JPH0632900A - ポリイミド樹脂 - Google Patents
ポリイミド樹脂Info
- Publication number
- JPH0632900A JPH0632900A JP20978092A JP20978092A JPH0632900A JP H0632900 A JPH0632900 A JP H0632900A JP 20978092 A JP20978092 A JP 20978092A JP 20978092 A JP20978092 A JP 20978092A JP H0632900 A JPH0632900 A JP H0632900A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- fluorine
- terminal
- formula
- polyimide resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims abstract description 23
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 20
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 19
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 abstract description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 abstract description 7
- APXJLYIVOFARRM-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 APXJLYIVOFARRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 6
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 abstract description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(N)C=C1 BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 3
- SDQGRJKYBWFIDP-UHFFFAOYSA-N 3-but-2-enyl-4-methyloxolane-2,5-dione Chemical compound CC=CCC1C(C)C(=O)OC1=O SDQGRJKYBWFIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 abstract description 2
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 abstract 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000011369 resultant mixture Substances 0.000 abstract 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 18
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- UVUCUHVQYAPMEU-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(3-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(C(C=2C=C(N)C=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 UVUCUHVQYAPMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTEBLARUAVEBRF-UHFFFAOYSA-N 4-(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl)aniline Chemical compound NC1=CC=C(C(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 XTEBLARUAVEBRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 本発明は、含フッ素ジアミン成分の2,2-ビス
(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、非末端
含フッ素酸成分の2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン二無水物など、末端酸成分
のアリナジック酸無水物(化学名アリル−ビシクロ(
2,2,1)ヘプト−5-エン−2,3-ジカルボン酸無水物)を
構成成分とすることを特徴とする末端アリナジック酸の
ポリイミド樹脂。 【効果】 本発明のポリイミド樹脂は、低誘電率、低吸
水率、低屈折率であり、かつ密着性および耐熱性に優れ
ており、半導体素子の保護膜や多層配線の層間絶縁膜等
として好適なものである。
(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、非末端
含フッ素酸成分の2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン二無水物など、末端酸成分
のアリナジック酸無水物(化学名アリル−ビシクロ(
2,2,1)ヘプト−5-エン−2,3-ジカルボン酸無水物)を
構成成分とすることを特徴とする末端アリナジック酸の
ポリイミド樹脂。 【効果】 本発明のポリイミド樹脂は、低誘電率、低吸
水率、低屈折率であり、かつ密着性および耐熱性に優れ
ており、半導体素子の保護膜や多層配線の層間絶縁膜等
として好適なものである。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子等電子部品
における保護膜の形成等に使用され、低誘電率、低吸水
率であり、また屈折率も小さい、末端酸成分アリナジッ
ク酸の含フッ素ポリイミド樹脂に関する。
における保護膜の形成等に使用され、低誘電率、低吸水
率であり、また屈折率も小さい、末端酸成分アリナジッ
ク酸の含フッ素ポリイミド樹脂に関する。
【0002】
【従来の技術】ポリイミド樹脂は、種々の有機ポリマー
の中で最も耐熱性に優れているものの1 つであるため、
航空、宇宙分野から電子通信分野まで幅広く使用されて
いる。ところが最近では、単に耐熱性に優れているだけ
でなく、用途に応じた性能を併わせ持つことが期待され
ている。例えばプリント板やLSI用の層間絶縁膜など
では誘電率の低いことが求められ、また光学部品におい
ては光ファイバー等の石英ガラス(屈折率 1.46 )部品
とコンポーネントを組み立てる際に、光損失を低減させ
るためにポリイミド樹脂の屈折率を低くすることが望ま
れている。これらの性能を得るために、電子分極が小さ
いフッ素原子の導入が考えられている。含フッ素ポリイ
ミド樹脂は、誘電率、吸水率とも低く、かつ屈折率を低
くできる。
の中で最も耐熱性に優れているものの1 つであるため、
航空、宇宙分野から電子通信分野まで幅広く使用されて
いる。ところが最近では、単に耐熱性に優れているだけ
でなく、用途に応じた性能を併わせ持つことが期待され
ている。例えばプリント板やLSI用の層間絶縁膜など
では誘電率の低いことが求められ、また光学部品におい
ては光ファイバー等の石英ガラス(屈折率 1.46 )部品
とコンポーネントを組み立てる際に、光損失を低減させ
るためにポリイミド樹脂の屈折率を低くすることが望ま
れている。これらの性能を得るために、電子分極が小さ
いフッ素原子の導入が考えられている。含フッ素ポリイ
ミド樹脂は、誘電率、吸水率とも低く、かつ屈折率を低
くできる。
【0003】しかしながら、従来の含フッ素ポリイミド
樹脂はこれらの性能に優れているものの、密着性が悪
く、その実用的レベルという点では満足のできるもので
はなかった。
樹脂はこれらの性能に優れているものの、密着性が悪
く、その実用的レベルという点では満足のできるもので
はなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の事情
に鑑みてなされたもので、低誘電率、低吸収率、低屈折
率で、かつ密着性、耐熱性に優れたポリイミド樹脂を提
供しようとするものである。
に鑑みてなされたもので、低誘電率、低吸収率、低屈折
率で、かつ密着性、耐熱性に優れたポリイミド樹脂を提
供しようとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、含フッ素で末
端アリナジック酸のポリイミド樹脂が、上記の目的を達
成できることを見いだし、本発明を完成したものであ
る。即ち、本発明は、 次の一般式
的を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、含フッ素で末
端アリナジック酸のポリイミド樹脂が、上記の目的を達
成できることを見いだし、本発明を完成したものであ
る。即ち、本発明は、 次の一般式
【0006】
【化3】
【0007】
【化4】
【0008】で示されることを特徴とする末端アリナジ
ック酸のポリイミド樹脂である。
ック酸のポリイミド樹脂である。
【0009】以下、本発明を詳細に説明する。
【0010】本発明のポリイミド樹脂に用いる主酸成分
としては、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ヘキ
サフルオロプロパン二無水物であり、またジアミン成分
としては、2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、2,2-ビス(3-アミノフェニル)ヘキサフル
オロプロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フ
ェニル]ヘキサフルオロプロパン等が挙げられ、これら
は単独又は 2種以上混合して使用することができる。本
発明のポリイミド樹脂の末端アリナジック酸成分として
は、次の化学式
としては、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ヘキ
サフルオロプロパン二無水物であり、またジアミン成分
としては、2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、2,2-ビス(3-アミノフェニル)ヘキサフル
オロプロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フ
ェニル]ヘキサフルオロプロパン等が挙げられ、これら
は単独又は 2種以上混合して使用することができる。本
発明のポリイミド樹脂の末端アリナジック酸成分として
は、次の化学式
【0011】
【化5】 で示されるアリル−ビシクロ( 2,2,1)ヘプト−5-エン
−2,3-ジカルボン酸無水物を使用する。
−2,3-ジカルボン酸無水物を使用する。
【0012】本発明のポリイミド樹脂は、前述した主酸
成分と前述したジアミン成分とを反応させた生成物にア
リナジック酸を付与するが、主酸成分とジアミン成分の
反応モル比において、ジアミン成分が多くなるように
し、合成分子末端のアミノ基にアリナジック酸を反応さ
せることにより得られる。ここで、主酸成分とジアミン
成分からなる繰返し単位は、ブロック或いはランダムに
含有されるものである。
成分と前述したジアミン成分とを反応させた生成物にア
リナジック酸を付与するが、主酸成分とジアミン成分の
反応モル比において、ジアミン成分が多くなるように
し、合成分子末端のアミノ基にアリナジック酸を反応さ
せることにより得られる。ここで、主酸成分とジアミン
成分からなる繰返し単位は、ブロック或いはランダムに
含有されるものである。
【0013】本発明のポリイミド樹脂は、その前駆体で
あるポリアミック酸樹脂 0.5 g/N−メチル−2-ピロリ
ドン100 mlの濃度溶液として、30℃における対数粘度が
0.2〜 3.0の範囲であり、より好ましくは 0.2〜 2.0の
範囲である。ポリアミック酸樹脂は、酸成分とジアミン
成分とを有機溶媒中で50℃以下の反応温度下に 3〜24時
間付加重合反応させる。このとき同時に必要量のアリナ
ジック酸無水物を付加させるか、或いは主酸成分とジア
ミン成分との付加重合反応のあと、アリナジック酸無水
物を付加させポリアミック酸を得る。この重合反応にお
ける有機溶媒として、例えばジメチルスルホキシド、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジ
エチルアセトアミド、N−メチル−2-ピロリドン、ヘキ
サメチレンホスホアミド等が挙げられ、これらは単独又
は 2種以上混合してして使用することができる。
あるポリアミック酸樹脂 0.5 g/N−メチル−2-ピロリ
ドン100 mlの濃度溶液として、30℃における対数粘度が
0.2〜 3.0の範囲であり、より好ましくは 0.2〜 2.0の
範囲である。ポリアミック酸樹脂は、酸成分とジアミン
成分とを有機溶媒中で50℃以下の反応温度下に 3〜24時
間付加重合反応させる。このとき同時に必要量のアリナ
ジック酸無水物を付加させるか、或いは主酸成分とジア
ミン成分との付加重合反応のあと、アリナジック酸無水
物を付加させポリアミック酸を得る。この重合反応にお
ける有機溶媒として、例えばジメチルスルホキシド、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジ
エチルアセトアミド、N−メチル−2-ピロリドン、ヘキ
サメチレンホスホアミド等が挙げられ、これらは単独又
は 2種以上混合してして使用することができる。
【0014】このポリアミック酸は、通常のキャスト
法、スピンコーティング法等により塗布した後、 180〜
400 ℃で加熱硬化させることにより、耐熱性、接着性に
優れた強靭なポリイミド樹脂膜を得ることができる。
法、スピンコーティング法等により塗布した後、 180〜
400 ℃で加熱硬化させることにより、耐熱性、接着性に
優れた強靭なポリイミド樹脂膜を得ることができる。
【0015】本発明のこのようなポリイミド樹脂は、低
誘電率材料、低屈折率材料として、プリント回路基板の
絶縁材料やLSIの層間絶縁膜等として好適なものであ
る。
誘電率材料、低屈折率材料として、プリント回路基板の
絶縁材料やLSIの層間絶縁膜等として好適なものであ
る。
【0016】
【作用】本発明のポリイミド樹脂は、主酸無水物および
ジアミンにフッ素化アルキル基を導入することによっ
て、誘電率、吸水率、屈折率を小さくさせることができ
た。また、ポリイミド分子末端にアリナジック酸を付加
させることによって硬化後の樹脂に架橋点をもたせ、耐
熱性、密着性を向上させ、かつ従来のポリイミド樹脂の
優れた絶縁性、平坦性をそのまま保持させたものであ
る。
ジアミンにフッ素化アルキル基を導入することによっ
て、誘電率、吸水率、屈折率を小さくさせることができ
た。また、ポリイミド分子末端にアリナジック酸を付加
させることによって硬化後の樹脂に架橋点をもたせ、耐
熱性、密着性を向上させ、かつ従来のポリイミド樹脂の
優れた絶縁性、平坦性をそのまま保持させたものであ
る。
【0017】
【実施例】次に本発明を実施例によって説明するが、本
発明はこれらの実施例によって限定されるものではな
い。
発明はこれらの実施例によって限定されるものではな
い。
【0018】実施例1 攪拌機、冷却器および窒素導入管を設けたフラスコに、
2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン
33.4g (0.10 mol)とN−メチル−2-ピロリドン 310.6
g を投入し溶解した。この溶液に室温で乾燥窒素雰囲気
下にて2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン二無水物42.2g ( 0.095mol)を溶液温
度の上昇に注意しながら加えて12時間攪拌した後、アリ
ナジック酸無水物を2.04 g(0.01 mol)加えてさらに 3
時間攪拌し、ポリアミック酸樹脂溶液を得た。このポリ
アミック酸樹脂溶液の一部をメタノールで再沈殿し、得
られたポリアミック酸樹脂粉末をN−メチル−2-ピロリ
ドンで溶解し 0.5 g/100ml濃度とし、30℃対数粘度を
測定したところ、 0.66 dl/g であった。
2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン
33.4g (0.10 mol)とN−メチル−2-ピロリドン 310.6
g を投入し溶解した。この溶液に室温で乾燥窒素雰囲気
下にて2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン二無水物42.2g ( 0.095mol)を溶液温
度の上昇に注意しながら加えて12時間攪拌した後、アリ
ナジック酸無水物を2.04 g(0.01 mol)加えてさらに 3
時間攪拌し、ポリアミック酸樹脂溶液を得た。このポリ
アミック酸樹脂溶液の一部をメタノールで再沈殿し、得
られたポリアミック酸樹脂粉末をN−メチル−2-ピロリ
ドンで溶解し 0.5 g/100ml濃度とし、30℃対数粘度を
測定したところ、 0.66 dl/g であった。
【0019】実施例2 攪拌機、冷却機および窒素導入管を設けたフラスコに、
2,2−ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキ
サフルオロプロパン51.8g ( 0.10 mol )とN,N−ジ
メチルアセトアミド 376g を投入し溶解した。この溶液
に室温で乾燥窒素雰囲気下にて2,2-ビス(3,4-ジカルボ
キシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物42.2g
( 0.095 mol)を溶液温度の上昇に注意しながら加えて
10時間攪拌した後、アリナジック酸無水物を 1.22g(
0.006 mol)加えてさらに 3時間攪拌し、ポリアミック
酸樹脂溶液を得た。このポリアミック酸樹脂溶液の一部
をメタノールで再沈殿し、得られたポリアミック酸樹脂
粉末をN−メチル−2-ピロリドンで溶解し 0.5 g/100
ml濃度とし、30℃対数粘度を測定したところ 0.80 dl/
g であった。
2,2−ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキ
サフルオロプロパン51.8g ( 0.10 mol )とN,N−ジ
メチルアセトアミド 376g を投入し溶解した。この溶液
に室温で乾燥窒素雰囲気下にて2,2-ビス(3,4-ジカルボ
キシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物42.2g
( 0.095 mol)を溶液温度の上昇に注意しながら加えて
10時間攪拌した後、アリナジック酸無水物を 1.22g(
0.006 mol)加えてさらに 3時間攪拌し、ポリアミック
酸樹脂溶液を得た。このポリアミック酸樹脂溶液の一部
をメタノールで再沈殿し、得られたポリアミック酸樹脂
粉末をN−メチル−2-ピロリドンで溶解し 0.5 g/100
ml濃度とし、30℃対数粘度を測定したところ 0.80 dl/
g であった。
【0020】比較例1 攪拌機、冷却器および窒素導入管を設けたフラスコに、
2,2−ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン33.4g (0.10 mol)とN−メチル−2-ピロリドン311g
を投入し溶解した。この溶液に室温で窒素雰囲気下にて
2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロ
プロパン二無水物44.4g (0.10 mol)を溶液温度の上昇
に注意しながら加え、12時間攪拌して、ポリアミック酸
樹脂溶液を得た。このポリアミック酸樹脂溶液の一部を
メタノールで再沈殿し、得られたポリアミック酸樹脂粉
末をN−メチル−2-ピロリドンで溶解し 0.5 g/100 ml
濃度とし、30℃対数粘度を測定したところ 0.85 dl/g
であった。
2,2−ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン33.4g (0.10 mol)とN−メチル−2-ピロリドン311g
を投入し溶解した。この溶液に室温で窒素雰囲気下にて
2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロ
プロパン二無水物44.4g (0.10 mol)を溶液温度の上昇
に注意しながら加え、12時間攪拌して、ポリアミック酸
樹脂溶液を得た。このポリアミック酸樹脂溶液の一部を
メタノールで再沈殿し、得られたポリアミック酸樹脂粉
末をN−メチル−2-ピロリドンで溶解し 0.5 g/100 ml
濃度とし、30℃対数粘度を測定したところ 0.85 dl/g
であった。
【0021】比較例2 攪拌機、冷却器および窒素導入管を設けたフラスコに
2,2−ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキ
サフルオロプロパン51.8g (0.10 mol)とN−メチル−
2-ピロリドン 385g を投入し溶解した。この溶液に室温
で乾燥窒素雰囲気下にて2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフ
ェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物44.4g (0.10
mol)を溶液温度の上昇に注意しながら加え、12時間攪
拌して、ポリアミック酸樹脂溶液を得た。このポリアミ
ック酸樹脂溶液の一部をメタノールで再沈殿し、得られ
たポリアミック酸樹脂粉末をN−メチル−2-ピロリドン
で溶解し 0.5 g/100 ml濃度とし、30℃対数粘度を測定
したところ 0.91 dl/g であった。
2,2−ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキ
サフルオロプロパン51.8g (0.10 mol)とN−メチル−
2-ピロリドン 385g を投入し溶解した。この溶液に室温
で乾燥窒素雰囲気下にて2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフ
ェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物44.4g (0.10
mol)を溶液温度の上昇に注意しながら加え、12時間攪
拌して、ポリアミック酸樹脂溶液を得た。このポリアミ
ック酸樹脂溶液の一部をメタノールで再沈殿し、得られ
たポリアミック酸樹脂粉末をN−メチル−2-ピロリドン
で溶解し 0.5 g/100 ml濃度とし、30℃対数粘度を測定
したところ 0.91 dl/g であった。
【0022】実施例1〜2および比較例1〜2で得たポ
リアミック酸樹脂溶液をガラス板に塗布し、100 ℃で30
分間、200 ℃で30分間加熱して樹脂膜を得た。その後、
窒素雰囲気下で 250℃で30分間、300 ℃で30分間加熱処
理してポリイミド樹脂の硬化物を得た。これらの硬化物
について、加熱減量温度、吸水率、屈折率、誘電率、密
着性を試験したのでその結果を表1に示した。本発明は
いずれの特性においても優れており、本発明の効果を確
認することができた。
リアミック酸樹脂溶液をガラス板に塗布し、100 ℃で30
分間、200 ℃で30分間加熱して樹脂膜を得た。その後、
窒素雰囲気下で 250℃で30分間、300 ℃で30分間加熱処
理してポリイミド樹脂の硬化物を得た。これらの硬化物
について、加熱減量温度、吸水率、屈折率、誘電率、密
着性を試験したのでその結果を表1に示した。本発明は
いずれの特性においても優れており、本発明の効果を確
認することができた。
【0023】
【表1】 *1 :硬化物を窒素雰囲気下で 1分間で10℃の割合で昇
温させて、 5%重量減少した時の温度を測定した。 *2 :硬化物を30分間煮沸したときの重量変化を測定し
た。 *3 :20℃,589nm における測定値。 *4 :ポリアミック酸樹脂溶液をシリコンウエハー上に
塗布加熱硬化したポリイミド樹脂硬化物を 120℃,2atm
でプレッシャークッカーテストを行った後、碁盤目テー
プ剥離試験を行った。25のマス目のうち、剥がれたマス
目を表示した。
温させて、 5%重量減少した時の温度を測定した。 *2 :硬化物を30分間煮沸したときの重量変化を測定し
た。 *3 :20℃,589nm における測定値。 *4 :ポリアミック酸樹脂溶液をシリコンウエハー上に
塗布加熱硬化したポリイミド樹脂硬化物を 120℃,2atm
でプレッシャークッカーテストを行った後、碁盤目テー
プ剥離試験を行った。25のマス目のうち、剥がれたマス
目を表示した。
【0024】
【発明の効果】以上の説明および表1から明らかなよう
に、本発明のポリイミド樹脂は低誘電率、低吸水率、低
屈折率であり、かつ密着性および耐熱性に優れており、
半導体素子の保護膜や多層配線の層間絶縁膜等として好
適なものである。
に、本発明のポリイミド樹脂は低誘電率、低吸水率、低
屈折率であり、かつ密着性および耐熱性に優れており、
半導体素子の保護膜や多層配線の層間絶縁膜等として好
適なものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C08F 299/02 MRU 7442−4J
Claims (1)
- 【請求項1】 次の一般式 【化1】 【化2】 で示されることを特徴とする末端アリナジック酸のポリ
イミド樹脂。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20978092A JPH0632900A (ja) | 1992-07-14 | 1992-07-14 | ポリイミド樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20978092A JPH0632900A (ja) | 1992-07-14 | 1992-07-14 | ポリイミド樹脂 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0632900A true JPH0632900A (ja) | 1994-02-08 |
Family
ID=16578486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20978092A Pending JPH0632900A (ja) | 1992-07-14 | 1992-07-14 | ポリイミド樹脂 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0632900A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009029777A (ja) * | 2007-06-27 | 2009-02-12 | Chisso Corp | アリル置換ナジイミド化合物、液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子 |
| JP2010121094A (ja) * | 2008-11-21 | 2010-06-03 | Daiwa Can Co Ltd | イミドオリゴマー及びこれを加熱硬化させてなるポリイミド樹脂 |
| JP2024085323A (ja) * | 2022-12-14 | 2024-06-26 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
-
1992
- 1992-07-14 JP JP20978092A patent/JPH0632900A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009029777A (ja) * | 2007-06-27 | 2009-02-12 | Chisso Corp | アリル置換ナジイミド化合物、液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子 |
| JP2010121094A (ja) * | 2008-11-21 | 2010-06-03 | Daiwa Can Co Ltd | イミドオリゴマー及びこれを加熱硬化させてなるポリイミド樹脂 |
| JP2024085323A (ja) * | 2022-12-14 | 2024-06-26 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101523730B1 (ko) | 폴리(아미드-이미드) 블록 코폴리머, 이를 포함하는 성형품 및 상기 성형품을 포함하는 디스플레이 장치 | |
| JPS6270423A (ja) | 有機ケイ素末端ポリイミド前駆体とポリイミドの製造方法 | |
| JP4815690B2 (ja) | ポリイミド、ポリイミド前駆体及びこれらの製造方法 | |
| CN110099946B (zh) | 透明聚酰亚胺膜 | |
| JPWO2019131896A1 (ja) | ポリイミド、ポリイミド溶液組成物、ポリイミドフィルム、及び基板 | |
| JPH10231424A (ja) | 電子材料用樹脂溶液組成物 | |
| EP3910003A1 (en) | Polyamide-imide block copolymer, method for preparing same, and polyamide-imide film comprising same | |
| JPH0377228B2 (ja) | ||
| JPH0292535A (ja) | 金属とポリイミドの複合成形体 | |
| KR19980079256A (ko) | 폴리이미드 전구체 용액, 이의 제조방법, 이러한 용액으로부터 수득한 피막 또는 필름 및 필름의 제조방법 | |
| CN109337070B (zh) | 树脂组合物 | |
| JP2624724B2 (ja) | ポリイミドシロキサン組成物 | |
| JPH0632900A (ja) | ポリイミド樹脂 | |
| JPH0260933A (ja) | 含フッ素ポリイミド及びその製造方法 | |
| JPH02124972A (ja) | ポリイミド樹脂溶液組成物 | |
| JP2003176354A (ja) | 透明な耐熱性ポリイミドフイルム | |
| JPH0676554B2 (ja) | 含フッ素ポリイミド組成物及びその製造方法 | |
| JPH0249029A (ja) | 含フッ素ポリイミドの製造方法 | |
| EP3348599A1 (en) | Polyimide-based block copolymer and polyimide-based film comprising same | |
| JP2843314B2 (ja) | 含フッ素ポリイミド光学材料 | |
| JP2000080272A (ja) | 低誘電率重合体組成物 | |
| JP4538216B2 (ja) | ポリイミド前駆体、ポリイミド前駆体の製造方法、ポリイミド前駆体有機溶媒溶液の製造方法、キャスト膜の製造方法、及びポリイミド膜の製造方法。 | |
| JPH0670136B2 (ja) | 変性ポリイミド組成物の製法 | |
| JPH07258410A (ja) | ポリイミドシロキサン | |
| JP7778634B2 (ja) | イソシアヌル酸骨格を有するポリイミド |