン、
４−メチルピリジン、1,2,4−トリメチルピペリジン、
2,5ジメチルピペリジン、ニコチン酸メチル、ニコチン
酸エチル、ニコチン酸アミド、安息香酸アミド、２−メ
チルピロール、2,5−ジメチルピロール、イミダゾー
ル、トルイル酸アミド、ベンゾニトリル、アセトニトリ
ル、アニリン、パラトルイジン、オルトトルイジン、メ
タトルイジン、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジ
ブチルアミン、テトラメチレンジアミン、トリブチルア
ミン等が、イオウ原子を含む化合物として、チオフエノ
ール、チオフエン、２−チオフエンカルボン酸エチル、
３−チオフエンカルボン酸エチル、２−メチルチオフエ
ン、メチルメルカブタン、エチルメルカブタン、イソプ
ロピルメルカブタン、ブチルメルカプタン、ジエチルチ
オエーテル、ジフエニルチオエーテル、ベンゼンスルフ
オン酸メチル、メサルサルフアイト、エチルサルフアイ
ト等が、酸素原子を含む化合物として、テトラヒドロフ
ラン、２−メチルテトラヒドフラン、３−メチルテトラ
ヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチル
エーテル、ジイソアルミエーテル、ジフエニルエーテ
ル、アニソール、アセトフエノン、アセトン、メチルエ
チルケトン、アセチルアセトン、２−フラル酸エチル、
２−フラル酸イソアミル、２−フラル酸メチル、２−フ
ラル酸プロピル等が、リン原子を含む化合物として、ト
リフエニルホスフイン、トリブチルホスフイン、トリフ
エニルホスフアイト、トリベンジルホスフアイト、ジエ
チルホスフエート、ジフエニルホスフエート等が挙げら
れる。
これら電子供与性化合物は、二種以上用いてもよい。
又、これら電子供与性化合物は、有機アルミニウム化合
物を触媒成分と組合せて用いる際に用いてもよく、予め
有機アルミニウム化合物と接触させた上で用いてもよ
い。
又、これら電子供与性化合物は、有機アルミニウム化合
物を触媒成分と組合せて用いる際に用いてもよく、予め
有機アルミニウム化合物と接触させた上で用いてもよ
い。
本発明の触媒成分に対する有機アルミニウム化合物の使
用量は、該触媒成分中のチタン１グラム原子当り、通常
１〜２０００グラムモル、特に２０〜５００グラムモル
が望ましい。
用量は、該触媒成分中のチタン１グラム原子当り、通常
１〜２０００グラムモル、特に２０〜５００グラムモル
が望ましい。
又、有機アルミニウム化合物と電子供与性化合物の比率
は、電子供与性化合物１モルに対して有機アルミニウム
化合物がアルミニウムとして0.1〜４０、好ましくは１
〜２５グラム原子の範囲で選ばれる。
は、電子供与性化合物１モルに対して有機アルミニウム
化合物がアルミニウムとして0.1〜４０、好ましくは１
〜２５グラム原子の範囲で選ばれる。
オレフインの重合 上記のようにして得られた触媒成分と有機アルミニウム
化合物（及び電子供与性化合物）からなる触媒は、モノ
オレフインの単独重合又は他のモノオレフイン若しくは
ジオレフインとの共重合の触媒として有用であるが、特
にα−オレフイン、特に炭素数３ないし６個のα−オレ
フイン、例えばプロピレン、１−ブテン、４−メチル−
１−ペンテン、１−ヘキセン等の単独重合又は上記のα
−オレフイン相互及び／又はエチレンとのランダム及び
ブロツク共重合の触媒、エチレンの単独重合又はエチレ
ンと炭素数３〜１０個のα−オレフイン、例えばプロピ
レン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘ
キセン、１−オクテン等とのランダム若しくはブロツク
共重合の触媒として極めて優れた性能を示す。
化合物（及び電子供与性化合物）からなる触媒は、モノ
オレフインの単独重合又は他のモノオレフイン若しくは
ジオレフインとの共重合の触媒として有用であるが、特
にα−オレフイン、特に炭素数３ないし６個のα−オレ
フイン、例えばプロピレン、１−ブテン、４−メチル−
１−ペンテン、１−ヘキセン等の単独重合又は上記のα
−オレフイン相互及び／又はエチレンとのランダム及び
ブロツク共重合の触媒、エチレンの単独重合又はエチレ
ンと炭素数３〜１０個のα−オレフイン、例えばプロピ
レン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘ
キセン、１−オクテン等とのランダム若しくはブロツク
共重合の触媒として極めて優れた性能を示す。
重合反応は、気相、液相のいずれでもよく、液相で重合
させる場合は、ノルマルブタン、イソブタン、ノルマル
ペンタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の不活性炭化水素中及び液状モノマー中で行うことがで
きる。重合温度は、通常−８０℃〜＋１５０℃、好まし
くは４０〜１２０℃の範囲である。重合圧力は、例えば
１〜６０気圧でよい。又、得られる重合体の分子量の調
節は、水素若しくは他の公知の分子量調節剤を存在せし
めることにより行なわれる。又、共重合においてオレフ
インに共重合させる他のオレフインの量は、オレフイン
に対して通常３０重量％迄、特に0.3〜１５重量％の範
囲で選ばれる。本発明の触媒系による重合反応は、連続
又はバツチ式反応で行ない、その条件は通常用いられる
条件でよい。又、共重合反応は一段で行つてもよく、二
段以上で行つてもよい。
させる場合は、ノルマルブタン、イソブタン、ノルマル
ペンタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の不活性炭化水素中及び液状モノマー中で行うことがで
きる。重合温度は、通常−８０℃〜＋１５０℃、好まし
くは４０〜１２０℃の範囲である。重合圧力は、例えば
１〜６０気圧でよい。又、得られる重合体の分子量の調
節は、水素若しくは他の公知の分子量調節剤を存在せし
めることにより行なわれる。又、共重合においてオレフ
インに共重合させる他のオレフインの量は、オレフイン
に対して通常３０重量％迄、特に0.3〜１５重量％の範
囲で選ばれる。本発明の触媒系による重合反応は、連続
又はバツチ式反応で行ない、その条件は通常用いられる
条件でよい。又、共重合反応は一段で行つてもよく、二
段以上で行つてもよい。
発明の効果 本発明の触媒成分は、ポリオレフイン、特にアイソタク
チツクポリプロピレン、エチレンとプロピレンとのラン
ダム共重合体及びエチレンとプロピレンとのブロツク共
重合体を製造する場合の触媒成分として有効である。
チツクポリプロピレン、エチレンとプロピレンとのラン
ダム共重合体及びエチレンとプロピレンとのブロツク共
重合体を製造する場合の触媒成分として有効である。
本発明の触媒成分を用いた重合触媒は、重合活性及び立
体規則性が高く、しかもその高い重合活性を重合時に長
時間持続することができると共に、得られたオレフイン
重合体粉末は嵩密度が高い。又、この重合体粉末は流動
性に富んでいる。
体規則性が高く、しかもその高い重合活性を重合時に長
時間持続することができると共に、得られたオレフイン
重合体粉末は嵩密度が高い。又、この重合体粉末は流動
性に富んでいる。
又、本発明の触媒成分はチタン含有量が少なく、かつ重
合時の有機アルミニウム化合物の使用量、更には電子供
与性化合物の使用量が少量であつても高活性及び高立体
規則性が維持されるため、ポリマー中のアルミニウム残
留量を始めとする灰分残留量及び電子供与性化合物の残
留量を低減することができる。従つて、得られたポリマ
ーを用いて成形品を製造した場合、成形時の臭いが低減
され、又熱安定性、色特性に優れ、剛性の高い製品が得
られる。
合時の有機アルミニウム化合物の使用量、更には電子供
与性化合物の使用量が少量であつても高活性及び高立体
規則性が維持されるため、ポリマー中のアルミニウム残
留量を始めとする灰分残留量及び電子供与性化合物の残
留量を低減することができる。従つて、得られたポリマ
ーを用いて成形品を製造した場合、成形時の臭いが低減
され、又熱安定性、色特性に優れ、剛性の高い製品が得
られる。
実施例 次に、本発明を実施例及び応用例により具体的に説明す
る。但し、本発明は実施例のみにより限定されるもので
はない。なお、実施例及び応用例に示したパーセント
(%)は、特に断らない限り重量による。
る。但し、本発明は実施例のみにより限定されるもので
はない。なお、実施例及び応用例に示したパーセント
(%)は、特に断らない限り重量による。
ポリマー中の結晶性ポリマーの割合を示すヘプタン不溶
分（以下ＨＩと略称する。）は、改良型ソツクスレー抽
出器で沸騰ｎ−ヘプタンにより６時間抽出した場合の残
量である。メルトフローレイト（MFR）及メルトインデ
ツクス（ＭＩ）はASTM−Ｄ１２３８に従つて測定した。
又嵩密度はASTM-D１８９５−６９メソツドＡに従つて測
定した。
分（以下ＨＩと略称する。）は、改良型ソツクスレー抽
出器で沸騰ｎ−ヘプタンにより６時間抽出した場合の残
量である。メルトフローレイト（MFR）及メルトインデ
ツクス（ＭＩ）はASTM−Ｄ１２３８に従つて測定した。
又嵩密度はASTM-D１８９５−６９メソツドＡに従つて測
定した。
実施例１ マグネシウムジエトキシドとトリクロルシランの接触 還流凝縮器、滴下ロート及び攪拌機を取付けた５００ml
のガラス製反応器を充分に窒素ガスで置換する。この反
応器に市販のマグネシウムジエトキシド30.2ｇ（0.26モ
ル）及びｎ−ヘプタン１００mlを入れた後、室温で攪拌
しながらトリクロルシラン７５ｇ（0.55モル）とｎ−ヘ
プタン３０mlの混合溶液を滴下ロートから４５分間で滴
下し、さらに７０℃で２時間攪拌した。この間反応混合
物からガスが発生した。得られた固体を７０℃で別
し、６５℃のｎ−ヘキサン各３００mlで５回洗浄した
後、減圧下６０℃で３０分間乾燥して固体成分(I)を得
た。固体成分(I)は、マグネシウムを１４％、珪素を１
１％、塩素を５１％含み、又その表面積は２０m2／ｇ、
細孔容積0.05c.c.／ｇであつた。
のガラス製反応器を充分に窒素ガスで置換する。この反
応器に市販のマグネシウムジエトキシド30.2ｇ（0.26モ
ル）及びｎ−ヘプタン１００mlを入れた後、室温で攪拌
しながらトリクロルシラン７５ｇ（0.55モル）とｎ−ヘ
プタン３０mlの混合溶液を滴下ロートから４５分間で滴
下し、さらに７０℃で２時間攪拌した。この間反応混合
物からガスが発生した。得られた固体を７０℃で別
し、６５℃のｎ−ヘキサン各３００mlで５回洗浄した
後、減圧下６０℃で３０分間乾燥して固体成分(I)を得
た。固体成分(I)は、マグネシウムを１４％、珪素を１
１％、塩素を５１％含み、又その表面積は２０m2／ｇ、
細孔容積0.05c.c.／ｇであつた。
この固体成分(I)15.1ｇを、直径１２mmのステンレス（s
us３１６）製ボール１００個を収容した内容積３００ml
のステンレス（sus３１６）製ミルポツトに窒素ガス雰
囲気下で入れ、次いで安息香酸エチル3.8ｇを加え、こ
のミルポツトを振とう器に装着した後、１時間振とうし
て接触を行い、固体成分(II)を得た。
us３１６）製ボール１００個を収容した内容積３００ml
のステンレス（sus３１６）製ミルポツトに窒素ガス雰
囲気下で入れ、次いで安息香酸エチル3.8ｇを加え、こ
のミルポツトを振とう器に装着した後、１時間振とうし
て接触を行い、固体成分(II)を得た。
四塩化チタン処理 固体成分(II)8.5ｇを、攪拌機を取付けた２００mlのガ
ラス製反応器に窒素ガス雰囲気下で入れ、次いでトルエ
ン４０ml、四塩化チタン６０ml加え、９０℃で２時間攪
拌した。得られた固体状物質を９０℃で別し、各１０
０mlのｎ−ヘキサンにて６５℃で７回洗浄した後、減圧
下６０℃で３０分間乾燥してチタン含有量2.6％、マグ
ネシウム含有量19.0％、塩素含有量53.6％、珪素含有量
2.7％、安息香酸エチル含有量13.7％の固体成分(III)を
6.1ｇ得た。この固体成分は、比表面積２１０m2／ｇ、
細孔容積0.17c.c.／ｇであつた。
ラス製反応器に窒素ガス雰囲気下で入れ、次いでトルエ
ン４０ml、四塩化チタン６０ml加え、９０℃で２時間攪
拌した。得られた固体状物質を９０℃で別し、各１０
０mlのｎ−ヘキサンにて６５℃で７回洗浄した後、減圧
下６０℃で３０分間乾燥してチタン含有量2.6％、マグ
ネシウム含有量19.0％、塩素含有量53.6％、珪素含有量
2.7％、安息香酸エチル含有量13.7％の固体成分(III)を
6.1ｇ得た。この固体成分は、比表面積２１０m2／ｇ、
細孔容積0.17c.c.／ｇであつた。
ヘキサクロルエタン処理 固体成分(III)4.5ｇを攪拌機を取付けた２００mlのガラ
ス製反応器に窒素ガス雰囲気下で入れ、次いでヘキサク
ロルエタン4.2ｇ、トルエン１００ml加え、５０℃で３
０分攪拌を行つた。得られた固体状物質を５０℃で別
し、各１００mlのｎ−ヘキサンにて５回洗浄した後、減
圧下６０℃で３０分間乾燥してチタン含有量1.6％、マ
グネシウム含有量19.8％、塩素含有量54.6％、珪素含有
量2.8％、安息香酸エチル含有量14.1％の触媒成分4.2ｇ
得た。
ス製反応器に窒素ガス雰囲気下で入れ、次いでヘキサク
ロルエタン4.2ｇ、トルエン１００ml加え、５０℃で３
０分攪拌を行つた。得られた固体状物質を５０℃で別
し、各１００mlのｎ−ヘキサンにて５回洗浄した後、減
圧下６０℃で３０分間乾燥してチタン含有量1.6％、マ
グネシウム含有量19.8％、塩素含有量54.6％、珪素含有
量2.8％、安息香酸エチル含有量14.1％の触媒成分4.2ｇ
得た。
実施例２〜８ 固体成分(I)と接触させる電子供与性化合物として、安
息香酸エチルの代わりに第１表に示す化合物を用いた以
外は、実施例１と同様にして触媒成分を調製した。得ら
れた触媒成分の組成を第１表に示した。
息香酸エチルの代わりに第１表に示す化合物を用いた以
外は、実施例１と同様にして触媒成分を調製した。得ら
れた触媒成分の組成を第１表に示した。
実施例９ マグネシウムジエトキシドとトリクロルシランの接触 窒素ガスで十分に置換した３のガラス製反応器に、マ
グネシウムジエトキシド１２０ｇ及びｎ−ヘプタン６８
０mlを入れた。内容物を攪拌しながら、トリクロルシラ
ン３５６ｇとｎ−ヘプタン２５０mlの混合溶液を、滴下
ロートから室温下４５分間で滴下し、更に７０℃で６時
間攪拌を続けた。得られた固体を７０℃で別し、６５
℃のｎ−ヘキサン６００mlと１０分間攪拌した後、上澄
液をデカンテーシヨンにより除去した。このｎ−ヘキサ
ンによる洗浄を５回繰り返した後、６５℃のトルエン６
００mlと１０分間攪拌し、上澄液をデカンテーシヨンに
より除去した。次に、フタル酸ジｎ−ブチルを３０ｇ、
トルエンを４００ml加え、５０℃で２時間攪拌を行つ
た。
グネシウムジエトキシド１２０ｇ及びｎ−ヘプタン６８
０mlを入れた。内容物を攪拌しながら、トリクロルシラ
ン３５６ｇとｎ−ヘプタン２５０mlの混合溶液を、滴下
ロートから室温下４５分間で滴下し、更に７０℃で６時
間攪拌を続けた。得られた固体を７０℃で別し、６５
℃のｎ−ヘキサン６００mlと１０分間攪拌した後、上澄
液をデカンテーシヨンにより除去した。このｎ−ヘキサ
ンによる洗浄を５回繰り返した後、６５℃のトルエン６
００mlと１０分間攪拌し、上澄液をデカンテーシヨンに
より除去した。次に、フタル酸ジｎ−ブチルを３０ｇ、
トルエンを４００ml加え、５０℃で２時間攪拌を行つ
た。
四塩化チタン処理 次いで、四塩化チタンを９６０ml加え、９０℃で２時間
攪拌した後、デカンテーシヨンにより上澄液を除去し
た。トルエン1.4を加え、９０℃で１０分間攪拌し、
上澄液を除去した。このトルエンによる洗浄を２回繰り
返した。更に、四塩化チタン９６０ml、トルエン６４０
mlを加え、９０℃で２時間攪拌を行つた。得られた固体
状物質を９０℃で別し、各1.4のｎ−ヘキサンにて
室温で７回洗浄した後、減圧下室温で１時間乾燥して、
固体成分(I)１０３ｇを得た。この固体成分(I)中には、
チタン2.5％、マグネシウム16.2％、塩素４９％、珪素
3.1％、フタル酸ジｎ−ブチル13.3％が含まれていた。
攪拌した後、デカンテーシヨンにより上澄液を除去し
た。トルエン1.4を加え、９０℃で１０分間攪拌し、
上澄液を除去した。このトルエンによる洗浄を２回繰り
返した。更に、四塩化チタン９６０ml、トルエン６４０
mlを加え、９０℃で２時間攪拌を行つた。得られた固体
状物質を９０℃で別し、各1.4のｎ−ヘキサンにて
室温で７回洗浄した後、減圧下室温で１時間乾燥して、
固体成分(I)１０３ｇを得た。この固体成分(I)中には、
チタン2.5％、マグネシウム16.2％、塩素４９％、珪素
3.1％、フタル酸ジｎ−ブチル13.3％が含まれていた。
ヘキサクロルエタン処理 固体成分(I)１０ｇを、１のガラス製反応器に窒素ガ
ス雰囲気下で入れ、ヘキサクロルエタン3.2ｇ、トルエ
ン３００ml加えた。５０℃に昇温後、１時間攪拌を行
い、上澄液を除去した。得られた固体状物質を室温で
別し、各３００mlのｎ−ヘキサンにて室温で５回洗浄し
た後、減圧下室温で１時間乾燥して触媒成分9.1ｇを得
た。この触媒成分中には、チタン1.6％、マグネシウム1
6.8％、塩素４８％、珪素3.1％、フタル酸ジｎ−ブチル
14.1％が含まれていた。
ス雰囲気下で入れ、ヘキサクロルエタン3.2ｇ、トルエ
ン３００ml加えた。５０℃に昇温後、１時間攪拌を行
い、上澄液を除去した。得られた固体状物質を室温で
別し、各３００mlのｎ−ヘキサンにて室温で５回洗浄し
た後、減圧下室温で１時間乾燥して触媒成分9.1ｇを得
た。この触媒成分中には、チタン1.6％、マグネシウム1
6.8％、塩素４８％、珪素3.1％、フタル酸ジｎ−ブチル
14.1％が含まれていた。
実施例１０〜１２ マグネシウムジエトキシドと接触させる珪素化合物とし
て、第２表に示す化合物を用いた他は、実施例９と同様
にして触媒成分を調製した。それら触媒成分の組成は第
２表の通りであつた。
て、第２表に示す化合物を用いた他は、実施例９と同様
にして触媒成分を調製した。それら触媒成分の組成は第
２表の通りであつた。
実施例１３〜１９ ヘキサクロルエタン処理における処理条件を第３表に示
す通りにした以外は、実施例９と同様にして触媒成分を
調製した。得られた触媒成分の組成を第３表に示した。
す通りにした以外は、実施例９と同様にして触媒成分を
調製した。得られた触媒成分の組成を第３表に示した。
実施例２０〜２７ 実施例９のヘキサクロルエタン処理の際に、ヘキサクロ
ルエタンとトルエンの代わりに、第４表に示すハロゲン
化炭化水素のみを用い（実施例２０〜２５）、ヘキサク
ロルエタンの代わりにヘキサプロムエタン（実施例２
６）を、トルエンの代わりに1,2−ジクロルエタン（実
施例２７）を用いた他は、実施例９と同様にして第４表
に示す組成の触媒成分を調製した。
ルエタンとトルエンの代わりに、第４表に示すハロゲン
化炭化水素のみを用い（実施例２０〜２５）、ヘキサク
ロルエタンの代わりにヘキサプロムエタン（実施例２
６）を、トルエンの代わりに1,2−ジクロルエタン（実
施例２７）を用いた他は、実施例９と同様にして第４表
に示す組成の触媒成分を調製した。
実施例２８〜３０ 実施例９のヘキサクロルエタン処理において、ヘキサク
ロルエタンとトルエンの代わりに、第５表に示す炭化水
素のみを用い、かつ処理温度５０℃から１００℃に変え
た以外は、実施例９と同様にして、第５表に示す組成の
触媒成分を調製した。
ロルエタンとトルエンの代わりに、第５表に示す炭化水
素のみを用い、かつ処理温度５０℃から１００℃に変え
た以外は、実施例９と同様にして、第５表に示す組成の
触媒成分を調製した。
実施例３１〜３５ 実施例９のヘキサクロルエタン処理において、ヘキサク
ロルエタンの代わりに、第６表に示す金属ハライドを用
いた他は、実施例９と同様にして触媒成分を調製した。
その組成を第６表に示した。
ロルエタンの代わりに、第６表に示す金属ハライドを用
いた他は、実施例９と同様にして触媒成分を調製した。
その組成を第６表に示した。
実施例３６ 実施例１において固体成分(I)を安息香酸エチルと接触
させなかつた以外は、実施例１と同様にして触媒成分を
調製した。この触媒成分の組成は、チタン2.6％、マグ
ネシウム19.8％、塩素59.3％、珪素4.1％であつた。
させなかつた以外は、実施例１と同様にして触媒成分を
調製した。この触媒成分の組成は、チタン2.6％、マグ
ネシウム19.8％、塩素59.3％、珪素4.1％であつた。
応用例１ プロピレンの重合 攪拌器を設けた内容積1.5のステンレス（sus３２）製
オートクレーブに、窒素ガス雰囲気下、実施例１で得ら
れた触媒成分24.0mg、ｎ−ヘプタン１中に0.1モルの
トリエチルアルミニウム（以下TEALと略称する。）を含
むｎ−ヘプタン溶液4.0ml（触媒成分中のチタン１グラ
ム原子当りアルミニウムとして５０グラム原子に相当）
及びｎ−ヘプタン１中に0.1モルのｐ−メトキシ安息
香酸エチル（以下EPAと略称する。）をｎ−ヘプタン溶
液1.2ml（該TEAL中のアルミニウム１グラム原子当りEPA
として0.30グラムモルに相当）を混合し５分間保持した
ものを仕込んだ。次いで、分子量制御剤としての水素ガ
ス0.6並びに液化プロピレン0.8を圧入した後、反応
系を７０℃に昇温して、１時間、プロピレンの重合を行
つた。重合終了後、未反応のプロピレンをパージし、HI
（ポリマー中の結晶性ポリマーの割合を示すヘプタン不
溶分）95.6％、MFR（メルトフローレイト）5.7、嵩密度
0.39ｇ／cm3の白色のポリプロピレン粉末を340.8ｇ得
た。触媒成分１ｇ当りのポリマー生産量(Kc)は14.2kg、
触媒成分中のチタン１ｇ当りのポリマー生産量(Kt)は８
８８kgである。得られたポリマー中の灰分含有量を測定
した結果、Ti 1.1ppm（重量基準、以下同じ）、Mg １
４ppm、Al ２９ppm、Cl ３８ppmであつた。
オートクレーブに、窒素ガス雰囲気下、実施例１で得ら
れた触媒成分24.0mg、ｎ−ヘプタン１中に0.1モルの
トリエチルアルミニウム（以下TEALと略称する。）を含
むｎ−ヘプタン溶液4.0ml（触媒成分中のチタン１グラ
ム原子当りアルミニウムとして５０グラム原子に相当）
及びｎ−ヘプタン１中に0.1モルのｐ−メトキシ安息
香酸エチル（以下EPAと略称する。）をｎ−ヘプタン溶
液1.2ml（該TEAL中のアルミニウム１グラム原子当りEPA
として0.30グラムモルに相当）を混合し５分間保持した
ものを仕込んだ。次いで、分子量制御剤としての水素ガ
ス0.6並びに液化プロピレン0.8を圧入した後、反応
系を７０℃に昇温して、１時間、プロピレンの重合を行
つた。重合終了後、未反応のプロピレンをパージし、HI
（ポリマー中の結晶性ポリマーの割合を示すヘプタン不
溶分）95.6％、MFR（メルトフローレイト）5.7、嵩密度
0.39ｇ／cm3の白色のポリプロピレン粉末を340.8ｇ得
た。触媒成分１ｇ当りのポリマー生産量(Kc)は14.2kg、
触媒成分中のチタン１ｇ当りのポリマー生産量(Kt)は８
８８kgである。得られたポリマー中の灰分含有量を測定
した結果、Ti 1.1ppm（重量基準、以下同じ）、Mg １
４ppm、Al ２９ppm、Cl ３８ppmであつた。
応用例２〜８ 実施例２〜８で得られた触媒成分を用いた以外は応用例
１と同様にして、プロピレンの重合を行い、それらの結
果を第７表に示した。以下表中の触媒成分番号は各実施
例番号に対応する。
１と同様にして、プロピレンの重合を行い、それらの結
果を第７表に示した。以下表中の触媒成分番号は各実施
例番号に対応する。
比較例１〜３ 実施例１と同様にして得た固体成分(III)をそのまゝ触
媒成分とした（比較例１）。又、実施例２と同様にして
ヘキサクロルエタン処理を行なわない固体成分(III)
（チタン含有量4.5％、フタル酸ジイソブチル含有量19.
5％）を調製した（比較例２）。これらの固体成分を用
い、応用例１と同様にしてプロピレンの重合を行ないそ
の結果を第７表に示した。
媒成分とした（比較例１）。又、実施例２と同様にして
ヘキサクロルエタン処理を行なわない固体成分(III)
（チタン含有量4.5％、フタル酸ジイソブチル含有量19.
5％）を調製した（比較例２）。これらの固体成分を用
い、応用例１と同様にしてプロピレンの重合を行ないそ
の結果を第７表に示した。
更に、比較例１で得られた固体成分(III)を用い、かつ
プロピレン重合時のTEALの使用量を、固体成分(III)中
のチタン１グラム原子当りアルミニウムとして３１０グ
ラム原子に相当する量用いた以外は、応用例１と同様に
してプロピレンの重合を行ない（比較例３）その結果を
第７表に示した。
プロピレン重合時のTEALの使用量を、固体成分(III)中
のチタン１グラム原子当りアルミニウムとして３１０グ
ラム原子に相当する量用いた以外は、応用例１と同様に
してプロピレンの重合を行ない（比較例３）その結果を
第７表に示した。
応用例９ 十分に窒素ガスで置換した内容積1.5のステンレス製
オートクレーブに、窒素ガス雰囲気下実施例９で得られ
た触媒成分15.7mg、TEALのｎ−ヘプタン溶液（0.1モル
／）2.6ml（触媒成分中のチタン１グラム原子当りア
ルミニウムとして５０グラム原子に相当）及びフエニル
トリエトキシシラン（PESと略称する。）のｎ−ヘプタ
ン溶液（0.01モル／）2.6ml（該TEAL中のアルミニウ
ム１グラム原子当りPESとして0.1グラムモルに相当）を
混合し、５分間保持したものを入れた。次いで、水素ガ
ス１００ml（STP）及び液体プロピレンを1.0加えた。
反応系を７０℃に昇温し、プロピレンの重合を１時間行
つた。反応終了後、未反応のプロピレンをパージし、ポ
リマー２５４ｇを得た。Kcは16.2kg／ｇ、Ktは１０１０
kg／ｇであつた。得られたポリマーのHIは98.0％、MFR
は8.3ｇ／１０分、BDは0.39ｇ／cm3であつた。又、ポリ
マー中の灰分含有量はTi 1.0ppm、Al ２６ppm、Mg １
０ppm、Cl ３２ppmであつた。
オートクレーブに、窒素ガス雰囲気下実施例９で得られ
た触媒成分15.7mg、TEALのｎ−ヘプタン溶液（0.1モル
／）2.6ml（触媒成分中のチタン１グラム原子当りア
ルミニウムとして５０グラム原子に相当）及びフエニル
トリエトキシシラン（PESと略称する。）のｎ−ヘプタ
ン溶液（0.01モル／）2.6ml（該TEAL中のアルミニウ
ム１グラム原子当りPESとして0.1グラムモルに相当）を
混合し、５分間保持したものを入れた。次いで、水素ガ
ス１００ml（STP）及び液体プロピレンを1.0加えた。
反応系を７０℃に昇温し、プロピレンの重合を１時間行
つた。反応終了後、未反応のプロピレンをパージし、ポ
リマー２５４ｇを得た。Kcは16.2kg／ｇ、Ktは１０１０
kg／ｇであつた。得られたポリマーのHIは98.0％、MFR
は8.3ｇ／１０分、BDは0.39ｇ／cm3であつた。又、ポリ
マー中の灰分含有量はTi 1.0ppm、Al ２６ppm、Mg １
０ppm、Cl ３２ppmであつた。
応用例１０〜３５ 実施例１０〜３５で得られた触媒成分を用いた以外は応
用例９と同様にして、プロピレンの重合を行い、それら
の結果を第８表に示した。
用例９と同様にして、プロピレンの重合を行い、それら
の結果を第８表に示した。
比較例４ 実施例９と同様にして固体成分(I)を調製した。この固
体成分(I)を用い、応用例９と同様にしてプロピレンの
重合を行ないその結果を第８表に示した。
体成分(I)を用い、応用例９と同様にしてプロピレンの
重合を行ないその結果を第８表に示した。
比較例３６〜４０ 応用例９において用いたPESの代わりに、第９表に示す
電子供与性化合物を用いた以外は、応用例９と同様にし
てプロピレンの重合を行つた。それらの結果を第９表に
示す。
電子供与性化合物を用いた以外は、応用例９と同様にし
てプロピレンの重合を行つた。それらの結果を第９表に
示す。
応用例４１〜４３ 応用例１において用いたEPAの代わりに、第９表に示す
電子供与性化合物を用い、かつ応用例４２においては、
TEALの代わりにTEALとジエチルアルミニウムクロリド
（DEAC）を３：１（モル比）の割合で、又応用例４３で
は、TEALの代わりにトリイソブチルアルミニウムとDEAC
を３：１（モル比）の割合でそれぞれ用いた以外は、応
用例１と同様にしてプロピレンの重合を行つた。それら
の結果を第９表に示した。
電子供与性化合物を用い、かつ応用例４２においては、
TEALの代わりにTEALとジエチルアルミニウムクロリド
（DEAC）を３：１（モル比）の割合で、又応用例４３で
は、TEALの代わりにトリイソブチルアルミニウムとDEAC
を３：１（モル比）の割合でそれぞれ用いた以外は、応
用例１と同様にしてプロピレンの重合を行つた。それら
の結果を第９表に示した。
比較例５〜７ 比較例４のプロピレン重合時において用いたPESの代わ
りに、第１０表に示す電子供与性化合物を用いた以外は
比較例４と同様にしてプロピレンの重合を行い、第１０
表に示す結果を得た。
りに、第１０表に示す電子供与性化合物を用いた以外は
比較例４と同様にしてプロピレンの重合を行い、第１０
表に示す結果を得た。
比較例８〜１０ 比較例１のプロピレン重合時において用いたEPAの代わ
りに、第１０表に示す電子供与性化合物を用い、かつ比
較例９においてはTEALの代わりにTEALとDEACを３：１
（モル比）の割合で、又比較例１０ではTEALの代わりに
トリイソブチルアルミニウムとDEACを３：１（モル比）
の割合で用いた以外は、比較例１と同様にしてプロピレ
ンの重合を行い、結果を第１０表に示した。
りに、第１０表に示す電子供与性化合物を用い、かつ比
較例９においてはTEALの代わりにTEALとDEACを３：１
（モル比）の割合で、又比較例１０ではTEALの代わりに
トリイソブチルアルミニウムとDEACを３：１（モル比）
の割合で用いた以外は、比較例１と同様にしてプロピレ
ンの重合を行い、結果を第１０表に示した。
比較例１１ 比較例１０において用いた有機アルミニウム化合物の使
用量を、固体成分(III)中のチタン１グラム原子当りア
ルミニウムとして５０グラム原子から３００グラム原子
に相当する量に変えた以外は比較例１０と同様にしてプ
ロピレンの重合を行い、その結果を第１０表に示した。
用量を、固体成分(III)中のチタン１グラム原子当りア
ルミニウムとして５０グラム原子から３００グラム原子
に相当する量に変えた以外は比較例１０と同様にしてプ
ロピレンの重合を行い、その結果を第１０表に示した。
応用例４４ 内容積３のオートクレーブを十分窒素ガスで置換した
後、実施例９で得られた触媒成分12.5mg、トリエチルア
ルミニウム0.21ミリモル及びフエニルトリエトキシシラ
ン0.021ミリモルをこのオートクレーブに入れた。更に
水素ガス1.5及び液体プロピレン２を加えた後、攪
拌下、７０℃で１時間プロピレンの単独重合を行つた。
並行して同一条件で重合実験を行い、得られたポリプロ
ピレンのＨＩは97.5％であつた。重合終了後、未反応の
プロピレンを排出し、窒素ガスでオートクレーブを置換
した。次に、このオートクレーブにエチレンとプロピレ
ンの混合ガス〔エチレン／プロピレン＝1.5（モル
比）〕を導入し、モノマーガス圧力が1.5気圧となるよ
うに混合ガスを供給しながら、７０℃で３時間共重合を
行つた。重合終了後、未反応の混合ガスを反応系から排
出し、プロピレンブロツク共重合体４１２ｇを得た。
後、実施例９で得られた触媒成分12.5mg、トリエチルア
ルミニウム0.21ミリモル及びフエニルトリエトキシシラ
ン0.021ミリモルをこのオートクレーブに入れた。更に
水素ガス1.5及び液体プロピレン２を加えた後、攪
拌下、７０℃で１時間プロピレンの単独重合を行つた。
並行して同一条件で重合実験を行い、得られたポリプロ
ピレンのＨＩは97.5％であつた。重合終了後、未反応の
プロピレンを排出し、窒素ガスでオートクレーブを置換
した。次に、このオートクレーブにエチレンとプロピレ
ンの混合ガス〔エチレン／プロピレン＝1.5（モル
比）〕を導入し、モノマーガス圧力が1.5気圧となるよ
うに混合ガスを供給しながら、７０℃で３時間共重合を
行つた。重合終了後、未反応の混合ガスを反応系から排
出し、プロピレンブロツク共重合体４１２ｇを得た。
混合ガスの消費量と全ポリマー量から共重合部分の割合
を算出すると、18.1％であり、赤外分光分析から求めた
全ポリマー中のエチレン含量は8.9％であつた。従つ
て、共重合部分のエチレン含量は４９％となる。又、全
ポリマー量と混合ガスの消費量から求めた触媒成分１ｇ
当りのプロピレン単独重合体の生成量は27.0kgであり、
共重合部分の生成量は6.0kgであつた。得られたブロツ
ク共重合体のMFRは16.5ｇ／１０分であり、BDは0.39ｇ
／cm3であつた。ポリマー粒子に凝集はなく、オートク
レーブ中のフアウリングは全く認められなかつた。又、
ポリマー中の灰分含有量を分析したところ、Ti 0.5pp
m、Mg ７ppm、Al １５ppm、Cl １６ppmであつた。
を算出すると、18.1％であり、赤外分光分析から求めた
全ポリマー中のエチレン含量は8.9％であつた。従つ
て、共重合部分のエチレン含量は４９％となる。又、全
ポリマー量と混合ガスの消費量から求めた触媒成分１ｇ
当りのプロピレン単独重合体の生成量は27.0kgであり、
共重合部分の生成量は6.0kgであつた。得られたブロツ
ク共重合体のMFRは16.5ｇ／１０分であり、BDは0.39ｇ
／cm3であつた。ポリマー粒子に凝集はなく、オートク
レーブ中のフアウリングは全く認められなかつた。又、
ポリマー中の灰分含有量を分析したところ、Ti 0.5pp
m、Mg ７ppm、Al １５ppm、Cl １６ppmであつた。
応用例４５ エチレンの重合 攪拌機を設けた内容積1.5のステンレス（sus３２）製
のオートクレーブに、窒素ガス雰囲気下、実施例３６で
得られた触媒成分11.5mg、トリイソブチルアルミニウム
0.3ミリモル及びイソブタン700mlを仕込み、重合系を８
５℃に昇温した。次に、水素分圧が２kg／cm2になる迄
水素を導入した後、エチレン分圧が５kg／cm2になる迄
エチレンを導入した。重合系の全圧が一定になるよう
に、エチレンを連続的に供給しながら６０分間重合を行
つた。重合終了後、重合系の溶媒、未反応のエチレンを
パージし、白色粉末状の重合体を取出し、減圧下に７０
℃で１０時間乾燥を行ない。MI 3.5ｇ／１０分、嵩密度
0.34ｇ／C.C.のポリエチレン粉末を２５３ｇ得た。Kcは
22.0kg／ｇ、Ktは８４６kg／ｇである。得られたポリマ
ー中の灰分含有量を測定した結果、Ti 1.1ppm、Mg ９p
pm、Al ３０ppm、Cl ２５ppmであつた。
のオートクレーブに、窒素ガス雰囲気下、実施例３６で
得られた触媒成分11.5mg、トリイソブチルアルミニウム
0.3ミリモル及びイソブタン700mlを仕込み、重合系を８
５℃に昇温した。次に、水素分圧が２kg／cm2になる迄
水素を導入した後、エチレン分圧が５kg／cm2になる迄
エチレンを導入した。重合系の全圧が一定になるよう
に、エチレンを連続的に供給しながら６０分間重合を行
つた。重合終了後、重合系の溶媒、未反応のエチレンを
パージし、白色粉末状の重合体を取出し、減圧下に７０
℃で１０時間乾燥を行ない。MI 3.5ｇ／１０分、嵩密度
0.34ｇ／C.C.のポリエチレン粉末を２５３ｇ得た。Kcは
22.0kg／ｇ、Ktは８４６kg／ｇである。得られたポリマ
ー中の灰分含有量を測定した結果、Ti 1.1ppm、Mg ９p
pm、Al ３０ppm、Cl ２５ppmであつた。
比較例１２ 実施例３６においてヘキサクロルエタン処理を行なわな
かつた以外は実施例３６と同様にして、チタン含有量5.
8％、マグネシウム含有量16.4％、塩素含有量60.1％、
珪素含有量3.1％の触媒成分を調製した。
かつた以外は実施例３６と同様にして、チタン含有量5.
8％、マグネシウム含有量16.4％、塩素含有量60.1％、
珪素含有量3.1％の触媒成分を調製した。
上記で得られた触媒成分を用いた以外は、応用例４５と
同様にしてエチレンの重合を行つた。Kcは14.5kg／ｇ、
Ktは２５０kg／ｇであつた。得られたポリマーは、MI
2.9ｇ／１０分、BD 0.34ｇ／cm3であり、又灰分含有量
はTi ４ppm、Mg １２ppm、Al ６１ppm、Cl ４６ppm
であつた。
同様にしてエチレンの重合を行つた。Kcは14.5kg／ｇ、
Ktは２５０kg／ｇであつた。得られたポリマーは、MI
2.9ｇ／１０分、BD 0.34ｇ／cm3であり、又灰分含有量
はTi ４ppm、Mg １２ppm、Al ６１ppm、Cl ４６ppm
であつた。
第１図は、本発明の触媒成分の調製工程を示すフローチ
ヤート図である。
ヤート図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新堀 裕一 神奈川県横浜市西区中央１丁目８番５号 (56)参考文献 特公 平１−49289（ＪＰ，Ｂ２) 特公 平１−49288（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (1)
- 【請求項１】(A)マグネシウムジアルコキシド、(B)一般
式HmRnSiXr〔但し、Ｒは炭化水素基、R1O-若しくはR2R3
N-、Ｘはハロゲン原子を示し、１ｍ３、０ｒ
３、ｍ＋ｎ＋ｒ＝４である。R1,R2及びR3はそれぞれ炭
化水素基を示す。〕で表わされる珪素化合物及び(C)一
般式TiX4〔但し、Ｘはハロゲン原子を示す。〕のチタン
化合物を接触させて得られる生成物を、(D)(イ)炭化水
素、(ロ)ハロゲン化炭化水素及び／又は(ハ)Ｂ，Ａｌ，Ｓ
ｉ又はＳｎのハロゲン化物と接触してなるオレフィン重
合用触媒成分。
Priority Applications (4)
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|---|---|---|---|
| JP59126378A JPH0629288B2 (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | オレフイン重合用触媒成分 |
| CA000483945A CA1243657A (en) | 1984-06-21 | 1985-06-13 | Catalyst component for polymerization of olefins |
| EP85304341A EP0171155A1 (en) | 1984-06-21 | 1985-06-17 | Catalyst component for polymerization of olefins |
| US06/747,618 US4678768A (en) | 1984-06-21 | 1985-06-21 | Catalyst component for polymerization of olefins |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59126378A JPH0629288B2 (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | オレフイン重合用触媒成分 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS617304A JPS617304A (ja) | 1986-01-14 |
| JPH0629288B2 true JPH0629288B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP59126378A Expired - Lifetime JPH0629288B2 (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | オレフイン重合用触媒成分 |
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| JPS59221309A (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-12 | Toa Nenryo Kogyo Kk | オレフイン重合用触媒成分 |
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| JPS6449288A (en) * | 1987-08-20 | 1989-02-23 | Hitachi Ltd | Two-wavelength laser device |
-
1984
- 1984-06-21 JP JP59126378A patent/JPH0629288B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
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- 1985-06-13 CA CA000483945A patent/CA1243657A/en not_active Expired
- 1985-06-17 EP EP85304341A patent/EP0171155A1/en not_active Withdrawn
- 1985-06-21 US US06/747,618 patent/US4678768A/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| CA1243657A (en) | 1988-10-25 |
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| JPS617304A (ja) | 1986-01-14 |
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