JPH06301913A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 アジマスを有する磁気ヘッドを歩留り良く生
産する。 【構成】 磁性薄膜をその膜厚方向より一対の非磁性体
によって挟み込んでなる磁気コア半体同士が、各磁気コ
ア半体の突合わせ面に呈する磁性薄膜の端面同士を突合
わせその突合わせ面間に磁気ギャップを形成してなる磁
気ヘッドの製造方法において、磁性薄膜２の形成された
非磁性基板１を、予め磁気ヘッドのアジマス角に相当す
る角度αだけ傾けて重ね合わせ、これを基準面に対して
垂直に切断する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、強磁性合金薄膜を主コ
アとして用いた磁気ヘッドの製造方法に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ＶＴＲ（ビデオテープレコー
ダ）等の磁気記録再生装置においては、記録信号の高密
度化や高周波数化等が進められており、この高密度記録
化に対応して磁気記録媒体として磁性粉にＦｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ等の強磁性金属の粉末を用いた，いわゆるメタルテ
ープや強磁性金属材料を蒸着によりベースフィルム上に
直接被着した，いわゆる蒸着テープ等が使用されるよう
になっている。

【０００３】そして、この種の磁気記録媒体は高い残留
磁束密度Ｂｒと高い保持力Ｈｃを有するために、記録再
生に用いる磁気ヘッドのコア材料にも高い飽和磁束密度
Ｂｓと高い透磁率μを有することが要求されている。一
方、上述の高密度記録化に伴って、磁気記録媒体に記録
される記録トラック幅の挟小化も進められており、これ
に対応して磁気ヘッドのトラック幅も極めて狭いものが
要求されている。

【０００４】そこで従来、セラミックス等の非磁性基板
上に磁気コアとなる磁性薄膜を被着形成し、これをトラ
ック部分とした，いわゆるラミネート型の磁気ヘッドが
提案されている。以下、このラミネート型磁気ヘッドの
製造工程を順を追って説明する。

【０００５】かかるラミネート型磁気ヘッドを作製する
には、先ず、図１６に示すように、短冊状をなす非磁性
基板１０１の片面に磁気コアとなる磁性薄膜１０２と接
合膜１０３をスパッタ等の真空薄膜形成法により形成す
る。接合膜１０３は、後述の工程で上記磁性薄膜１０２
が形成された非磁性基板１０１同士を接合一体化させる
ためのもので、例えば融着用ガラス膜、或いは低温金属
接合用のＡｕ、Ａｇ、Ｐｄ等が用いられる。

【０００６】次に、図１７に示すように、上記非磁性基
板１０１を平らな基準面の上に積み重ね、最後に非磁性
基板１０１を重ねて加圧加熱処理を行ない平面略長方形
状をなす磁気コア基板１０４を作製する。次いで、図１
８に示すように、上記磁気コア基板１０４を磁気ヘッド
のアジマス角をαとして、基準面から９０゜−αだけ傾
けたＡ−Ａ’、Ｂ−Ｂ’、Ｃ−Ｃ’の線に沿って切断す
る。

【０００７】すると、図１９に示すように、互いに略対
称な一対の磁気コアハーフブロック１０５，１０６が形
成される。

【０００８】そして、図２０に示すように、一方の磁気
コアハーフブロック１０５に、その長手方向に沿って伸
びる巻線溝１０７を形成する。次に、巻線溝１０７が形
成されていない磁気コアハーフブロック１０６の片面
と、巻線溝１０７が形成された磁気コアハーフブロック
１０６の溝形成面を平滑研磨する。

【０００９】次いで、図２１に示すように、これら磁気
コアハーフブロック１０５，１０６の突合わせ面にギャ
ップスペーサー１０８をスパッタ等の真空薄膜形成法に
より形成した後、各磁気コアハーフブロック１０５，１
０６にそれぞれ形成された磁性薄膜１０２同士を相対向
するように突合わせて加圧加熱を行って磁気コアブロッ
ク１０９を作製する。

【００１０】その後、所定のギャップ深さまでラップし
て曲率を持ったテープ摺動面１１０を形成し、Ｄ−
Ｄ’、Ｅ−Ｅ’の線に沿って磁性薄膜１０２と平行にチ
ップ切断することで磁気ヘッドを完成する。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の製造
方法においては、図１８に示す工程で磁気コア基板１０
４を、磁気ヘッドに付与するアジマス角αと同じ角度を
持って斜めに切断するようにしているため、ヘッドとし
て使用することができない不要な部分１１１（図２２中
網掛け部分）が生じる。

【００１２】特に、アジマス角の大きな磁気ヘッドを作
製する場合には、磁気コア基板１０４に対する切断角９
０゜−αが大きくなるため、この無効部分１１１も増大
し生産性が悪くなるという問題があった。

【００１３】そこで本発明は、上述の従来の課題を解決
するべく提案されたものであって、アジマスを有する磁
気ヘッドを歩留り良く生産することができる磁気ヘッド
の製造方法を提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、磁性薄膜をその膜厚方向より一対の非
磁性体によって挟み込んでなる磁気コア半体同士が、各
磁気コア半体の突合わせ面に呈する磁性薄膜の端面同士
を突合わせその突合わせ面間に磁気ギャップを形成して
なる磁気ヘッドの製造方法において、非磁性基板の少な
くとも一方の面に磁性薄膜を形成する工程と、上記磁性
薄膜の形成された非磁性基板を複数作製する工程と、上
記複数の非磁性基板を基準面に対してヘッドのアジマス
角度に相当する角度だけ傾けて相互に接合して略平行四
辺形状の磁気コア基板を作製する工程と、上記磁気コア
基板を上記基準面に対して垂直に切断して複数の磁気コ
アブロックを形成する工程と、上記磁気コアブロックを
切断し互いに略対称な一対の磁気コアハーフブロックを
形成する工程と、少なくとも一方の磁気コアハーフブロ
ックの切断面にその長手方向に沿って伸びる巻線溝を形
成する工程と、上記一対の磁気コアハーフブロックの切
断面間にギャップスペーサーを挟んでこれら磁気コアハ
ーフブロックを接合一体化した後、磁性薄膜と平行にチ
ップ切断する工程とを備えてなることを特徴とする。

【００１５】また、本発明は、磁性薄膜をその膜厚方向
より非磁性体と磁性フェライトからなる一対の複合基板
によって挟み込んでなる磁気コア半体同士が、各磁気コ
ア半体の突合わせ面に呈する磁性薄膜の端面同士を突合
わせその突合わせ面間に磁気ギャップを形成してなる磁
気ヘッドの製造方法において、複合基板の少なくも一方
の面に磁性薄膜を形成する工程と、上記磁性薄膜の形成
された複合基板を複数作製する工程と、上記複数の複合
基板を基準面に対してヘッドのアジマス角度に相当する
角度だけ傾むけて相互に接合して略平行四辺形の磁気コ
ア基板を作製する工程と、上記磁気コア基板を上記基準
面に対して垂直に切断して複数の磁気コアブロックを形
成する工程と、上記磁気コアブロックを切断し互いに略
対称な一対の磁気コアハーフブロックを形成する工程
と、少なくとも一方の磁気コアハーフブロックの切断面
にその長手方向に沿って伸びる巻線溝を形成する工程
と、上記一対の磁気コアハーフブロックの切断面間にギ
ャップスペーサーを挟んでこれらの磁気コアハーフブロ
ックを接合一体化した後、磁性薄膜と平行にチップ切断
する工程とを備えてなることを特徴とする。

【００１６】また、本発明においては、磁性薄膜は電気
的絶縁膜を介して積層された積層膜であることを特徴と
する。

【００１７】

【作用】本発明においては、磁性薄膜の形成された非磁
性基板を、予め磁気ヘッドのアジマス角に相当する角度
だけ傾けた状態で重ね合わせて磁気コア基板を作製し、
その後磁気コア基板を基準面に対して垂直に切断するよ
うにしているので、アジマス角の大きさに依存すること
なくヘッドとして使用することができない不要な部分が
大幅に減少し歩留りが向上する。

【００１８】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら説明する。実施例１ 本実施例は、磁性薄膜をその膜厚方向より一対の非磁性
体によって挟み込んでなる磁気コア半体同士が、各磁気
コア半体の突合わせ面に呈する磁性薄膜の端面同士を突
合わせその突合わせ面間に磁気ギャップを形成してなる
磁気ヘッドを作製する例である。

【００１９】かかる磁気ヘッドを作製するには、先ず図
１に示すように、セラミックス等からなる非磁性基板１
の片面に磁気コアとなる磁性薄膜２と接合膜３をスパッ
タ等の真空薄膜形成法によりこの順に成膜する。

【００２０】磁性薄膜２としては、例えばＦｅ−Ａｌ−
Ｓｉ、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｓｉ、Ｆｅ−Ｇａ−Ｓｉ、Ｆ
ｅ−Ａｌ−Ｇｅ等、及びそれらに８原子％以下のＣｏ、
Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｕ、Ａｕ、Ｐｄ、
Ｎ、Ｃ、Ｏ等を一種または数種添加した結晶質材料、ま
たはＣｏに主としてＺｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｍｏ、Ｎ
ｂの一種または数種添加して構成されたアモルファス材
料、或いはＣｏ、Ｆｅに主としてＺｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｈ
ｆ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｂの一種または数種と
Ｎ、Ｃ、Ｏの一種または数種を添加して構成された微結
晶材料等よりなる膜が使用される。

【００２１】一方、接合膜３には、融着用ガラス膜、あ
るいは低温金属接合用のＡｕ、Ａｇ、Ｐｄ等が用いられ
る。接合膜３としてＡｕ、Ａｇ、Ｐｂ等よりなる膜を用
いる場合には、その下地としてＣｒ膜を非磁性基板１の
主面に成膜し、これら貴金属と非磁性基板１との接合強
度を確保することが望ましい。

【００２２】次に、図２に示すように、上記磁性薄膜２
が形成された非磁性基板１を平らな基準面４に対し磁気
ヘッドのアジマス角に相当する角度αだけ傾けて積み重
ねる。そして、積み重ねた最後の非磁性基板１の接合膜
３上に磁性薄膜２が形成されていない非磁性基板１を重
ね（図中最右端）、積層方向に加圧しながら加熱処理を
行う。

【００２３】その結果、各非磁性基板１は接合膜３によ
って接合されて略平行四辺形状の磁気コア基板５とな
る。

【００２４】次に、図３及び図４に示すように、上記磁
気コア基板５を基準面４に対して垂直にＦ−Ｆ’、Ｇ−
Ｇ’、Ｈ−Ｈ’の線に沿って切断する。磁気コア基板５
を基準面４に対して垂直に切断すると、ヘッドとして使
用できない不要な部分はＦ−Ｆ’線の左側の三角形部分
のみとなるので、磁気コア基板５を有効に使え、歩留り
の点で非常に有利である。例え、アジマス角がいくら大
きくなっても歩留りには差ほど影響は生じず、そのほと
んどがヘッドとして使用できる。

【００２５】上記各線に沿って切断した結果、磁気コア
ブロックが複数形成される。そして、この磁気コアブロ
ックを切断し、図５に示すように、互いに略対称な一対
の磁気コアハーフブロック６，７が作製される。次に、
図６に示すように、一方の磁気コアハーフブロック６の
突合わせ面となる面に、その長手方向に沿って伸びる巻
線溝８を形成する。

【００２６】次いで、これら磁気コアハーフブロック
６，７の突合わせ面となる磁気コアハーフブロック６の
片面と、他方の磁気コアハーフブロック７の溝形成面を
平滑研磨する。

【００２７】そして、図７に示すように、上記研磨面に
ギャップスペーサー９をスパッタ等の真空薄膜形成法に
より形成し、これら磁気コアハーフブロック６，７をそ
れぞれの磁性薄膜２同士が相対向するように突合わせ
る。しかる後、突合わせ方向よりこれら磁気コアハーフ
ブロック６，７を加圧しながら加熱を行う。その結果、
これら磁気コアハーフブロック６，７は接合一体化さ
れ、各磁気コアハーフブロック６，７にそれぞれ形成さ
れた磁性薄膜２の突合わせ面間に、アジマス角を持った
記録再生ギャップとして動作する磁気ギャップｇが形成
される。

【００２８】そして、接合一体化されたブロックに対
し、所定のギャップ深さまでラップして曲率を持ったテ
ープ摺動面１０を形成する。そして最後に、上記ブロッ
クをＤ−Ｄ’、Ｅ−Ｅ’の線に沿って磁性薄膜２と略平
行にチップ切断することで、図８に示す磁気ヘッドが完
成する。このようにして作製された磁気ヘッドにおいて
は、非磁性基板１によってその膜厚方向より挟み込まれ
てなる磁性薄膜２の膜厚が、磁気ギャップｇのトラック
幅Ｔｗとなっている。したがって、上記磁性薄膜２の膜
厚を制御することにより簡単に狭ギャップ化を図ること
ができ、高密度記録化に容易に対処することができる。

【００２９】ここで実際に、長さ３０ｍｍ、厚み１ｍｍ
の非磁性基板を３０枚積み重ねて磁気コア基板を形成
し、アジマス角２０°の磁気ヘッドを作製した。このと
き、切り出すブロックの幅を２．５ｍｍとしたところ、
従来の製法では得られるブロック数は７本であったが、
上述の実施例によると１０〜１１本のブロックが得られ
た。したがって、本実施例の製法を採用すれば、磁気コ
ア基板の略全てをヘッドとして使用することができ、歩
留りを大幅に向上させることができ、生産性を高めるこ
とができる。

【００３０】なお、上述の実施例では、非磁性基板１上
に形成した磁性薄膜２は単層の膜としたが、例えば図９
に示すように、ＳｉＯ₂ ，Ａｌ₂ Ｏ₃ ，Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の
酸化物や窒化物等の如き電気的絶縁膜１１を介して膜厚
の薄い磁性薄膜２を何層にも積層するようにしてもよ
い。このように、磁性薄膜２を電気的絶縁膜１１を介し
て何層にも積層した積層膜とすることで、高周波数帯域
での渦電流損失を大幅に低減させることができる。

【００３１】実施例２ 本実施例は、磁性薄膜をその膜厚方向より非磁性体と磁
性フェライトからなる一対の複合基板によって挟み込ん
でなる磁気コア半体同士が、各磁気コア半体の突合わせ
面に呈する磁性薄膜の端面同士を突合わせその突合わせ
面間に磁気ギャップを形成してなる磁気ヘッドを作製す
る例である。

【００３２】かかる磁気ヘッドは、図１０に示すよう
に、磁性薄膜２をその膜厚方向より挟み込んでなる基板
が非磁性基板１と磁性フェライト基板１２とを接合一体
化した複合基板とされており、先の実施例１の磁気ヘッ
ドに比べて磁気コア断面積が十分に確保されている。上
記非磁性基板１は媒体との摺接による耐摩耗性を考慮し
てヘッド摺動面部に設けられ、磁性フェライト基板１２
はヘッド摺動面部を除く後部磁気回路を構成するバック
部に設けられている。

【００３３】上記磁気ヘッドを作製するには、先ず、非
磁性基板１と磁性フェライト基板１２を接合する。次
に、図１１に示すように、この複合基板の片面に磁性薄
膜２と電気的絶縁膜１１を交互にスパッタし、その積層
膜上に接合膜３を形成する。以下、先の実施例１と同じ
工程を経て磁気ヘッドを作製する。すなわち、磁性薄膜
２が形成された複合基板を平らな基準面４に対し磁気ヘ
ッドのアジマス角に相当する角度αだけ傾けて積み重ね
る。

【００３４】次いで、積み重ねた最後の複合基板１の接
合膜３上に磁性薄膜２が形成されていない複合基板を重
ね、積層方向に加圧しながら加熱処理を行う。その結
果、各複合基板は接合膜３によって接合されて略平行四
辺形状の磁気コア基板１３となる。そして、図１２に示
すように、上記磁気コア基板１３を基準面４に対して垂
直にＦ−Ｆ’、Ｇ−Ｇ’、Ｈ−Ｈ’の線に沿って切断す
る。

【００３５】この切断時においても、先の実施例１と同
様にヘッドとして使用できない不要な部分は非常に少な
く、アジマス角の大きさに依存することなく磁気コア基
板１３を有効に使用できる。

【００３６】上記各線に沿って切断した結果、磁気コア
ブロックが複数形成される。そして、この磁気コアブロ
ックを切断し、図１３に示すように、互いに略対称な一
対の磁気コアハーフブロック１４，１５が作製される。
次に、一方の磁気コアハーフブロック１４の突合わせ面
となる面に、その長手方向に沿って伸びる巻線溝８を形
成する。

【００３７】次いで、これら磁気コアハーフブロック１
４，１５の突合わせ面となる磁気コアハーフブロック１
５の片面と、他方の磁気コアハーフブロック１４の溝形
成面を平滑研磨する。

【００３８】そして、図１５に示すように、上記研磨面
にギャップスペーサー９をスパッタ等の真空薄膜形成法
により形成し、これら磁気コアハーフブロック１４，１
５をそれぞれの磁性薄膜２同士が相対向するように突合
わせる。しかる後、突合わせ方向よりこれら磁気コアハ
ーフブロック１４，１５を加圧しながら加熱を行う。そ
の結果、これら磁気コアハーフブロック１４，１５は接
合一体化され、各磁気コアハーフブロック１４，１５に
それぞれ形成された磁性薄膜２の突合わせ面間に、アジ
マス角を持った記録再生ギャップとして動作する磁気ギ
ャップｇが形成される。

【００３９】そして、接合一体化されたブロックに対
し、所定のギャップ深さまでラップして曲率を持ったテ
ープ摺動面１０を形成する。そして最後に、上記ブロッ
クをＤ−Ｄ’、Ｅ−Ｅ’の線に沿って磁性薄膜２と略平
行にチップ切断することで、図１０に示す磁気ヘッドが
完成する。

【００４０】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の方法においては、磁性薄膜が形成されてなる非磁性
基板又は複合基板を予め磁気ヘッドのアジマス角に相当
する角度だけ傾けた状態で重ね合わせて略平行四形状を
なす磁気コア基板を作製し、その後磁気コア基板を基準
面に対して垂直に切断するようにしているので、略全て
の磁気コア基板をヘッドの作製に使用することができ、
当該磁気コア基板の歩留りを大幅に向上させることがで
きる。したがって、アジマス角を持った磁気ヘッドを大
量に生産性良く製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、磁性薄膜形成工程を示す斜視図である。

【図２】実施例１の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、磁気コア基板形成工程を示す斜視図である。

【図３】実施例１の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、磁気コア基板を切断する工程を示す斜視図で
ある。

【図４】実施例１の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、磁気コア基板を切断する工程を示す平面図で
ある。

【図５】実施例１の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、磁気コアハーフブロック形成工程を示す斜視
図である。

【図６】実施例１の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、巻線溝形成工程を示す斜視図である。

【図７】実施例１の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、接合工程を示す斜視図である。

【図８】作製された磁気ヘッドの斜視図である。

【図９】磁性薄膜が積層膜の場合の磁気ヘッドの斜視図
である。

【図１０】磁気記録媒体摺動部を非磁性材料としバック
部を磁性フェライトとした複合基板で磁性薄膜を挟み込
んでなる磁気ヘッドの斜視図である。

【図１１】図１０の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、磁気コア基板形成工程を示す斜視図である。

【図１２】図１０の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、磁気コア基板を切断する工程を示す斜視図で
ある。

【図１３】図１０の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、磁気コアハーフブロック形成工程を示す斜視
図である。

【図１４】図１０の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、巻線溝形成工程を示す斜視図である。

【図１５】図１０の磁気ヘッドを製造する工程を順次示
すもので、接合工程を示す斜視図である。

【図１６】従来の方法によって磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、磁性薄膜形成工程を示す斜視図で
ある。

【図１７】従来の方法によって磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、磁気コア基板形成工程を示す斜視
図である。

【図１８】従来の方法によって磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、磁気コア基板を切断する工程を示
す斜視図である。

【図１９】従来の方法によって磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、磁気コアハーフブロック形成工程
を示す斜視図である。

【図２０】従来の方法によって磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、巻線溝形成工程を示す斜視図であ
る。

【図２１】従来の方法によって磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、接合工程を示す斜視図である。

【図２２】従来の方法によって磁気ヘッドを製造する工
程を順次示すもので、磁気コア基板を切断する工程を示
す平面図である。

【符号の説明】

１・・・非磁性基板 ２・・・磁性薄膜 ３・・・接合膜 ４・・・基準面 ５・・・磁気コア基板 ６，７・・・磁気コアハーフブロック ８・・・巻線溝 ９・・・ギャップスペーサ １２・・接合フェライト基板

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁性薄膜をその膜厚方向より一対の非磁
   性体によって挟み込んでなる磁気コア半体同士が、各磁
   気コア半体の突合わせ面に呈する磁性薄膜の端面同士を
   突合わせその突合わせ面間に磁気ギャップを形成してな
   る磁気ヘッドの製造方法において、 非磁性基板の少なくとも一方の面に磁性薄膜を形成する
   工程と、 上記磁性薄膜の形成された非磁性基板を複数作製する工
   程と、 上記複数の非磁性基板を基準面に対してヘッドのアジマ
   ス角度に相当する角度だけ傾けて相互に接合して略平行
   四辺形状の磁気コア基板を作製する工程と、 上記磁気コア基板を上記基準面に対して垂直に切断して
   複数の磁気コアブロックを形成する工程と、 上記磁気コアブロックを切断し互いに略対称な一対の磁
   気コアハーフブロックを形成する工程と、 少なくとも一方の磁気コアハーフブロックの切断面にそ
   の長手方向に沿って伸びる巻線溝を形成する工程と、 上記一対の磁気コアハーフブロックの切断面間にギャッ
   プスペーサーを挟んでこれら磁気コアハーフブロックを
   接合一体化した後、磁性薄膜と平行にチップ切断する工
   程とを備えてなる磁気ヘッドの製造方法。
2. 【請求項２】 磁性薄膜をその膜厚方向より非磁性体と
   磁性フェライトからなる一対の複合基板によって挟み込
   んでなる磁気コア半体同士が、各磁気コア半体の突合わ
   せ面に呈する磁性薄膜の端面同士を突合わせその突合わ
   せ面間に磁気ギャップを形成してなる磁気ヘッドの製造
   方法において、 複合基板の少なくも一方の面に磁性薄膜を形成する工程
   と、 上記磁性薄膜の形成された複合基板を複数作製する工程
   と、 上記複数の複合基板を基準面に対してヘッドのアジマス
   角度に相当する角度だけ傾むけて相互に接合して略平行
   四辺形の磁気コア基板を作製する工程と、 上記磁気コア基板を上記基準面に対して垂直に切断して
   複数の磁気コアブロックを形成する工程と、 上記磁気コアブロックを切断し互いに略対称な一対の磁
   気コアハーフブロックを形成する工程と、 少なくとも一方の磁気コアハーフブロックの切断面にそ
   の長手方向に沿って伸びる巻線溝を形成する工程と、 上記一対の磁気コアハーフブロックの切断面間にギャッ
   プスペーサーを挟んでこれらの磁気コアハーフブロック
   を接合一体化した後、磁性薄膜と平行にチップ切断する
   工程とを備えてなる磁気ヘッドの製造方法。
3. 【請求項３】 磁性薄膜が電気的絶縁膜を介して積層さ
   れた積層膜であることを特徴とする請求項１又は２記載
   の磁気ヘッドの製造方法。