JPH06332121A - ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成法Info
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Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明の第1の目的は、経時による感度変動
や軟調化や、未露光部分に発生する黒ポツの増加が防止
され、かつ、抜き文字特性に優れた硬調画像の形成方法
を提供することにある。本発明の第2の目的は、pH11未
満の現像液で処理しても経時による感度変動や軟調化や
未露光部分に発生する黒ポツの増加が防止されかつ、抜
き文字特性に優れた硬調画像の形成方法を提供すること
にある。 【構成】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳
剤層を有し、該乳剤層又は、その他の親水性コロイド層
に一般式(1)で表されるヒドラジン誘導体を含有す
る、実質的に明室下で取り扱えるハロゲン化銀写真感光
材料を、実質的に370nm以下の光を含まない光で感光層
に画像露光をおこなう画像形成法。
や軟調化や、未露光部分に発生する黒ポツの増加が防止
され、かつ、抜き文字特性に優れた硬調画像の形成方法
を提供することにある。本発明の第2の目的は、pH11未
満の現像液で処理しても経時による感度変動や軟調化や
未露光部分に発生する黒ポツの増加が防止されかつ、抜
き文字特性に優れた硬調画像の形成方法を提供すること
にある。 【構成】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳
剤層を有し、該乳剤層又は、その他の親水性コロイド層
に一般式(1)で表されるヒドラジン誘導体を含有す
る、実質的に明室下で取り扱えるハロゲン化銀写真感光
材料を、実質的に370nm以下の光を含まない光で感光層
に画像露光をおこなう画像形成法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は支持体上にハロゲン化銀
感光層を有する写真感光材料を用いた画像形成法に関
し、更に詳しくは実質的に明室とよび得る環境下でとり
あつかいが可能な明室用感光材料を用いた画像形成法に
関する。
感光層を有する写真感光材料を用いた画像形成法に関
し、更に詳しくは実質的に明室とよび得る環境下でとり
あつかいが可能な明室用感光材料を用いた画像形成法に
関する。
【0002】
【従来の技術】超硬調の画像再現をなしうる写真技術と
して、伝染現像による技術が用いられてきた。
して、伝染現像による技術が用いられてきた。
【0003】伝染現像に用いられるリス型ハロゲン化銀
写真感光材料は、例えば平均粒子径が0.2μmで粒子分
布が狭く粒子の形も整っていて、かつ塩化銀の含有率の
高い(少なくとも50モル%以上)塩臭化銀乳剤よりな
る。このリス型感光材料を亜硫酸イオン濃度が低いアル
カリ性ハイドロキノン現像液、いわゆるリス型現像液で
処理することにより、高いコントラスト、高鮮鋭度、高
解像力の画像が得られる。
写真感光材料は、例えば平均粒子径が0.2μmで粒子分
布が狭く粒子の形も整っていて、かつ塩化銀の含有率の
高い(少なくとも50モル%以上)塩臭化銀乳剤よりな
る。このリス型感光材料を亜硫酸イオン濃度が低いアル
カリ性ハイドロキノン現像液、いわゆるリス型現像液で
処理することにより、高いコントラスト、高鮮鋭度、高
解像力の画像が得られる。
【0004】しかしながら、これらのリス型現像液は空
気酸化を受けやすいことから保恒性が極めて悪いため、
連続使用の際において現像品質を一定に保つことは難し
い。
気酸化を受けやすいことから保恒性が極めて悪いため、
連続使用の際において現像品質を一定に保つことは難し
い。
【0005】上記のリス型現像液を使わずに迅速に、か
つ高コントラストの画像を得る方法が知られている。例
えば特開昭56-106244号公報明細書等に見られるよう
に、ヒドラジン誘導体を含有したハロゲン化銀写真感光
材料をアルカリ現像液で処理するというものである。こ
れらの方法によれば、保恒性が良く、迅速処理可能な現
像液で処理することによっても硬調な画像が得ることが
出来る。
つ高コントラストの画像を得る方法が知られている。例
えば特開昭56-106244号公報明細書等に見られるよう
に、ヒドラジン誘導体を含有したハロゲン化銀写真感光
材料をアルカリ現像液で処理するというものである。こ
れらの方法によれば、保恒性が良く、迅速処理可能な現
像液で処理することによっても硬調な画像が得ることが
出来る。
【0006】これらの技術では、ヒドラジン誘導体の硬
調性を十分に発揮させるためにpH11.2以上のpHを有する
現像液で処理しなければならなかった。pH11.2以上の高
pH現像液は、空気に触れると現像主薬が酸化しやく、リ
ス現像液よりは安定であるが、現像主薬の酸化によっ
て、しばしば超硬調な画像が得られないことがある。
調性を十分に発揮させるためにpH11.2以上のpHを有する
現像液で処理しなければならなかった。pH11.2以上の高
pH現像液は、空気に触れると現像主薬が酸化しやく、リ
ス現像液よりは安定であるが、現像主薬の酸化によっ
て、しばしば超硬調な画像が得られないことがある。
【0007】この欠点を補うため、特開昭63-29751号公
報、特開平1-179939号公報、特開平1-179940号公報及び
米国特許4,975,354号等には、pH11.2未満の比較的低pH
の現像液でも硬調化するヒドラジン誘導体及び造核促進
剤を含むハロゲン化銀写真感光材料が開示されている。
報、特開平1-179939号公報、特開平1-179940号公報及び
米国特許4,975,354号等には、pH11.2未満の比較的低pH
の現像液でも硬調化するヒドラジン誘導体及び造核促進
剤を含むハロゲン化銀写真感光材料が開示されている。
【0008】一方、印刷製版分野における集版返し工程
では、文字或いは網点画像の形成された現像処理済フィ
ルム感光材料をそれぞれ原稿として重ね、返し用感光材
料により1つのフィルム(版)に仕上げていく。しか
し、網点原稿が返し用感光材料の乳剤面に直接密着させ
て露光されるのに対し、線画原稿は貼り込みベース及び
網点原稿を中間に介して露光されるため、一般に返し用
感光材料に形成される銀画像はピントがぼけたものとな
り、線面の白ヌケの部分の画線幅が狭くなってしまう。
これを抜き文字が悪いと言う。これを改良するための手
段として、感光材料をより硬調なものにする手法があ
り、その具体的方法として、上記したようなヒドラジン
誘導体を含有したハロゲン化銀写真感光材料が用いられ
ている。しかし、抜き文字、及び貼り込み跡といった特
性は満足のいくようなものは得られていない。又、上記
のようなヒドラジン誘導体を用いた場合、網点の忠実再
現性が悪いという問題がある。
では、文字或いは網点画像の形成された現像処理済フィ
ルム感光材料をそれぞれ原稿として重ね、返し用感光材
料により1つのフィルム(版)に仕上げていく。しか
し、網点原稿が返し用感光材料の乳剤面に直接密着させ
て露光されるのに対し、線画原稿は貼り込みベース及び
網点原稿を中間に介して露光されるため、一般に返し用
感光材料に形成される銀画像はピントがぼけたものとな
り、線面の白ヌケの部分の画線幅が狭くなってしまう。
これを抜き文字が悪いと言う。これを改良するための手
段として、感光材料をより硬調なものにする手法があ
り、その具体的方法として、上記したようなヒドラジン
誘導体を含有したハロゲン化銀写真感光材料が用いられ
ている。しかし、抜き文字、及び貼り込み跡といった特
性は満足のいくようなものは得られていない。又、上記
のようなヒドラジン誘導体を用いた場合、網点の忠実再
現性が悪いという問題がある。
【0009】また、現像処理液の未露光部に発生する砂
状のかぶり、いわゆる、黒ぽつについても満足のいくよ
うなものは得られていない。
状のかぶり、いわゆる、黒ぽつについても満足のいくよ
うなものは得られていない。
【0010】更に、これらのような硬調化剤を含むハロ
ゲン化銀写真感光材料をpH11.0未満の現像液で処理した
場合、経時による感度変動が大きく、黒ぽつが劣化し、
問題である。特に、実質的に明室下で取り扱える感光材
料の場合、問題は深刻である。
ゲン化銀写真感光材料をpH11.0未満の現像液で処理した
場合、経時による感度変動が大きく、黒ぽつが劣化し、
問題である。特に、実質的に明室下で取り扱える感光材
料の場合、問題は深刻である。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第1の目的
は、経時による感度変動や軟調化や、未露光部分に発生
する黒ポツの増加が防止され、かつ、忠実再現性、抜き
文字特性に優れたハロゲン化銀感光材料および硬調画像
の形成方法を提供することにある。
は、経時による感度変動や軟調化や、未露光部分に発生
する黒ポツの増加が防止され、かつ、忠実再現性、抜き
文字特性に優れたハロゲン化銀感光材料および硬調画像
の形成方法を提供することにある。
【0012】本発明の第2の目的は、pH11未満の現像液
で処理しても経時による感度変動や軟調化や未露光部分
に発生する黒ポツの増加が防止されかつ、忠実再現性、
抜き文字特性に優れたハロゲン化銀感光材料および硬調
画像の形成方法を提供することにある。
で処理しても経時による感度変動や軟調化や未露光部分
に発生する黒ポツの増加が防止されかつ、忠実再現性、
抜き文字特性に優れたハロゲン化銀感光材料および硬調
画像の形成方法を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成〜のいずれかによって達成される。
記構成〜のいずれかによって達成される。
【0014】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン
化銀乳剤層を有し、該乳剤層または、その他の親水性コ
ロイド層に下記一般式(1)で表されるヒドラジン誘導
体を含有する、実質的に明室下で取り扱えるハロゲン化
銀写真感光材料を、実質的に370nm以下の光を含まない
で感光層を画像露光を行うことを特徴とする画像形成方
法。
化銀乳剤層を有し、該乳剤層または、その他の親水性コ
ロイド層に下記一般式(1)で表されるヒドラジン誘導
体を含有する、実質的に明室下で取り扱えるハロゲン化
銀写真感光材料を、実質的に370nm以下の光を含まない
で感光層を画像露光を行うことを特徴とする画像形成方
法。
【0015】
【化2】
【0016】〔式中、R1は脂肪族基又は芳香族基を表
し、更にその置換基の一部として-(CH2CH2O)n-、-(CH2C
H(CH3)O)n-、-(CH2CH(OH)CH2O)n-(ただし、nは1以上
の整数)の部分構造を含有するか、置換基の一部として
4級アンモニウムカチオンを含有する基である。又R1
は、ハロゲン化銀吸着基を含有してもよい。G1は-CO-
基、-COCO-基、-CS-基、-C(=NG2R2)-基、-SO-基、-SO2-
基又は-P(O)(G2R2)-基を表す。G2は単なる結合手、-O-
基、-S-基又は-N(R2)-基を表し、分子内に複数のR2が
存在する場合それらは同じであっても異なっていてもよ
い。A1,A2の一方は水素原子であり、他方は水素原子
又はアシル基、アルキル基又はアリールスルホニル基を
表す。〕 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を
有し、該乳剤層または、その他の親水性コロイド層に上
記一般式(1)で表されるヒドラジン誘導体および紫外
線吸収剤を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料。
し、更にその置換基の一部として-(CH2CH2O)n-、-(CH2C
H(CH3)O)n-、-(CH2CH(OH)CH2O)n-(ただし、nは1以上
の整数)の部分構造を含有するか、置換基の一部として
4級アンモニウムカチオンを含有する基である。又R1
は、ハロゲン化銀吸着基を含有してもよい。G1は-CO-
基、-COCO-基、-CS-基、-C(=NG2R2)-基、-SO-基、-SO2-
基又は-P(O)(G2R2)-基を表す。G2は単なる結合手、-O-
基、-S-基又は-N(R2)-基を表し、分子内に複数のR2が
存在する場合それらは同じであっても異なっていてもよ
い。A1,A2の一方は水素原子であり、他方は水素原子
又はアシル基、アルキル基又はアリールスルホニル基を
表す。〕 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を
有し、該乳剤層または、その他の親水性コロイド層に上
記一般式(1)で表されるヒドラジン誘導体および紫外
線吸収剤を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料。
【0017】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン
化銀乳剤層を有し、該乳剤層または、その他の親水性コ
ロイド層に上記一般式(1)で表されるヒドラジン誘導
体を含有する、実質的に明室下で取り扱えるハロゲン化
銀写真感光材料を、光源と該感光材料の間に、紫外線を
吸収する光学フィルターを挿入することにより画像露光
を行うことを特徴とする画像形成方法。
化銀乳剤層を有し、該乳剤層または、その他の親水性コ
ロイド層に上記一般式(1)で表されるヒドラジン誘導
体を含有する、実質的に明室下で取り扱えるハロゲン化
銀写真感光材料を、光源と該感光材料の間に、紫外線を
吸収する光学フィルターを挿入することにより画像露光
を行うことを特徴とする画像形成方法。
【0018】以下、本発明について詳説する。
【0019】実質的に明室で取扱える明室感材とするた
めには、ハロゲン化銀乳剤の感度を極度に低下させる例
えばロジウム塩、イリジウム塩、塩化第2銅等の無機減
感剤を添加して粒子形成する方法、ピナクリプトール・
イエロー、フェノサフラニン等の有機減感剤を乳剤に添
加する方法及び実質的に明室と感じるようなセーフライ
ト光の波長領域に対して、感度を持たないように、ハロ
ゲン化銀の長波端をその領域に吸収を有する染料(セー
フライト染料)を感材中に含有せしめる方法などがあ
る。これらの方法のいくつかを併用してもかまわない。
めには、ハロゲン化銀乳剤の感度を極度に低下させる例
えばロジウム塩、イリジウム塩、塩化第2銅等の無機減
感剤を添加して粒子形成する方法、ピナクリプトール・
イエロー、フェノサフラニン等の有機減感剤を乳剤に添
加する方法及び実質的に明室と感じるようなセーフライ
ト光の波長領域に対して、感度を持たないように、ハロ
ゲン化銀の長波端をその領域に吸収を有する染料(セー
フライト染料)を感材中に含有せしめる方法などがあ
る。これらの方法のいくつかを併用してもかまわない。
【0020】これらの無機減感剤は、10-6モル/モル-A
g以上含有させることが好ましい。特に10-6〜10-3モル
/モル-Agが好ましい。
g以上含有させることが好ましい。特に10-6〜10-3モル
/モル-Agが好ましい。
【0021】又、有機減感剤は、10-5モル/モル-Ag以
上含有させることが好ましい。特に10-5〜10-2モル/モ
ル-Agが好ましい。
上含有させることが好ましい。特に10-5〜10-2モル/モ
ル-Agが好ましい。
【0022】これら減感剤を用いて明室化する方法につ
いては、詳しくは特開昭58-190943号公報、同59-157630
号公報、などに記載されている。
いては、詳しくは特開昭58-190943号公報、同59-157630
号公報、などに記載されている。
【0023】又、染料を用いて明室化する方法として
は、400〜550nmに吸収極大を有する染料を感光材料中に
含有させることによって行うことができる。この方法に
ついて特願昭60-206258号に詳しく記載されている。
又、無機感光剤や有機感光剤と染料とを併用してもかま
わない。
は、400〜550nmに吸収極大を有する染料を感光材料中に
含有させることによって行うことができる。この方法に
ついて特願昭60-206258号に詳しく記載されている。
又、無機感光剤や有機感光剤と染料とを併用してもかま
わない。
【0024】ここで紫外線吸収剤はハロゲン化銀乳剤の
固有感度を1/2以下にさせる量を用いるが、この紫外
線吸収剤としては300〜400nmにピークを有する紫外線吸
収剤を用いることができ、更に好ましくは、300〜380nm
にピークを有する紫外線吸収剤である。
固有感度を1/2以下にさせる量を用いるが、この紫外
線吸収剤としては300〜400nmにピークを有する紫外線吸
収剤を用いることができ、更に好ましくは、300〜380nm
にピークを有する紫外線吸収剤である。
【0025】紫外線吸収剤としては、例えば、アリール
基で置換されたベンゾトリアゾール化合物、4-チアゾリ
ドン化合物、ベンゾフェノン化合物、桂皮酸エステル化
合物、ブタジエン化合物、ベンゾオキサゾール化合物更
に紫外線吸収ポリマーを用いることができる。
基で置換されたベンゾトリアゾール化合物、4-チアゾリ
ドン化合物、ベンゾフェノン化合物、桂皮酸エステル化
合物、ブタジエン化合物、ベンゾオキサゾール化合物更
に紫外線吸収ポリマーを用いることができる。
【0026】紫外線吸収剤の具体例は、米国特許3,533,
794号、同3,314,794号、同3,352,681号、特開昭46-2784
号、米国特許3,705,805号、同3,707,375号、同4,045,22
9号、同3,700,455号、同3,499,762号、西独特許出願公
告1,547,863号などに記載されている。
794号、同3,314,794号、同3,352,681号、特開昭46-2784
号、米国特許3,705,805号、同3,707,375号、同4,045,22
9号、同3,700,455号、同3,499,762号、西独特許出願公
告1,547,863号などに記載されている。
【0027】以下に本発明の紫外線吸収剤の化合物例を
示すが、本発明はこれらの化合物に限定されるものでは
ない。
示すが、本発明はこれらの化合物に限定されるものでは
ない。
【0028】
【化3】
【0029】
【化4】
【0030】
【化5】
【0031】
【化6】
【0032】
【化7】
【0033】
【化8】
【0034】本発明において紫外線吸収剤は360nmのハ
ロゲン化銀乳剤の固有感度を1/2以下にさせるように
添加されるが、その添加量は360nmでの吸光度が0.3以上
となる量であり、更に好ましくは360nmでの吸光度が0.4
以上となる量である。
ロゲン化銀乳剤の固有感度を1/2以下にさせるように
添加されるが、その添加量は360nmでの吸光度が0.3以上
となる量であり、更に好ましくは360nmでの吸光度が0.4
以上となる量である。
【0035】紫外線吸収剤のモル吸光係数により異なる
が、通常10-2g/m2〜1g/m2の範囲で添加される。好ま
しくは50mg〜500mg/m2である。
が、通常10-2g/m2〜1g/m2の範囲で添加される。好ま
しくは50mg〜500mg/m2である。
【0036】本発明の紫外線吸収剤は乳剤層、表面保護
層、中間層などに含有させられる。
層、中間層などに含有させられる。
【0037】上記紫外線吸収剤は適当な溶媒〔例えば
水、アルコール(例えばメタノール、エタノール、プロ
パノールなど)、アセトン、メチルセロソルブ、など、
あるいはこれらの混合溶媒〕に溶解して本発明の親水性
コロイド層用塗布液中に添加することができる。
水、アルコール(例えばメタノール、エタノール、プロ
パノールなど)、アセトン、メチルセロソルブ、など、
あるいはこれらの混合溶媒〕に溶解して本発明の親水性
コロイド層用塗布液中に添加することができる。
【0038】これらの紫外線吸収剤は2種以上組合せて
用いることもできる。
用いることもできる。
【0039】紫外線を吸収する光学フィルター(つま
り、光源用フィルター)としては、三菱レイヨン(株)
製アクリレートの如き、370nm以下の光を殆んど透過し
ないフィルターを用いるのが好ましい。
り、光源用フィルター)としては、三菱レイヨン(株)
製アクリレートの如き、370nm以下の光を殆んど透過し
ないフィルターを用いるのが好ましい。
【0040】より具体的には透過率にして20%以下が好
ましく、10%以下がより好ましい。紫外線を吸収する光
学フィルター(光源用フィルター)を光源と感光材料と
の間に用いて露光する場合、及び感光材料中に実質的に
370nm以下の光を含まない光が感光層に到達するように
紫外線吸収剤等を含有した層を設ける場合などにおいて
は、従来の公知の光源を用いることがてきる。例えば、
大日本スクリーン(株)製、製版用プリンターP-607用
光源(超高圧水銀灯:ORC-CHM-1000)、同社製P-627FM
用光源などを挙げることができる。本発明の方法におい
て、露光時間としては、用いる光源の容量、感光材料の
感度(含分光感度)などに応じて選択されるが通常60秒
〜5秒で行われる。場合によっては長時間(2〜3分
間)の露光を行ってもよい。
ましく、10%以下がより好ましい。紫外線を吸収する光
学フィルター(光源用フィルター)を光源と感光材料と
の間に用いて露光する場合、及び感光材料中に実質的に
370nm以下の光を含まない光が感光層に到達するように
紫外線吸収剤等を含有した層を設ける場合などにおいて
は、従来の公知の光源を用いることがてきる。例えば、
大日本スクリーン(株)製、製版用プリンターP-607用
光源(超高圧水銀灯:ORC-CHM-1000)、同社製P-627FM
用光源などを挙げることができる。本発明の方法におい
て、露光時間としては、用いる光源の容量、感光材料の
感度(含分光感度)などに応じて選択されるが通常60秒
〜5秒で行われる。場合によっては長時間(2〜3分
間)の露光を行ってもよい。
【0041】次に本発明に係わる一般式(1)で表され
るヒドラジン誘導体について説明する。
るヒドラジン誘導体について説明する。
【0042】
【化9】
【0043】式中、R1は脂肪族基又は芳香族基を表
し、更にその置換基の一部として-(CH2CH2O)n-、-(CH2C
H(CH3)O)n-、-(CH2CH(OH)CH2O)n-(ただし、nは1以上
の整数)の部分構造を含有するか、置換基の一部として
4級アンモニウムカチオンを含有する基である。又R1
は、ハロゲン化銀吸着基を含有してもよい。G1は-CO-
基、-COCO-基、-CS-基、-C(=NG2R2)-基、-SO-基、-SO2-
基又は-P(O)(G2R2)-基を表す。G2は単なる結合手、-O-
基、-S-基又は-N(R2)-基を表し、分子内に複数のR2が
存在する場合それらは同じであっても異なっていてもよ
い。A1,A2の一方は水素原子であり、他方は水素原子
又はアシル基、アルキル基又はアリールスルホニル基を
表す。
し、更にその置換基の一部として-(CH2CH2O)n-、-(CH2C
H(CH3)O)n-、-(CH2CH(OH)CH2O)n-(ただし、nは1以上
の整数)の部分構造を含有するか、置換基の一部として
4級アンモニウムカチオンを含有する基である。又R1
は、ハロゲン化銀吸着基を含有してもよい。G1は-CO-
基、-COCO-基、-CS-基、-C(=NG2R2)-基、-SO-基、-SO2-
基又は-P(O)(G2R2)-基を表す。G2は単なる結合手、-O-
基、-S-基又は-N(R2)-基を表し、分子内に複数のR2が
存在する場合それらは同じであっても異なっていてもよ
い。A1,A2の一方は水素原子であり、他方は水素原子
又はアシル基、アルキル基又はアリールスルホニル基を
表す。
【0044】一般式(1)について更に詳細に説明す
る。一般式(1)において、R1で表される脂肪族基は
好ましくは1〜30のものであって、特に炭素数1〜20の
直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。このアルキル
基は置換基を有している。一般式(1)において、R1
で表される芳香族基は単環又は2環のアリール基又は不
飽和ヘテロ環基である。ここで不飽和ヘテロ環基はアリ
ール基と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、キノリ
ン環、イソキノリン環等がある。中でもベンゼン環を含
むものが好ましい。
る。一般式(1)において、R1で表される脂肪族基は
好ましくは1〜30のものであって、特に炭素数1〜20の
直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。このアルキル
基は置換基を有している。一般式(1)において、R1
で表される芳香族基は単環又は2環のアリール基又は不
飽和ヘテロ環基である。ここで不飽和ヘテロ環基はアリ
ール基と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、キノリ
ン環、イソキノリン環等がある。中でもベンゼン環を含
むものが好ましい。
【0045】R1として特に好ましいものはアリール基
である。R1のアリール基又は不飽和ヘテロ環基は置換
されている。
である。R1のアリール基又は不飽和ヘテロ環基は置換
されている。
【0046】R1の脂肪族基又は芳香族基は置換されて
おり、代表的な置換基としては、例えばアルキル基、ア
ラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタン
基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイ
ル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル
基、スルフィニル基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、
シアノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、ア
シル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カ
ルボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基、
リン酸アミド基などが挙げられ、好ましい置換基として
は直鎖、分岐又は環状のアルキル基(好ましくは炭素数
1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭素数7〜
30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30の
もの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜30のアル
キル基で置換されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ま
しくは炭素数2〜40を持つもの)、スルホンアミド基
(好ましくは炭素数1〜40を持つもの)、ウレイド基
(好ましくは炭素数1〜40を持つもの)、リン酸アミド
基(好ましくは炭素数1〜40のもの)などである。
おり、代表的な置換基としては、例えばアルキル基、ア
ラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタン
基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイ
ル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル
基、スルフィニル基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、
シアノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、ア
シル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カ
ルボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基、
リン酸アミド基などが挙げられ、好ましい置換基として
は直鎖、分岐又は環状のアルキル基(好ましくは炭素数
1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭素数7〜
30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30の
もの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜30のアル
キル基で置換されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ま
しくは炭素数2〜40を持つもの)、スルホンアミド基
(好ましくは炭素数1〜40を持つもの)、ウレイド基
(好ましくは炭素数1〜40を持つもの)、リン酸アミド
基(好ましくは炭素数1〜40のもの)などである。
【0047】R1の脂肪族基、芳香族基又はそれらの置
換基は-O(CH2CH2O)n-、-O(CH2CH(CH3)O)n-又は-O(CH2CH
(OH)CH2O)n-を含有しているか、あるいは4級アンモニ
ウムカチオンを含有している。nは1以上の整数であ
り、15以下の整数が好ましい。R1は好ましくは以下の
一般式(2)、一般式(3)、一般式(4)又は一般式
(5)で表される。
換基は-O(CH2CH2O)n-、-O(CH2CH(CH3)O)n-又は-O(CH2CH
(OH)CH2O)n-を含有しているか、あるいは4級アンモニ
ウムカチオンを含有している。nは1以上の整数であ
り、15以下の整数が好ましい。R1は好ましくは以下の
一般式(2)、一般式(3)、一般式(4)又は一般式
(5)で表される。
【0048】
【化10】
【0049】式中、L1、L2は-CONR7-基、-NR7CONR8-
基、-SO2NR7-基又は-NR7S02NR8-基を表し、それぞれ同
じであっても異なっていても良い。R7及びR8は水素原
子又は炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜10のアリ
ール基を表し、水素原子が好ましい。mは0又は1であ
る。R3、R4、R5は2価の脂肪族基又は芳香族基であ
り、好ましくはアルキレン基、アリーレン基又はそれら
と-O-基、-CO-基、-S-基、-SO-基、-SO2-基、-NR9-基
(R9は一般式(2)、(3)、(4)のR7と同義)を
組み合わせることによって作られる2価の基である。よ
り好ましくはR3は炭素数1〜10のアルキレン基あるい
はそれらと-S-基、-SO-基、-SO2-基を組み合わせて作ら
れる2価の基であり、R4、R5は炭素数6〜20のアリー
レン基である。特にR5はフェニレン基が好ましい。
R3、R4及びR5は置換されていても良く、好ましい置
換基としてはR1の置換基として列挙したものが当ては
まる。
基、-SO2NR7-基又は-NR7S02NR8-基を表し、それぞれ同
じであっても異なっていても良い。R7及びR8は水素原
子又は炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜10のアリ
ール基を表し、水素原子が好ましい。mは0又は1であ
る。R3、R4、R5は2価の脂肪族基又は芳香族基であ
り、好ましくはアルキレン基、アリーレン基又はそれら
と-O-基、-CO-基、-S-基、-SO-基、-SO2-基、-NR9-基
(R9は一般式(2)、(3)、(4)のR7と同義)を
組み合わせることによって作られる2価の基である。よ
り好ましくはR3は炭素数1〜10のアルキレン基あるい
はそれらと-S-基、-SO-基、-SO2-基を組み合わせて作ら
れる2価の基であり、R4、R5は炭素数6〜20のアリー
レン基である。特にR5はフェニレン基が好ましい。
R3、R4及びR5は置換されていても良く、好ましい置
換基としてはR1の置換基として列挙したものが当ては
まる。
【0050】一般式(2)、(3)において、Z1は含
窒素芳香環を形成するために必要な原子群を表す。Z1
と窒素原子で形成される含窒素複素芳香環の好ましい例
としては、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、
ピラジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピロール
環、オキサゾール環、チアゾール環及びこれらのベンゾ
縮合環の他、プテリジン環、ナフチリジン環などを挙げ
ることができる。
窒素芳香環を形成するために必要な原子群を表す。Z1
と窒素原子で形成される含窒素複素芳香環の好ましい例
としては、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、
ピラジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピロール
環、オキサゾール環、チアゾール環及びこれらのベンゾ
縮合環の他、プテリジン環、ナフチリジン環などを挙げ
ることができる。
【0051】一般式(2)、(3)、(4)においてX
-は対アニオン又は分子内塩を形成する場合は対アニオ
ン部分を表す。
-は対アニオン又は分子内塩を形成する場合は対アニオ
ン部分を表す。
【0052】一般式(3)、(4)、(5)においてR
6は脂肪族基又は芳香族基を表す。好ましくはR6は炭素
数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基であ
る。
6は脂肪族基又は芳香族基を表す。好ましくはR6は炭素
数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基であ
る。
【0053】一般式(4)における3つのR6はそれぞ
れ同じであっても異なっても良く、又、互いに結合して
環を形成してもよい。Z1及びR6は置換されていても良
く、好ましい置換基としてはR1の置換基として列挙し
たものが当てはまる。
れ同じであっても異なっても良く、又、互いに結合して
環を形成してもよい。Z1及びR6は置換されていても良
く、好ましい置換基としてはR1の置換基として列挙し
たものが当てはまる。
【0054】一般式(5)においてL3は-CH2CH2O-基、
-CH2CH(CH3)O-基、又は-CH2CH(OH)CH2O-基を表し、nは
一般式(1)と同義である。
-CH2CH(CH3)O-基、又は-CH2CH(OH)CH2O-基を表し、nは
一般式(1)と同義である。
【0055】一般式(1)におけるG1としては-CO-
基、-SO2-基が好ましく、-CO-基が最も好ましい。A1、
A2としては水素原子が好ましい。
基、-SO2-基が好ましく、-CO-基が最も好ましい。A1、
A2としては水素原子が好ましい。
【0056】一般式(1)においてR2で表されるアル
キル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基
であり、アリール基としては単環又は2環のアリール基
が好ましい(例えばベンゼン環を含むもの)。G1が-CO
-基の場合、R2で表される基のうち好ましいものは、水
素原子、アルキル基(例えば、メチル基、トリフルオロ
メチル基、3-ヒドロキシプロピル基、3-メタンスルホン
アミドプロピル基、フェニルスルホニルメチル基な
ど)、アラルキル基(例えば、o-ヒドロキシベンジル基
など)、アリール基(例えば、フェニル基、3,5-ジクロ
ロフェニル基、o-メタンスルホンアミドフェニル基、4-
メタンスルホニルフェニル基、2-ヒドロキシメチルフェ
ニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい。R
2は置換されていても良く、置換基としては、R1に関し
て列挙した置換基が適用できる。又、R2はG1−R2の
部分を残余分子から分裂させ、−G1−R2部分の原子を
含む環式構造を生成させる環化反応を生起するようなも
のであってもよく、その例としては例えば特開昭63-297
51号などに記載のものが挙げられる。
キル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基
であり、アリール基としては単環又は2環のアリール基
が好ましい(例えばベンゼン環を含むもの)。G1が-CO
-基の場合、R2で表される基のうち好ましいものは、水
素原子、アルキル基(例えば、メチル基、トリフルオロ
メチル基、3-ヒドロキシプロピル基、3-メタンスルホン
アミドプロピル基、フェニルスルホニルメチル基な
ど)、アラルキル基(例えば、o-ヒドロキシベンジル基
など)、アリール基(例えば、フェニル基、3,5-ジクロ
ロフェニル基、o-メタンスルホンアミドフェニル基、4-
メタンスルホニルフェニル基、2-ヒドロキシメチルフェ
ニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい。R
2は置換されていても良く、置換基としては、R1に関し
て列挙した置換基が適用できる。又、R2はG1−R2の
部分を残余分子から分裂させ、−G1−R2部分の原子を
含む環式構造を生成させる環化反応を生起するようなも
のであってもよく、その例としては例えば特開昭63-297
51号などに記載のものが挙げられる。
【0057】一般式(1)のR1又はR2はその中にカプ
ラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバ
ラスト基又はポリマーが組み込まれているものでよい。
バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
又、ポリマーとして例えば特開平1-100530号に記載のも
のが挙げられる。
ラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバ
ラスト基又はポリマーが組み込まれているものでよい。
バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
又、ポリマーとして例えば特開平1-100530号に記載のも
のが挙げられる。
【0058】R1が有することのできるハロゲン化銀吸
着基としては、-S-基、-S-S-基、-NHC(=S)NH-基、五な
いし六員の含窒素ヘテロ環基(ベンゾトリアゾール、ト
リアゾール、イミダゾール、チアゾール、オキサゾール
など)、メルカプト基又はジスルフィド結合を有する五
ないし六員の含窒素ヘテロ環基(2-メルカプトチアジア
ゾール、5-メルカプトテトラゾール、2-メルカプトベン
ズオキサゾールなど)が挙げられる。特に、-S-基、メ
ルカプト基又はジスルフィド結合を有する五ないし六員
の含窒素ヘテロ環基を持つことが好ましい。
着基としては、-S-基、-S-S-基、-NHC(=S)NH-基、五な
いし六員の含窒素ヘテロ環基(ベンゾトリアゾール、ト
リアゾール、イミダゾール、チアゾール、オキサゾール
など)、メルカプト基又はジスルフィド結合を有する五
ないし六員の含窒素ヘテロ環基(2-メルカプトチアジア
ゾール、5-メルカプトテトラゾール、2-メルカプトベン
ズオキサゾールなど)が挙げられる。特に、-S-基、メ
ルカプト基又はジスルフィド結合を有する五ないし六員
の含窒素ヘテロ環基を持つことが好ましい。
【0059】本発明の一般式(1)の化合物は、例えば
特開昭61-213847号、同62-260153号、米国特許4,684,60
4号、特願昭63-98803号、米国特許3,379,529号、同3,62
0,746号、同4,377,634号、同4,332,878号、特開昭49-12
9536号、同56-153336号、同56-153342号、米国特許4,98
8,604号、同4,994,365号などに記載されている方法を利
用することにより合成できる。
特開昭61-213847号、同62-260153号、米国特許4,684,60
4号、特願昭63-98803号、米国特許3,379,529号、同3,62
0,746号、同4,377,634号、同4,332,878号、特開昭49-12
9536号、同56-153336号、同56-153342号、米国特許4,98
8,604号、同4,994,365号などに記載されている方法を利
用することにより合成できる。
【0060】以下に本発明に用いられる化合物を列記す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0061】
【化11】
【0062】
【化12】
【0063】
【化13】
【0064】
【化14】
【0065】
【化15】
【0066】
【化16】
【0067】
【化17】
【0068】
【化18】
【0069】本発明の一般式(1)の化合物の添加量と
してはハロゲン化銀1モル当たり1×10-6ないし5×10
-2モル含有されるのが好ましく、特に1×10-5モルない
し2×10-2モルの範囲が好ましい添加量である。
してはハロゲン化銀1モル当たり1×10-6ないし5×10
-2モル含有されるのが好ましく、特に1×10-5モルない
し2×10-2モルの範囲が好ましい添加量である。
【0070】本発明の一般式(1)の化合物は、適当な
水混和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、
エタノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケ
トン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルプ
などに溶解して用いることができる。又、既に良く知ら
れている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、ト
リクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテート
あるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチル
やシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機
械的に乳化分散物を作成して用いることもできる。ある
いは固体分散法として知られている方法によって、レド
ックス化合物の粉末を水の中にボールミル、コロイドミ
ル、あるいは超音波によって分散して用いることもでき
る。
水混和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、
エタノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケ
トン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルプ
などに溶解して用いることができる。又、既に良く知ら
れている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、ト
リクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテート
あるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチル
やシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機
械的に乳化分散物を作成して用いることもできる。ある
いは固体分散法として知られている方法によって、レド
ックス化合物の粉末を水の中にボールミル、コロイドミ
ル、あるいは超音波によって分散して用いることもでき
る。
【0071】本発明において用いることのできる現像主
薬としては、ジヒドロキシベンゼン類(例えばハイドロ
キノン、クロルハイドロキノン、プロムハイドロキノ
ン、2,3-ジクロルハイドロキノン、メチルハイドロキノ
ン、イソプロピルハイドロキノン、2,5-ジメチルハイド
ロキノンなど)、3-ピラゾリドン類(例えば1-フェニル
-3-ピラゾリドン、1-フェニル-4-メチル-3-ピラゾリド
ン、1-フェニル-4,4-ジメチル-3-ピラゾリドン、1-フェ
ニル-4-エチル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-5-メチル-
3-ピラゾリドンなど)、アミノフェノール類(例えばo-
アミノフェノール、p-アミノフェノール、N-メチル-o-
アミノフェノール、N-メチル-p-アミノフェノール、2,4
-ジアミノフェノールなど)、ピロガロール、アスコル
ビン酸、1-アリール-3-ピラゾリン類(例えば1-(p-ヒド
ロキシフェニル)-3-アミノピラゾリン、1-(p-メチルア
ミノフェニル)-3-アミノピラゾリン、1-(p-アミノフェ
ニル)-3-アミノピラゾリン、1-(p-アミノ-N-メチルフェ
ニル)-3-アミノピラゾリンなど)などを、単独もしくは
組合せて使用することができるが、3-ピラゾリドン類と
ジヒドロキシベンゼン類との組合せ、又はアミノフェノ
ール類とジヒドロキシベンゼン類との組合せで使用する
ことが好ましい。現像主薬は、通常0.01〜1.4モル/リ
ットルの量で用いられるのが好ましい。
薬としては、ジヒドロキシベンゼン類(例えばハイドロ
キノン、クロルハイドロキノン、プロムハイドロキノ
ン、2,3-ジクロルハイドロキノン、メチルハイドロキノ
ン、イソプロピルハイドロキノン、2,5-ジメチルハイド
ロキノンなど)、3-ピラゾリドン類(例えば1-フェニル
-3-ピラゾリドン、1-フェニル-4-メチル-3-ピラゾリド
ン、1-フェニル-4,4-ジメチル-3-ピラゾリドン、1-フェ
ニル-4-エチル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-5-メチル-
3-ピラゾリドンなど)、アミノフェノール類(例えばo-
アミノフェノール、p-アミノフェノール、N-メチル-o-
アミノフェノール、N-メチル-p-アミノフェノール、2,4
-ジアミノフェノールなど)、ピロガロール、アスコル
ビン酸、1-アリール-3-ピラゾリン類(例えば1-(p-ヒド
ロキシフェニル)-3-アミノピラゾリン、1-(p-メチルア
ミノフェニル)-3-アミノピラゾリン、1-(p-アミノフェ
ニル)-3-アミノピラゾリン、1-(p-アミノ-N-メチルフェ
ニル)-3-アミノピラゾリンなど)などを、単独もしくは
組合せて使用することができるが、3-ピラゾリドン類と
ジヒドロキシベンゼン類との組合せ、又はアミノフェノ
ール類とジヒドロキシベンゼン類との組合せで使用する
ことが好ましい。現像主薬は、通常0.01〜1.4モル/リ
ットルの量で用いられるのが好ましい。
【0072】本発明において保恒剤として用いる亜硫酸
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以上が
好ましい。特に好ましくは、0.4モル/リットル以上で
ある。
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以上が
好ましい。特に好ましくは、0.4モル/リットル以上で
ある。
【0073】現像液には、銀スラッジ防止剤、例えば特
公昭62-4702号、特開平1-319031号、同3-51844号、同4-
26838号、同4-362942号各公報に記載の化合物など、又
更に好ましくは下記の一般式〔I〕で表される化合物を
添加することができる。
公昭62-4702号、特開平1-319031号、同3-51844号、同4-
26838号、同4-362942号各公報に記載の化合物など、又
更に好ましくは下記の一般式〔I〕で表される化合物を
添加することができる。
【0074】
【化19】
【0075】式中、R1、R2、R3は各々水素原子、-SM
1基、ヒドロキシル基、低級アルコキシ基-COOM2基、ア
ミノ基、-SO3M3基又は低級アルキル基であり、R1、
R2、R3のうち少なくとも一つは-SM1基を示す。M1、
M2、M3は各々水素原子、アルカリ金属原子又はアンモ
ニウム基を表し、同じであっても異なってもよい。
1基、ヒドロキシル基、低級アルコキシ基-COOM2基、ア
ミノ基、-SO3M3基又は低級アルキル基であり、R1、
R2、R3のうち少なくとも一つは-SM1基を示す。M1、
M2、M3は各々水素原子、アルカリ金属原子又はアンモ
ニウム基を表し、同じであっても異なってもよい。
【0076】上記の一般式〔I〕においてR1、R2、R3
で表される低級アルキル基及び低級アルコキシ基はそれ
ぞれ炭素を1〜5個有する基であり、それらは更に置換
基を有していてもよく、好ましくは炭素数を1〜3個有
する基であり、R1、R2、R3で表されるアミノ基は置
換又は非置換のアミノ基を表し、好ましい置換基として
は低級アルキル基である。
で表される低級アルキル基及び低級アルコキシ基はそれ
ぞれ炭素を1〜5個有する基であり、それらは更に置換
基を有していてもよく、好ましくは炭素数を1〜3個有
する基であり、R1、R2、R3で表されるアミノ基は置
換又は非置換のアミノ基を表し、好ましい置換基として
は低級アルキル基である。
【0077】上記の一般式〔I〕において、アンモニウ
ム基としては置換又は非置換のアンモニウム基であり、
好ましくは非置換のアンモニウム基である。
ム基としては置換又は非置換のアンモニウム基であり、
好ましくは非置換のアンモニウム基である。
【0078】以下に一般式〔I〕で示される化合物の具
体例を示す。
体例を示す。
【0079】
【化20】
【0080】現像液には、その他必要によりアルカリ剤
(水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)、pH緩衝剤
(例えば、炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、クエ
ン酸、アルカノールアミンなど)、溶解助剤(例えばポ
リエチレングリコール類、それらのエステル、アルカノ
ールアミンなど)、増感剤(例えばポリオキシエチレン
類を含む非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化合物
など)、界面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(例えば、
臭化カリウム、臭化ナトリウムの如きハロゲン化銀、ニ
トロベンズインダゾール、ニトロベンズイミダゾール、
ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール
類、チアゾール類など)、キレート化剤(例えばエチレ
ンジアミン四酢酸またはそのアルカリ金属塩、ニトリロ
三酢酸塩、ポリ燐酸塩など)、現像促進剤(例えば米国
特許2,304,025号、特公昭47-45541号各公報に記載の化
合物など)、硬膜剤(例えばグルタールアルデヒド又
は、その重亜硫酸塩付加物など)、あるいは消泡剤など
を添加することができる。現像液のpHは9.5〜12.0に調
整されることが好ましい。
(水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)、pH緩衝剤
(例えば、炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、クエ
ン酸、アルカノールアミンなど)、溶解助剤(例えばポ
リエチレングリコール類、それらのエステル、アルカノ
ールアミンなど)、増感剤(例えばポリオキシエチレン
類を含む非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化合物
など)、界面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(例えば、
臭化カリウム、臭化ナトリウムの如きハロゲン化銀、ニ
トロベンズインダゾール、ニトロベンズイミダゾール、
ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール
類、チアゾール類など)、キレート化剤(例えばエチレ
ンジアミン四酢酸またはそのアルカリ金属塩、ニトリロ
三酢酸塩、ポリ燐酸塩など)、現像促進剤(例えば米国
特許2,304,025号、特公昭47-45541号各公報に記載の化
合物など)、硬膜剤(例えばグルタールアルデヒド又
は、その重亜硫酸塩付加物など)、あるいは消泡剤など
を添加することができる。現像液のpHは9.5〜12.0に調
整されることが好ましい。
【0081】本発明の化合物は現像処理の特殊な形式と
して、現像主薬を感光材料中、例えば乳剤層中に含み、
感光材料をアルカリ水溶液中で処理して現像を行わせる
アクチベータ処理液に用いてもよい。このような現像処
理は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組合せ
て、感光材料の迅速処理の方法の一つとして利用される
ことが多く、そのような処理液に、適用も可能である。
このような迅速処理の場合、本発明の効果が特に大き
い。
して、現像主薬を感光材料中、例えば乳剤層中に含み、
感光材料をアルカリ水溶液中で処理して現像を行わせる
アクチベータ処理液に用いてもよい。このような現像処
理は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組合せ
て、感光材料の迅速処理の方法の一つとして利用される
ことが多く、そのような処理液に、適用も可能である。
このような迅速処理の場合、本発明の効果が特に大き
い。
【0082】定着液としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。定着液は一般に定着剤とその
他から成る水溶液であり、pHは通常3.8〜5.8である。定
着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウム、
チオ硫酸アンモニウムなどのチオ硫酸塩、チオシアン酸
ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸アン
モニウムなどのチオシアン酸塩の他、可溶性安定銀錯塩
を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知られてい
るものを用いることができる。
のを用いることができる。定着液は一般に定着剤とその
他から成る水溶液であり、pHは通常3.8〜5.8である。定
着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウム、
チオ硫酸アンモニウムなどのチオ硫酸塩、チオシアン酸
ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸アン
モニウムなどのチオシアン酸塩の他、可溶性安定銀錯塩
を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知られてい
るものを用いることができる。
【0083】定着液には硬膜剤として作用する水溶性ア
ルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミニ
ウム、カリ明ばんなどを加えることができる。
ルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミニ
ウム、カリ明ばんなどを加えることができる。
【0084】定着液には、所望により、保恒剤(例えば
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸)、pH
調整剤(例えば硫酸)硬水軟化能のあるキレート剤等の
化合物を含むことができる。
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸)、pH
調整剤(例えば硫酸)硬水軟化能のあるキレート剤等の
化合物を含むことができる。
【0085】現像液は、固定成分の混合物でも、グリコ
ールやアミンを含む有機性水溶液でも、粘度の高い半練
り状態の粘稠液体でもよい。又使用時に希釈して用いて
も良いし、あるいはそのまま用いてもよい。
ールやアミンを含む有機性水溶液でも、粘度の高い半練
り状態の粘稠液体でもよい。又使用時に希釈して用いて
も良いし、あるいはそのまま用いてもよい。
【0086】本発明の現像処理に際しては、現像温度を
20〜30℃の通常の温度範囲に設定することもできるし、
30〜40℃の高温処理の範囲に設定することもできる。
20〜30℃の通常の温度範囲に設定することもできるし、
30〜40℃の高温処理の範囲に設定することもできる。
【0087】本発明による黒白ハロゲン化銀写真感光材
料は、自動現像機を用いて処理されることが好ましい。
その際に感光材料の面積に比例した一定量の現像液を補
充しながら処理される。その現像補充量は、廃液量を少
なくするために1m2当たり250ml以下である。好ましく
は1m2当り75ml以上200ml以下である。1m2当たり75ml
未満の現像液補充量では減感、軟調化等で満足な写真性
能が得られない。
料は、自動現像機を用いて処理されることが好ましい。
その際に感光材料の面積に比例した一定量の現像液を補
充しながら処理される。その現像補充量は、廃液量を少
なくするために1m2当たり250ml以下である。好ましく
は1m2当り75ml以上200ml以下である。1m2当たり75ml
未満の現像液補充量では減感、軟調化等で満足な写真性
能が得られない。
【0088】本発明は現像時間短縮の要望から自動現像
機を用いて処理するときにフィルム先端が自動現像機に
挿入されてから乾燥ゾーンから出てくるまでの全処理時
間(Dry to Dry)が20〜60秒であることが好ましい。こ
こでいう全処理時間とは黒白ハロゲン化銀写真感光材料
を処理するのに必要な全工程時間を含み、具体的には処
理に必要な例えば現像、定着、漂白、水洗、安定化処
理、乾燥等の工程の時間を全て含んだ時間、つまりDry
to Dryの時間である。全処理時間が20秒未満では減感、
軟調化等で満足な写真性能が得られない。更に好ましく
は全処理時間(Dry to Dry)が30〜60秒である。
機を用いて処理するときにフィルム先端が自動現像機に
挿入されてから乾燥ゾーンから出てくるまでの全処理時
間(Dry to Dry)が20〜60秒であることが好ましい。こ
こでいう全処理時間とは黒白ハロゲン化銀写真感光材料
を処理するのに必要な全工程時間を含み、具体的には処
理に必要な例えば現像、定着、漂白、水洗、安定化処
理、乾燥等の工程の時間を全て含んだ時間、つまりDry
to Dryの時間である。全処理時間が20秒未満では減感、
軟調化等で満足な写真性能が得られない。更に好ましく
は全処理時間(Dry to Dry)が30〜60秒である。
【0089】ハロゲン化銀写真乳剤中のハロゲン化銀
は、特に制限はなく塩化銀、塩臭化銀、沃臭化銀等どの
様なハロゲン組成のものでもよい。好ましくは塩化銀又
は塩臭化銀(Br5モル%以下が好ましい)である。
は、特に制限はなく塩化銀、塩臭化銀、沃臭化銀等どの
様なハロゲン組成のものでもよい。好ましくは塩化銀又
は塩臭化銀(Br5モル%以下が好ましい)である。
【0090】ハロゲン化銀写真乳剤は化学増感していて
も、していなくとも良い。化学増感の方法としては硫黄
増感、還元増感及び貴金属増感法が知られており、これ
らのいずれをも単独で用いても又併用してもよい。好ま
しい化学増感方法は硫黄増感であり硫黄増感剤として
は、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物の他、種々の硫黄
化合物例えば、チオ硫酸塩、チオ尿素類、ローダニン類
等を用いることができる。
も、していなくとも良い。化学増感の方法としては硫黄
増感、還元増感及び貴金属増感法が知られており、これ
らのいずれをも単独で用いても又併用してもよい。好ま
しい化学増感方法は硫黄増感であり硫黄増感剤として
は、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物の他、種々の硫黄
化合物例えば、チオ硫酸塩、チオ尿素類、ローダニン類
等を用いることができる。
【0091】貴金属増感法のうち金増感法はその代表的
なもので金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外の
貴金属、例えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩を
含有しても差支えない。
なもので金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外の
貴金属、例えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩を
含有しても差支えない。
【0092】還元増感剤としては第一すず塩、アミン
類、ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを
用いることができる。
類、ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを
用いることができる。
【0093】ハロゲン化銀の平均粒子サイズは0.7μm以
下であることが好ましく特に0.5〜0.1μmが好ましい。
平均粒径とは、ハロゲン化銀写真科学の分野の専門家に
は常用されており、容易に理解される用語である。粒径
とは粒子が球状又は球に近似できる粒子の場合には粒子
直径を意味する。粒子が立方体である場合には
下であることが好ましく特に0.5〜0.1μmが好ましい。
平均粒径とは、ハロゲン化銀写真科学の分野の専門家に
は常用されており、容易に理解される用語である。粒径
とは粒子が球状又は球に近似できる粒子の場合には粒子
直径を意味する。粒子が立方体である場合には
【0094】
【数1】
【0095】を粒径とする。平均粒子投影面積に基づく
代数平均又は幾何平均により求める。平均粒径を求める
方法の詳細については、(ミース ジェームス ザ セオ
リー オブ ザ フォトグラフィックプロセス「C.E.Mees
とT.H.James著:The theory of the photographic proc
ess」)、第3版、36〜43頁(1966年(マクミラン「Mcm
illan」社刊))を参照すればよい。
代数平均又は幾何平均により求める。平均粒径を求める
方法の詳細については、(ミース ジェームス ザ セオ
リー オブ ザ フォトグラフィックプロセス「C.E.Mees
とT.H.James著:The theory of the photographic proc
ess」)、第3版、36〜43頁(1966年(マクミラン「Mcm
illan」社刊))を参照すればよい。
【0096】ハロゲン化銀粒子の形状には制限はなく、
平板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その他
いずれの形状でもよい。又、粒子サイズ分布は狭い方が
好ましく、特に平均粒子サイズの±40%の粒子サイズ域
内に全粒子数の90%、望ましくは95%が入るような、い
わゆる単分散乳剤が好ましい。
平板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その他
いずれの形状でもよい。又、粒子サイズ分布は狭い方が
好ましく、特に平均粒子サイズの±40%の粒子サイズ域
内に全粒子数の90%、望ましくは95%が入るような、い
わゆる単分散乳剤が好ましい。
【0097】本発明における可溶性銀塩と可溶性ハロゲ
ン塩を反応させる形式としては片側混合法、同時混合
法、それらの組合せなどのいずれを用いてもよい。
ン塩を反応させる形式としては片側混合法、同時混合
法、それらの組合せなどのいずれを用いてもよい。
【0098】粒子を銀イオン過剰の下において形成させ
る方法(いわゆる逆混合法)を用いることもできる。同
時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀の生成される
液相中のpAgを一定に保つ方法、即ちいわゆるコントロ
ールド・ダブルジェット法を用いることができ、この方
法によると、結晶形が規則的で粒子サイズが均一に近い
ハロゲン化銀乳剤がえられる。
る方法(いわゆる逆混合法)を用いることもできる。同
時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀の生成される
液相中のpAgを一定に保つ方法、即ちいわゆるコントロ
ールド・ダブルジェット法を用いることができ、この方
法によると、結晶形が規則的で粒子サイズが均一に近い
ハロゲン化銀乳剤がえられる。
【0099】ハロゲン化銀乳剤及びその調製方法につい
ては、詳しくはRESEARCH DISCLOSURE 176巻 Item 17643
P.22〜23(1978年12月)に記載もしくは引用された文献
に記載されている。
ては、詳しくはRESEARCH DISCLOSURE 176巻 Item 17643
P.22〜23(1978年12月)に記載もしくは引用された文献
に記載されている。
【0100】次に、本発明に用いられる感光材料には、
感光材料の製造工程、保存中あるいは写真処理中のカブ
リを防止しあるいは写真性能を安定化させる目的で、種
々の化合物を含有させることができる。即ちアゾール類
例えばベンゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、
ニトロベンズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベ
ンズイミダゾール類、メルカプトチアジアゾール類、ア
ミノトリアゾール類、ベンゾトリアゾール類、ニトロベ
ンゾトリアゾール類、メルカプトテトラゾール類(特に
1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール)など;メルカ
プトピリミジン類、メルカプトトリアジン類;例えばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、例えばトリアザインデン類、テトラアザインデン
類(特に4-ヒドロキシ置換(1,3,3a,7)テトラザインデ
ン類)、ペンタアザインデン類など;ベンゼンチオスル
フオン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルフォン
酸アミド等のようなカブリ防止剤又は安定剤として知ら
れた多くの化合物を加えることができる。
感光材料の製造工程、保存中あるいは写真処理中のカブ
リを防止しあるいは写真性能を安定化させる目的で、種
々の化合物を含有させることができる。即ちアゾール類
例えばベンゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、
ニトロベンズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベ
ンズイミダゾール類、メルカプトチアジアゾール類、ア
ミノトリアゾール類、ベンゾトリアゾール類、ニトロベ
ンゾトリアゾール類、メルカプトテトラゾール類(特に
1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール)など;メルカ
プトピリミジン類、メルカプトトリアジン類;例えばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、例えばトリアザインデン類、テトラアザインデン
類(特に4-ヒドロキシ置換(1,3,3a,7)テトラザインデ
ン類)、ペンタアザインデン類など;ベンゼンチオスル
フオン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルフォン
酸アミド等のようなカブリ防止剤又は安定剤として知ら
れた多くの化合物を加えることができる。
【0101】本発明の写真乳剤及び悲感光性の親水性コ
ロイドには無機又は有機の硬膜剤を含有してよい。例え
ばクロム塩(クロム明ばん、酢酸クロムなど)、アルデ
ヒド類(ホルムアルデヒド、クリオキサール、グリター
ルアルデヒドなど)、N-メチロール化合物(ジメチロー
ル尿素、メチロールジメチルヒダントインなど)、ジオ
キサン誘導体(2,3-ジヒドロキシジオキサンなど)、活
性ビニル化合物(1,3,5-トリアクリロイル-ヘキサヒド
ロ-s-トリアジン、ビス(ビニルスルホニル)メチルエ
ーテル、N,N′-メチレンビス-〔β-(ビニルスルホニル)
プロピオンアミド〕など)、活性ハロゲン化合物(2,4-
ジクロル-6-ヒドロキシ-s-トリアジンなど)、ムコハロ
ゲン酸類(ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸な
ど)イソオキサゾール類、ジアルデヒドでん粉、2-クロ
ル-6-ヒドロキシトリアジニル化ゼラチンなどを、単独
又は組合せて用いることができる。
ロイドには無機又は有機の硬膜剤を含有してよい。例え
ばクロム塩(クロム明ばん、酢酸クロムなど)、アルデ
ヒド類(ホルムアルデヒド、クリオキサール、グリター
ルアルデヒドなど)、N-メチロール化合物(ジメチロー
ル尿素、メチロールジメチルヒダントインなど)、ジオ
キサン誘導体(2,3-ジヒドロキシジオキサンなど)、活
性ビニル化合物(1,3,5-トリアクリロイル-ヘキサヒド
ロ-s-トリアジン、ビス(ビニルスルホニル)メチルエ
ーテル、N,N′-メチレンビス-〔β-(ビニルスルホニル)
プロピオンアミド〕など)、活性ハロゲン化合物(2,4-
ジクロル-6-ヒドロキシ-s-トリアジンなど)、ムコハロ
ゲン酸類(ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸な
ど)イソオキサゾール類、ジアルデヒドでん粉、2-クロ
ル-6-ヒドロキシトリアジニル化ゼラチンなどを、単独
又は組合せて用いることができる。
【0102】本発明の感光性乳剤層及び/又は非感光性
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良など種々の
目的で種々の公知の界面活性剤を用いてもよい。
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良など種々の
目的で種々の公知の界面活性剤を用いてもよい。
【0103】写真乳剤の結合剤又は保護コロイドとして
は、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親
水性コロイドも用いることができる。例えばゼラチン誘
導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、ア
ルブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロース、セルローズ硫酸
エステル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソー
ダ、澱粉誘導体などの糖誘導体;ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ-N-ビ
ニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、
ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビ
ニルピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の
合成親水性高分子物質を用いることができる。
は、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親
水性コロイドも用いることができる。例えばゼラチン誘
導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、ア
ルブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロース、セルローズ硫酸
エステル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソー
ダ、澱粉誘導体などの糖誘導体;ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ-N-ビ
ニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、
ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビ
ニルピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の
合成親水性高分子物質を用いることができる。
【0104】ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、
酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、
ゼラチン酸素分解物も用いることができる。
酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、
ゼラチン酸素分解物も用いることができる。
【0105】本発明の写真乳剤には寸度安定性の改良な
どの目的で水不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物を含
むことができる。例えばアルキル(メタ)アクリレー
ト、アルコキシアクリル(メタ)アクリレート、グリシ
ジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、
ビニルエステル(例えば酢酸ビニル)、アクリロニトリ
ル、オレフィン、スチレンなどの単独もしくは組合わ
せ、又はこれらとアクリル酸、メタアクリル酸、α,β
−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレート、スルフォアルキル(メタ)アクリレート、
スチレンスルフォン酸などの組合せを単量体成分とする
ポリマーを用いることができる。
どの目的で水不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物を含
むことができる。例えばアルキル(メタ)アクリレー
ト、アルコキシアクリル(メタ)アクリレート、グリシ
ジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、
ビニルエステル(例えば酢酸ビニル)、アクリロニトリ
ル、オレフィン、スチレンなどの単独もしくは組合わ
せ、又はこれらとアクリル酸、メタアクリル酸、α,β
−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレート、スルフォアルキル(メタ)アクリレート、
スチレンスルフォン酸などの組合せを単量体成分とする
ポリマーを用いることができる。
【0106】本発明のハロゲン化銀乳剤は、短波増感色
素によって分光増感されていてもよいが、好ましくは分
光増感されていないものである。
素によって分光増感されていてもよいが、好ましくは分
光増感されていないものである。
【0107】本発明に用いられるハロゲン化銀写真感光
材料には、その他の種々の添加剤が用いられる。例え
ば、減感剤、可塑剤、スベリ剤、現像促進剤、オイル、
染料など。
材料には、その他の種々の添加剤が用いられる。例え
ば、減感剤、可塑剤、スベリ剤、現像促進剤、オイル、
染料など。
【0108】これらの添加剤及び前述の添加剤につい
て、具体的には、リサーチ・ディスクロージャー(Rese
arch Disclosure)176号、第22〜31頁(RD-17643)(Dec.,
1978)などに記載されたものを用いることができる。
て、具体的には、リサーチ・ディスクロージャー(Rese
arch Disclosure)176号、第22〜31頁(RD-17643)(Dec.,
1978)などに記載されたものを用いることができる。
【0109】本発明に用いられる感光材料において、乳
剤層、保護層は単層でもよいし、2層以上からなる重層
でもよい。重層の場合には間に中間層などを設けてもよ
い。
剤層、保護層は単層でもよいし、2層以上からなる重層
でもよい。重層の場合には間に中間層などを設けてもよ
い。
【0110】本発明の写真感光材料において写真乳剤層
その他の層は写真感光材料に通常用いられる可撓性支持
体の片面又は両面に塗布される。可撓性支持体として有
用なものは、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、ポ
リスチレン、ポリエチレンテレフタレートの合成高分子
から成るフィルム等である。
その他の層は写真感光材料に通常用いられる可撓性支持
体の片面又は両面に塗布される。可撓性支持体として有
用なものは、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、ポ
リスチレン、ポリエチレンテレフタレートの合成高分子
から成るフィルム等である。
【0111】
実施例1 (ラテックスLx−A)水60リットルにゼラチンを1.0K
gドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム0.01Kgおよび
過硫酸アンモニウム0.05Kgを加えた液に液温60℃で撹拌
しつつ、窒素雰囲気下で(ア)スチレン3.0Kg、(イ)
メチルメタクリレート3.0Kg、及び(ウ)エチルアクリ
レート3.2Kgの混合液及び2-アクリルアミド-2-メチルプ
ロパンスルホン酸のナトリウム塩0.8Kgを1時間かけて
添加、その後1.5時間撹拌後、更に1時間水蒸気蒸留し
て残留モノマーを除去したのち、室温まで冷却してか
ら、アンモニアを用いてpHを6.0に調整した。得られた
ラテックス液は水で75Kgに仕上げた。以上のようにして
平均粒径0.1μmの単分散ラテックスを得た。
gドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム0.01Kgおよび
過硫酸アンモニウム0.05Kgを加えた液に液温60℃で撹拌
しつつ、窒素雰囲気下で(ア)スチレン3.0Kg、(イ)
メチルメタクリレート3.0Kg、及び(ウ)エチルアクリ
レート3.2Kgの混合液及び2-アクリルアミド-2-メチルプ
ロパンスルホン酸のナトリウム塩0.8Kgを1時間かけて
添加、その後1.5時間撹拌後、更に1時間水蒸気蒸留し
て残留モノマーを除去したのち、室温まで冷却してか
ら、アンモニアを用いてpHを6.0に調整した。得られた
ラテックス液は水で75Kgに仕上げた。以上のようにして
平均粒径0.1μmの単分散ラテックスを得た。
【0112】(乳剤調整)硫酸銀溶液と、塩化ナトリウ
ム及び臭化カリウム水溶液に6塩化ロジウム錯体を8×
10-5mol/Agmolとなるように加えた溶液を、ゼラチン
溶液中に流量制御しながら同時添加し、脱塩後、粒径0.
13μm、臭化銀1モル%を含む立方晶、単分散、塩臭化
銀乳剤を得た。
ム及び臭化カリウム水溶液に6塩化ロジウム錯体を8×
10-5mol/Agmolとなるように加えた溶液を、ゼラチン
溶液中に流量制御しながら同時添加し、脱塩後、粒径0.
13μm、臭化銀1モル%を含む立方晶、単分散、塩臭化
銀乳剤を得た。
【0113】この乳剤を通常の方法で硫黄増感して、安
定剤として6-メチル-4-ヒドロキシ-1,3,3a,7テトラザイ
ンデンを添加した。更に、下記化合物を添加した。
定剤として6-メチル-4-ヒドロキシ-1,3,3a,7テトラザイ
ンデンを添加した。更に、下記化合物を添加した。
【0114】
【化21】
【0115】後、更に、下記の添加剤を加えて乳剤塗布
液を調整し、ついで乳剤保護層塗布液、バッキング層塗
布液、バッキング保護層塗布液を下記組成にて調製し
た。
液を調整し、ついで乳剤保護層塗布液、バッキング層塗
布液、バッキング保護層塗布液を下記組成にて調製し
た。
【0116】 (乳剤塗布液の調製) 臭化カリウム 5 mg/m2 化合物(a) 1mg/m2 NaOH(0.5N) pH5.6に調整 サポニン(20%) 0.5ml/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 5-メチルベンゾトリアゾール 10mg/m2 化合物(d) 2mg/m2 化合物(e) 10mg/m2 化合物(f) 6mg/m2 ラテックスLx−A 0.5g/m2 スチレン-マイレン酸共重合性ポリマー(増粘剤) 90mg/m2 尚、乳剤塗布の際、ゼラチン量が1.2g/m2となるように乳剤を塗布した。
【0117】
【化22】
【0118】 (乳剤保護層塗布液) ゼラチン 1.1g/m2 化合物(h) 40mg/m2 化合物(k) 100mg/m2 球状単分散シリカ(8μ) 20mg/m2 〃 (3μ) 10mg/m2 化合物(i) 100mg/m2 化合物(g) 1mg/m2 クエン酸 pH5.8に調整 ラテックスLX−A 0.5g/m2 スチレン−マレイン酸共重合ポリマー(増粘剤) 50mg/m2 ホルムアルデヒド(硬化剤) 10mg/m2 (バッキング層塗布液) ゼラチン 1.0g/m2 化合物(j) 80mg/m2 化合物(k) 15mg/m2 化合物(l) 150mg/m2 塩化カルシウム 0.3mg/m2 サポニン(20%) 0.6cc/m2 クエン酸 pH5.5に調整 ラテックス(m) 300mg/m2 5-メチルベンゾトリアゾール(2−2) 10mg/m2 5-ニトロインダゾール (2−18) 20mg/m2 ポリエチレングリコール(分子量1540)(1−16) 10mg/m2 スチレン-マレイン酸共重合ポリマー(増粘剤) 45mg/m2 グリオキザール 4mg/m2 化合物(n) 80mg/m2 (バッキング保護層塗布液) ゼラチン 1.18g/m2 化合物(g)(1%) 2ml/m2 化合物(j) 20mg/m2 化合物(k) 4mg/m2 化合物(l) 50mg/m2 球状ポリメチルメタクリレート(4μ) 25mg/m2 塩化ナトリウム 70mg/m2 化合物(g) 1mg/m2 グリオキザール 22mg/m2 ビスビニルスルホニルメチルエーテル 5mg/m2
【0119】
【化23】
【0120】
【化24】
【0121】
【化25】
【0122】以上の様に調製した各塗布液を、乳剤面側
に特開昭59-19941に示す下引きを施した厚さ100μのポ
リエチレンテレフタレートベースのバッキング面側に、
10W/(m2・min)でコロナ放電をかけた後、下記組成に
てロールフィットコーティングパン、およびエアーナイ
フを使用して付量が10cc/m2になるように塗布した。
尚、乾燥は90℃、総括伝熱係数25Kcal(m2・hr・℃)の平
行流乾燥条件で30"間行い、続いて140℃90秒で行った。
乾燥後のこの層の膜厚は1μ、この層の表面比抵抗は23
℃55%で1×108Ωであった。
に特開昭59-19941に示す下引きを施した厚さ100μのポ
リエチレンテレフタレートベースのバッキング面側に、
10W/(m2・min)でコロナ放電をかけた後、下記組成に
てロールフィットコーティングパン、およびエアーナイ
フを使用して付量が10cc/m2になるように塗布した。
尚、乾燥は90℃、総括伝熱係数25Kcal(m2・hr・℃)の平
行流乾燥条件で30"間行い、続いて140℃90秒で行った。
乾燥後のこの層の膜厚は1μ、この層の表面比抵抗は23
℃55%で1×108Ωであった。
【0123】
【化26】
【0124】 硫酸アンモニウム 0.5g/l ポリエチレンオキサイド化合物(平均分子量600) 6g/l 硬化剤 12g/l
【0125】
【化27】
【0126】このベース上にまず乳剤面側として支持体
に近い側より乳剤層、乳剤保護層の順に、35℃に保ち
ながらスライドホッパー方式により硬膜剤液を加えなが
ら同時重層塗布し、冷風セットゾーン(5℃)を通過さ
せた後、バッキング層及びバッキング保護層をやはりス
ライドホッパーにて硬膜剤を加えながら塗布し、冷風セ
ット(5℃)した。各々のセットゾーンを通過した時点
では、塗布液は、充分なセット性を示した。引き続き乾
燥ゾーンにて両面を同時に下記乾燥条件にて乾燥した。
尚、バッキング両側を塗布した後は巻取りまではローラ
ー、その他には一切無接触の状態で搬送した。このとき
塗布速度は、120m/minであった。
に近い側より乳剤層、乳剤保護層の順に、35℃に保ち
ながらスライドホッパー方式により硬膜剤液を加えなが
ら同時重層塗布し、冷風セットゾーン(5℃)を通過さ
せた後、バッキング層及びバッキング保護層をやはりス
ライドホッパーにて硬膜剤を加えながら塗布し、冷風セ
ット(5℃)した。各々のセットゾーンを通過した時点
では、塗布液は、充分なセット性を示した。引き続き乾
燥ゾーンにて両面を同時に下記乾燥条件にて乾燥した。
尚、バッキング両側を塗布した後は巻取りまではローラ
ー、その他には一切無接触の状態で搬送した。このとき
塗布速度は、120m/minであった。
【0127】(乾燥条件)セット後H2O/ゼラチンの重
量比が800%となるまで30℃の乾燥風で乾燥し、800〜20
0%を35℃(30%)の乾燥風で乾燥させ、そのまま風をあ
て、表面温度34℃となった時点(乾燥終了とみなす)よ
り30秒後に48℃2%の空気で1分乾燥した。このとき、
乾燥時間は乾燥開始〜H2O/Gel比800%までが50秒、800
%〜200%までが35秒、200%〜乾燥終了までが5秒であ
る。
量比が800%となるまで30℃の乾燥風で乾燥し、800〜20
0%を35℃(30%)の乾燥風で乾燥させ、そのまま風をあ
て、表面温度34℃となった時点(乾燥終了とみなす)よ
り30秒後に48℃2%の空気で1分乾燥した。このとき、
乾燥時間は乾燥開始〜H2O/Gel比800%までが50秒、800
%〜200%までが35秒、200%〜乾燥終了までが5秒であ
る。
【0128】この感材を23℃40%で巻取り、ついで同環
境下で断裁し、同環境下で3h調湿したバリアー袋に、
(40℃10%で8時間調湿した後23℃40%で2時間調湿し
てある)厚紙と共に密封した。
境下で断裁し、同環境下で3h調湿したバリアー袋に、
(40℃10%で8時間調湿した後23℃40%で2時間調湿し
てある)厚紙と共に密封した。
【0129】以上の様にして作製した感光材料において
塗布銀量は、3.5g/m2であった。
塗布銀量は、3.5g/m2であった。
【0130】上記のようにして作成した試料をスキャナ
ーSG-747(大日本スクリーン[株]製)でHe−Ne用
光源用スキャナーフィルムRSP−3(コニカ(株)
製)を用いて出力した網点画像を原稿として、プリンタ
ーp-627GM(大日本スクリーン[株]製)を用いて密着
露光した。
ーSG-747(大日本スクリーン[株]製)でHe−Ne用
光源用スキャナーフィルムRSP−3(コニカ(株)
製)を用いて出力した網点画像を原稿として、プリンタ
ーp-627GM(大日本スクリーン[株]製)を用いて密着
露光した。
【0131】得られた現像処理済みの試料をコニカデジ
タル濃度計PDA-65で測定し、濃度0.1と2.5との正接をも
ってガンマを表示した。6未満のガンマ値では使用不可
能であり、6以上10未満のガンマ値ではまだ不十分な硬
調性能である。ガンマ値10以上で超硬調な画像となり、
十分に実用可能となる。
タル濃度計PDA-65で測定し、濃度0.1と2.5との正接をも
ってガンマを表示した。6未満のガンマ値では使用不可
能であり、6以上10未満のガンマ値ではまだ不十分な硬
調性能である。ガンマ値10以上で超硬調な画像となり、
十分に実用可能となる。
【0132】又、未露光部の黒ポツも40倍のルーペを使
って評価した。全く黒ポツの発生していないものを最高
ランク「5」とし、発生する黒ポツの発生度に応じてラ
ンク「4」、「3」、「2」、「1」とそのランクを順
次下げて評価するものとする。ランク「1」及び「2」
では黒ポツも実用上好ましくないレベルである。
って評価した。全く黒ポツの発生していないものを最高
ランク「5」とし、発生する黒ポツの発生度に応じてラ
ンク「4」、「3」、「2」、「1」とそのランクを順
次下げて評価するものとする。ランク「1」及び「2」
では黒ポツも実用上好ましくないレベルである。
【0133】抜文字画質5とは第1図の如き原稿を用い
て50%の網点面積が返し用感光材料上に50%の網点面積
となる様な適正露光した時30μm巾の文字が再現される
画質を言い非常に良好な抜文字画質である。
て50%の網点面積が返し用感光材料上に50%の網点面積
となる様な適正露光した時30μm巾の文字が再現される
画質を言い非常に良好な抜文字画質である。
【0134】一方抜文字画質1とは同様な適正露光を与
えた時150μm巾以上の文字しか再現することのできない
画質を言い良くない抜文字品質であり、5と1の間に官
能評価で4〜2のランクを設けた。3以上が実用し得る
レベルである。
えた時150μm巾以上の文字しか再現することのできない
画質を言い良くない抜文字品質であり、5と1の間に官
能評価で4〜2のランクを設けた。3以上が実用し得る
レベルである。
【0135】・コニカ(株)社製迅速処理用自動現像機
GR-26SRにて処理 〈露光ラチチョード〉露光量を2倍にし、原稿(網点50
%)を上記と同じ条件で、露光,現像処理し、網点%を
(Xrite361Tで)測定した。52.5%以上で、実用上問題
となるレベルである。
GR-26SRにて処理 〈露光ラチチョード〉露光量を2倍にし、原稿(網点50
%)を上記と同じ条件で、露光,現像処理し、網点%を
(Xrite361Tで)測定した。52.5%以上で、実用上問題
となるレベルである。
【0136】 (現像液処方) 亜硫酸ナトリウム 55g/リットル 炭酸カリウム 40g/リットル ハイドロキノン 24g/リットル 4-メチル-4-ヒドロキシメチル-1-フェニル -3-ヒドラゾリドン(ジメゾンS) 0.9g/リットル 臭化カリウム 5g/リットル 5-メチル-ベンゾトリアゾール 0.13g/リットル 1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール 0.02g/リットル ほう酸 2.2g/リットル ジエチレングリコール 40g/リットル 水と水酸化カリウムを加えて表1に示すpHに調製する。
【0137】 (定着液処方) (組成A) チオ硫酸アンモニウム(72.5%W/V水溶液) 240ml 亜硫酸ナトリウム 17g 酢酸ナトリウム・3水塩 6.5g 硼酸 6.0g クエン酸ナトリウム・2水塩 2.0g (組成B) 純水(イオン交換水) 17ml 硫酸(50%W/Vの水溶液) 4.7g 硫酸アルミニウム(Al2O3換算含量が8.1%W/Vの水溶液) 26.5g 定着液の使用時に水500ml中に上記組成A、組成Bの順
に溶かし、1リットルに仕上げて用いた。この定着液の
pHは酢酸で4.8に調整した。
に溶かし、1リットルに仕上げて用いた。この定着液の
pHは酢酸で4.8に調整した。
【0138】(現像処理条件) (工程) (温度) (時間) 現像 35℃ 30秒 定着 33℃ 20秒 水洗 常温 20秒 乾燥 40℃ 40秒 結果を表1に示す。
【0139】
【表1】
【0140】
【化28】
【0141】表1の結果から本発明の試料は、低pH(pH
=10.5)での処理において抜き文字画質、ガンマ、黒ポ
ツ、忠実再現性が良好であることがわかる。
=10.5)での処理において抜き文字画質、ガンマ、黒ポ
ツ、忠実再現性が良好であることがわかる。
【0142】実施例2 紫外線吸収剤を乳剤保護層中に表2に示す様に添加した
こと、露光時の光源をBからAに変更したこと以外は、
実施例1と同様に行った。その結果を表2に示す。
こと、露光時の光源をBからAに変更したこと以外は、
実施例1と同様に行った。その結果を表2に示す。
【0143】
【表2】
【0144】表2より、本発明の試料は、低pH(pH=1
0.5)での処理において抜き文字画質、ガンマ、黒ポ
ツ、忠実再現性が良好であることがわかる。
0.5)での処理において抜き文字画質、ガンマ、黒ポ
ツ、忠実再現性が良好であることがわかる。
【0145】実施例3 露光時の光源をBからAに変更したこと、光源と試料と
の間に光源用フィルター(三菱レイヨン(株)製、アク
リライトAR)を挿入したこと以外は、実施例1と同様
に行った。その結果を表3に示す。
の間に光源用フィルター(三菱レイヨン(株)製、アク
リライトAR)を挿入したこと以外は、実施例1と同様
に行った。その結果を表3に示す。
【0146】
【表3】
【0147】表3より、本発明の試料は、低pH(pH=1
0.5)での処理において抜き文字画質、ガンマ、黒ポ
ツ、忠実再現性が良好であることがわかる。
0.5)での処理において抜き文字画質、ガンマ、黒ポ
ツ、忠実再現性が良好であることがわかる。
【0148】
【発明の効果】本発明によれば第1に、経時による感度
変動や軟調化や、未露光部分に発生する黒ポツの増加が
防止され、かつ、抜き文字特性に優れた硬調画像の形成
方法を提供することができる。
変動や軟調化や、未露光部分に発生する黒ポツの増加が
防止され、かつ、抜き文字特性に優れた硬調画像の形成
方法を提供することができる。
【0149】本発明によれば第2に、pH11未満の現像液
で処理しても経時による感度変動や軟調化や未露光部分
に発生する黒ポツの増加が防止されかつ、抜き文字特性
に優れた硬調画像の形成方法を提供することができる。
で処理しても経時による感度変動や軟調化や未露光部分
に発生する黒ポツの増加が防止されかつ、抜き文字特性
に優れた硬調画像の形成方法を提供することができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化
銀乳剤層を有し、該乳剤層または、その他の親水性コロ
イド層に下記一般式(1)で表されるヒドラジン誘導体
を含有する、実質的に明室下で取り扱えるハロゲン化銀
写真感光材料を、実質的に370nm以下の光を含まないで
感光層を画像露光を行うことを特徴とする画像形成方
法。 【化1】 〔式中、R1は脂肪族基又は芳香族基を表し、更にその
置換基の一部として-(CH2CH2O)n-、-(CH2CH(CH3)O)n-、
-(CH2CH(OH)CH2O)n-(ただし、nは1以上の整数)の部
分構造を含有するか、置換基の一部として4級アンモニ
ウムカチオンを含有する基である。又R1は、ハロゲン
化銀吸着基を含有してもよい。G1は-CO-基、-COCO-
基、-CS-基、-C(=NG2R2)-基、-SO-基、-SO2-基又は-P
(O)(G2R2)-基を表す。G2は単なる結合手、-O-基、-S-
基又は-N(R2)-基を表し、分子内に複数のR2が存在する
場合それらは同じであっても異なっていてもよい。
A1,A2の一方は水素原子であり、他方は水素原子又は
アシル基、アルキル基又はアリールスルホニル基を表
す。〕 - 【請求項2】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化
銀乳剤層を有し、該乳剤層または、その他の親水性コロ
イド層に上記一般式(1)で表されるヒドラジン誘導体
および紫外線吸収剤を含有することを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料。 - 【請求項3】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化
銀乳剤層を有し、該乳剤層または、その他の親水性コロ
イド層に上記一般式(1)で表されるヒドラジン誘導体
を含有する、実質的に明室下で取り扱えるハロゲン化銀
写真感光材料を、光源と該感光材料の間に、紫外線を吸
収する光学フィルターを挿入することにより画像露光を
行うことを特徴とする画像形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11840793A JPH06332121A (ja) | 1993-05-20 | 1993-05-20 | ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11840793A JPH06332121A (ja) | 1993-05-20 | 1993-05-20 | ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06332121A true JPH06332121A (ja) | 1994-12-02 |
Family
ID=14735886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11840793A Pending JPH06332121A (ja) | 1993-05-20 | 1993-05-20 | ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06332121A (ja) |
-
1993
- 1993-05-20 JP JP11840793A patent/JPH06332121A/ja active Pending
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