JPH06317896A - 感光性平版印刷版の製造方法 - Google Patents
感光性平版印刷版の製造方法Info
- Publication number
- JPH06317896A JPH06317896A JP10690393A JP10690393A JPH06317896A JP H06317896 A JPH06317896 A JP H06317896A JP 10690393 A JP10690393 A JP 10690393A JP 10690393 A JP10690393 A JP 10690393A JP H06317896 A JPH06317896 A JP H06317896A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- printing plate
- photosensitive
- lithographic printing
- irradiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 36
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 24
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 32
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 32
- -1 quinonediazide compound Chemical class 0.000 description 27
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 23
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 22
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 11
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 10
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 8
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 8
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 5
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 4
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 1-penten-3-one Chemical compound CCC(=O)C=C JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPDXFYPVHRESMA-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-trihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C=C1O GPDXFYPVHRESMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1O UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C(OC)=C1 GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AKEUNCKRJATALU-UHFFFAOYSA-N 2,6-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(O)C=CC=C1O AKEUNCKRJATALU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 LULAYUGMBFYYEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 4'-hydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical class [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMFSGOFUHEVNP-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2-methylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1C(O)=O BBMFSGOFUHEVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCJMNOSIAGSZBM-UHFFFAOYSA-N 6-methylsalicylic acid Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C(O)=O HCJMNOSIAGSZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 2
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GGNQRNBDZQJCCN-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,4-triol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(O)=C1 GGNQRNBDZQJCCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N hex-1-en-3-one Chemical compound CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATGUVEKSASEFFO-UHFFFAOYSA-N p-aminodiphenylamine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 ATGUVEKSASEFFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVJSUAQZOZWCKN-UHFFFAOYSA-N p-hydroxybenzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=C(O)C=C1 BVJSUAQZOZWCKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 2
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N phenoxyacetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC=C1 LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FLYXGBNUYGAFAC-UHFFFAOYSA-N (2,4-dihydroxyphenyl)-(2-hydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O FLYXGBNUYGAFAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMVHMOAIMOMOF-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 JMMVHMOAIMOMOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTSGKJQDMSTCGS-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(4-chlorophenyl)-2-(4-methylphenyl)sulfonylbutane-1,4-dione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C(C(=O)C=1C=CC(Cl)=CC=1)CC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 HTSGKJQDMSTCGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWIFXCARKJCTGL-UHFFFAOYSA-N 1,7-dimethylindole-3-carbaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC2=C1N(C)C=C2C=O FWIFXCARKJCTGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 1-O-galloyl-3,6-(R)-HHDP-beta-D-glucose Natural products OC1C(O2)COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC1C(O)C2OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)N)=CC2=C1 GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHORZPMPPHTXFQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroethanesulfonic acid Chemical compound CC(Cl)S(O)(=O)=O LHORZPMPPHTXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOC=C XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxypropane Chemical compound CCCOC=C OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)C1=CC=CC=C1 KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBZAVRDNSPUMFK-UHFFFAOYSA-N 2, 6-Dihydroxy-4-methylbenzoic acid, Natural products CC1=CC(O)=C(C(O)=O)C(O)=C1 YBZAVRDNSPUMFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCC(O)COC(=O)C=C OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBHWREHFNDMRPR-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-Trihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(O)C=C(O)C=C1O IBHWREHFNDMRPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC(C)=C(S(O)(=O)=O)C(C)=C1 LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKYWPNROPGQIFZ-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C(C)=C1 BKYWPNROPGQIFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSQDURCMBCGCIK-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dihydroxyphenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=C(O)C=C1O FSQDURCMBCGCIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJWNFAKWHDOUKL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C=CC=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 CJWNFAKWHDOUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOUMISZLKFGEAX-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4,5-trihydroxyphenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 DOUMISZLKFGEAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCCILVSKPBXVIP-UHFFFAOYSA-N 2-(4-hydroxyphenyl)ethanol Chemical compound OCCC1=CC=C(O)C=C1 YCCILVSKPBXVIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJRRUHVEWQXOLO-UHFFFAOYSA-N 2-(fluoroamino)acetic acid Chemical compound OC(=O)CNF AJRRUHVEWQXOLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEUCMBLQZFAWPS-UHFFFAOYSA-N 2-dodecyl-6-hydroxybenzoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1C(O)=O CEUCMBLQZFAWPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQDPLEDHXOOBPW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-4,6-dimethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC(C)=C(C(O)=O)C(O)=C1 OQDPLEDHXOOBPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHORXFCFSYPDQA-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-octadecylbenzoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1C(O)=O MHORXFCFSYPDQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSCKNWYHELSSSU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-propylbenzoic acid Chemical compound CCCC1=CC=CC(O)=C1C(O)=O GSCKNWYHELSSSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBJWXIQDBDZMAW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxynaphthalene-1-carbonyl chloride Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(Cl)=O)C(O)=CC=C21 WBJWXIQDBDZMAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTMADXFOCUXMJE-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzene-1,3-diol Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1O ZTMADXFOCUXMJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYGWQJQDFKYKDP-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-n-phenylbutanamide Chemical compound CCC(=C)C(=O)NC1=CC=CC=C1 HYGWQJQDFKYKDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFCDDRTYJQZGKK-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC#N.CC(=C)C(O)=O KFCDDRTYJQZGKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YZTJKOLMWJNVFH-UHFFFAOYSA-N 2-sulfobenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1S(O)(=O)=O YZTJKOLMWJNVFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMNZPIHTZJNWOV-UHFFFAOYSA-N 3,5-dihydroxyphthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC(O)=C1C(O)=O BMNZPIHTZJNWOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REEBWSYYNPPSKV-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-formylphenoxy)methyl]thiophene-2-carbonitrile Chemical compound C1=CC(C=O)=CC=C1OCC1=C(C#N)SC=C1 REEBWSYYNPPSKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBIKLMJHBGFTPV-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxyphenol Chemical compound CCOC1=CC=CC(O)=C1 VBIKLMJHBGFTPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 4,4'-thiodiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1SC1=CC=C(O)C=C1 VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBWXRXFSFDFNEA-UHFFFAOYSA-N 4-(2,4-dihydroxybenzoyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O XBWXRXFSFDFNEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYIYMIBXKKRMIB-UHFFFAOYSA-N 4-(2-hydroxybenzoyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O DYIYMIBXKKRMIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUWHCTSQIAULAK-UHFFFAOYSA-N 4-(2-hydroxyethyl)benzoic acid Chemical compound OCCC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 FUWHCTSQIAULAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHNZDYJIQWLXQF-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyanilino)benzoic acid Chemical compound COC1=CC=CC(NC=2C=CC(=CC=2)C(O)=O)=C1 PHNZDYJIQWLXQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROXSWPDJVVHMEQ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyanilino)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1NC1=CC=C(O)C=C1 ROXSWPDJVVHMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRUPBAWWCPVHFT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyanilino)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1NC1=CC=C(O)C=C1 YRUPBAWWCPVHFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenoxy)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OC1=CC=C(O)C=C1 NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVWQOKFMAWPFSA-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)-2-methylbenzoic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C)=CC(C=2C=CC(O)=CC=2)=C1 MVWQOKFMAWPFSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTUIGZQCSANURO-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)sulfanylbenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1SC1=CC=C(O)C=C1 JTUIGZQCSANURO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEQHZOVQJQIZLB-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)sulfonylbenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 MEQHZOVQJQIZLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULXLHJKFKUXRFY-UHFFFAOYSA-N 4-(4-methoxybenzoyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ULXLHJKFKUXRFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VICFCQQQOPXTJU-UHFFFAOYSA-N 4-(4-methylanilino)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 VICFCQQQOPXTJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKXDNBNSQBZKFO-UHFFFAOYSA-N 4-(benzenesulfonyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 PKXDNBNSQBZKFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWYFPDXEIFBNKE-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)benzoic acid Chemical compound OCC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 WWYFPDXEIFBNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACPXHHDRVABPNY-UHFFFAOYSA-N 4-acetylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 ACPXHHDRVABPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPAMLADQPZFXMD-UHFFFAOYSA-N 4-anilinobenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 DPAMLADQPZFXMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBYJAUOTBYIDX-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-2,6-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(O)C=C(Cl)C=C1O OVBYJAUOTBYIDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQVAPEJNIZULEK-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzene-1,3-diol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C(O)=C1 JQVAPEJNIZULEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=NC=C1 KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGSAASVFCYXBCT-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-2-hydroxybenzoic acid Chemical compound CCC1=CC=C(C(O)=O)C(O)=C1 GGSAASVFCYXBCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFUMDYCIOSWRLV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2,6-dimethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC(O)=CC(C)=C1C(O)=O FFUMDYCIOSWRLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NRPFNQUDKRYCNX-UHFFFAOYSA-N 4-methoxyphenylacetic acid Chemical compound COC1=CC=C(CC(O)=O)C=C1 NRPFNQUDKRYCNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJESAXZANHETJV-UHFFFAOYSA-N 4-methylsalicylic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C(O)=C1 NJESAXZANHETJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBLUJIWKMSZIMK-UHFFFAOYSA-N 4-n-(4-methoxyphenyl)benzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1NC1=CC=C(N)C=C1 RBLUJIWKMSZIMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYAQFHLUEMJOMF-UHFFFAOYSA-N 4-phenoxybenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 RYAQFHLUEMJOMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISAVYTVYFVQUDY-UHFFFAOYSA-N 4-tert-Octylphenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 ISAVYTVYFVQUDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYLOSPCJTPLXSF-UHFFFAOYSA-N 5-amino-2-anilinobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(N)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 HYLOSPCJTPLXSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAJIPIAHCFBEPI-UHFFFAOYSA-N 9,10-dioxoanthracene-1-sulfonic acid Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2S(=O)(=O)O JAJIPIAHCFBEPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100309761 Aedes aegypti SDR-1 gene Proteins 0.000 description 1
- IXUGYLBWFGINAF-UHFFFAOYSA-N CN(C)C1=CC=C(C=C1)C2=NC(=NC=N2)C(Cl)(Cl)Cl Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C=C1)C2=NC(=NC=N2)C(Cl)(Cl)Cl IXUGYLBWFGINAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000623 Cellulose acetate phthalate Polymers 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N Decanoic acid Natural products CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001263 FEMA 3042 Substances 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100038434 Neuroplastin Human genes 0.000 description 1
- 108700038050 Neuroplastin Proteins 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N Penta-digallate-beta-D-glucose Natural products OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(=O)OC[C@@H]2[C@H]([C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)O2)OC(=O)C=2C=C(OC(=O)C=3C=C(O)C(O)=C(O)C=3)C(O)=C(O)C=2)O)=C1 LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPGOFFXRGUQRMW-UHFFFAOYSA-N [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].O=C1C=CC=CC1=O Chemical group [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].O=C1C=CC=CC1=O MPGOFFXRGUQRMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYHXGXCGESYPCW-UHFFFAOYSA-N alpha-phenylbenzeneacetic acid Natural products C=1C=CC=CC=1C(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 PYHXGXCGESYPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940114055 beta-resorcylic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229940081734 cellulose acetate phthalate Drugs 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical group C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COVFEVWNJUOYRL-UHFFFAOYSA-N digallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)=C1 COVFEVWNJUOYRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYWOWFOOVUPFY-UHFFFAOYSA-L dihydroxy(dioxo)chromium;phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O.O[Cr](O)(=O)=O WMYWOWFOOVUPFY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxybenzene Chemical compound C=COC1=CC=CC=C1 NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQIJRJNHZYUQSD-UHFFFAOYSA-N ethenyl(phenyl)diazene Chemical group C=CN=NC1=CC=CC=C1 IQIJRJNHZYUQSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRBQNJMCXXYXIU-QWKBTXIPSA-N gallotannic acid Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(=O)OC[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)O2)OC(=O)C=2C=C(OC(=O)C=3C=C(O)C(O)=C(O)C=3)C(O)=C(O)C=2)O)=C1 LRBQNJMCXXYXIU-QWKBTXIPSA-N 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNQVWTDLQQGKSV-UHFFFAOYSA-O hydroxy-oxo-phenylphosphanium Chemical compound O[P+](=O)C1=CC=CC=C1 KNQVWTDLQQGKSV-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCCNC(=O)C=C UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1CCCCC1 PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N n-ethylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C=C SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCGQYJSQINRKQL-UHFFFAOYSA-N n-hexylprop-2-enamide Chemical compound CCCCCCNC(=O)C=C GCGQYJSQINRKQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1=CC=CC=C1 BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- HOCUTNNUNJVDOP-UHFFFAOYSA-N nitro(phenyl)azanide Chemical compound [O-][N+](=O)[N-]C1=CC=CC=C1 HOCUTNNUNJVDOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMKYESDOVDKZKV-UHFFFAOYSA-N o-Orsellinic acid Natural products CC1=CC(O)=CC(O)=C1C(O)=O AMKYESDOVDKZKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005440 p-toluyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCYCKXJRAKEYSM-UHFFFAOYSA-N phenyl-(1,5,6-trihydroxycyclohexa-2,4-dien-1-yl)methanone Chemical compound OC1C(O)=CC=CC1(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 PCYCKXJRAKEYSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000010099 solid forming Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 235000015523 tannic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940033123 tannic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920002258 tannic acid Polymers 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 感光性平版印刷版の製造方法であって、感光
性組成物を支持体上に塗布する塗布工程および、乾燥工
程を含む感光性平版印刷版を製造する方法において、該
乾燥工程が遠赤外線照射により版面を50〜130℃に
する工程を含むことを特徴とする。 【効果】 本発明の製造方法によれば、塗布工程後の乾
燥工程を短縮ないし省略でき、生産性が向上する。更に
本発明の製造方法による感光性平版印刷版は品質の均一
性、保存安定性に優れ、合紙を使用せずに版を堆積した
場合のブロッキング性に優れる。
性組成物を支持体上に塗布する塗布工程および、乾燥工
程を含む感光性平版印刷版を製造する方法において、該
乾燥工程が遠赤外線照射により版面を50〜130℃に
する工程を含むことを特徴とする。 【効果】 本発明の製造方法によれば、塗布工程後の乾
燥工程を短縮ないし省略でき、生産性が向上する。更に
本発明の製造方法による感光性平版印刷版は品質の均一
性、保存安定性に優れ、合紙を使用せずに版を堆積した
場合のブロッキング性に優れる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は感光性平版印刷版の製造
方法に関する。更に詳しくは、保存安定性に優れ、版を
堆積した時のブロッキングを発生しない感光性平版印刷
版の製造方法に関する。また、生産性の優れた感光性平
版印刷版の製造方法に関する。
方法に関する。更に詳しくは、保存安定性に優れ、版を
堆積した時のブロッキングを発生しない感光性平版印刷
版の製造方法に関する。また、生産性の優れた感光性平
版印刷版の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】感光性平版印刷版は、感光性組成物を有
機溶剤に溶かし、コイル状の支持体上に塗布し、その後
アーチ式ドライヤーやフローティング式ドライヤー等の
乾燥機により、熱風乾燥することにより製造されてい
た。しかし、これらの乾燥方法では塗膜中の有機溶剤の
除去速度が遅く、ある程度乾燥時間を長くしても乾燥終
了後の感光性平版印刷版の塗膜中にかなりの量の残留溶
剤が存在している。特に蒸発速度が遅い有機溶剤の場合
は、この現象が顕著であり、種々の問題を有していた。
例えば、乾燥処理の終了後も残留溶剤の量の減少が起こ
り、それにともない印刷版の性能も変化する。この性能
の変化は、ポジ型の場合は現像性の劣化、ネガ型の場合
は感度劣化の要因のひとつとなっている。すなわち、保
管状況により、各印刷版の性能にむらがあることとな
り、品質管理上問題であった。更には合紙をはさまずに
版を堆積し、長時間放置すると、感光層面が接している
版の裏面に張りついてしまう、いわゆるブロッキングを
生じる確率が高くなってしまう。このため、一般に感光
性平版印刷版は、ブロッキング発生防止のため印刷版間
に合紙をはさんで保存される。
機溶剤に溶かし、コイル状の支持体上に塗布し、その後
アーチ式ドライヤーやフローティング式ドライヤー等の
乾燥機により、熱風乾燥することにより製造されてい
た。しかし、これらの乾燥方法では塗膜中の有機溶剤の
除去速度が遅く、ある程度乾燥時間を長くしても乾燥終
了後の感光性平版印刷版の塗膜中にかなりの量の残留溶
剤が存在している。特に蒸発速度が遅い有機溶剤の場合
は、この現象が顕著であり、種々の問題を有していた。
例えば、乾燥処理の終了後も残留溶剤の量の減少が起こ
り、それにともない印刷版の性能も変化する。この性能
の変化は、ポジ型の場合は現像性の劣化、ネガ型の場合
は感度劣化の要因のひとつとなっている。すなわち、保
管状況により、各印刷版の性能にむらがあることとな
り、品質管理上問題であった。更には合紙をはさまずに
版を堆積し、長時間放置すると、感光層面が接している
版の裏面に張りついてしまう、いわゆるブロッキングを
生じる確率が高くなってしまう。このため、一般に感光
性平版印刷版は、ブロッキング発生防止のため印刷版間
に合紙をはさんで保存される。
【0003】この問題解決のために、例えばメチルエチ
ルケトン等の蒸発速度の速い溶剤を採用する方法が考え
られるが、感光性組成物の溶解性の問題と、塗布直後の
レベリング性や塗膜の均一乾燥性が悪くなり、塗膜不良
の問題が生じる。他の方法として、残留溶剤の量を減少
させるために乾燥時間を長くする方法が考えられるが乾
燥装置が長大となり、生産性が悪くなる。また、乾燥温
度を高くする方法の場合は感光性化合物の分解の問題が
生じ、ある程度以上の温度には上げることができない。
例えばポジ型の感光性平版印刷版でよく用いられるo−
キノンジアジド化合物では約110℃、ネガ型の感光性
平版印刷版でよく用いられるジアゾ樹脂では約100℃
を越えると急激に分解するため、それぞれ現像性の低下
を招くことがある。
ルケトン等の蒸発速度の速い溶剤を採用する方法が考え
られるが、感光性組成物の溶解性の問題と、塗布直後の
レベリング性や塗膜の均一乾燥性が悪くなり、塗膜不良
の問題が生じる。他の方法として、残留溶剤の量を減少
させるために乾燥時間を長くする方法が考えられるが乾
燥装置が長大となり、生産性が悪くなる。また、乾燥温
度を高くする方法の場合は感光性化合物の分解の問題が
生じ、ある程度以上の温度には上げることができない。
例えばポジ型の感光性平版印刷版でよく用いられるo−
キノンジアジド化合物では約110℃、ネガ型の感光性
平版印刷版でよく用いられるジアゾ樹脂では約100℃
を越えると急激に分解するため、それぞれ現像性の低下
を招くことがある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前記のように、従来の
感光性平版印刷版の製造方法はいずれも難点を有し、感
光性平版印刷版としての種々の性能を保ちながら、か
つ、生産性の高い製造方法の開発が課題となっていた。
感光性平版印刷版の製造方法はいずれも難点を有し、感
光性平版印刷版としての種々の性能を保ちながら、か
つ、生産性の高い製造方法の開発が課題となっていた。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる課
題を解決すべく鋭意検討の結果、特定の工程を含む乾燥
工程とすることにより、保存安定性、ブロッキング発生
防止等の感光性平版印刷版として要求される種々の性能
に優れ、かつ、生産性の高い感光性平版印刷版の製造方
法となることを見出し、本発明に到達した。
題を解決すべく鋭意検討の結果、特定の工程を含む乾燥
工程とすることにより、保存安定性、ブロッキング発生
防止等の感光性平版印刷版として要求される種々の性能
に優れ、かつ、生産性の高い感光性平版印刷版の製造方
法となることを見出し、本発明に到達した。
【0006】即ち、本発明の目的は、保存安定性、ブロ
ッキング発生防止に優れた感光性平版印刷版の製造方法
を提供することにある。本発明の別の目的は、乾燥工程
を短時間にし、かつ合紙を不要とする生産性の高い感光
性平版印刷版の製造方法を提供することにある。しかし
て、かかる本発明の目的は、感光性組成物を支持体上に
塗布する塗布工程および、乾燥工程を含む感光性平版印
刷版を製造する方法において、該乾燥工程が遠赤外線照
射により版面を50〜130℃にする工程を含むことを
特徴とする感光性平版印刷版の製造方法、によって容易
に達成される。
ッキング発生防止に優れた感光性平版印刷版の製造方法
を提供することにある。本発明の別の目的は、乾燥工程
を短時間にし、かつ合紙を不要とする生産性の高い感光
性平版印刷版の製造方法を提供することにある。しかし
て、かかる本発明の目的は、感光性組成物を支持体上に
塗布する塗布工程および、乾燥工程を含む感光性平版印
刷版を製造する方法において、該乾燥工程が遠赤外線照
射により版面を50〜130℃にする工程を含むことを
特徴とする感光性平版印刷版の製造方法、によって容易
に達成される。
【0007】以下、本発明について、詳細に説明する。
本発明の感光層平版印刷版に適した支持体は寸度的に安
定な板状のものであれば特に限定はされず、好適に使用
することができる。このような支持体としては紙、プラ
スチックや金属などかあるが、とりわけアルミニウム板
が最も好適に使用される。
本発明の感光層平版印刷版に適した支持体は寸度的に安
定な板状のものであれば特に限定はされず、好適に使用
することができる。このような支持体としては紙、プラ
スチックや金属などかあるが、とりわけアルミニウム板
が最も好適に使用される。
【0008】支持体としてアルミニウム板を使用する場
合、砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応じて封孔
処理等の表面処理が施される。これらの処理には公知の
方法を適用することができる。砂目立て処理の方法とし
ては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする
方法が挙げられる。機械的方法としては、例えば、ボー
ル研磨法、ブラシ研磨法、液体ホーニングによる研磨
法、バフ研磨法等が挙げられる。アルミニウム材の組成
等に応じて上述の各種方法を単独あるいは組合せて用い
ることができる。好ましくは電解エッチングする方法で
ある。
合、砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応じて封孔
処理等の表面処理が施される。これらの処理には公知の
方法を適用することができる。砂目立て処理の方法とし
ては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする
方法が挙げられる。機械的方法としては、例えば、ボー
ル研磨法、ブラシ研磨法、液体ホーニングによる研磨
法、バフ研磨法等が挙げられる。アルミニウム材の組成
等に応じて上述の各種方法を単独あるいは組合せて用い
ることができる。好ましくは電解エッチングする方法で
ある。
【0009】電解エッチングは、リン酸、硫酸、塩酸、
硝酸等の無機の酸を単独ないし2種以上混合した浴で行
われる。砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリある
いは酸の水溶液によってデスマット処理を行い中和して
水洗する。陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、クロ
ム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を1種又は2種以
上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解し
て行われる。形成された陽極酸化皮膜量は1〜50mg
/dm2 が適当であり、好ましくは10〜40mg/d
m2 である。陽極酸化皮膜量は、例えば、アルミニウム
板をリン酸クロム酸溶液(リン酸85%液:35ml、
酸化クロム(VI) :20gを1リットルの水に溶解して
作製)に浸漬し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後
の重量変化測定等から求められる。
硝酸等の無機の酸を単独ないし2種以上混合した浴で行
われる。砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリある
いは酸の水溶液によってデスマット処理を行い中和して
水洗する。陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、クロ
ム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を1種又は2種以
上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解し
て行われる。形成された陽極酸化皮膜量は1〜50mg
/dm2 が適当であり、好ましくは10〜40mg/d
m2 である。陽極酸化皮膜量は、例えば、アルミニウム
板をリン酸クロム酸溶液(リン酸85%液:35ml、
酸化クロム(VI) :20gを1リットルの水に溶解して
作製)に浸漬し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後
の重量変化測定等から求められる。
【0010】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケ
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。本発
明においては、前述の支持体上に感光性組成物を塗布す
る塗布工程が設けられる。
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。本発
明においては、前述の支持体上に感光性組成物を塗布す
る塗布工程が設けられる。
【0011】本発明において使用される感光性組成物と
しては特に限定されず、従来公知の感光性組成物が使用
可能である。より具体的には以下のものがあげられる。 I :キノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性組
成物 II :ジアゾ樹脂を含有するネガ型感光性組成物 III :その他の感光性組成物(光重合型など) 以下にこれら感光性組成物について説明する。
しては特に限定されず、従来公知の感光性組成物が使用
可能である。より具体的には以下のものがあげられる。 I :キノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性組
成物 II :ジアゾ樹脂を含有するネガ型感光性組成物 III :その他の感光性組成物(光重合型など) 以下にこれら感光性組成物について説明する。
【0012】I:キノンジアジド化合物を含有するポジ
型感光性組成物 本発明において、使用されるキノンジアジド化合物とし
ては、o−ベンゾキノンジアジド基またはo−ナフトキ
ノンジアジド基を有する化合物が好ましく、特にo−ナ
フトキノンジアジド基を有する化合物が好ましい。この
ようなキノンジアジド化合物としては特願昭63−29
3107号公報に記載のもの等が挙げられる。
型感光性組成物 本発明において、使用されるキノンジアジド化合物とし
ては、o−ベンゾキノンジアジド基またはo−ナフトキ
ノンジアジド基を有する化合物が好ましく、特にo−ナ
フトキノンジアジド基を有する化合物が好ましい。この
ようなキノンジアジド化合物としては特願昭63−29
3107号公報に記載のもの等が挙げられる。
【0013】本発明においては、該キノンジアジド化合
物の含有量は溶媒を除く感光性組成物全体に対し5〜6
0重量%が好ましく、特に好ましくは10〜50重量%
である。本発明において、キノンジアジド化合物ととも
に使用されるアルカリ可溶性樹脂としては、主にバイン
ダーとして使用できる樹脂はいずれでもよいが、ノボラ
ック樹脂やビニル系重合体樹脂、米国特許第3,75
1,257号公報に記載されているポリアミド樹脂、米
国特許第3,660,097号公報に記載されている線
状ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタレー
ト化樹脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンから
縮合されたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロース
アセテートフタレート等のセルロース類等が挙げられ、
ノボラック樹脂やビニル系重合体樹脂およびその組合せ
等が好ましい例として挙げられる。このようなアルカリ
可溶性樹脂としては特願昭63−293107号公報に
記載のもの等が挙げられる。本発明においては該アルカ
リ可溶性樹脂の含有量は感光性組成物の全固形分に対
し、5〜95重量%が好ましく、特に好ましくは20〜
90重量%である。
物の含有量は溶媒を除く感光性組成物全体に対し5〜6
0重量%が好ましく、特に好ましくは10〜50重量%
である。本発明において、キノンジアジド化合物ととも
に使用されるアルカリ可溶性樹脂としては、主にバイン
ダーとして使用できる樹脂はいずれでもよいが、ノボラ
ック樹脂やビニル系重合体樹脂、米国特許第3,75
1,257号公報に記載されているポリアミド樹脂、米
国特許第3,660,097号公報に記載されている線
状ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタレー
ト化樹脂、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンから
縮合されたエポキシ樹脂、酢酸セルロース、セルロース
アセテートフタレート等のセルロース類等が挙げられ、
ノボラック樹脂やビニル系重合体樹脂およびその組合せ
等が好ましい例として挙げられる。このようなアルカリ
可溶性樹脂としては特願昭63−293107号公報に
記載のもの等が挙げられる。本発明においては該アルカ
リ可溶性樹脂の含有量は感光性組成物の全固形分に対
し、5〜95重量%が好ましく、特に好ましくは20〜
90重量%である。
【0014】さらに本発明で使用されるキノンジアジド
化合物を含有するポジ型感光性組成物には、必要に応じ
て染料、レベリング性などを付与するための界面活性
剤、インキ着肉性をよくするための感脂化剤、露光後の
可視画性を付与するための露光可視画剤などを添加する
ことができる。
化合物を含有するポジ型感光性組成物には、必要に応じ
て染料、レベリング性などを付与するための界面活性
剤、インキ着肉性をよくするための感脂化剤、露光後の
可視画性を付与するための露光可視画剤などを添加する
ことができる。
【0015】II:ジアゾ樹脂を含有するネガ型感光性組
成物 ジアゾ樹脂としては従来公知の物が適宜使用できるが、
芳香族ジアゾニウム塩と例えば活性カルボニル含有化合
物、特にホルムアルデヒドとの縮合物で代表されるジア
ゾ樹脂が含まれ、その中で有機溶媒可溶性のジアゾ樹脂
が好ましい。ジアゾ樹脂としては、例えばp−ジアゾジ
フェニルアミンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒ
ドの縮合物と、ヘキサフルオロリン酸塩、テトラフルオ
ロホウ酸塩との有機溶媒可溶の反応生成物であるジアゾ
樹脂無機塩、または米国特許第3,300,309号明
細書に記載されているような、前記縮合物とスルホン酸
類例えばp−トルエンスルホン酸又はその塩、ホスフィ
ン酸類例えばベンゼンホスフィン酸又はその塩、ヒドロ
キシル基含有化合物例えば、2,4−ジヒドロキシベン
ゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェ
ノン−5−スルホン酸又はその塩等の反応生成物である
有機溶媒可溶性ジアゾ樹脂有機酸塩等が挙げられる。
成物 ジアゾ樹脂としては従来公知の物が適宜使用できるが、
芳香族ジアゾニウム塩と例えば活性カルボニル含有化合
物、特にホルムアルデヒドとの縮合物で代表されるジア
ゾ樹脂が含まれ、その中で有機溶媒可溶性のジアゾ樹脂
が好ましい。ジアゾ樹脂としては、例えばp−ジアゾジ
フェニルアミンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒ
ドの縮合物と、ヘキサフルオロリン酸塩、テトラフルオ
ロホウ酸塩との有機溶媒可溶の反応生成物であるジアゾ
樹脂無機塩、または米国特許第3,300,309号明
細書に記載されているような、前記縮合物とスルホン酸
類例えばp−トルエンスルホン酸又はその塩、ホスフィ
ン酸類例えばベンゼンホスフィン酸又はその塩、ヒドロ
キシル基含有化合物例えば、2,4−ジヒドロキシベン
ゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェ
ノン−5−スルホン酸又はその塩等の反応生成物である
有機溶媒可溶性ジアゾ樹脂有機酸塩等が挙げられる。
【0016】さらに、本発明において、好適に用いるこ
とができる他のジアゾ樹脂は、少なくとも1つのカルボ
キシル基、ならびに少くとも1つのヒドロキシル基のう
ち少なくとも一方の有機基を有する芳香族化合物と、ジ
アゾニウム化合物、好ましくは芳香族ジアゾニウム化合
物とを構造単位として含む(共)縮合体である。前記の
カルボキシル基およびまたはヒドロキシル基を有する芳
香族化合物は、少なくとも1つのカルボキシル基で置換
された芳香族環およびまたは少なくとも1つのヒドロキ
シル基で置換した芳香族環を分子中に含むものであっ
て、この場合、上記カルボキシル基とヒドロキシル基と
が同一の芳香族環に置換されていてもよい。
とができる他のジアゾ樹脂は、少なくとも1つのカルボ
キシル基、ならびに少くとも1つのヒドロキシル基のう
ち少なくとも一方の有機基を有する芳香族化合物と、ジ
アゾニウム化合物、好ましくは芳香族ジアゾニウム化合
物とを構造単位として含む(共)縮合体である。前記の
カルボキシル基およびまたはヒドロキシル基を有する芳
香族化合物は、少なくとも1つのカルボキシル基で置換
された芳香族環およびまたは少なくとも1つのヒドロキ
シル基で置換した芳香族環を分子中に含むものであっ
て、この場合、上記カルボキシル基とヒドロキシル基と
が同一の芳香族環に置換されていてもよい。
【0017】そして上記の芳香族環としては、好ましく
はアリール基例えばフェニル基、ナフチル基を挙げるこ
とができる。また前記のカルボキシル基あるいはヒドロ
キシル基は芳香族環に直接結合してもよく、ジョイント
を介して結合していてもよい。上記の場合において、1
つの芳香族環に結合するカルボキシル基の数としては1
または2が好ましく、また1つの芳香族環に結合するヒ
ドロキシル基の数としては1乃至3が好ましい。さらに
ジョイントとしては例えば炭素数1乃至4のアルキレン
基を挙げることができる。
はアリール基例えばフェニル基、ナフチル基を挙げるこ
とができる。また前記のカルボキシル基あるいはヒドロ
キシル基は芳香族環に直接結合してもよく、ジョイント
を介して結合していてもよい。上記の場合において、1
つの芳香族環に結合するカルボキシル基の数としては1
または2が好ましく、また1つの芳香族環に結合するヒ
ドロキシル基の数としては1乃至3が好ましい。さらに
ジョイントとしては例えば炭素数1乃至4のアルキレン
基を挙げることができる。
【0018】前述のカルボキシル基および/又はヒドロ
キシル基を含有する芳香族化合物の具体例としては、安
息香酸、(o,m,p)−クロロ安息香酸、フタル酸、
テレフタル酸、ジフェニル酢酸、フェノキシ酢酸、p−
メトキシフェニル酢酸、p−メトキシ安息香酸、2,4
−ジメトキシ安息香酸、2,4−ジメチル安息香酸、p
−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ安息香酸、4−
(m−メトキシアニリノ)安息香酸、4−(p−メトキ
シベンゾイル)安息香酸、4−(p−メチルアニリノ)
安息香酸、4−フェニルスルホニル安息香酸、フェノー
ル、(o,m,p)−クレゾール、キシレノール、レゾ
ルシン、2−メチルレゾルシン、(o,m,p)−メト
キシフェノール、m−エトキシフェノール、カテコー
ル、フロログリシン、p−ヒドロキシエチルフェノー
ル、ナフトール、ピロガロール、ヒドロキノン、p−ヒ
ドロキシベンジルアルコール、4−クロロレゾルシン、
ビフェニル4,4′−ジオール、1,2,4−ベンゼン
トリオール、ビスフェノールA、2,4−ジヒドロキシ
ベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフ
ェノン、p−ヒドロキシアセトフェノン、4,4−ジヒ
ドロキシジフェニルエーテル、4,4′−ジヒドロキシ
ジフェニルアミン、4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルフィドクミルフェノール、(o,m,p)−クロロ
フェノール、(o,m,p)−ブロモフェノール、サリ
チル酸、4−メチルサリチル酸、6−メチルサリチル
酸、4−エチルサリチル酸、6−プロピルサリチル酸、
6−ラウリルサリチル酸、6−ステアリルサリチル酸、
4,6−ジメチルサリチル酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、2−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸、6−メチル
−4−ヒドロキシル安息香酸、2,6−ジメチル−4−
ヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、
2,4−ジヒドロキシ−6−メチル安息香酸、2,6−
ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ−4−メ
チル安息香酸、4−クロロ−2,6−ジヒドロキシ安息
香酸、4−メトキシ−2,6−ジオキシ安息香酸、没食
子酸、フロログルシンカルボン酸、2,4,5−トリヒ
ドロキシ安息香酸、m−ガロイル没食子酸、タンニン
酸、m−ベンゾイル没食子酸、m−(p−トルイル)没
食子酸、プロトカテクオイル−没食子酸、4,6−ジヒ
ドロキシフタル酸、(2,4−ジヒドロキシフェニル)
酢酸、(3,4,5−トリヒドロキシフェニル)酢酸、
p−ヒドロキシメチル安息香酸、p−ヒドロキシエチル
安息香酸、4−(p−ヒドロキシフェニル)メチル安息
香酸、4−(o−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸、4
−(2,4−ジヒドロキシベンゾイル)安息香酸、4−
(p−ヒドロキシフェノキシ)安息香酸、4−(p−ヒ
ドロキシアニリノ)安息香酸、ビス(3−カルボキシ−
4−ヒドロキシフェニル)アミン、4−(p−ヒドロキ
シフェニルスルホニル)安息香酸、4−(p−ヒドロキ
シフェニルチオ)安息香酸等があげられ、このうち特に
好ましいものは、サリチル酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、p−メトキシ安息香酸、メタクロロ安息香酸であ
る。
キシル基を含有する芳香族化合物の具体例としては、安
息香酸、(o,m,p)−クロロ安息香酸、フタル酸、
テレフタル酸、ジフェニル酢酸、フェノキシ酢酸、p−
メトキシフェニル酢酸、p−メトキシ安息香酸、2,4
−ジメトキシ安息香酸、2,4−ジメチル安息香酸、p
−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ安息香酸、4−
(m−メトキシアニリノ)安息香酸、4−(p−メトキ
シベンゾイル)安息香酸、4−(p−メチルアニリノ)
安息香酸、4−フェニルスルホニル安息香酸、フェノー
ル、(o,m,p)−クレゾール、キシレノール、レゾ
ルシン、2−メチルレゾルシン、(o,m,p)−メト
キシフェノール、m−エトキシフェノール、カテコー
ル、フロログリシン、p−ヒドロキシエチルフェノー
ル、ナフトール、ピロガロール、ヒドロキノン、p−ヒ
ドロキシベンジルアルコール、4−クロロレゾルシン、
ビフェニル4,4′−ジオール、1,2,4−ベンゼン
トリオール、ビスフェノールA、2,4−ジヒドロキシ
ベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフ
ェノン、p−ヒドロキシアセトフェノン、4,4−ジヒ
ドロキシジフェニルエーテル、4,4′−ジヒドロキシ
ジフェニルアミン、4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルフィドクミルフェノール、(o,m,p)−クロロ
フェノール、(o,m,p)−ブロモフェノール、サリ
チル酸、4−メチルサリチル酸、6−メチルサリチル
酸、4−エチルサリチル酸、6−プロピルサリチル酸、
6−ラウリルサリチル酸、6−ステアリルサリチル酸、
4,6−ジメチルサリチル酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、2−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸、6−メチル
−4−ヒドロキシル安息香酸、2,6−ジメチル−4−
ヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、
2,4−ジヒドロキシ−6−メチル安息香酸、2,6−
ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ−4−メ
チル安息香酸、4−クロロ−2,6−ジヒドロキシ安息
香酸、4−メトキシ−2,6−ジオキシ安息香酸、没食
子酸、フロログルシンカルボン酸、2,4,5−トリヒ
ドロキシ安息香酸、m−ガロイル没食子酸、タンニン
酸、m−ベンゾイル没食子酸、m−(p−トルイル)没
食子酸、プロトカテクオイル−没食子酸、4,6−ジヒ
ドロキシフタル酸、(2,4−ジヒドロキシフェニル)
酢酸、(3,4,5−トリヒドロキシフェニル)酢酸、
p−ヒドロキシメチル安息香酸、p−ヒドロキシエチル
安息香酸、4−(p−ヒドロキシフェニル)メチル安息
香酸、4−(o−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸、4
−(2,4−ジヒドロキシベンゾイル)安息香酸、4−
(p−ヒドロキシフェノキシ)安息香酸、4−(p−ヒ
ドロキシアニリノ)安息香酸、ビス(3−カルボキシ−
4−ヒドロキシフェニル)アミン、4−(p−ヒドロキ
シフェニルスルホニル)安息香酸、4−(p−ヒドロキ
シフェニルチオ)安息香酸等があげられ、このうち特に
好ましいものは、サリチル酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、p−メトキシ安息香酸、メタクロロ安息香酸であ
る。
【0019】前述の共縮合ジアゾ樹脂の構成単位をなす
芳香族ジアゾニウム化合物には、例えば特公昭49−4
8001号公報に挙げられているようなジアゾニウム塩
を用いることができるが、特に、ジフェニルアミン−4
−ジアゾニウム塩類が好ましい。ジフェニルアミン−4
−ジアゾニウム塩類は、4−アミノ−ジフェニルアミン
類から誘導されるが、このような4−アミノ−ジフェニ
ルアミン類としては、4−アミノ−ジフェニルアミン、
4−アミノ−3−メトキシ−ジフェニルアミン、4−ア
ミノ−2−メトキシ−ジフェニルアミン、4′−アミノ
−2−メトキシ−ジフェニルアミン、4′−アミノ−4
−メトキシ−ジフェニルアミン、4−アミノ−3−メチ
ルジフェニルアミン、4−アミノ−3−エトキシ−ジフ
ェニルアミン、4−アミノ−3−β−ヒドロキシ−エト
キシジフェニルアミン、4−アミノ−ジフェニルアミン
−2−スルホン酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2
−カルボン酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2′−
カルボン酸等があげられ、特に好ましくは、3−メトキ
シ−4−アミノ−ジフェニルアミン、4−アミノ−ジフ
ェニルアミンである。
芳香族ジアゾニウム化合物には、例えば特公昭49−4
8001号公報に挙げられているようなジアゾニウム塩
を用いることができるが、特に、ジフェニルアミン−4
−ジアゾニウム塩類が好ましい。ジフェニルアミン−4
−ジアゾニウム塩類は、4−アミノ−ジフェニルアミン
類から誘導されるが、このような4−アミノ−ジフェニ
ルアミン類としては、4−アミノ−ジフェニルアミン、
4−アミノ−3−メトキシ−ジフェニルアミン、4−ア
ミノ−2−メトキシ−ジフェニルアミン、4′−アミノ
−2−メトキシ−ジフェニルアミン、4′−アミノ−4
−メトキシ−ジフェニルアミン、4−アミノ−3−メチ
ルジフェニルアミン、4−アミノ−3−エトキシ−ジフ
ェニルアミン、4−アミノ−3−β−ヒドロキシ−エト
キシジフェニルアミン、4−アミノ−ジフェニルアミン
−2−スルホン酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2
−カルボン酸、4−アミノ−ジフェニルアミン−2′−
カルボン酸等があげられ、特に好ましくは、3−メトキ
シ−4−アミノ−ジフェニルアミン、4−アミノ−ジフ
ェニルアミンである。
【0020】上記共縮合ジアゾ樹脂は、公知の方法、例
えば、フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エン
ジニアリング(Photo,Sci.,Eng.)第1
7巻、第33頁(1973)、米国特許第2,063,
631号、同第2,679,498号各明細書に記載の
方法に従い、硫酸やリン酸あるいは塩酸中でジアゾニウ
ム塩、カルボキシル基および/またはヒドロキシル基を
有する芳香族化合物およびアルデヒド類、例えばパラホ
ルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド
あるいはケトン類、例えばアセトン、アセトフェノンと
を重縮合させることによって得られる。
えば、フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エン
ジニアリング(Photo,Sci.,Eng.)第1
7巻、第33頁(1973)、米国特許第2,063,
631号、同第2,679,498号各明細書に記載の
方法に従い、硫酸やリン酸あるいは塩酸中でジアゾニウ
ム塩、カルボキシル基および/またはヒドロキシル基を
有する芳香族化合物およびアルデヒド類、例えばパラホ
ルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド
あるいはケトン類、例えばアセトン、アセトフェノンと
を重縮合させることによって得られる。
【0021】また、これら分子中にカルボキシル基およ
び/またはヒドロキシル基を有する芳香族化合物、芳香
族ジアゾ化合物およびアルデヒド類またはケトン類は相
互に組合せ自由であり、さらに各々2種以上を混ぜて共
縮合することも可能である。カルボキシル基およびヒド
ロキシル基のうち少くとも一方を有する芳香族化合物と
芳香族ジアゾ化合物の仕込みモル比は、1:0.1〜
0.1:1、好ましくは1:0.5〜0.2:1、より
好ましくは1:1〜0.2:1である。またこの場合カ
ルボキシル基およびヒドロキシル基のうち少くとも一方
を有する芳香族化合物および芳香族ジアゾ化合物の合計
とアルデヒド類またはケトン類とをモル比で通常1:
0.6〜1.2、好ましくは1:0.7〜1.5で仕込
み、低温で短時間、例えば3時間程度反応させることに
より共縮合ジアゾ樹脂が得られる。
び/またはヒドロキシル基を有する芳香族化合物、芳香
族ジアゾ化合物およびアルデヒド類またはケトン類は相
互に組合せ自由であり、さらに各々2種以上を混ぜて共
縮合することも可能である。カルボキシル基およびヒド
ロキシル基のうち少くとも一方を有する芳香族化合物と
芳香族ジアゾ化合物の仕込みモル比は、1:0.1〜
0.1:1、好ましくは1:0.5〜0.2:1、より
好ましくは1:1〜0.2:1である。またこの場合カ
ルボキシル基およびヒドロキシル基のうち少くとも一方
を有する芳香族化合物および芳香族ジアゾ化合物の合計
とアルデヒド類またはケトン類とをモル比で通常1:
0.6〜1.2、好ましくは1:0.7〜1.5で仕込
み、低温で短時間、例えば3時間程度反応させることに
より共縮合ジアゾ樹脂が得られる。
【0022】本発明において使用されるジアゾ樹脂の対
アニオンは、該ジアゾ樹脂と安定に塩を形成し、かつ該
樹脂を有機溶媒に可溶となすアニオンを含む。これら
は、デカン酸および安息香酸等の有機カルボン酸、フェ
ニルリン酸等の有機リン酸およびスルホン酸を含み、典
型的な例としては、メタンスルホン酸、クロロエタンス
ルホン酸、ドテカンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、
トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、およびア
ントラキノンスルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン−5−スルホン酸、ヒドロキシスルホ
ン酸、4−アセチルベンゼンスルホン酸、ジメチル−5
−スルホイソフタレート等の脂肪族並びに芳香族スルホ
ン酸、2,2′,4,4′−テトラヒドロキシベンゾフ
ェノン、1,2,3−トリヒドロキシベンゾフェノン、
2,2′,4−トリヒドロキシベンゾフェノン等の水酸
基含有芳香族化合物、ヘキサフルオロリン酸、テトラフ
ルオロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、ClO4 ,IO
4 等の過ハロゲン酸等が挙げられるが、これに限られる
ものではない。これらの中で、特に好ましいものは、ヘ
キサフルオロリン酸、テトラフルオロホウ酸、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸
である。
アニオンは、該ジアゾ樹脂と安定に塩を形成し、かつ該
樹脂を有機溶媒に可溶となすアニオンを含む。これら
は、デカン酸および安息香酸等の有機カルボン酸、フェ
ニルリン酸等の有機リン酸およびスルホン酸を含み、典
型的な例としては、メタンスルホン酸、クロロエタンス
ルホン酸、ドテカンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、
トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、およびア
ントラキノンスルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン−5−スルホン酸、ヒドロキシスルホ
ン酸、4−アセチルベンゼンスルホン酸、ジメチル−5
−スルホイソフタレート等の脂肪族並びに芳香族スルホ
ン酸、2,2′,4,4′−テトラヒドロキシベンゾフ
ェノン、1,2,3−トリヒドロキシベンゾフェノン、
2,2′,4−トリヒドロキシベンゾフェノン等の水酸
基含有芳香族化合物、ヘキサフルオロリン酸、テトラフ
ルオロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、ClO4 ,IO
4 等の過ハロゲン酸等が挙げられるが、これに限られる
ものではない。これらの中で、特に好ましいものは、ヘ
キサフルオロリン酸、テトラフルオロホウ酸、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸
である。
【0023】上記共縮合ジアゾ樹脂は、各単量体のモル
比および縮合条件を種々変えることにより、その分子量
は任意の値として得ることができるが、本発明の目的と
する使途に有効に供するためには分子量が約400乃至
10,000のものが使用可能であるが、好ましくは、
約800乃至5,000のものが適当である。上記ジア
ゾ樹脂の、本発明の感光性組成物中に含まれる割合は1
〜70重量%、特に好ましくは3〜60重量%である。
比および縮合条件を種々変えることにより、その分子量
は任意の値として得ることができるが、本発明の目的と
する使途に有効に供するためには分子量が約400乃至
10,000のものが使用可能であるが、好ましくは、
約800乃至5,000のものが適当である。上記ジア
ゾ樹脂の、本発明の感光性組成物中に含まれる割合は1
〜70重量%、特に好ましくは3〜60重量%である。
【0024】次に上記ジアゾ化合物とともに感光性組成
物中に含有される重合体について説明する。重合体の好
適な例としては、共重合体があげられ、該共重合体は、
重合可能な付加重合性不飽和化合物を共重合させて得ら
れるが、付加重合性不飽和化合物としては、例えば、
(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリルアミド類、(メ
タ)アクリル酸エステル類、ビニルエーテル類、ビニル
ケトン類、スチレン類、オレフィン類、などの付加重合
性不飽和結合を有する化合物から選ばれる。
物中に含有される重合体について説明する。重合体の好
適な例としては、共重合体があげられ、該共重合体は、
重合可能な付加重合性不飽和化合物を共重合させて得ら
れるが、付加重合性不飽和化合物としては、例えば、
(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリルアミド類、(メ
タ)アクリル酸エステル類、ビニルエーテル類、ビニル
ケトン類、スチレン類、オレフィン類、などの付加重合
性不飽和結合を有する化合物から選ばれる。
【0025】具体的には、例えば下記(1)〜(9)に
示すものが挙げられる。 (1)(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メ
タ)アクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−
ヘキシルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリル
アミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フ
ェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアミド、N
−エチル−N−フェニルアクリルアミド等の(メタ)ア
クリルアミド類。
示すものが挙げられる。 (1)(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メ
タ)アクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−
ヘキシルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリル
アミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フ
ェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアミド、N
−エチル−N−フェニルアクリルアミド等の(メタ)ア
クリルアミド類。
【0026】(2)(メタ)アクリル酸メチル、(メ
タ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、
(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸アミ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリ
ル酸−2−クロロエチル、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、グリシジル(メタ)アクリレート、N−ジメチ
ルアミノエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル
メタクリレート、等の(置換)(メタ)アルキルメタク
リレート類。
タ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、
(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸アミ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリ
ル酸−2−クロロエチル、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、グリシジル(メタ)アクリレート、N−ジメチ
ルアミノエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル
メタクリレート、等の(置換)(メタ)アルキルメタク
リレート類。
【0027】(3)エチルビニルエーテル、2−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等の
ビニルエーテル類。 (4)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等の
ビニルエーテル類。 (4)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。
【0028】(5)スチレン、α−メチルスチレン、メ
チルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (6)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。
チルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (6)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。
【0029】(7)エチレン、プロピレン、イソブチレ
ン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。 (8)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、(メタ)アクリロニトリル。 (9)(メタ)アクリル酸 等が挙げられる。
ン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。 (8)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、(メタ)アクリロニトリル。 (9)(メタ)アクリル酸 等が挙げられる。
【0030】その他、前記一般式(II)のモノマーと共
重合しうるものならこれに限定されるものではない。こ
のうち特に好ましい付加重合性不飽和化合物としては、
(メタ)アクリル酸エチル、メチルメタクリレート、ア
クリロニトリルメタクリル酸等が挙げられる。この種の
ビニル系重合体は、感光性組成物中に30〜99重量
%、好ましくは、40〜97重量%含有させる。
重合しうるものならこれに限定されるものではない。こ
のうち特に好ましい付加重合性不飽和化合物としては、
(メタ)アクリル酸エチル、メチルメタクリレート、ア
クリロニトリルメタクリル酸等が挙げられる。この種の
ビニル系重合体は、感光性組成物中に30〜99重量
%、好ましくは、40〜97重量%含有させる。
【0031】III その他の感光性組成物(光重合型な
ど) ジアゾ樹脂と同時にあるいはそれに代って用いられる重
合可能なエチレン性不飽和単量体は活性なフリーラジカ
ルに対し連鎖重合反応を示すものであれば特に限定され
ない。なお、前記単量体の意味するところは、所謂高分
子物質に相対する概念であって、従って、狭義の単量体
以外に二量体、三量体、オリゴマーをも包含するもので
ある。
ど) ジアゾ樹脂と同時にあるいはそれに代って用いられる重
合可能なエチレン性不飽和単量体は活性なフリーラジカ
ルに対し連鎖重合反応を示すものであれば特に限定され
ない。なお、前記単量体の意味するところは、所謂高分
子物質に相対する概念であって、従って、狭義の単量体
以外に二量体、三量体、オリゴマーをも包含するもので
ある。
【0032】この重合可能なエチレン性不飽和単量体と
しては、例えば、不飽和カルボン酸、脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;芳香族ポ
リヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;
不飽和カルボン酸と多価カルボン酸および前述の脂肪族
ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等
の多価ヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得ら
れるエステル等が挙げられる。
しては、例えば、不飽和カルボン酸、脂肪族ポリヒドロ
キシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;芳香族ポ
リヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;
不飽和カルボン酸と多価カルボン酸および前述の脂肪族
ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等
の多価ヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得ら
れるエステル等が挙げられる。
【0033】前記脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和
カルボン酸とのエステルの具体例としては、エチレング
リコールジアクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエ
リスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、グリセロールアクリ
レート等のアクリル酸エステル、これら例示化合物のア
クリレートをメタクリレートに代えたメタクリル酸エス
テル、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エステ
ル、クロトネートに代えたクロトン酸エステルもしくは
マレエートに代えたマレイン酸エステル等がある。
カルボン酸とのエステルの具体例としては、エチレング
リコールジアクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエ
リスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、グリセロールアクリ
レート等のアクリル酸エステル、これら例示化合物のア
クリレートをメタクリレートに代えたメタクリル酸エス
テル、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エステ
ル、クロトネートに代えたクロトン酸エステルもしくは
マレエートに代えたマレイン酸エステル等がある。
【0034】芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリ
レート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシン
ジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロカ
ロールトリアクリレート等が挙げられる。不飽和カルボ
ン酸と多価カルボン酸及び多価ヒドロキシ化合物とのエ
ステル化反応により得られるエステルとしては必ずしも
単一物では無いが代表的な具体例を挙げれば、アクリル
酸、フタル酸、およびエチレングリコールの縮合物、ア
クリル酸、マレイン酸およびジエチレングリコールの縮
合物、メタクリル酸、テレフタル酸およびペンタエリス
リトールの縮合物、アクリル酸、アジピン酸、プタンジ
オールおよびグリセリンの縮合物等がある。
ボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリ
レート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシン
ジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロカ
ロールトリアクリレート等が挙げられる。不飽和カルボ
ン酸と多価カルボン酸及び多価ヒドロキシ化合物とのエ
ステル化反応により得られるエステルとしては必ずしも
単一物では無いが代表的な具体例を挙げれば、アクリル
酸、フタル酸、およびエチレングリコールの縮合物、ア
クリル酸、マレイン酸およびジエチレングリコールの縮
合物、メタクリル酸、テレフタル酸およびペンタエリス
リトールの縮合物、アクリル酸、アジピン酸、プタンジ
オールおよびグリセリンの縮合物等がある。
【0035】その他本発明に用いられるエチレン性不飽
和単量体の例としては、トルエンジイソシアネートとヒ
ドロキシエチルアクリレートとの付加反応物の様なウレ
タンアクリレート類;ジエポキシ化合物とヒドロキシエ
チルアクリレートとの付加反応物の様なエポキシアクリ
レート類;エチレンビスアクリルアミド等のアクリルア
ミド類;フタル酸ジアリル等のアリルエステル類;ジビ
ニルフタレート等のビニル基含有化合物などが有用であ
る。
和単量体の例としては、トルエンジイソシアネートとヒ
ドロキシエチルアクリレートとの付加反応物の様なウレ
タンアクリレート類;ジエポキシ化合物とヒドロキシエ
チルアクリレートとの付加反応物の様なエポキシアクリ
レート類;エチレンビスアクリルアミド等のアクリルア
ミド類;フタル酸ジアリル等のアリルエステル類;ジビ
ニルフタレート等のビニル基含有化合物などが有用であ
る。
【0036】これらの内、アクリレートまたはメタクリ
レート単量体がとりわけ有用である。上記エチレン性不
飽和単量体の本発明の感光性組成物中に含まれる割合
は、5〜90重量部、特に好ましくは10〜50重量部
である。又、光重合開始系としては、従来公知のものが
使用でき、例えばベンゾイン、ベンゾインアルキルエー
テル、ベンゾフェノン、アントラキノン、ベンジル、ミ
ヒラーズケトン、ビイミダゾールとミヒラーズケトンと
の複合体系等いずれも好適に用いることができる。
レート単量体がとりわけ有用である。上記エチレン性不
飽和単量体の本発明の感光性組成物中に含まれる割合
は、5〜90重量部、特に好ましくは10〜50重量部
である。又、光重合開始系としては、従来公知のものが
使用でき、例えばベンゾイン、ベンゾインアルキルエー
テル、ベンゾフェノン、アントラキノン、ベンジル、ミ
ヒラーズケトン、ビイミダゾールとミヒラーズケトンと
の複合体系等いずれも好適に用いることができる。
【0037】上記光重合開始系の感光性組成物中の量は
0.1〜20重量%、好ましくは0.2〜10重量%で
ある。以上の感光性組成物を、上記各成分を溶解する溶
媒に溶解させ、これを支持体表面に塗布乾燥させること
により例えば感光性平版印刷版を形成することができる
が、使用し得る溶媒としては、メチルセロソルブ、メチ
ルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブアセテート等のセロソルブ類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、アセト
ン、シクロヘキサノン、トリクロロエチレン、メチルエ
チルケトン、メチルカルビトール、乳酸メチル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。これ
らの溶媒は、単独であるいは2種以上混合して使用す
る。
0.1〜20重量%、好ましくは0.2〜10重量%で
ある。以上の感光性組成物を、上記各成分を溶解する溶
媒に溶解させ、これを支持体表面に塗布乾燥させること
により例えば感光性平版印刷版を形成することができる
が、使用し得る溶媒としては、メチルセロソルブ、メチ
ルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブアセテート等のセロソルブ類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、アセト
ン、シクロヘキサノン、トリクロロエチレン、メチルエ
チルケトン、メチルカルビトール、乳酸メチル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。これ
らの溶媒は、単独であるいは2種以上混合して使用す
る。
【0038】前記感光性組成物の塗布量は用途によって
も異なるが、一般的に固形分として0.5〜3.5g/
m2 の範囲が適当である。塗布する方法としては、一般
に公知のロールコーター、スライドホッパー方式コータ
ー、グラビアコーター、ホエラーコーター、ワイヤーバ
ーコーター等を用いることができる。
も異なるが、一般的に固形分として0.5〜3.5g/
m2 の範囲が適当である。塗布する方法としては、一般
に公知のロールコーター、スライドホッパー方式コータ
ー、グラビアコーター、ホエラーコーター、ワイヤーバ
ーコーター等を用いることができる。
【0039】塗布工程後には、溶媒の除去等を目的とし
て乾燥する乾燥工程が設けられるが、本発明の乾燥工程
は、遠赤外線照射により版面を50〜130℃にする工
程を含むものである。本発明で使用する遠赤外線として
は約20μm以上の波長成分を含有すれば、特に限定は
ないが、1μm以下の短波長成分が少ないことが好まし
く、紫外、可視領域(0.7μm以下)を含まないもの
がより好ましい。紫外、可視領域の波長成分が多いもの
を使用する場合は光学フィルター等を利用して、0.7
μm以下の低波長成分を除去することが好ましい。
て乾燥する乾燥工程が設けられるが、本発明の乾燥工程
は、遠赤外線照射により版面を50〜130℃にする工
程を含むものである。本発明で使用する遠赤外線として
は約20μm以上の波長成分を含有すれば、特に限定は
ないが、1μm以下の短波長成分が少ないことが好まし
く、紫外、可視領域(0.7μm以下)を含まないもの
がより好ましい。紫外、可視領域の波長成分が多いもの
を使用する場合は光学フィルター等を利用して、0.7
μm以下の低波長成分を除去することが好ましい。
【0040】該遠赤外線を発生させる装置の好適な例と
してセラミックス遠赤外線ヒーター等が挙げられる。セ
ラミックス遠赤外線ヒーターから放射される各波長の放
射量分布はヒーターの表面温度により変化する。そのた
め該表面温度は100〜1000℃、より好ましくは2
00〜800℃である。また照射源の形状は特に問題な
く、例えばパネル状、管状、ランプ状でも良い。エネル
ギー効率を考えると照射源背面に反射板を設けるのが好
ましい。
してセラミックス遠赤外線ヒーター等が挙げられる。セ
ラミックス遠赤外線ヒーターから放射される各波長の放
射量分布はヒーターの表面温度により変化する。そのた
め該表面温度は100〜1000℃、より好ましくは2
00〜800℃である。また照射源の形状は特に問題な
く、例えばパネル状、管状、ランプ状でも良い。エネル
ギー効率を考えると照射源背面に反射板を設けるのが好
ましい。
【0041】照射方法としては版の全面に照射できる方
法であればよく、特に全面に均一に照射できることが好
ましい。通常の前述のセラミックス遠赤外線ヒーターで
あれば、照射源は版面から1m〜2cmの距離、好まし
くは80cm以内、更に好ましくは60cm以内であ
り、照射時間は1〜60秒以内が好ましい。これらの条
件は版面温度を50〜130℃にするように使用する装
置に応じて適宜選択することができる。重要なのは版面
温度を50〜130℃で1〜60秒間照射することによ
り残留溶剤の量を塗膜重量に対して5重量%以下にする
ことである。例えば照射源と版面の距離が遠くなれば照
射時間を長くする必要があるし、ヒーター表面温度が低
ければ照射時間を長くする必要がある。また、ヒーター
のサイズや数や出力が小さければその分照射時間を長く
する必要がある。しかし、長時間照射すると感光性化合
物の分解等の問題が生じたり、設備費が高くなる等もあ
り60秒以内とすべきである。また、版面温度も高けれ
ば照射時間を短くすることが可能だが、感光性化合物の
分解が生じるため好ましくは110〜50℃、更に好ま
しくは100〜70℃の範囲である。
法であればよく、特に全面に均一に照射できることが好
ましい。通常の前述のセラミックス遠赤外線ヒーターで
あれば、照射源は版面から1m〜2cmの距離、好まし
くは80cm以内、更に好ましくは60cm以内であ
り、照射時間は1〜60秒以内が好ましい。これらの条
件は版面温度を50〜130℃にするように使用する装
置に応じて適宜選択することができる。重要なのは版面
温度を50〜130℃で1〜60秒間照射することによ
り残留溶剤の量を塗膜重量に対して5重量%以下にする
ことである。例えば照射源と版面の距離が遠くなれば照
射時間を長くする必要があるし、ヒーター表面温度が低
ければ照射時間を長くする必要がある。また、ヒーター
のサイズや数や出力が小さければその分照射時間を長く
する必要がある。しかし、長時間照射すると感光性化合
物の分解等の問題が生じたり、設備費が高くなる等もあ
り60秒以内とすべきである。また、版面温度も高けれ
ば照射時間を短くすることが可能だが、感光性化合物の
分解が生じるため好ましくは110〜50℃、更に好ま
しくは100〜70℃の範囲である。
【0042】遠赤外線を照射する工程は感光性組成物を
塗布した後であれば、特に限定されなく、従来の温風ヒ
ーター、加熱ロール等の乾燥工程の前でも後でも良く、
乾燥工程中に組み合わせても良い。また、遠赤外線照射
のみによって乾燥工程とすることも可能である。好まし
くは従来の、もしくは、従来より負荷を軽減させた乾燥
を行った後に、遠赤外線照射を行うのが感光性平版印刷
版の性能的にも生産性からも有利である。
塗布した後であれば、特に限定されなく、従来の温風ヒ
ーター、加熱ロール等の乾燥工程の前でも後でも良く、
乾燥工程中に組み合わせても良い。また、遠赤外線照射
のみによって乾燥工程とすることも可能である。好まし
くは従来の、もしくは、従来より負荷を軽減させた乾燥
を行った後に、遠赤外線照射を行うのが感光性平版印刷
版の性能的にも生産性からも有利である。
【0043】また、本発明の塗布工程後、フィルム原板
と感光性平版印刷版との密着性(真空密着性)の改善の
ために、微小なパターン層、固体粉末層などのマット層
を設けてもよい。マット層形成時に、製造工程の一部と
して赤外線照射を行ってもよいことが知られているが、
感光性平版印刷版としての性能に優れ、かつ、生産性の
高い製造方法とするには、本発明のように乾燥工程にお
いて特定波長の赤外線を特定条件となるように照射する
ことが必要である。かくして得られる感光性平版印刷版
を常法に従い露光、現像することによって平版印刷版を
得ることができる。
と感光性平版印刷版との密着性(真空密着性)の改善の
ために、微小なパターン層、固体粉末層などのマット層
を設けてもよい。マット層形成時に、製造工程の一部と
して赤外線照射を行ってもよいことが知られているが、
感光性平版印刷版としての性能に優れ、かつ、生産性の
高い製造方法とするには、本発明のように乾燥工程にお
いて特定波長の赤外線を特定条件となるように照射する
ことが必要である。かくして得られる感光性平版印刷版
を常法に従い露光、現像することによって平版印刷版を
得ることができる。
【0044】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、これにより本発明の実施態様が限定されるもの
ではない。
するが、これにより本発明の実施態様が限定されるもの
ではない。
【0045】(キノンジアジド化合物を含有するポジ型
感光性平版印刷版の準備)厚さ0.24mmのアルミニ
ウム板(材質1050、調質H16)を5重量%水酸化
ナトリウム水溶液中で1分間脱脂処理を行った後、0.
5モル/リットルの塩酸水溶液中で温度;25℃、電流
密度;60A/dm2 、処理時間;30秒間の条件で電
解エッチング処理を行った。次いで5重量%水酸化ナト
リウム水溶液中で60℃、10秒間のデスマット処理を
行った。次に20%硫酸溶液中で温度;20℃、電流密
度;3A/dm2 、処理時間;1分間の条件で陽極酸化
処理を行った。更に又、80℃の熱水で20秒間、熱水
封孔処理を行い、平版印刷版用支持体のアルミニウム板
を作成した。
感光性平版印刷版の準備)厚さ0.24mmのアルミニ
ウム板(材質1050、調質H16)を5重量%水酸化
ナトリウム水溶液中で1分間脱脂処理を行った後、0.
5モル/リットルの塩酸水溶液中で温度;25℃、電流
密度;60A/dm2 、処理時間;30秒間の条件で電
解エッチング処理を行った。次いで5重量%水酸化ナト
リウム水溶液中で60℃、10秒間のデスマット処理を
行った。次に20%硫酸溶液中で温度;20℃、電流密
度;3A/dm2 、処理時間;1分間の条件で陽極酸化
処理を行った。更に又、80℃の熱水で20秒間、熱水
封孔処理を行い、平版印刷版用支持体のアルミニウム板
を作成した。
【0046】上記アルミニウム板に下記組成の感光性組
成物を固型分濃度12重量%になるようにメチルセルソ
ルブにとかした塗布液を回転塗布法を用いて22.6m
g/dm2 となるように塗布し、90℃で2分間乾燥
し、ポジ型感光性平版印刷版を得た。
成物を固型分濃度12重量%になるようにメチルセルソ
ルブにとかした塗布液を回転塗布法を用いて22.6m
g/dm2 となるように塗布し、90℃で2分間乾燥
し、ポジ型感光性平版印刷版を得た。
【0047】(ポジ感光性組成物の塗布液) ・ナフトキノン(1,2)−ジアジド−(2)−4−ス
ルホニルクロリドとピロガロールーアセトン樹脂(Mw
=2000)のエステル化生成物(縮合率30%)…1
5部 ・フェノールとm−,p−混合クレゾール(20:4
8:32の重量比)とホルムアルデヒドとの共重縮合樹
脂(“SK−156”住友デュレス社製)…85部 ・ビクトリアピュアブル−BOH(保土ヶ谷化学社製)
…0.8部 ・p−tert−オクチルフェノールとホルムアルデヒ
ドより合成されたノボラック樹脂(Mw=1800)と
ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−5−ス
ルホン酸クロライドとのエステル化合物(縮合率50
%)…1部 ・4−(p−ジメチルアミノフェニル)−6−(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン…1部 ・cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸…2部
ルホニルクロリドとピロガロールーアセトン樹脂(Mw
=2000)のエステル化生成物(縮合率30%)…1
5部 ・フェノールとm−,p−混合クレゾール(20:4
8:32の重量比)とホルムアルデヒドとの共重縮合樹
脂(“SK−156”住友デュレス社製)…85部 ・ビクトリアピュアブル−BOH(保土ヶ谷化学社製)
…0.8部 ・p−tert−オクチルフェノールとホルムアルデヒ
ドより合成されたノボラック樹脂(Mw=1800)と
ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−5−ス
ルホン酸クロライドとのエステル化合物(縮合率50
%)…1部 ・4−(p−ジメチルアミノフェニル)−6−(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン…1部 ・cis−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸…2部
【0048】(ジアゾ樹脂を含有するネガ型感光性平版
印刷版の準備)ジアゾ樹脂の合成 p−ヒドロキシ安息香酸3.5g(25ミリモル)、及
びp−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩21.75g(7
5ミリモル)を、氷冷下で90gの濃硫酸に溶解した。
この溶液に、2.7g(90ミリモル)のパラホルムア
ルデヒドをゆっくり添加した。この際、反応温度が10
℃を越えないように添加した。2時間反応溶液を攪拌し
た後、1リットルのエタノールに滴下し、生じた沈澱を
ろ別し、エタノールで洗浄した。沈澱を200mlの純
水に溶解し、10.5gの塩化亜鉛を溶解した水溶液を
加えた。生じた沈澱をろ過し、エタノールで洗浄した
後、300mlの純水に溶解した。この溶液に、13.
7gのヘキサフルオロリン酸アンモニウムを溶解した水
溶液を添加した。生じた沈澱をろ別し、水、エタノール
で洗浄した後、25℃で、1日乾燥して、ジアゾ樹脂1
を得た。
印刷版の準備)ジアゾ樹脂の合成 p−ヒドロキシ安息香酸3.5g(25ミリモル)、及
びp−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩21.75g(7
5ミリモル)を、氷冷下で90gの濃硫酸に溶解した。
この溶液に、2.7g(90ミリモル)のパラホルムア
ルデヒドをゆっくり添加した。この際、反応温度が10
℃を越えないように添加した。2時間反応溶液を攪拌し
た後、1リットルのエタノールに滴下し、生じた沈澱を
ろ別し、エタノールで洗浄した。沈澱を200mlの純
水に溶解し、10.5gの塩化亜鉛を溶解した水溶液を
加えた。生じた沈澱をろ過し、エタノールで洗浄した
後、300mlの純水に溶解した。この溶液に、13.
7gのヘキサフルオロリン酸アンモニウムを溶解した水
溶液を添加した。生じた沈澱をろ別し、水、エタノール
で洗浄した後、25℃で、1日乾燥して、ジアゾ樹脂1
を得た。
【0049】アルミニウム板を3%水酸化ナトリウム水
溶液にて脱脂し、これを2%塩酸浴中で25℃、30A
/dm2 の電流密度で電解エッチングし、水洗後、30
%硫酸浴中で30℃、6.0A/dm2 の条件で2分間
陽極酸化処理した。次に1%メタケイ酸ナトリウム水溶
液を用いて85℃、30秒間封孔処理し、水洗、乾燥し
て、感光性平版印刷版用アルミニウム板を得た。
溶液にて脱脂し、これを2%塩酸浴中で25℃、30A
/dm2 の電流密度で電解エッチングし、水洗後、30
%硫酸浴中で30℃、6.0A/dm2 の条件で2分間
陽極酸化処理した。次に1%メタケイ酸ナトリウム水溶
液を用いて85℃、30秒間封孔処理し、水洗、乾燥し
て、感光性平版印刷版用アルミニウム板を得た。
【0050】上記の方法により作製されたアルミニウム
板上に、下記組成の感光液(固形成濃度が10重量%に
なるようにしたメチルセルソルブ溶液)を、乾燥後の塗
膜重量が20mg/dm2 になるようにワイヤーバーを
用いて塗布し90℃で30秒間温風にて乾燥し、ネガ型
感光性平版印刷版を得た。
板上に、下記組成の感光液(固形成濃度が10重量%に
なるようにしたメチルセルソルブ溶液)を、乾燥後の塗
膜重量が20mg/dm2 になるようにワイヤーバーを
用いて塗布し90℃で30秒間温風にて乾燥し、ネガ型
感光性平版印刷版を得た。
【0051】(ネガ型感光性組成物の塗布液) ・前記合成のジアゾ樹脂…10部 ・メタクリル酸、アクリロニトリル、エチルアクリレー
ト、4−ヒドロキシブチルアクリレート、7:20:6
3:10重量%の共重合体、重量平均分子量 5200
0…100部 ・ビクトリアピュアーブル−BOH(保土ヶ谷化学社
製)…4部
ト、4−ヒドロキシブチルアクリレート、7:20:6
3:10重量%の共重合体、重量平均分子量 5200
0…100部 ・ビクトリアピュアーブル−BOH(保土ヶ谷化学社
製)…4部
【0052】(光重合型の感光性平版印刷版の準備)前
記ネガ型の感光性平版印刷版を作製するのに用いたもの
と同様の支持体上に、下記組成の感光液(固形分濃度が
10重量%になるようにしたメチルセルソルブ溶液)
を、乾燥後の塗膜重量が20mg/dm2 になるように
ワイヤーバーを用いて塗布し、90℃で2分間乾燥し光
重合型の感光性平版印刷版を得た。
記ネガ型の感光性平版印刷版を作製するのに用いたもの
と同様の支持体上に、下記組成の感光液(固形分濃度が
10重量%になるようにしたメチルセルソルブ溶液)
を、乾燥後の塗膜重量が20mg/dm2 になるように
ワイヤーバーを用いて塗布し、90℃で2分間乾燥し光
重合型の感光性平版印刷版を得た。
【0053】(光重合型感光性組成物の塗布液) ・メタクリル酸、アクリロニトリル、エチルアクリレー
ト、4−ヒドロキシブチルアクリレート、10:20:
60:10重量%の共重合体、重量平均分子量5200
0…100部
ト、4−ヒドロキシブチルアクリレート、10:20:
60:10重量%の共重合体、重量平均分子量5200
0…100部
【0054】
【化1】
【0055】・PETA:ペンタエリスリトールトリア
クリレートモノマー(ビスコート#300):大阪有機
社製…50部 ・色素:“ビクトリアピュアブル−BOH”:保土ヶ谷
化学社製…2部
クリレートモノマー(ビスコート#300):大阪有機
社製…50部 ・色素:“ビクトリアピュアブル−BOH”:保土ヶ谷
化学社製…2部
【0056】(遠赤外線照射装置)日本碍子(株)製イ
ンフラスタイン遠赤外線セラミックスヒーター(単体は
125mm×65mmの長方形で300W)を縦(12
5mm辺方向)に10体、横(65mm辺方向)に10
体、合計100体を配置した遠赤外線照射源を作成し
た。電力は各々単体に200Vで300Wまで供給でき
るようにし可変抵抗器を用いてヒーター温度を調節でき
るようにした。またこの照射源の面を水平(照射面が下
方)に設置しこの下方に版が水平に来るようにした。照
射面の版に版以外のものが接触すると熱容量が上がり発
生した熱を奪うので好ましくない。そのため実際には、
照射面の長辺方向の外の両辺に2組の動力つきのニップ
ローラー(長さ1m)を設けてあり、これにより版を抑
え込みまた照射面内に版を搬送するようにしてある。こ
の両側のニップローラーどうしの間には版の両サイドの
みアルミニウム製の幅20mmの棒で橋渡ししてある。
このニップローラーの動力により搬送速度を変えること
ができ照射時間を調整することができる。また照射面間
の距離の調整は照射源の上下で行うようにした。
ンフラスタイン遠赤外線セラミックスヒーター(単体は
125mm×65mmの長方形で300W)を縦(12
5mm辺方向)に10体、横(65mm辺方向)に10
体、合計100体を配置した遠赤外線照射源を作成し
た。電力は各々単体に200Vで300Wまで供給でき
るようにし可変抵抗器を用いてヒーター温度を調節でき
るようにした。またこの照射源の面を水平(照射面が下
方)に設置しこの下方に版が水平に来るようにした。照
射面の版に版以外のものが接触すると熱容量が上がり発
生した熱を奪うので好ましくない。そのため実際には、
照射面の長辺方向の外の両辺に2組の動力つきのニップ
ローラー(長さ1m)を設けてあり、これにより版を抑
え込みまた照射面内に版を搬送するようにしてある。こ
の両側のニップローラーどうしの間には版の両サイドの
みアルミニウム製の幅20mmの棒で橋渡ししてある。
このニップローラーの動力により搬送速度を変えること
ができ照射時間を調整することができる。また照射面間
の距離の調整は照射源の上下で行うようにした。
【0057】(実施例1〜6,比較例1〜3)準備した
それぞれの感光性平版印刷版を上記の遠赤外線照射装置
を用いて表1に示した条件で照射処理を行った。表中の
照射時間は版の先端の辺が片側のニップローラーを通過
し照射面に入りもう一方のニップローラーを通過し照射
面からでる時間のことである。ヒーター表面温度はセラ
ミックスヒーターに予め埋め込まれている熱電対による
測定ですべて500℃である。また遠赤外線照射前後の
残留溶媒量を表1に示した。(残留溶媒量の定量はガス
クロマトグラフで測定した。) また比較例用として各感光層の型での感光性平版印刷版
にたいしそれぞれ照射処理を施さないものを用いた。表
1にそれぞれの残留溶剤量を示した。
それぞれの感光性平版印刷版を上記の遠赤外線照射装置
を用いて表1に示した条件で照射処理を行った。表中の
照射時間は版の先端の辺が片側のニップローラーを通過
し照射面に入りもう一方のニップローラーを通過し照射
面からでる時間のことである。ヒーター表面温度はセラ
ミックスヒーターに予め埋め込まれている熱電対による
測定ですべて500℃である。また遠赤外線照射前後の
残留溶媒量を表1に示した。(残留溶媒量の定量はガス
クロマトグラフで測定した。) また比較例用として各感光層の型での感光性平版印刷版
にたいしそれぞれ照射処理を施さないものを用いた。表
1にそれぞれの残留溶剤量を示した。
【0058】
【表1】
【0059】上記の様にして得られた各サンプル中、光
重合型のものに関しては下記評価を実施する前に感光層
上にポリビニルアルコール水溶液を乾燥後の膜厚が3μ
mになるようにワイヤーバーでオーバーコート層を設け
た。このようにして得られた版において保存安定性を調
べるため塗布後の経時日数にたいする感度の測定を行っ
た。感度はメタルハライドランプでウグラテストカイル
を介し430nmの照射線量が400mJ/cm2 にな
るまで露光し、ポジ型に関しては現像液SDR−1(コ
ニカ(株)製)を1:5に希釈したもの、またジアゾ樹
脂及び光重合型に関しては現像液SDR−21(コニカ
(株)製)を1:3に希釈したものを用いて25℃30
秒で現像しそれぞれクリアーになる段数とベタになる段
数よりだした。この結果を表2に示した。ただし経時0
日以外の感度は0日のものとの段数差で示した。
重合型のものに関しては下記評価を実施する前に感光層
上にポリビニルアルコール水溶液を乾燥後の膜厚が3μ
mになるようにワイヤーバーでオーバーコート層を設け
た。このようにして得られた版において保存安定性を調
べるため塗布後の経時日数にたいする感度の測定を行っ
た。感度はメタルハライドランプでウグラテストカイル
を介し430nmの照射線量が400mJ/cm2 にな
るまで露光し、ポジ型に関しては現像液SDR−1(コ
ニカ(株)製)を1:5に希釈したもの、またジアゾ樹
脂及び光重合型に関しては現像液SDR−21(コニカ
(株)製)を1:3に希釈したものを用いて25℃30
秒で現像しそれぞれクリアーになる段数とベタになる段
数よりだした。この結果を表2に示した。ただし経時0
日以外の感度は0日のものとの段数差で示した。
【0060】
【表2】
【0061】以上の結果から明らかに遠赤外線を塗布工
程後に照射したもののほうが残留溶剤量が少なくまた経
時にたいする感度変化が少なく保存安定性に優れている
ことが分かる。次に合紙をはさまずに版を堆積したとき
のブロッキング性を調べるため、各版を20cm四方に
切断し切断時のバリをとり上の版の裏面と下の版の感光
面が接するように堆積し、さらに最上部に支持体のみを
砂目面を上にし重ね万能試験機で上下から20kg/c
m2 の圧力を40℃で加え24時間放置した。その結果
遠赤外線を塗布後に照射したものはすべてブロッキング
を生じなかったが、逆に照射しなかった比較例はすべて
ブロッキングが生じて上の版の裏面に一部の感光層が転
写していた。
程後に照射したもののほうが残留溶剤量が少なくまた経
時にたいする感度変化が少なく保存安定性に優れている
ことが分かる。次に合紙をはさまずに版を堆積したとき
のブロッキング性を調べるため、各版を20cm四方に
切断し切断時のバリをとり上の版の裏面と下の版の感光
面が接するように堆積し、さらに最上部に支持体のみを
砂目面を上にし重ね万能試験機で上下から20kg/c
m2 の圧力を40℃で加え24時間放置した。その結果
遠赤外線を塗布後に照射したものはすべてブロッキング
を生じなかったが、逆に照射しなかった比較例はすべて
ブロッキングが生じて上の版の裏面に一部の感光層が転
写していた。
【0062】この結果より明らかに遠赤外線を塗布後に
照射したもののほうが合紙をはさまずに版を堆積したと
きのブロッキング性がすぐれていることがわかる。
照射したもののほうが合紙をはさまずに版を堆積したと
きのブロッキング性がすぐれていることがわかる。
【0063】
【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版の製造方法に
よれば、塗布工程後の乾燥工程を短縮ないし省略でき、
生産性が向上する。更に本発明の製造方法による感光性
平版印刷版は品質の均一性、保存安定性に優れ、合紙を
使用せずに版を堆積した場合のブロッキング性に優れ
る。
よれば、塗布工程後の乾燥工程を短縮ないし省略でき、
生産性が向上する。更に本発明の製造方法による感光性
平版印刷版は品質の均一性、保存安定性に優れ、合紙を
使用せずに版を堆積した場合のブロッキング性に優れ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 富安 寛 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内
Claims (1)
- 【請求項1】 感光性組成物を支持体上に塗布する塗布
工程および、乾燥工程を含む感光性平版印刷版を製造す
る方法において、該乾燥工程が遠赤外線照射により版面
を50〜130℃にする工程を含むことを特徴とする感
光性平版印刷版の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10690393A JPH06317896A (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10690393A JPH06317896A (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06317896A true JPH06317896A (ja) | 1994-11-15 |
Family
ID=14445421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10690393A Pending JPH06317896A (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06317896A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006516758A (ja) * | 2003-01-27 | 2006-07-06 | コダック ポリクロウム グラフィクス リミティド ライアビリティ カンパニー | ケイ酸塩コーティングポリマー粒子を含有する画像形成可能要素 |
| US7416762B2 (en) | 2000-06-30 | 2008-08-26 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing lithographic printing plate |
-
1993
- 1993-05-07 JP JP10690393A patent/JPH06317896A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7416762B2 (en) | 2000-06-30 | 2008-08-26 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing lithographic printing plate |
| JP2006516758A (ja) * | 2003-01-27 | 2006-07-06 | コダック ポリクロウム グラフィクス リミティド ライアビリティ カンパニー | ケイ酸塩コーティングポリマー粒子を含有する画像形成可能要素 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63287946A (ja) | 感光性組成物 | |
| JPH07120040B2 (ja) | 感光性組成物 | |
| JPS63287947A (ja) | 感光性組成物 | |
| JP2002072474A (ja) | 平版印刷版原版 | |
| DE69130919T2 (de) | Verfahren zum Entwickeln von vorsensibilisierten Platten in der Herstellung von lithographischen Druckplatten | |
| JP2627565B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JP2000010281A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPS61217034A (ja) | 感光性組成物および感光性材料 | |
| JPH0727209B2 (ja) | 感光性組成物 | |
| JPH0470837A (ja) | 感光性平版印刷版の製造方法 | |
| JP2598977B2 (ja) | 感光性組成物 | |
| JP2000275818A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JP2903159B2 (ja) | 光重合開始剤含有感光材料の現像方法 | |
| JP2005202274A (ja) | 光重合組成物とそれを用いた光重合性平版印刷版材料及び光重合性平版印刷版の製造方法 | |
| JPH1026824A (ja) | 感光性平版印刷版及びその製造方法 | |
| JPH08171214A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
| JPH08171207A (ja) | 感光性組成物および感光性平版印刷版 | |
| JPS61217035A (ja) | 印刷版の製造方法 | |
| JPH11249298A (ja) | 感光性組成物及び感光性平版印刷版 | |
| JPH08160612A (ja) | 光重合性組成物、感光性平版印刷版及びその現像方法 | |
| JP2770191B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH07295213A (ja) | 感光性組成物 | |
| JPH02217859A (ja) | ジアゾ樹脂含有感光材料の現像方法 | |
| JPH08160608A (ja) | 光重合性組成物及び感光性平版印刷版 | |
| JPH02189546A (ja) | 平版印刷版の製造方法 |