JPH06332162A - 湿し水不要平版印刷用原版 - Google Patents
湿し水不要平版印刷用原版Info
- Publication number
- JPH06332162A JPH06332162A JP11830093A JP11830093A JPH06332162A JP H06332162 A JPH06332162 A JP H06332162A JP 11830093 A JP11830093 A JP 11830093A JP 11830093 A JP11830093 A JP 11830093A JP H06332162 A JPH06332162 A JP H06332162A
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】本発明は、支持体上に感光層、シリコーンゴム
層をこの順に設けてなる湿し水不要平版印刷用原版にお
いて、該感光層が、フェノール性水酸基と非フェノール
性水酸基とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化合物
とキノンジアジド化合物との反応物を有していることを
特徴とする湿し水不要平版印刷用原版である。 【効果】本発明の湿し水不要平版印刷用原版は高感度で
ありかつ高耐刷力を有しており、印刷版の寿命が長いた
め、経済的に有利である。
層をこの順に設けてなる湿し水不要平版印刷用原版にお
いて、該感光層が、フェノール性水酸基と非フェノール
性水酸基とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化合物
とキノンジアジド化合物との反応物を有していることを
特徴とする湿し水不要平版印刷用原版である。 【効果】本発明の湿し水不要平版印刷用原版は高感度で
ありかつ高耐刷力を有しており、印刷版の寿命が長いた
め、経済的に有利である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は湿し水不要平版印刷用原
版に関するものであり、さらに詳しくは支持体上に感光
層、インキを反発するシリコーンゴム層とを、この順に
設けてなる湿し水不要平版印刷用原版に関するものであ
る。
版に関するものであり、さらに詳しくは支持体上に感光
層、インキを反発するシリコーンゴム層とを、この順に
設けてなる湿し水不要平版印刷用原版に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来より、シリコーンゴム層をインキ反
発層として使用し、湿し水を用いずに平版印刷を行うた
めの印刷版が種々提案されている。
発層として使用し、湿し水を用いずに平版印刷を行うた
めの印刷版が種々提案されている。
【0003】これらの中でも、支持体上にキノンジアジ
ド化合物とフェノールノボラック樹脂などの樹脂とを用
いた感光層の上にシリコーンゴム層を設けた湿し水不要
平版印刷用原版が特公昭61−54222、特公昭61
−58824、特公昭63−23546、特公平2−6
1730、特公平2−62857、特公平3−3620
8、特公平3−56365、特公平3−56624、特
公平3−65539、特公平4−1900、特公平4−
2942、特公平4−3864、特公平4−4426
2、特公平4−49702号公報などに開示されてい
る。
ド化合物とフェノールノボラック樹脂などの樹脂とを用
いた感光層の上にシリコーンゴム層を設けた湿し水不要
平版印刷用原版が特公昭61−54222、特公昭61
−58824、特公昭63−23546、特公平2−6
1730、特公平2−62857、特公平3−3620
8、特公平3−56365、特公平3−56624、特
公平3−65539、特公平4−1900、特公平4−
2942、特公平4−3864、特公平4−4426
2、特公平4−49702号公報などに開示されてい
る。
【0004】これらの湿し水不要平版印刷用原版の感光
層にはフェノールノボラック樹脂などの樹脂の水酸基に
キノンジアジド化合物を反応させたものが用いられてい
るが、これらの樹脂は硬くてもろいという欠点を有して
おり、特にオフセット印刷を行った場合、感光層の破壊
が起こり、シリコーンゴム層にまで亀裂が入り、高耐刷
力が得られない欠点を有していた。
層にはフェノールノボラック樹脂などの樹脂の水酸基に
キノンジアジド化合物を反応させたものが用いられてい
るが、これらの樹脂は硬くてもろいという欠点を有して
おり、特にオフセット印刷を行った場合、感光層の破壊
が起こり、シリコーンゴム層にまで亀裂が入り、高耐刷
力が得られない欠点を有していた。
【0005】この問題を解決するため、フェノールのよ
うな芳香環に直接水酸基がついた化合物の代わりに脂肪
族炭化水素に水酸基がついた化合物を用いる方法が考え
られるが、感度が劣るという欠点を有していた。さら
に、このような脂肪族炭化水素に水酸基がついた化合物
を用いた場合、膜の形態保持性が低く、薄膜にした場合
に微小のハジキが発生するという欠点も有していた。
うな芳香環に直接水酸基がついた化合物の代わりに脂肪
族炭化水素に水酸基がついた化合物を用いる方法が考え
られるが、感度が劣るという欠点を有していた。さら
に、このような脂肪族炭化水素に水酸基がついた化合物
を用いた場合、膜の形態保持性が低く、薄膜にした場合
に微小のハジキが発生するという欠点も有していた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の問題点の解決を図るもので、優れた耐刷力を有し、か
つ高感度を有する湿し水不要平版印刷用原版を提供する
ことにある。
の問題点の解決を図るもので、優れた耐刷力を有し、か
つ高感度を有する湿し水不要平版印刷用原版を提供する
ことにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
支持体上に感光層およびシリコーンゴム層をこの順に積
層してなる湿し水不要平版印刷用原版において、該感光
層が下記一般式(I)で示される構造と下記一般式(I
I)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物とキノンジアジド化合物との反応物を含有す
ることを特徴とする湿し水不要平版印刷用原版によって
達成される。
支持体上に感光層およびシリコーンゴム層をこの順に積
層してなる湿し水不要平版印刷用原版において、該感光
層が下記一般式(I)で示される構造と下記一般式(I
I)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物とキノンジアジド化合物との反応物を含有す
ることを特徴とする湿し水不要平版印刷用原版によって
達成される。
【0008】
【化3】
【化4】 (式中、R1は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。R2、R3、R4、R5は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。) 本発明で用いられる支持体としては、通常の湿し水不要
平版印刷用原版で用いられるもの、あるいは提案されて
いるものであればいずれでもよく、例えばアルミニウ
ム、銅、亜鉛、鋼などの金属板、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリスチレン、ポリプロピレンなどのプラスチ
ックフィルムあるいはシート、クロロプレンゴム、NB
Rのようなゴム弾性を有する支持体、もしくはコート紙
などが挙げられるがこれらに限定されない。これらの支
持体の表面に適当な加工を施し、上層との接着性を向上
させることは任意である。
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。R2、R3、R4、R5は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。) 本発明で用いられる支持体としては、通常の湿し水不要
平版印刷用原版で用いられるもの、あるいは提案されて
いるものであればいずれでもよく、例えばアルミニウ
ム、銅、亜鉛、鋼などの金属板、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリスチレン、ポリプロピレンなどのプラスチ
ックフィルムあるいはシート、クロロプレンゴム、NB
Rのようなゴム弾性を有する支持体、もしくはコート紙
などが挙げられるがこれらに限定されない。これらの支
持体の表面に適当な加工を施し、上層との接着性を向上
させることは任意である。
【0009】これらの支持体上にはハレーション防止そ
の他の目的でさらにプライマー層をコーティングして支
持体として用いることも可能である。プライマー層の構
成成分としては、例えばエポキシ樹脂、アクリル樹脂、
尿素樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
スチレン樹脂、アミド樹脂、メナミン樹脂、ベンゾグア
ナミン樹脂、フェノール樹脂、ミルクカゼイン、ゼラチ
ン、大豆タンパク質、アルブミンなどが挙げられるが、
これらに限定されない。これらの樹脂は単独、あるいは
二種以上混合して用いることができる。これらの樹脂に
多官能イソシアネートやシランカップリング剤などの架
橋剤を加えることにより、支持体あるいは感光層との接
着性を向上させることも可能である。また、検版性の向
上その他の目的で必要に応じて染料、顔料、光発色剤な
どの添加剤を加えることは任意である。また、公知の触
媒を添加することも任意である。
の他の目的でさらにプライマー層をコーティングして支
持体として用いることも可能である。プライマー層の構
成成分としては、例えばエポキシ樹脂、アクリル樹脂、
尿素樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
スチレン樹脂、アミド樹脂、メナミン樹脂、ベンゾグア
ナミン樹脂、フェノール樹脂、ミルクカゼイン、ゼラチ
ン、大豆タンパク質、アルブミンなどが挙げられるが、
これらに限定されない。これらの樹脂は単独、あるいは
二種以上混合して用いることができる。これらの樹脂に
多官能イソシアネートやシランカップリング剤などの架
橋剤を加えることにより、支持体あるいは感光層との接
着性を向上させることも可能である。また、検版性の向
上その他の目的で必要に応じて染料、顔料、光発色剤な
どの添加剤を加えることは任意である。また、公知の触
媒を添加することも任意である。
【0010】プライマー層中の各成分の配合割合につい
ては特に限定されないが、好ましくは上記の樹脂の一種
もしくは二種以上を100重量部、必要に応じて架橋剤
を0〜100重量部、染料あるいは顔料などの添加剤を
0〜100重量部、公知の触媒を0〜10重量部加え、
膜厚0.1〜100μm、より好ましくは0.5〜50
μmで設けることにより得られるものがよい。
ては特に限定されないが、好ましくは上記の樹脂の一種
もしくは二種以上を100重量部、必要に応じて架橋剤
を0〜100重量部、染料あるいは顔料などの添加剤を
0〜100重量部、公知の触媒を0〜10重量部加え、
膜厚0.1〜100μm、より好ましくは0.5〜50
μmで設けることにより得られるものがよい。
【0011】本発明において使用される感光層としては
光剥離性感光層が挙げられる。このような光剥離性感光
層は、下記一般式(I)で示される構造と下記一般式
(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つず
つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物をそ
のまま用いるか、多官能化合物で架橋せしめるか、ある
いはキノンジアジド化合物中の活性基を単官能化合物と
結合させるなどして変性し、現像液に難溶もしくは不溶
にすることにより得られる。架橋や変性を行わない場合
には、現像により露光部感光層およびその上のシリコー
ンゴム層が除去される。架橋あるいは変性を行った場合
には、現像により露光部感光層が除去されることなく、
その上のシリコーンゴム層のみが除去される。
光剥離性感光層が挙げられる。このような光剥離性感光
層は、下記一般式(I)で示される構造と下記一般式
(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つず
つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物をそ
のまま用いるか、多官能化合物で架橋せしめるか、ある
いはキノンジアジド化合物中の活性基を単官能化合物と
結合させるなどして変性し、現像液に難溶もしくは不溶
にすることにより得られる。架橋や変性を行わない場合
には、現像により露光部感光層およびその上のシリコー
ンゴム層が除去される。架橋あるいは変性を行った場合
には、現像により露光部感光層が除去されることなく、
その上のシリコーンゴム層のみが除去される。
【0012】
【化5】
【化6】 (式中、R1は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。R2、R3、R4、R5は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。) 一般式(I)中のR1の置換基の具体例としては、水素
原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、メ
ルカプト基、シアノ基、スルフォニル基、ニトロソ基、
炭素数1〜100の置換もしくは非置換のアルキル基、
アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイ
ル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数2〜100
の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニルオキ
シ基、炭素数4〜100の置換もしくは非置換のアリー
ル基、アリールオキシ基の群から選ばれる少なくとも一
種が挙げられるが、これらに限定されない。また、一般
式(II)中のR2、R3、R4、R5の具体例として
は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミ
ノ基、メルカプト基、シアノ基、スルフォニル基、ニト
ロソ基、炭素数1〜100の置換もしくは非置換のアル
キル基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、ア
ルカノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数2
〜100の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケ
ニルオキシ基、炭素数4〜100の置換もしくは非置換
のアリール基、アリールオキシ基の群から選ばれる少な
くとも一種であり、それぞれ同一でも異なっていてもよ
く、またこれらに限定されず、これ以外のものでもよ
い。
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。R2、R3、R4、R5は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。) 一般式(I)中のR1の置換基の具体例としては、水素
原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、メ
ルカプト基、シアノ基、スルフォニル基、ニトロソ基、
炭素数1〜100の置換もしくは非置換のアルキル基、
アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイ
ル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数2〜100
の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニルオキ
シ基、炭素数4〜100の置換もしくは非置換のアリー
ル基、アリールオキシ基の群から選ばれる少なくとも一
種が挙げられるが、これらに限定されない。また、一般
式(II)中のR2、R3、R4、R5の具体例として
は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミ
ノ基、メルカプト基、シアノ基、スルフォニル基、ニト
ロソ基、炭素数1〜100の置換もしくは非置換のアル
キル基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、ア
ルカノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数2
〜100の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケ
ニルオキシ基、炭素数4〜100の置換もしくは非置換
のアリール基、アリールオキシ基の群から選ばれる少な
くとも一種であり、それぞれ同一でも異なっていてもよ
く、またこれらに限定されず、これ以外のものでもよ
い。
【0013】一般式(I)で示される構造と下記一般式
(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つず
つ有する化合物としては、例えば次の〜のような化
合物が挙げられるが、これらに限定されない。
(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つず
つ有する化合物としては、例えば次の〜のような化
合物が挙げられるが、これらに限定されない。
【0014】下記一般式(III)で示されるよう
な、エポキシ化合物とフェノール安息香酸との反応によ
り得られる骨格を有する化合物。例えば、1,2−エポ
キシプロパンと2−ヒドロキシ安息香酸との反応物や
1,2−エポキシプロパンと3−ヒドロキシ安息香酸と
の反応物、1,2−エポキシプロパンと4−ヒドロキシ
安息香酸との反応物、1,2−エポキシブタンと2−ヒ
ドロキシ安息香酸との反応物、1,2−エポキシブタン
と3−ヒドロキシ安息香酸との反応物、1,2−エポキ
シブタンと4−ヒドロキシ安息香酸との反応物、2,3
−エポキシブタンと2−ヒドロキシ安息香酸との反応
物、2,3−エポキシブタンと3−ヒドロキシ安息香酸
との反応物、2,3−エポキシブタンと4−ヒドロキシ
安息香酸との反応物、1,2−エポキシヘキサンと2−
ヒドロキシ安息香酸との反応物、1,2−エポキシヘキ
サンと3−ヒドロキシ安息香酸との反応物、1,2−エ
ポキシヘキサンと4−ヒドロキシ安息香酸との反応物、
1,2,3,4−ジエポキシブタンと2−ヒドロキシ安
息香酸との反応物、1,2,3,4−ジエポキシブタン
と3−ヒドロキシ安息香酸との反応物、1,2,3,4
−ジエポキシブタンと4−ヒドロキシ安息香酸との反応
物、グリシジルアクリレートと2−ヒドロキシ安息香酸
との反応物およびその単独重合体や共重合体、グリシジ
ルアクリレートと3−ヒドロキシ安息香酸との反応物お
よびその単独重合体や共重合体、グリシジルアクリレー
トと4−ヒドロキシ安息香酸との反応物およびその単独
重合体や共重合体、グリシジルメタクリレートと2−ヒ
ドロキシ安息香酸との反応物およびその単独重合体や共
重合体、グリシジルメタクリレートと3−ヒドロキシ安
息香酸との反応物およびその単独重合体や共重合体、グ
リシジルメタアクリレートと4−ヒドロキシ安息香酸と
の反応物およびその単独重合体や共重合体などが挙げら
れるが、これらに限定されず、エポキシ基を有する化合
物とフェノール安息香酸との反応物であればどのような
ものでもよい。エポキシ基を有する化合物の分子量は特
に限定されないが、分子量60〜1000万のものが好
ましく、分子量80〜100万のものがより好ましい。
な、エポキシ化合物とフェノール安息香酸との反応によ
り得られる骨格を有する化合物。例えば、1,2−エポ
キシプロパンと2−ヒドロキシ安息香酸との反応物や
1,2−エポキシプロパンと3−ヒドロキシ安息香酸と
の反応物、1,2−エポキシプロパンと4−ヒドロキシ
安息香酸との反応物、1,2−エポキシブタンと2−ヒ
ドロキシ安息香酸との反応物、1,2−エポキシブタン
と3−ヒドロキシ安息香酸との反応物、1,2−エポキ
シブタンと4−ヒドロキシ安息香酸との反応物、2,3
−エポキシブタンと2−ヒドロキシ安息香酸との反応
物、2,3−エポキシブタンと3−ヒドロキシ安息香酸
との反応物、2,3−エポキシブタンと4−ヒドロキシ
安息香酸との反応物、1,2−エポキシヘキサンと2−
ヒドロキシ安息香酸との反応物、1,2−エポキシヘキ
サンと3−ヒドロキシ安息香酸との反応物、1,2−エ
ポキシヘキサンと4−ヒドロキシ安息香酸との反応物、
1,2,3,4−ジエポキシブタンと2−ヒドロキシ安
息香酸との反応物、1,2,3,4−ジエポキシブタン
と3−ヒドロキシ安息香酸との反応物、1,2,3,4
−ジエポキシブタンと4−ヒドロキシ安息香酸との反応
物、グリシジルアクリレートと2−ヒドロキシ安息香酸
との反応物およびその単独重合体や共重合体、グリシジ
ルアクリレートと3−ヒドロキシ安息香酸との反応物お
よびその単独重合体や共重合体、グリシジルアクリレー
トと4−ヒドロキシ安息香酸との反応物およびその単独
重合体や共重合体、グリシジルメタクリレートと2−ヒ
ドロキシ安息香酸との反応物およびその単独重合体や共
重合体、グリシジルメタクリレートと3−ヒドロキシ安
息香酸との反応物およびその単独重合体や共重合体、グ
リシジルメタアクリレートと4−ヒドロキシ安息香酸と
の反応物およびその単独重合体や共重合体などが挙げら
れるが、これらに限定されず、エポキシ基を有する化合
物とフェノール安息香酸との反応物であればどのような
ものでもよい。エポキシ基を有する化合物の分子量は特
に限定されないが、分子量60〜1000万のものが好
ましく、分子量80〜100万のものがより好ましい。
【0015】
【化7】 (式中のR2、R3、R4、R5は、一般式(II)の
R2、R3、R4、R5と同一である。) 下記一般式(IV)で示されるような、トリオールあ
るいはポリオールとヒドロキシベンズアルデヒドとの反
応により得られる骨格を有する化合物。例えば、1,
2,4−ブタントリオールと2−ヒドロキシベンズアル
デヒドとの反応物、1,2,4−ブタントリオールと3
−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応物、1,2,4
−ブタントリオールと4−ヒドロキシベンズアルデヒド
との反応物、グリセリンと2−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドとの反応物、グリセリンと3−ヒドロキシベンズア
ルデヒドとの反応物、グリセリンと4−ヒドロキシベン
ズアルデヒドとの反応物、トリメチロールプロパンと2
−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応物、トリメチロ
ールプロパンと3−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反
応物、トリメチロールプロパンと4−ヒドロキシベンズ
アルデヒドとの反応物、ポリビニルアルコールと2−ヒ
ドロキシベンズアルデヒドとの反応物、ポリビニルアル
コールと3−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応物、
ポリビニルアルコールと4−ヒドロキシベンズアルデヒ
ドとの反応物などが挙げられるが、これらに限定され
ず、トリオールあるいはポリオールとヒドロキシベンズ
アルデヒドとの反応物あればどのようなものでもよい。
トリオールあるいはポリオールの分子量は特に限定され
ないが、分子量90〜1000万のものが好ましく、分
子量90〜100万のものがより好ましい。
R2、R3、R4、R5と同一である。) 下記一般式(IV)で示されるような、トリオールあ
るいはポリオールとヒドロキシベンズアルデヒドとの反
応により得られる骨格を有する化合物。例えば、1,
2,4−ブタントリオールと2−ヒドロキシベンズアル
デヒドとの反応物、1,2,4−ブタントリオールと3
−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応物、1,2,4
−ブタントリオールと4−ヒドロキシベンズアルデヒド
との反応物、グリセリンと2−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドとの反応物、グリセリンと3−ヒドロキシベンズア
ルデヒドとの反応物、グリセリンと4−ヒドロキシベン
ズアルデヒドとの反応物、トリメチロールプロパンと2
−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応物、トリメチロ
ールプロパンと3−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反
応物、トリメチロールプロパンと4−ヒドロキシベンズ
アルデヒドとの反応物、ポリビニルアルコールと2−ヒ
ドロキシベンズアルデヒドとの反応物、ポリビニルアル
コールと3−ヒドロキシベンズアルデヒドとの反応物、
ポリビニルアルコールと4−ヒドロキシベンズアルデヒ
ドとの反応物などが挙げられるが、これらに限定され
ず、トリオールあるいはポリオールとヒドロキシベンズ
アルデヒドとの反応物あればどのようなものでもよい。
トリオールあるいはポリオールの分子量は特に限定され
ないが、分子量90〜1000万のものが好ましく、分
子量90〜100万のものがより好ましい。
【0016】
【化8】 (式中のR2、R3、R4、R5は、一般式(II)の
R2、R3、R4、R5と同一である。R6は、硫黄原
子、置換もしくは非置換の窒素原子、炭素数1〜100
の置換もしくは非置換のアルキル基、アルコキシ基、ア
ミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル
基、カルボキシル基、炭素数2〜100の置換もしくは
非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数4
〜100の置換もしくは非置換のアリール基、アリール
オキシ基などが挙げられるが、これらに限定されな
い。) 下記一般式(V)で示されるような骨格を有する化合
物。例えば、2−(2−ヒドロキシエチル)フェノー
ル、3−(2−ヒドロキシエチル)フェノール、4−
(2−ヒドロキシエチル)フェノール、2−(1−ヒド
ロキシエチル)フェノール、3−(1−ヒドロキシエチ
ル)フェノール、4−(1−ヒドロキシエチル)フェノ
ール、2−(3−ヒドロキシプロピル)フェノール、3
−(3−ヒドロキシプロピル)フェノール、4−(3−
ヒドロキシプロピル)フェノール、2−(2−ヒドロキ
シプロピル)フェノール、3−(2−ヒドロキシプロピ
ル)フェノール、4−(2−ヒドロキシプロピル)フェ
ノール、2−(6−ヒドロキシヘキシル)フェノール、
3−(6−ヒドロキシヘキシル)フェノール、4−(6
−ヒドロキシヘキシル)フェノールなどが挙げられる
が、これらに限定されない。このような化合物の分子量
は特に限定されないが、分子量120〜1000万のも
のが好ましく、分子量120〜100万のものがより好
ましい。
R2、R3、R4、R5と同一である。R6は、硫黄原
子、置換もしくは非置換の窒素原子、炭素数1〜100
の置換もしくは非置換のアルキル基、アルコキシ基、ア
ミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル
基、カルボキシル基、炭素数2〜100の置換もしくは
非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数4
〜100の置換もしくは非置換のアリール基、アリール
オキシ基などが挙げられるが、これらに限定されな
い。) 下記一般式(V)で示されるような骨格を有する化合
物。例えば、2−(2−ヒドロキシエチル)フェノー
ル、3−(2−ヒドロキシエチル)フェノール、4−
(2−ヒドロキシエチル)フェノール、2−(1−ヒド
ロキシエチル)フェノール、3−(1−ヒドロキシエチ
ル)フェノール、4−(1−ヒドロキシエチル)フェノ
ール、2−(3−ヒドロキシプロピル)フェノール、3
−(3−ヒドロキシプロピル)フェノール、4−(3−
ヒドロキシプロピル)フェノール、2−(2−ヒドロキ
シプロピル)フェノール、3−(2−ヒドロキシプロピ
ル)フェノール、4−(2−ヒドロキシプロピル)フェ
ノール、2−(6−ヒドロキシヘキシル)フェノール、
3−(6−ヒドロキシヘキシル)フェノール、4−(6
−ヒドロキシヘキシル)フェノールなどが挙げられる
が、これらに限定されない。このような化合物の分子量
は特に限定されないが、分子量120〜1000万のも
のが好ましく、分子量120〜100万のものがより好
ましい。
【0017】
【化9】 (式中のR2、R3、R4、R5は、一般式(II)の
R2、R3、R4、R5と同一である。R7は、硫黄原
子、置換あるいは非置換の窒素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子、炭素数1〜1000万の置換もしくは
非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド基、アシル
オキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カルボキシル
基、炭素数2〜1000万の置換もしくは非置換のアル
ケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数4〜1000万
の置換もしくは非置換のアリール基、アリールオキシ基
などが挙げられるが、これらに限定されない。) 下記一般式(VI)で示されるような骨格を有する化
合物。例えば、ヒドロキシエチルアクリレートとヒドロ
キシスチレンとの共重合体、ヒドロキシエチルメタクリ
レートとヒドロキシスチレンとの共重合体、酢酸ビニル
とヒドロキシスチレンとの共重合体を加水分解したも
の、ヒドロキシエチルアクリレートとヒドロキシエチル
メタクリレート、ヒドロキシスチレンとの共重合体など
が挙げられるがこれらに限定されない。このような化合
物の分子量は特に限定されないが、分子量300〜10
00万のものが好ましく、分子量1000〜100万の
ものがより好ましい。
R2、R3、R4、R5と同一である。R7は、硫黄原
子、置換あるいは非置換の窒素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子、炭素数1〜1000万の置換もしくは
非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド基、アシル
オキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カルボキシル
基、炭素数2〜1000万の置換もしくは非置換のアル
ケニル基、アルケニルオキシ基、炭素数4〜1000万
の置換もしくは非置換のアリール基、アリールオキシ基
などが挙げられるが、これらに限定されない。) 下記一般式(VI)で示されるような骨格を有する化
合物。例えば、ヒドロキシエチルアクリレートとヒドロ
キシスチレンとの共重合体、ヒドロキシエチルメタクリ
レートとヒドロキシスチレンとの共重合体、酢酸ビニル
とヒドロキシスチレンとの共重合体を加水分解したも
の、ヒドロキシエチルアクリレートとヒドロキシエチル
メタクリレート、ヒドロキシスチレンとの共重合体など
が挙げられるがこれらに限定されない。このような化合
物の分子量は特に限定されないが、分子量300〜10
00万のものが好ましく、分子量1000〜100万の
ものがより好ましい。
【0018】
【化10】 (式中のR2、R3、R4、R5は、一般式(II)の
R2、R3、R4、R5と同一である。R8およびR9
は高分子の主鎖を示しており、置換あるいは非置換の窒
素原子、置換あるいは非置換のケイ素原子、炭素数1〜
1000万の置換もしくは非置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、
ホルミル基、カルボキシル基、炭素数2〜1000万の
置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ
基、炭素数4〜1000万の置換もしくは非置換のアリ
ール基、アリールオキシ基などが挙げられるが、これら
に限定されない。)これらの〜のような化合物、あ
るいはそれ以外の一般式(I)で示される構造と下記一
般式(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一
つずつ有する化合物を単独、あるいは二種以上をキノン
ジアジド化合物と反応させることにより、目的とする反
応物を得ることができる。
R2、R3、R4、R5と同一である。R8およびR9
は高分子の主鎖を示しており、置換あるいは非置換の窒
素原子、置換あるいは非置換のケイ素原子、炭素数1〜
1000万の置換もしくは非置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、
ホルミル基、カルボキシル基、炭素数2〜1000万の
置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ
基、炭素数4〜1000万の置換もしくは非置換のアリ
ール基、アリールオキシ基などが挙げられるが、これら
に限定されない。)これらの〜のような化合物、あ
るいはそれ以外の一般式(I)で示される構造と下記一
般式(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一
つずつ有する化合物を単独、あるいは二種以上をキノン
ジアジド化合物と反応させることにより、目的とする反
応物を得ることができる。
【0019】キノンジアジド化合物としては、ベンゾキ
ノン−1,2−ジアジドスルホン酸およびその誘導体、
ナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸およびその
誘導体、あるいはジアゾジフェニルアミンおよびその誘
導体などが挙げられるがこれらに限定されない。これら
の中ではナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸お
よびその誘導体が特に有効である。キノンジアジド化合
物として、例えば、スルホン酸系の化合物を使用する
と、目的とする反応物はエステル化物の形となる。
ノン−1,2−ジアジドスルホン酸およびその誘導体、
ナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸およびその
誘導体、あるいはジアゾジフェニルアミンおよびその誘
導体などが挙げられるがこれらに限定されない。これら
の中ではナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸お
よびその誘導体が特に有効である。キノンジアジド化合
物として、例えば、スルホン酸系の化合物を使用する
と、目的とする反応物はエステル化物の形となる。
【0020】一般式(I)で示される構造と下記一般式
(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つず
つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応割合は
特に限定されないが、好ましくは一般式(I)で示され
る構造と下記一般式(II)で示される構造とをそれぞ
れ少なくとも一つずつ有する化合物100重量部に対し
てキノンジアジド化合物を0.01〜100万重量部、
より好ましくは一般式(I)で示される構造と下記一般
式(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つ
ずつ有する化合物100重量部に対してキノンジアジド
化合物を0.1〜10万重量部反応させることにより得
られるのがよい。
(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つず
つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応割合は
特に限定されないが、好ましくは一般式(I)で示され
る構造と下記一般式(II)で示される構造とをそれぞ
れ少なくとも一つずつ有する化合物100重量部に対し
てキノンジアジド化合物を0.01〜100万重量部、
より好ましくは一般式(I)で示される構造と下記一般
式(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つ
ずつ有する化合物100重量部に対してキノンジアジド
化合物を0.1〜10万重量部反応させることにより得
られるのがよい。
【0021】架橋剤を用いる場合の架橋剤としては、多
官能性イソシアネート類、例えば、パラフェニレンジイ
ソシアネート、2,4−または2,6−トリレンジイソ
シアネート、4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジ
イソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネ
ートもしくはこれらのアダクト体など、あるいは多官能
エポキシ化合物、例えば、ポリエチレングリコールジグ
リシジルエーテル類、ポリプロピレングリコールジグリ
シジルエーテル類、ビスフェノールAジグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル
などがあげられるが、これらに限定されない。これらの
熱硬化は感光性物質の感光性を失わせない範囲、通常1
30℃以下で行うことが好ましく、このため通常触媒な
どが併用される。
官能性イソシアネート類、例えば、パラフェニレンジイ
ソシアネート、2,4−または2,6−トリレンジイソ
シアネート、4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジ
イソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネ
ートもしくはこれらのアダクト体など、あるいは多官能
エポキシ化合物、例えば、ポリエチレングリコールジグ
リシジルエーテル類、ポリプロピレングリコールジグリ
シジルエーテル類、ビスフェノールAジグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル
などがあげられるが、これらに限定されない。これらの
熱硬化は感光性物質の感光性を失わせない範囲、通常1
30℃以下で行うことが好ましく、このため通常触媒な
どが併用される。
【0022】また一般式(I)で示される構造と下記一
般式(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一
つずつ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物
に単官能化合物を反応させて変性して現像液に難溶もし
くは不溶にする場合の方法としては、同様に該感光性化
合物の活発な基を例えばエステル化、アミド化、ウレタ
ン化することなどが挙げられる。感光性化合物の活発な
基と反応させる化合物としては、低分子であっても比較
的高分子であってもよいし、感光性化合物にモノマをグ
ラフト重合させてもよい。
般式(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一
つずつ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物
に単官能化合物を反応させて変性して現像液に難溶もし
くは不溶にする場合の方法としては、同様に該感光性化
合物の活発な基を例えばエステル化、アミド化、ウレタ
ン化することなどが挙げられる。感光性化合物の活発な
基と反応させる化合物としては、低分子であっても比較
的高分子であってもよいし、感光性化合物にモノマをグ
ラフト重合させてもよい。
【0023】さらに必要であれば、これらの化合物と混
合しうる有機高分子化合物を添加することも可能であ
る。このような有機高分子化合物としては、例えば次の
〜に示す重合体、共重合体を挙げることができる
が、これらに限定されない。
合しうる有機高分子化合物を添加することも可能であ
る。このような有機高分子化合物としては、例えば次の
〜に示す重合体、共重合体を挙げることができる
が、これらに限定されない。
【0024】アクリル酸エステル、メタクリル酸エス
テル、アクリロニトリルの重合体、例えばポリアクリル
酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、ポリメタクリル酸メ
チルなど、およびそれらの共重合体。
テル、アクリロニトリルの重合体、例えばポリアクリル
酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、ポリメタクリル酸メ
チルなど、およびそれらの共重合体。
【0025】未加流ゴム、例えばポリブタジエン、ポ
リイソブチレン、ポリクロロプレン、スチレンブタジエ
ンゴムなど。
リイソブチレン、ポリクロロプレン、スチレンブタジエ
ンゴムなど。
【0026】ビニル重合体、例えばポリ酢酸ビニル、
ポリビニルアルコール、ポリブチルブチラールなど、お
よびそれらの共重合体。
ポリビニルアルコール、ポリブチルブチラールなど、お
よびそれらの共重合体。
【0027】ポリエーテル、例えばポリエチレンオキ
シドなど。
シドなど。
【0028】ポリエステル、例えばフタル酸、イソフ
タル酸、マレイン酸、アジピン酸などとエチレングリコ
ール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオ
ール、ネオペンチルグリコールなどの反応物。
タル酸、マレイン酸、アジピン酸などとエチレングリコ
ール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオ
ール、ネオペンチルグリコールなどの反応物。
【0029】ポリウレタン、例えばトリレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネー
トなどと1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジ
オール、のポリエーテルポリオール、で得られるポ
リエステルポリオールなどとの反応生成物。
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネー
トなどと1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジ
オール、のポリエーテルポリオール、で得られるポ
リエステルポリオールなどとの反応生成物。
【0030】エポキシ樹脂 ポリアミド これらの有機高分子化合物を単独、あるいは二種以上用
いることにより、膜の形態保持性その他を向上させるこ
とが可能である。これらの有機高分子化合物の中では
、、、が特に好ましい。
いることにより、膜の形態保持性その他を向上させるこ
とが可能である。これらの有機高分子化合物の中では
、、、が特に好ましい。
【0031】更に、キノンジアジド化合物の光反応性向
上その他の目的で、公知の光開始剤あるいは光増感剤を
添加することも可能である。添加する光開始剤あるいは
光増感剤としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、α、α−ジメトキシ−α−
フェニルアセトフェノンなどのベンゾイン誘導体、ベン
ゾフェノン、フルオレノン、キサントン、チオキサント
ン、N−メチルアクリドン、N−ブチルアクリドン、
4,4´−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、
4,4´−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2
−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサン
トン、2,4−ジエチルチオキサントンなどが挙げられ
るが、これらに限定されない。これらの中ではベンゾフ
ェノン類が特に有効である。
上その他の目的で、公知の光開始剤あるいは光増感剤を
添加することも可能である。添加する光開始剤あるいは
光増感剤としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、α、α−ジメトキシ−α−
フェニルアセトフェノンなどのベンゾイン誘導体、ベン
ゾフェノン、フルオレノン、キサントン、チオキサント
ン、N−メチルアクリドン、N−ブチルアクリドン、
4,4´−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、
4,4´−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2
−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサン
トン、2,4−ジエチルチオキサントンなどが挙げられ
るが、これらに限定されない。これらの中ではベンゾフ
ェノン類が特に有効である。
【0032】上記の諸成分に加え、必要に応じて染料、
顔料、光発色剤などの添加剤や公知の触媒を加えること
は任意である。
顔料、光発色剤などの添加剤や公知の触媒を加えること
は任意である。
【0033】光剥離性感光層中の各成分の配合割合につ
いては特に限定されないが、好ましくは上記の一般式
(I)で示される構造と下記一般式(II)で示される
構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化合物とキ
ノンジアジド化合物との反応物を100重量部、架橋剤
あるいは感光性化合物の活発な基と反応させる化合物を
0〜10000重量部、有機高分子化合物を0〜100
00重量部、光開始剤あるいは光増感剤を0〜100重
量部、必要に応じて添加剤や公知の触媒などを各々0〜
100重量部加え、膜厚0.1〜100μm、好ましく
は0.5〜10μmで設けることによって得られるのが
よい。薄すぎると感光層中にハジキを生じやすくなり、
厚すぎると経済的に不利であるので上記の範囲が好まし
い。
いては特に限定されないが、好ましくは上記の一般式
(I)で示される構造と下記一般式(II)で示される
構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化合物とキ
ノンジアジド化合物との反応物を100重量部、架橋剤
あるいは感光性化合物の活発な基と反応させる化合物を
0〜10000重量部、有機高分子化合物を0〜100
00重量部、光開始剤あるいは光増感剤を0〜100重
量部、必要に応じて添加剤や公知の触媒などを各々0〜
100重量部加え、膜厚0.1〜100μm、好ましく
は0.5〜10μmで設けることによって得られるのが
よい。薄すぎると感光層中にハジキを生じやすくなり、
厚すぎると経済的に不利であるので上記の範囲が好まし
い。
【0034】本発明に用いられるシリコーンゴム層は、
次の〜に示されるシリコーンゴムが挙げられるが、
これらに限定されない。
次の〜に示されるシリコーンゴムが挙げられるが、
これらに限定されない。
【0035】下記一般式(VII)で示される分子量
100〜100万、好ましくは1000〜50万の有機
ポリシロキサンを架橋することにより得られるもの。
100〜100万、好ましくは1000〜50万の有機
ポリシロキサンを架橋することにより得られるもの。
【0036】
【化11】 (式中、nは2以上の整数、R10、R11は炭素数1
〜50の置換もしくは非置換のアルキル基、炭素数2〜
50の置換もしくは非置換のアルケニル基、炭素数5〜
50の置換もしくは非置換のアリール基の群から選ばれ
る少なくとも一種であり、それぞれ同一でも異なってい
てもよく、特にメチル基が60%以上のものが好まし
い。)このような有機ポリシロキサンは有機過酸化物を
添加して熱処理を施すことにより、さらに架橋したシリ
コーンゴムとすることもできる。
〜50の置換もしくは非置換のアルキル基、炭素数2〜
50の置換もしくは非置換のアルケニル基、炭素数5〜
50の置換もしくは非置換のアリール基の群から選ばれ
る少なくとも一種であり、それぞれ同一でも異なってい
てもよく、特にメチル基が60%以上のものが好まし
い。)このような有機ポリシロキサンは有機過酸化物を
添加して熱処理を施すことにより、さらに架橋したシリ
コーンゴムとすることもできる。
【0037】有機ポリシロキサンを架橋する一般的な方
法としては、ケイ素原子に直接結合した加水分解性官能
基含有ケイ素化合物により有機ポリシロキサンを架橋す
る方法が挙げられ、特に末端がシラノール構造を持つ有
機ポリシロキサンとケイ素原子に直接結合したアルコキ
シ基、アシルオキシ基、ケトオキシム基、アミド基、ア
ミノオキシ基、アミノ基、アルケニルオキシ基、水素な
どの官能基を二個以上有するケイ素化合物との反応によ
り硬化し、ゴムとすることが通常用いられる方法であ
る。また、ラジカル開始剤により、有機ポリシロキサン
を硬化させてゴムとすることも可能である。これらの硬
化において、公知の触媒を加えることは任意である。
法としては、ケイ素原子に直接結合した加水分解性官能
基含有ケイ素化合物により有機ポリシロキサンを架橋す
る方法が挙げられ、特に末端がシラノール構造を持つ有
機ポリシロキサンとケイ素原子に直接結合したアルコキ
シ基、アシルオキシ基、ケトオキシム基、アミド基、ア
ミノオキシ基、アミノ基、アルケニルオキシ基、水素な
どの官能基を二個以上有するケイ素化合物との反応によ
り硬化し、ゴムとすることが通常用いられる方法であ
る。また、ラジカル開始剤により、有機ポリシロキサン
を硬化させてゴムとすることも可能である。これらの硬
化において、公知の触媒を加えることは任意である。
【0038】下記一般式(VIII)で示される基を
有する有機ポリシロキサンと下記一般式(IX)で示さ
れる基を有するポリシロキサン化合物との付加反応によ
り架橋を行ったもの。
有する有機ポリシロキサンと下記一般式(IX)で示さ
れる基を有するポリシロキサン化合物との付加反応によ
り架橋を行ったもの。
【0039】
【化12】
【化13】 このようなシリコーンゴムは、多価ハイドロジェン有機
ポリシロキサンと、1分子中に2個以上のエチレン性不
飽和結合を有するポリシロキサン化合物との反応によっ
て得られる。ここで、一般式(VIII)の基は分子鎖
末端、中間のいずれにあってもよい。また、一般式(I
X)の基も分子鎖末端、中間のいずれにあってもよい。
一般式(VIII)の基および一般式(IX)の基以外
の有機基としては、炭素数1〜50の置換もしくは非置
換のアルキル基、炭素数2〜50の置換もしくは非置換
のアルケニル基、炭素数5〜50の置換もしくは非置換
のアリール基などが挙げられるが、特にメチル基が60
%以上のものが好ましい。一般式(VIII)で示され
る基を有する有機ポリシロキサンおよび一般式(IX)
で示される基を有するポリシロキサン化合物の分子量は
それぞれ独立して100〜100万のものが好ましく、
1000〜50万のものがより好ましい。この付加反応
において、公知の触媒を加えることは任意である。
ポリシロキサンと、1分子中に2個以上のエチレン性不
飽和結合を有するポリシロキサン化合物との反応によっ
て得られる。ここで、一般式(VIII)の基は分子鎖
末端、中間のいずれにあってもよい。また、一般式(I
X)の基も分子鎖末端、中間のいずれにあってもよい。
一般式(VIII)の基および一般式(IX)の基以外
の有機基としては、炭素数1〜50の置換もしくは非置
換のアルキル基、炭素数2〜50の置換もしくは非置換
のアルケニル基、炭素数5〜50の置換もしくは非置換
のアリール基などが挙げられるが、特にメチル基が60
%以上のものが好ましい。一般式(VIII)で示され
る基を有する有機ポリシロキサンおよび一般式(IX)
で示される基を有するポリシロキサン化合物の分子量は
それぞれ独立して100〜100万のものが好ましく、
1000〜50万のものがより好ましい。この付加反応
において、公知の触媒を加えることは任意である。
【0040】シリコーンゴム層中の各成分の配合割合に
ついては特に限定されないが、のシリコーンゴム層の
場合は一般式(VII)で示される有機ポリシロキサン
を100重量部、ケイ素原子に直接結合した加水分解性
官能基含有ケイ素化合物を0.1〜100重量部、必要
に応じて公知の触媒を0〜50重量部加えた組成で、膜
厚0.1〜100μm、好ましくは0.5〜30μmで
設けることによって得られるのがよい。また、のシリ
コーンゴム層の場合は一般式(VIII)で示される基
を有する有機ポリシロキサンを100重量部、一般式
(IX)で示される基を有するポリシロキサン化合物
0.1〜10万重量部、必要に応じて公知の触媒を0〜
100重量部加えた組成で膜厚0.1〜100μm、好
ましくは0.5〜30μmで設けることによって得られ
るのがよい。
ついては特に限定されないが、のシリコーンゴム層の
場合は一般式(VII)で示される有機ポリシロキサン
を100重量部、ケイ素原子に直接結合した加水分解性
官能基含有ケイ素化合物を0.1〜100重量部、必要
に応じて公知の触媒を0〜50重量部加えた組成で、膜
厚0.1〜100μm、好ましくは0.5〜30μmで
設けることによって得られるのがよい。また、のシリ
コーンゴム層の場合は一般式(VIII)で示される基
を有する有機ポリシロキサンを100重量部、一般式
(IX)で示される基を有するポリシロキサン化合物
0.1〜10万重量部、必要に応じて公知の触媒を0〜
100重量部加えた組成で膜厚0.1〜100μm、好
ましくは0.5〜30μmで設けることによって得られ
るのがよい。
【0041】本発明の湿し水不要平版印刷用原版におい
て、支持体と感光層、感光層とシリコーンゴム層との接
着は、画像再現性、耐刷力などの基本的な版性能にとっ
て非常に重要であるので、必要に応じて各層間の接着剤
層を設けたり、各層に接着性改良成分を添加したりする
ことが可能である。特に感光層とシリコーンゴム層間の
接着のために、層間に公知のシリコーンプライマやシラ
ンカップリンク剤を設けたり、シリコーンゴム層あるい
は感光層にシリコーンプライマやシランカップリング剤
を添加すると効果的である。このような接着剤層を設け
る場合、接着剤層の膜厚については特に限定されない
が、0.05〜100μm、好ましくは0.5〜30μ
mで設けることによって得られるのがよい。
て、支持体と感光層、感光層とシリコーンゴム層との接
着は、画像再現性、耐刷力などの基本的な版性能にとっ
て非常に重要であるので、必要に応じて各層間の接着剤
層を設けたり、各層に接着性改良成分を添加したりする
ことが可能である。特に感光層とシリコーンゴム層間の
接着のために、層間に公知のシリコーンプライマやシラ
ンカップリンク剤を設けたり、シリコーンゴム層あるい
は感光層にシリコーンプライマやシランカップリング剤
を添加すると効果的である。このような接着剤層を設け
る場合、接着剤層の膜厚については特に限定されない
が、0.05〜100μm、好ましくは0.5〜30μ
mで設けることによって得られるのがよい。
【0042】以上説明したようにして構成された湿し水
不要平版印刷用原版の表面を形成するシリコーンゴム層
を保護するなどの目的で、シリコーンゴム層の表面にプ
レーンまたは凹凸処理した保護フィルムをラミネートま
たはプラスチックシート状物を塗布または転写して保護
層とすることも可能である。このような保護フィルムあ
るいは保護層の膜厚については特に限定されないが、
0.05〜1000μm、好ましくは0.5〜100μ
mで設けることによって得られるのがよい。
不要平版印刷用原版の表面を形成するシリコーンゴム層
を保護するなどの目的で、シリコーンゴム層の表面にプ
レーンまたは凹凸処理した保護フィルムをラミネートま
たはプラスチックシート状物を塗布または転写して保護
層とすることも可能である。このような保護フィルムあ
るいは保護層の膜厚については特に限定されないが、
0.05〜1000μm、好ましくは0.5〜100μ
mで設けることによって得られるのがよい。
【0043】本発明で用いられる湿し水不要平版印刷用
原版は、例えば次のようにして製造されるが、これらに
限定されない。まず支持体上に、リバースロールコー
タ、エアナイフコータ、メーヤバーコータなどの通常の
コータ、あるいはホエラのような回転塗布装置、その他
の塗布装置を用い、必要な場合プライマー層を構成すべ
き組成物溶液を塗布、乾燥、必要に応じて熱キュア後、
この上に感光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥、
必要に応じて熱キュアし、その後必要ならば該感光層上
に接着剤層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥、必要
に応じて熱キュアし、この上にシリコーンゴム層を構成
すべき組成物溶液を塗布、乾燥、必要に応じて熱キュア
し、最後に必要ならば保護フィルムをラミネータなどを
用いてかける。
原版は、例えば次のようにして製造されるが、これらに
限定されない。まず支持体上に、リバースロールコー
タ、エアナイフコータ、メーヤバーコータなどの通常の
コータ、あるいはホエラのような回転塗布装置、その他
の塗布装置を用い、必要な場合プライマー層を構成すべ
き組成物溶液を塗布、乾燥、必要に応じて熱キュア後、
この上に感光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥、
必要に応じて熱キュアし、その後必要ならば該感光層上
に接着剤層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥、必要
に応じて熱キュアし、この上にシリコーンゴム層を構成
すべき組成物溶液を塗布、乾燥、必要に応じて熱キュア
し、最後に必要ならば保護フィルムをラミネータなどを
用いてかける。
【0044】このようにして製造された湿し水不要平版
印刷用原版は、例えば光透過性保護フィルムの場合はそ
のまま、あるいは剥いで、光透過性の劣るフィルムの場
合は剥いでから真空密着されたネガフィルムを通して活
性光線で露光される。この露光工程で用いられる光源
は、紫外線を豊富に発生するものであり、水銀灯、カー
ボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ、蛍光灯などを用いることがで
きるが、これらに限定されない。
印刷用原版は、例えば光透過性保護フィルムの場合はそ
のまま、あるいは剥いで、光透過性の劣るフィルムの場
合は剥いでから真空密着されたネガフィルムを通して活
性光線で露光される。この露光工程で用いられる光源
は、紫外線を豊富に発生するものであり、水銀灯、カー
ボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ、蛍光灯などを用いることがで
きるが、これらに限定されない。
【0045】次いで、保護フィルムがある時は剥いでか
ら版面を現像液を含んだ現像用パットでこすると露光部
のシリコーンゴム層が除去され、場合によってはその下
の感光層も除去され、インキ受容部となる。
ら版面を現像液を含んだ現像用パットでこすると露光部
のシリコーンゴム層が除去され、場合によってはその下
の感光層も除去され、インキ受容部となる。
【0046】本発明において用いられる現像液として
は、湿し水不要平版印刷用原版の現像液として提案され
ているものであればどのようなものでもよく、例えば、
水、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、アルコール
類、エーテル類、エステル類およびこれらの二種以上を
混合したものなどが挙げられるが、これらに限定されな
い。
は、湿し水不要平版印刷用原版の現像液として提案され
ているものであればどのようなものでもよく、例えば、
水、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、アルコール
類、エーテル類、エステル類およびこれらの二種以上を
混合したものなどが挙げられるが、これらに限定されな
い。
【0047】現像方法としては、手による現像でも公知
の現像装置による現像でもよいが、好ましくは前処理部
と現像部、および後処理部がこの順に設けられている現
像装置を用いるのがよい。
の現像装置による現像でもよいが、好ましくは前処理部
と現像部、および後処理部がこの順に設けられている現
像装置を用いるのがよい。
【0048】
【実施例】以下、実施例により具体的に説明するが、本
発明はこれらに限定されない。
発明はこれらに限定されない。
【0049】合成例1 グリシジルメタクリレート50gと4−ヒドロキシ安息
香酸55gとをジオキサン200gに溶解させた。次
に、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド2.5g
と4−メトキシフェノール1.5gとを加え、70℃で
4時間、攪拌しながら反応させた。反応後、水500g
とジエチルエーテル500gの入ったビーカー中に反応
溶液を注ぎ、このビーカーの中の溶液全体を分液ロート
中に移した。分液ロートにより水層と有機層を分離し、
有機層の溶媒を減圧乾燥により除去し、一般式(I)で
示される構造と一般式(II)で示される構造とをそれ
ぞれ一つずつ有する化合物を得た。
香酸55gとをジオキサン200gに溶解させた。次
に、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド2.5g
と4−メトキシフェノール1.5gとを加え、70℃で
4時間、攪拌しながら反応させた。反応後、水500g
とジエチルエーテル500gの入ったビーカー中に反応
溶液を注ぎ、このビーカーの中の溶液全体を分液ロート
中に移した。分液ロートにより水層と有機層を分離し、
有機層の溶媒を減圧乾燥により除去し、一般式(I)で
示される構造と一般式(II)で示される構造とをそれ
ぞれ一つずつ有する化合物を得た。
【0050】この化合物20gとo−ナフトキノンジア
ジド−5−スルホン酸クロリド10gとをジオキサン1
00gに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム10gを水
90gに溶解させ、この炭酸ナトリウム10重量%溶液
を前述のジオキサン溶液中に10分間かけて滴下した。
(この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、40℃に液温
を保っていた。)滴下終了後、40℃で4時間、攪拌し
ながら反応させた。反応後、水1000gの入ったビー
カー中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。
ビーカー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的と
する化合物を得た。
ジド−5−スルホン酸クロリド10gとをジオキサン1
00gに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム10gを水
90gに溶解させ、この炭酸ナトリウム10重量%溶液
を前述のジオキサン溶液中に10分間かけて滴下した。
(この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、40℃に液温
を保っていた。)滴下終了後、40℃で4時間、攪拌し
ながら反応させた。反応後、水1000gの入ったビー
カー中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。
ビーカー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的と
する化合物を得た。
【0051】合成例2 合成例1で得られた化合物30gをジオキサン200g
に溶解させ、アゾビスイソブチロニトリル0.1gを加
え、窒素雰囲気の下で65℃4時間重合反応を行った。
反応後、メタノール1000gの入ったビーカー中に反
応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビーカー中
の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化合物
を得た。
に溶解させ、アゾビスイソブチロニトリル0.1gを加
え、窒素雰囲気の下で65℃4時間重合反応を行った。
反応後、メタノール1000gの入ったビーカー中に反
応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビーカー中
の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化合物
を得た。
【0052】合成例3 グリセリン50gと4−ヒドロキシベンズアルデヒド5
0g、トルエン200g、4ートルエンスルホン酸1g
を混合し、攪拌しながら4時間加熱還流させた。反応後
室温に戻すと、生成物と溶媒が分離した。溶媒を除去
し、減圧乾燥を行い、一般式(I)で示される構造と一
般式(II)で示される構造とをそれぞれ一つずつ有す
る化合物を得た。
0g、トルエン200g、4ートルエンスルホン酸1g
を混合し、攪拌しながら4時間加熱還流させた。反応後
室温に戻すと、生成物と溶媒が分離した。溶媒を除去
し、減圧乾燥を行い、一般式(I)で示される構造と一
般式(II)で示される構造とをそれぞれ一つずつ有す
る化合物を得た。
【0053】この化合物を用い、合成例1と同様の方法
でo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸クロリド
との反応を行い、目的とする化合物を得た。
でo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸クロリド
との反応を行い、目的とする化合物を得た。
【0054】実施例1 厚さ0.3mmのアルミ板に下記のプライマー組成物を
塗布し、200℃、2分間加熱処理して、乾燥後の膜厚
5μmのプライマー層を形成した。
塗布し、200℃、2分間加熱処理して、乾燥後の膜厚
5μmのプライマー層を形成した。
【0055】 (a)ポリウレタン樹脂“サンプレン”LQ−T1331(三洋化成工業(株) 製) 100重量部 (b)ブロックイソシアネート“タケテート”B830(武田薬品(株)製) 20重量部 (c)エポキシ・フェノール樹脂“カンコート”90T−25−3094(関西 ペイント(株)製) 10重量部 (d)ジメチルホルムアミド 570重量部 この上に、下記の感光液を塗布し、110℃、1分間加
熱処理し、乾燥後の膜厚2μmの感光層を形成した。
熱処理し、乾燥後の膜厚2μmの感光層を形成した。
【0056】 (a)合成例1で合成した化合物 100重量部 (b)4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート 40重量部 (c)ポリウレタン樹脂“サンプレン”LQ−T1331(三洋化成工業(株) 製) 10重量部 (d)ジブチルスズジラウレート 0.2重量部 (e)4,4´−ジメチルアミノベンゾフェノン 9重量部 (f)ギ酸 0.8重量部 (g)テトラヒドロフラン 740重量部 この感光層の上に、下記のシリコーンゴム組成物を塗布
し、90℃、2分間で加熱処理し、乾燥後の膜厚3μm
のシリコーンゴム層を形成した。
し、90℃、2分間で加熱処理し、乾燥後の膜厚3μm
のシリコーンゴム層を形成した。
【0057】 (a)両末端シラノール基のポリジメチルシロキサン(平均分子量35000) 100重量部 (b)エチルトリアセトキシシラン 9.9重量部 (c)ジブチルスズジラウレート 0.1重量部 (d)脂肪族系炭化水素溶媒“アイソパー”E(エクソン化学(株)製) 590重量部 このようにして設けたシリコーンゴム層の表面に、厚さ
10μmのポリプロピレンフィルム“トレファン”(東
レ(株)製)をカレンダーローラでラミネートし、湿し
水不要平版印刷用原版とした。
10μmのポリプロピレンフィルム“トレファン”(東
レ(株)製)をカレンダーローラでラミネートし、湿し
水不要平版印刷用原版とした。
【0058】この印刷用原版にメタルハライドランプ
(岩崎電気(株)製“アイドルフィン”2000)を用
い、UVメーター(オーク製作所製“ライトメジャータ
イプUV−402A”)で11mW/cm2 の照度で6
秒間全面露光を施した。
(岩崎電気(株)製“アイドルフィン”2000)を用
い、UVメーター(オーク製作所製“ライトメジャータ
イプUV−402A”)で11mW/cm2 の照度で6
秒間全面露光を施した。
【0059】上記のようにして得られた印刷用原版に1
50線/インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、1mの距離
から60秒間露光した。
50線/インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、1mの距離
から60秒間露光した。
【0060】露光後、保護フィルム“トレファン”を剥
離し、室温32℃、湿度80%の条件で下記の組成を有
する前処理液を版面に塗布し、1分間処理した。
離し、室温32℃、湿度80%の条件で下記の組成を有
する前処理液を版面に塗布し、1分間処理した。
【0061】 (a)脂肪族系炭化水素溶媒“アイソパー”H(エクソン化学(株)製) 87重量部 (b)ジエチレングリコールジメチルエーテル 7重量部 (c)エチルセロソルブ 3重量部 (d)N−メチルジエタノールアミン 3重量部 ゴムスキージで版面に付着した処理液を除去し、次いで
版面と現像パットに以下の組成を有する現像液を注い
だ。
版面と現像パットに以下の組成を有する現像液を注い
だ。
【0062】 (a)水 70重量部 (b)ブチルカルビトール 28重量部 (c)2−エチル酪酸 1.8重量部 (d)クリスタルバイオレット 0.2重量部 現像パットで版面を軽くこすると、画像露光された部分
のシリコーンゴム層が除去され、感光層表面が露出し
た。一方、全面露光のみがなされた非画線部分はシリコ
ーンゴム層が強固に残存しており、ネガフィルムを忠実
に再現した画像が得られた。
のシリコーンゴム層が除去され、感光層表面が露出し
た。一方、全面露光のみがなされた非画線部分はシリコ
ーンゴム層が強固に残存しており、ネガフィルムを忠実
に再現した画像が得られた。
【0063】この印刷版を商業オフ輪印刷機(“LIT
HOPIA”三菱重工(株)製)に取り付け、大日本イ
ンキ化学工業(株)製“ドライオカラー”墨、藍、紅、
黄インキを用いて、600r.p.mのスピードで上質
紙に印刷を行い、耐刷テストを行った結果、20000
0部印刷後も良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版
を検査したが、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印
刷を行うことが可能な状態であった。
HOPIA”三菱重工(株)製)に取り付け、大日本イ
ンキ化学工業(株)製“ドライオカラー”墨、藍、紅、
黄インキを用いて、600r.p.mのスピードで上質
紙に印刷を行い、耐刷テストを行った結果、20000
0部印刷後も良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版
を検査したが、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印
刷を行うことが可能な状態であった。
【0064】比較例1 実施例1の湿し水不要平版印刷用原版において、感光層
を以下の組成液で設けた以外は全て実施例1と同様の方
法で印刷用原版を作製、露光、現像を行い、印刷版を得
た。
を以下の組成液で設けた以外は全て実施例1と同様の方
法で印刷用原版を作製、露光、現像を行い、印刷版を得
た。
【0065】 (a)o−ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸とフェノールホル ムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュレズ製“スミライトレジン”PR 50622)の部分エステル(元素分析法によるエステル化度25%) 100重量部 (b)4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート 40重量部 (c)ポリウレタン樹脂“サンプレン”LQ−T1331(三洋化成工業(株) 製) 10重量部 (d)ジブチルスズジラウレート 0.2重量部 (e)4,4´−ジメチルアミノベンゾフェノン 9重量部 (f)ギ酸 0.8重量部 (g)テトラヒドロフラン 740重量部 この印刷版を用い、実施例1と同様に商業オフ輪印刷機
(“LITHOPIA”三菱重工(株)製)に取り付
け、大日本インキ化学工業(株)製“ドライオカラー”
墨、藍、紅、黄インキを用いて、600r.p.mのス
ピードで上質紙に印刷を行い、耐刷テストを行った結
果、50000部印刷後は印刷物に汚れが発生し、印刷
版を検査したところ印刷版の損傷が激しく、引き続き印
刷を行うことは不可能な状態であった。
(“LITHOPIA”三菱重工(株)製)に取り付
け、大日本インキ化学工業(株)製“ドライオカラー”
墨、藍、紅、黄インキを用いて、600r.p.mのス
ピードで上質紙に印刷を行い、耐刷テストを行った結
果、50000部印刷後は印刷物に汚れが発生し、印刷
版を検査したところ印刷版の損傷が激しく、引き続き印
刷を行うことは不可能な状態であった。
【0066】実施例2 厚さ0.3mmのアルミ板に下記のプライマー組成物を
塗布し、200℃、2分間加熱処理して、乾燥後の膜厚
5μmのプライマー層を形成した。
塗布し、200℃、2分間加熱処理して、乾燥後の膜厚
5μmのプライマー層を形成した。
【0067】 (a)ポリウレタン樹脂“パンテックス”T−5201(大日本インキ化学工業 (株)製) 100重量部 (b)ブロックイソシアネート“コロネート”2503(日本ポリウレタン工業 (株)製) 20重量部 (c)エポキシ・フェノール・尿素樹脂SJ9372(関西ペイント(株)製) 10重量部 (d)ジメチルホルムアミド 570重量部 この上に、下記の感光液を塗布し、110℃、1分間加
熱処理し、乾燥後の膜厚2μmの感光層を形成した。
熱処理し、乾燥後の膜厚2μmの感光層を形成した。
【0068】 (a)合成例2で合成した化合物 100重量部 (b)2,4−トルエンジイソシアネート 40重量部 (c)ポリウレタン樹脂“パンテックス”T−5201(大日本インキ化学工業 (株)製) 10重量部 (d)ジブチルスズジアセテート 0.2重量部 (e)4,4´−ジエチルアミノベンゾフェノン 9重量部 (f)酢酸 0.8重量部 (g)テトラヒドロフラン 740重量部 この感光層の上に、下記のシリコーンゴム組成物を塗布
し、90℃、2分間で加熱処理し、乾燥後の膜厚3μm
のシリコーンゴム層を形成した。
し、90℃、2分間で加熱処理し、乾燥後の膜厚3μm
のシリコーンゴム層を形成した。
【0069】 (a)両末端シラノール基のポリジメチルシロキサン(平均分子量35000) 100重量部 (b)ビニルトリオキシムシラン 9.9重量部 (c)ジブチルスズジオクテート 0.1重量部 (d)脂肪族系炭化水素溶媒“アイソパー”G(エクソン化学(株)製) 590重量部 このようにして設けたシリコーンゴム層の表面に、厚さ
8μmのポリエステルフィルム“ルミラー”(東レ
(株)製)をカレンダーローラでラミネートし、湿し水
不要平版印刷用原版とした。
8μmのポリエステルフィルム“ルミラー”(東レ
(株)製)をカレンダーローラでラミネートし、湿し水
不要平版印刷用原版とした。
【0070】この印刷用原版にメタルハライドランプ
(岩崎電気(株)製“アイドルフィン”2000)を用
い、UVメーター(オーク製作所製“ライトメジャータ
イプUV−402A”)で11mW/cm2 の照度で6
秒間全面露光を施した。
(岩崎電気(株)製“アイドルフィン”2000)を用
い、UVメーター(オーク製作所製“ライトメジャータ
イプUV−402A”)で11mW/cm2 の照度で6
秒間全面露光を施した。
【0071】上記のようにして得られた印刷用原版に1
50線/インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、1mの距離
から60秒間露光した。
50線/インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、1mの距離
から60秒間露光した。
【0072】露光後、保護フィルム“ルミラー”を剥離
し、室温32℃、湿度80%の条件で、TWL−116
0(東レ(株)製湿し水不要平版印刷用原版の現像装
置)を用いて現像を行った。ここで、前処理液として
は、以下の組成を有する液を用いた。
し、室温32℃、湿度80%の条件で、TWL−116
0(東レ(株)製湿し水不要平版印刷用原版の現像装
置)を用いて現像を行った。ここで、前処理液として
は、以下の組成を有する液を用いた。
【0073】 (a)ジエチレングリコール 80重量部 (b)ジグリコールアミン 14重量部 (c)水 6重量部 また、現像液としては水を用いた。染色液としては、以
下の組成を有する液を用いた。
下の組成を有する液を用いた。
【0074】 (a)エチルカルビトール 18重量部 (b)水 79.9重量部 (c)クリスタルバイオレット 0.1重量部 (d)2−エチルヘキサン酸 2重量部 現像装置を出てきた印刷版を観察したところ、画像露光
された部分のシリコーンゴム層が除去され、感光層表面
が露出していた。一方、全面露光のみがなされた非画線
部分はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガフ
ィルムを忠実に再現した画像が得られた。
された部分のシリコーンゴム層が除去され、感光層表面
が露出していた。一方、全面露光のみがなされた非画線
部分はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガフ
ィルムを忠実に再現した画像が得られた。
【0075】この印刷版を商業オフ輪印刷機(“LIT
HOPIA”三菱重工(株)製)に取り付け、大日本イ
ンキ化学工業(株)製“ドライオカラー”墨、藍、紅、
黄インキを用いて、600r.p.mのスピードで上質
紙に印刷を行い、耐刷テストを行った結果、19000
0部印刷後も良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版
を検査したが、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印
刷を行うことが可能な状態であった。
HOPIA”三菱重工(株)製)に取り付け、大日本イ
ンキ化学工業(株)製“ドライオカラー”墨、藍、紅、
黄インキを用いて、600r.p.mのスピードで上質
紙に印刷を行い、耐刷テストを行った結果、19000
0部印刷後も良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版
を検査したが、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印
刷を行うことが可能な状態であった。
【0076】実施例3 実施例1において、合成例1で合成した化合物を合成例
3で合成した化合物に変更する以外は全て実施例1と同
様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例1と同様の耐
刷テストを行った。その結果、190000部印刷後も
良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版を検査した
が、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印刷を行うこ
とが可能な状態であった。
3で合成した化合物に変更する以外は全て実施例1と同
様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例1と同様の耐
刷テストを行った。その結果、190000部印刷後も
良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版を検査した
が、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印刷を行うこ
とが可能な状態であった。
【0077】実施例4 実施例2において、合成例2で合成した化合物を合成例
3で合成した化合物に変更する以外は全て実施例1と同
様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例1と同様の耐
刷テストを行った。その結果、200000部印刷後も
良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版を検査した
が、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印刷を行うこ
とが可能な状態であった。
3で合成した化合物に変更する以外は全て実施例1と同
様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例1と同様の耐
刷テストを行った。その結果、200000部印刷後も
良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版を検査した
が、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印刷を行うこ
とが可能な状態であった。
【0078】
【発明の効果】本発明は上記のごとく構成したので、高
感度でありかつオフセット印刷を行った場合においても
耐刷性に優れた湿し水不要平版印刷用原版を得ることが
できる。そのため、印刷版は寿命が長く、経済的にも有
利である。
感度でありかつオフセット印刷を行った場合においても
耐刷性に優れた湿し水不要平版印刷用原版を得ることが
できる。そのため、印刷版は寿命が長く、経済的にも有
利である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年7月19日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0013
【補正方法】変更
【補正内容】
【0013】一般式(I)で示される構造と一般式(I
I)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物としては、例えば次の〜のような化合物
が挙げられるが、これらに限定されない。
I)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物としては、例えば次の〜のような化合物
が挙げられるが、これらに限定されない。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0018
【補正方法】変更
【補正内容】
【0018】
【化10】 (式中のR2、R3、R4、R5は、一般式(II)の
R2、R3、R4、R5と同一である。R8およびR9
は高分子の主鎖を示しており、置換あるいは非置換の窒
素原子、置換あるいは非置換のケイ素原子、炭素数1〜
1000万の置換もしくは非置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、
ホルミル基、カルボキシル基、炭素数2〜1000万の
置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ
基、炭素数4〜1000万の置換もしくは非置換のアリ
ール基、アリールオキシ基などが挙げられるが、これら
に限定されない。)これらの〜のような化合物、あ
るいはそれ以外の一般式(I)で示される構造と一般式
(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つず
つ有する化合物を単独、あるいは二種以上をキノンジア
ジド化合物と反応させることにより、目的とする反応物
を得ることができる。
R2、R3、R4、R5と同一である。R8およびR9
は高分子の主鎖を示しており、置換あるいは非置換の窒
素原子、置換あるいは非置換のケイ素原子、炭素数1〜
1000万の置換もしくは非置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカノイル基、
ホルミル基、カルボキシル基、炭素数2〜1000万の
置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニルオキシ
基、炭素数4〜1000万の置換もしくは非置換のアリ
ール基、アリールオキシ基などが挙げられるが、これら
に限定されない。)これらの〜のような化合物、あ
るいはそれ以外の一般式(I)で示される構造と一般式
(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つず
つ有する化合物を単独、あるいは二種以上をキノンジア
ジド化合物と反応させることにより、目的とする反応物
を得ることができる。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0019
【補正方法】変更
【補正内容】
【0019】キノンジアジド化合物としては、1,2−
ベンゾキノン−2−ジアジドスルホン酸およびその誘導
体、1,2−ナフトキノン−2−ジアジドスルホン酸お
よびその誘導体、あるいはジアゾジフェニルアミンおよ
びその誘導体などが挙げられるがこれらに限定されな
い。これらの中では1,2−ナフトキノン−2−ジアジ
ドスルホン酸およびその誘導体が特に有効である。キノ
ンジアジド化合物として、例えば、スルホン酸系の化合
物を使用すると、目的とする反応物はエステル化物の形
となる。
ベンゾキノン−2−ジアジドスルホン酸およびその誘導
体、1,2−ナフトキノン−2−ジアジドスルホン酸お
よびその誘導体、あるいはジアゾジフェニルアミンおよ
びその誘導体などが挙げられるがこれらに限定されな
い。これらの中では1,2−ナフトキノン−2−ジアジ
ドスルホン酸およびその誘導体が特に有効である。キノ
ンジアジド化合物として、例えば、スルホン酸系の化合
物を使用すると、目的とする反応物はエステル化物の形
となる。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0020
【補正方法】変更
【補正内容】
【0020】一般式(I)で示される構造と一般式(I
I)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物とキノンジアジド化合物との反応割合は特に
限定されないが、好ましくは一般式(I)で示される構
造と一般式(II)で示される構造とをそれぞれ少なく
とも一つずつ有する化合物100重量部に対してキノン
ジアジド化合物を0.01〜100万重量部、より好ま
しくは一般式(I)で示される構造と一般式(II)で
示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化
合物100重量部に対してキノンジアジド化合物を0.
1〜10万重量部反応させることにより得られるのがよ
い。
I)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有
する化合物とキノンジアジド化合物との反応割合は特に
限定されないが、好ましくは一般式(I)で示される構
造と一般式(II)で示される構造とをそれぞれ少なく
とも一つずつ有する化合物100重量部に対してキノン
ジアジド化合物を0.01〜100万重量部、より好ま
しくは一般式(I)で示される構造と一般式(II)で
示される構造とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化
合物100重量部に対してキノンジアジド化合物を0.
1〜10万重量部反応させることにより得られるのがよ
い。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0022
【補正方法】変更
【補正内容】
【0022】また一般式(I)で示される構造と一般式
(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つず
つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物に単
官能化合物を反応させて変性して現像液に難溶もしくは
不溶にする場合の方法としては、同様に該感光性化合物
の活発な基を例えばエステル化、アミド化、ウレタン化
することなどが挙げられる。感光性化合物の活発な基と
反応させる化合物としては、低分子であっても比較的高
分子であってもよいし、感光性化合物にモノマをグラフ
ト重合させてもよい。
(II)で示される構造とをそれぞれ少なくとも一つず
つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物に単
官能化合物を反応させて変性して現像液に難溶もしくは
不溶にする場合の方法としては、同様に該感光性化合物
の活発な基を例えばエステル化、アミド化、ウレタン化
することなどが挙げられる。感光性化合物の活発な基と
反応させる化合物としては、低分子であっても比較的高
分子であってもよいし、感光性化合物にモノマをグラフ
ト重合させてもよい。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0033
【補正方法】変更
【補正内容】
【0033】光剥離性感光層中の各成分の配合割合につ
いては特に限定されないが、好ましくは上記の一般式
(I)で示される構造と一般式(II)で示される構造
とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化合物とキノン
ジアジド化合物との反応物を100重量部、架橋剤ある
いは感光性化合物の活発な基と反応させる化合物を0〜
10000重量部、有機高分子化合物を0〜10000
重量部、光開始剤あるいは光増感剤を0〜100重量
部、必要に応じて添加剤や公知の触媒などを各々0〜1
00重量部加え、膜厚0.1〜100μm、好ましくは
0.5〜10μmで設けることによって得られるのがよ
い。薄すぎると感光層中にハジキを生じやすくなり、厚
すぎると経済的に不利であるので上記の範囲が好まし
い。
いては特に限定されないが、好ましくは上記の一般式
(I)で示される構造と一般式(II)で示される構造
とをそれぞれ少なくとも一つずつ有する化合物とキノン
ジアジド化合物との反応物を100重量部、架橋剤ある
いは感光性化合物の活発な基と反応させる化合物を0〜
10000重量部、有機高分子化合物を0〜10000
重量部、光開始剤あるいは光増感剤を0〜100重量
部、必要に応じて添加剤や公知の触媒などを各々0〜1
00重量部加え、膜厚0.1〜100μm、好ましくは
0.5〜10μmで設けることによって得られるのがよ
い。薄すぎると感光層中にハジキを生じやすくなり、厚
すぎると経済的に不利であるので上記の範囲が好まし
い。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0050
【補正方法】変更
【補正内容】
【0050】この化合物20gと1,2−ナフトキノン
−2−ジアジド−5−スルホン酸クロリド10gとをジ
オキサン100gに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム
10gを水90gに溶解させ、この炭酸ナトリウム10
重量%溶液を前述のジオキサン溶液中に10分間かけて
滴下した。(この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、4
0℃に液温を保っていた。)滴下終了後、40℃で4時
間、攪拌しながら反応させた。反応後、水1000gの
入ったビーカー中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈
降させた。ビーカー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行
い、目的とする化合物を得た。
−2−ジアジド−5−スルホン酸クロリド10gとをジ
オキサン100gに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム
10gを水90gに溶解させ、この炭酸ナトリウム10
重量%溶液を前述のジオキサン溶液中に10分間かけて
滴下した。(この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、4
0℃に液温を保っていた。)滴下終了後、40℃で4時
間、攪拌しながら反応させた。反応後、水1000gの
入ったビーカー中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈
降させた。ビーカー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行
い、目的とする化合物を得た。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0053
【補正方法】変更
【補正内容】
【0053】この化合物を用い、合成例1と同様の方法
で1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン
酸クロリドとの反応を行い、目的とする化合物を得た。
で1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン
酸クロリドとの反応を行い、目的とする化合物を得た。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0065
【補正方法】変更
【補正内容】
【0065】 (a)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸とフェノールホル ムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュレズ製“スミライトレジン”PR 50622)の部分エステル(元素分析法によるエステル化度25%) 100重量部 (b)4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート 40重量部 (c)ポリウレタン樹脂“サンプレン”LQ−T1331(三洋化成工業(株) 製) 10重量部 (d)ジブチルスズジラウレート 0.2重量部 (e)4,4´−ジメチルアミノベンゾフェノン 9重量部 (f)ギ酸 0.8重量部 (g)テトラヒドロフラン 740重量部 この印刷版を用い、実施例1と同様に商業オフ輪印刷機
(“LITHOPIA”三菱重工(株)製)に取り付
け、大日本インキ化学工業(株)製“ドライオカラー”
墨、藍、紅、黄インキを用いて、600r.p.mのス
ピードで上質紙に印刷を行い、耐刷テストを行った結
果、50000部印刷後は印刷物に汚れが発生し、印刷
版を検査したところ印刷版の損傷が激しく、引き続き印
刷を行うことは不可能な状態であった。
(“LITHOPIA”三菱重工(株)製)に取り付
け、大日本インキ化学工業(株)製“ドライオカラー”
墨、藍、紅、黄インキを用いて、600r.p.mのス
ピードで上質紙に印刷を行い、耐刷テストを行った結
果、50000部印刷後は印刷物に汚れが発生し、印刷
版を検査したところ印刷版の損傷が激しく、引き続き印
刷を行うことは不可能な状態であった。
Claims (1)
- 【請求項1】支持体上に感光層およびシリコーンゴム層
をこの順に積層してなる湿し水不要平版印刷用原版にお
いて、該感光層が下記一般式(I)で示される構造と下
記一般式(II)で示される構造とをそれぞれ少なくと
も一つずつ有する化合物とキノンジアジド化合物との反
応物を含有することを特徴とする湿し水不要平版印刷用
原版。 【化1】 【化2】 (式中、R1は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。R2、R3、R4、R5は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11830093A JPH06332162A (ja) | 1993-05-20 | 1993-05-20 | 湿し水不要平版印刷用原版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11830093A JPH06332162A (ja) | 1993-05-20 | 1993-05-20 | 湿し水不要平版印刷用原版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06332162A true JPH06332162A (ja) | 1994-12-02 |
Family
ID=14733268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11830093A Pending JPH06332162A (ja) | 1993-05-20 | 1993-05-20 | 湿し水不要平版印刷用原版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06332162A (ja) |
-
1993
- 1993-05-20 JP JP11830093A patent/JPH06332162A/ja active Pending
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