JPH0630282B2 - SiC薄膜サ−ミスタ - Google Patents
SiC薄膜サ−ミスタInfo
- Publication number
- JPH0630282B2 JPH0630282B2 JP60130113A JP13011385A JPH0630282B2 JP H0630282 B2 JPH0630282 B2 JP H0630282B2 JP 60130113 A JP60130113 A JP 60130113A JP 13011385 A JP13011385 A JP 13011385A JP H0630282 B2 JPH0630282 B2 JP H0630282B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- sic thin
- paste
- electrodes
- film thermistor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Details Of Resistors (AREA)
- Thermistors And Varistors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高応答性および、高耐熱性を要求される温度セ
ンサに利用されるSiC薄膜サーミスタに関するもので
ある。
ンサに利用されるSiC薄膜サーミスタに関するもので
ある。
従来の技術 以下、図面を参照しながら、従来のSiC薄膜サーミス
タについて説明を行う。
タについて説明を行う。
従来のSiC薄膜サーミスタは第2図に示すように、ア
ルミナ基板1上の金属ペーストにて一対の対向電極2
a,2bを形成した後、リード線取付部分3a,3bを
除く前記対向電極2a,2bが形成されている前記アル
ミナ基板1上にSiCの薄膜4をスパッタリングにより
形成し、前記対向電極2a,2b上の前記SiC薄膜4
が形成されていない部分にリード線5a,5bを接着し
た構造であった。
ルミナ基板1上の金属ペーストにて一対の対向電極2
a,2bを形成した後、リード線取付部分3a,3bを
除く前記対向電極2a,2bが形成されている前記アル
ミナ基板1上にSiCの薄膜4をスパッタリングにより
形成し、前記対向電極2a,2b上の前記SiC薄膜4
が形成されていない部分にリード線5a,5bを接着し
た構造であった。
発明が解決しようとする問題点 ところが、このような従来の構成では、高耐熱性を得る
ために、対向電極2a,2bを、熱安定性にすぐれた金
属ペーストで形成すると、接続時に外力が加わるリード
線5a,5bをこの対向電極2a,2bに接続した場
合、この対向電極2a,2bとアルミナ基板1との接着
が十分に得られないことに起因して、リード線5a,5
bにに外力が加わると、この対向電極2a,2bがアル
ミナ基板1から剥離してしまうという問題があった。逆
に、機械的な強度を得るために、対向電極2a,2bに
アルミナ基板1との接着力の強い金属ペーストを用いる
と、温度検出部で高温に接するSiC薄膜4部分におけ
る対向電極2a,2bの熱安定性が十分でなく、耐熱温
度の低い製品となった。
ために、対向電極2a,2bを、熱安定性にすぐれた金
属ペーストで形成すると、接続時に外力が加わるリード
線5a,5bをこの対向電極2a,2bに接続した場
合、この対向電極2a,2bとアルミナ基板1との接着
が十分に得られないことに起因して、リード線5a,5
bにに外力が加わると、この対向電極2a,2bがアル
ミナ基板1から剥離してしまうという問題があった。逆
に、機械的な強度を得るために、対向電極2a,2bに
アルミナ基板1との接着力の強い金属ペーストを用いる
と、温度検出部で高温に接するSiC薄膜4部分におけ
る対向電極2a,2bの熱安定性が十分でなく、耐熱温
度の低い製品となった。
本発明はこのような従来の問題点を解消するもので30
0℃の耐熱性および十分な機械的強度を有するSiC薄
膜サーミスタを提供するものである。
0℃の耐熱性および十分な機械的強度を有するSiC薄
膜サーミスタを提供するものである。
問題点を解決するための手段 この問題点を解決するために、本発明のSiC薄膜サー
ミスタは、SiC薄膜が形成される部分は、熱安定性に
すぐれたPt−Auペーストで電極を形成し、リード線
取出部は、セラミック絶縁基板との接着力の強いAg−
Pdペーストで電極を形成した構成としたものである。
ミスタは、SiC薄膜が形成される部分は、熱安定性に
すぐれたPt−Auペーストで電極を形成し、リード線
取出部は、セラミック絶縁基板との接着力の強いAg−
Pdペーストで電極を形成した構成としたものである。
作用 上記構成とすることにより本発明の薄膜サーミスタは、
感温抵抗体となるSiC薄膜形成部分には、熱安定性の
すぐれたPt−Auペースト、機械的強度を決定するリ
ード線取出部には、セラミック絶縁基板との接着力の強
いAg−Pdペーストを用いて、電極を形成しているた
め300℃の耐熱性、および十分な機械的強度を持つS
iC薄膜サーミスタを提供することができる。
感温抵抗体となるSiC薄膜形成部分には、熱安定性の
すぐれたPt−Auペースト、機械的強度を決定するリ
ード線取出部には、セラミック絶縁基板との接着力の強
いAg−Pdペーストを用いて、電極を形成しているた
め300℃の耐熱性、および十分な機械的強度を持つS
iC薄膜サーミスタを提供することができる。
実施例 以下、本発明の一実施例のSiC薄膜サーミスタを図面
を参照にして説明する。
を参照にして説明する。
第1図に示すように、アルミナ基板6の上に、熱安定性
にすぐれたPt−Auペーストにて一対のくし形Pt−
Au電極7a,7bを形成し、前記各Pt−Au電極7
a,7bに一部を重ねてアルミナ基板6との接着力の強
いAg−Pdペーストにて一対のAg−Pd電極8a,
8bをアルミナ基板6上に形成した後、くし形Pt−A
u電極7a,7b部分にSiC薄膜9をスパッタリング
により形成し感温抵抗体とし、Ag−Pd電極8a,8
bにはリード線、10a,10bを溶接にて接続した構
成となっている。
にすぐれたPt−Auペーストにて一対のくし形Pt−
Au電極7a,7bを形成し、前記各Pt−Au電極7
a,7bに一部を重ねてアルミナ基板6との接着力の強
いAg−Pdペーストにて一対のAg−Pd電極8a,
8bをアルミナ基板6上に形成した後、くし形Pt−A
u電極7a,7b部分にSiC薄膜9をスパッタリング
により形成し感温抵抗体とし、Ag−Pd電極8a,8
bにはリード線、10a,10bを溶接にて接続した構
成となっている。
発明の効果 上記のように本発明は、SiC薄膜サーミスタの電極に
熱安定性にすぐれたPt−Auペースト、およびセラミ
ック絶縁基板との接着力の強いAg−Pdペーストの2
種を用いることにより、300℃の耐熱性および十分な
機械的強度を持つ、SiC薄膜サーミスタを得ることが
できるものである。
熱安定性にすぐれたPt−Auペースト、およびセラミ
ック絶縁基板との接着力の強いAg−Pdペーストの2
種を用いることにより、300℃の耐熱性および十分な
機械的強度を持つ、SiC薄膜サーミスタを得ることが
できるものである。
第1図は本発明の一実施例におけるSiC薄膜サーミス
タの斜視図、第2図は従来の薄膜サーミスタの斜視図で
ある。 6……アルミナ基板、7a,7b……Pt−Au電極、
8a,8b……Ag−Pd電極、9……SiC薄膜、1
0a,10b……リード線。
タの斜視図、第2図は従来の薄膜サーミスタの斜視図で
ある。 6……アルミナ基板、7a,7b……Pt−Au電極、
8a,8b……Ag−Pd電極、9……SiC薄膜、1
0a,10b……リード線。
Claims (1)
- 【請求項1】セラミック絶縁基板上に、熱安定性にすぐ
れたPt−Auペーストにて一対の対向電極を設け、さ
らに前記セラミック絶縁基板との接着力の強いAg−P
dペーストにて前記対向電極のそれぞれに一部分を接触
させて、このセラミック絶縁基板上に一対の電極を設
け、前記熱安定性のすぐれたPt−Auペーストにて形
成された対向電極が存在する前記セラミック絶縁基板上
にSiCの薄膜を形成し、前記セラミック絶縁基板との
接着力の強いAg−Pdペーストにて形成された電極に
はリード線を接着してなるSiC薄膜サーミスタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60130113A JPH0630282B2 (ja) | 1985-06-14 | 1985-06-14 | SiC薄膜サ−ミスタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60130113A JPH0630282B2 (ja) | 1985-06-14 | 1985-06-14 | SiC薄膜サ−ミスタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61287202A JPS61287202A (ja) | 1986-12-17 |
| JPH0630282B2 true JPH0630282B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
ID=15026260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60130113A Expired - Lifetime JPH0630282B2 (ja) | 1985-06-14 | 1985-06-14 | SiC薄膜サ−ミスタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0630282B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5785204A (en) * | 1980-11-17 | 1982-05-27 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Thin film thermistor |
-
1985
- 1985-06-14 JP JP60130113A patent/JPH0630282B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61287202A (ja) | 1986-12-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |