JPH07120912A - 水なし平版印刷版原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】本発明は、支持体上に感光層、シリコーンゴム
層をこの順に設けてなる水なし平版印刷版において、該
感光層が、フェノール性水酸基を少なくとも一つ有する
化合物とキノンジアジド化合物との反応物、および非フ
ェノール性水酸基を少なくとも一つ有する化合物とキノ
ンジアジド化合物との反応物の両方を少なくとも一つず
つ含有しており、かつキノンジアジド化合物を含有して
いることを特徴とする水なし平版印刷版である。 【効果】本発明の水なし平版印刷版は高感度でありかつ
高耐刷力を有しており、印刷版の寿命が長いため、経済
的に有利である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は水なし平版印刷版に関す
るものであり、さらに詳しくは支持体上に感光層、イン
キを反発するシリコーンゴム層とを、この順に設けてな
る水なし平版印刷版に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、シリコーンゴム層をインキ反
発層として使用し、湿し水を用いずに平版印刷を行うた
めの印刷版が種々提案されている。

【０００３】これらの中でも、支持体上にキノンジアジ
ド化合物とフェノールノボラック樹脂などの樹脂とを用
いた感光層の上にシリコーンゴム層を設けた水なし平版
印刷版原版が特公昭６１−５４２２２、特公昭６１−５
８８２４、特公昭６３−２３５４６、特公平２−６１７
３０、特公平２−６２８５７、特公平３−３６２０８、
特公平３−５６３６５、特公平３−５６６２４、特公平
３−６５５３９、特公平４−１９００、特公平４−２９
４２、特公平４−３８６４、特公平４−４４２６２、特
公平４−４９７０２号公報などに開示されている。

【０００４】これらの水なし平版印刷版原版の感光層に
はフェノールノボラック樹脂などの樹脂の水酸基にキノ
ンジアジド化合物を反応させたものが用いられている
が、これらの樹脂は硬くてもろいという欠点を有してお
り、特にオフセット印刷を行った場合、感光層の破壊が
起こり、シリコーンゴム層にまで亀裂が入り、高耐刷力
が得られない欠点を有していた。

【０００５】この問題を解決するため、フェノールのよ
うな芳香環に直接水酸基がついた化合物の代わりに脂肪
族炭化水素に水酸基がついた化合物を用いる方法が考え
られるが、感度が劣るという欠点を有していた。さら
に、このような脂肪族炭化水素に水酸基がついた化合物
を用いた場合、膜の形態保持性が低く、薄膜にした場合
に微小のハジキが発生するという欠点も有していた。

【０００６】また、これらの水なし平版印刷版原版は光
に対する感度が低く、十分な画像再現性が得られないと
いう欠点も有していた。

【０００７】この問題を解決するため、光増感剤などを
添加する方法が考えられるが、ネガフィルムやポジフィ
ルムに忠実なが画像を再現するにはまだ不十分であっ
た。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の問題点の解決を図るもので、優れた耐刷力を有し、か
つ高感度を有する水なし平版印刷版原版を提供すること
にある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】かかる発明の目的は、支
持体上に感光層およびシリコーンゴム層をこの順に積層
してなる水なし平版印刷版原版において、該感光層が、
（Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一
つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物と、
（Ｂ）下記一般式（ＩＩ）で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物の
両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含有しており、かつ
下記一般式（ＩＩＩ）、下記一般式（ＩＶ）および下記
一般式（Ｖ）で示される化合物の少なくとも一つを含有
していることを特徴とする水なし平版印刷版原版により
達成される。

【００１０】

【化６】

【化７】

【化８】

【化９】

【化１０】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。Ｒ６は水酸基、アルカリ
金属オキシド基、ハロゲン原子、アミノ基、メルカプト
基、炭素数１〜１００の置換もしくは非置換のアルキル
基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカ
ノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１
００の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニル
オキシ基、炭素数４〜１００の置換もしくは非置換のア
リール基、アリールオキシ基の群から選ばれる少なくと
も一種である。） すなわち、一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一
つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物と一
般式（ＩＩ）で示される構造を少なくとも一つ有する化
合物とキノンジアジド化合物との反応物の両方をそれぞ
れ少なくとも一つずつ含有することにより感光層を柔軟
化し、その結果耐刷力を向上させることができる。ま
た、一般式（ＩＩＩ）〜一般式（Ｖ）で示される化合物
の少なくとも一つを含有することにより、光に対する感
度が良好となり、優れた画像再現性を有する水なし平版
印刷版となり得る。

【００１１】本発明で用いられる支持体としては、通常
の水なし平版印刷版で用いられるもの、あるいは提案さ
れているものであればいずれでもよく、例えばアルミニ
ウム、銅、亜鉛、鋼などの金属板、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリスチレン、ポリプロピレンなどのプラス
チックフィルムあるいはシート、クロロプレンゴム、Ｎ
ＢＲのようなゴム弾性を有する支持体、もしくはコート
紙などが挙げられるがこれらに限定されない。これらの
支持体の表面に適当な加工を施し、上層との接着性を向
上させることは任意である。

【００１２】これらの支持体上にはハレーション防止そ
の他の目的でさらにプライマ層をコーティングして支持
体として用いることも可能である。プライマ層の構成成
分としては、例えばエポキシ樹脂、アクリル樹脂、尿素
樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチ
レン樹脂、アミド樹脂、メナミン樹脂、ベンゾグアナミ
ン樹脂、フェノール樹脂、ミルクカゼイン、ゼラチン、
大豆タンパク質、アルブミンなどが挙げられるが、これ
らに限定されない。これらの樹脂は単独、あるいは二種
以上混合して用いることができる。これらの樹脂に多官
能イソシアネート化合物やシランカップリング剤などの
架橋剤を加えることにより、支持体あるいは感光層との
接着性を向上させることも可能である。また、検版性の
向上その他の目的で必要に応じて染料、顔料、光発色剤
などの添加剤を加えることは任意である。また、公知の
触媒を添加することも任意である。

【００１３】プライマ層中の各成分の配合割合について
は特に限定されないが、好ましくは上記の樹脂の一種も
しくは二種以上を１００重量部、必要に応じて架橋剤を
０〜１００重量部、染料あるいは顔料などの添加剤を０
〜１００重量部、公知の触媒を０〜１０重量部加え、膜
厚０．１〜１００μｍ、より好ましくは０．５〜５０μ
ｍで設けることにより得られるものがよい。

【００１４】本発明において使用される感光層としては
光剥離性感光層が挙げられる。このような光剥離性感光
層は、一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも一つ有
する化合物とキノンジアジド化合物との反応物と一般式
（ＩＩ）で示される構造を少なくとも一つ有する化合物
とキノンジアジド化合物との反応物の両方をそれぞれ少
なくとも一つずつ含有しており、かつ下記一般式（ＩＩ
Ｉ）、下記一般式（ＩＶ）および下記一般式（Ｖ）で示
される化合物の少なくとも一つを含有している。

【００１５】

【化１１】

【化１２】

【化１３】

【化１４】

【化１５】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。Ｒ６は水酸基、アルカリ
金属オキシド基、ハロゲン原子、アミノ基、メルカプト
基、炭素数１〜１００の置換もしくは非置換のアルキル
基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカ
ノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１
００の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニル
オキシ基、炭素数４〜１００の置換もしくは非置換のア
リール基、アリールオキシ基の群から選ばれる少なくと
も一種である。） このような感光層においては、架橋や変性を行わない場
合には、現像により露光部感光層およびその上のシリコ
ーンゴム層が除去される。架橋あるいは変性を行った場
合には、現像により露光部感光層が除去されることな
く、その上のシリコーンゴム層のみが除去される。

【００１６】一般式（Ｉ）中のＲ１の置換基の具体例と
しては、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、
アミノ基、メルカプト基、シアノ基、スルフォニル基、
ニトロソ基、炭素数１〜１００の置換もしくは非置換の
アルキル基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ
基、アルカノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭
素数２〜１００の置換もしくは非置換のアルケニル基、
アルケニルオキシ基、炭素数４〜１００の置換もしくは
非置換のアリール基、アリールオキシ基の群から選ばれ
る少なくとも一種が挙げられるが、これらに限定されな
い。また、一般式（ＩＩ）中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５
の具体例としては、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、
ニトロ基、アミノ基、メルカプト基、シアノ基、スルフ
ォニル基、ニトロソ基、炭素数１〜１００の置換もしく
は非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド基、アシ
ルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カルボキシ
ル基、炭素数２〜１００の置換もしくは非置換のアルケ
ニル基、アルケニルオキシ基、炭素数４〜１００の置換
もしくは非置換のアリール基、アリールオキシ基の群か
ら選ばれる少なくとも一種であり、それぞれ同一でも異
なっていてもよく、またこれらに限定されず、これ以外
のものでもよい。

【００１７】一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物としては例えば次のような化合物が挙
げられるが、これらに限定されない。

【００１８】炭素数１〜１０００万の置換もしくは非置
換の脂肪族アルコール、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、ヘプタ
ノール、オクタノール、デカノール、シクロヘキサノー
ル、アリルアルコール、クロチルアルコール、３−ブテ
ン−１−オル、３−ブテン−２−オル、１−ヘキセン−
１３−オル、２−ヘキセン−１−オル、３−ヘキセン−
１−オル、４−ヘキセン−１−オル、５−ヘキセン−１
−オル、１−オクテン３−オル、ベンジルアルコール、
ナフタレンメタノール、ナフタレンエタノール、３−ヒ
ドロキシテトラヒドロフラン、エタノールアミン、２−
メルカプトエタノール、１−メルカプト−２−プロパノ
ール、３−メルカプト−２−ブタノール、ヒドロキシエ
チルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレートな
どの一価の飽和あるいは不飽和アルコール、エチレング
リコール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオ
ール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオ
ール、１，８−オクタンジオール、１，１０−デカンジ
オール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、２−ブテン−１，４−
ジオール、５−ヘキセン−１，２−ジオール、７−オク
テン−１，２−ジオール、３−メルカプト−１，２−プ
ロパンジオールなどの二価の飽和あるいは不飽和アルコ
ール、グリセリン、トリメチロールプロパン、１，２，
４−ブタントリオール、ペンタエリスリトール、ポリビ
ニルアルコール、ポリヒドロキシエチルアクリレート、
ポリヒドロキシエチルメタクリレートなどの多価の飽和
あるいは不飽和アルコールなど。これらの化合物あるい
はそれ以外の一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物を単独、あるいは二種以上キノンジア
ジド化合物と反応させることにより、目的とする反応物
を得ることができる。

【００１９】また、一般式（ＩＩ）で示される構造を少
なくとも一つ有する化合物としては例えば次のような化
合物が挙げられるが、これらに限定されない。

【００２０】芳香環に直接水酸基が結合している化合
物、例えばフェノール、ナフトール、アントラノール、
２，６−ジヒドロキシアントラキノン、アントラロビ
ン、フェノールノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレ
ンなど。

【００２１】これらの化合物あるいはそれ以外の一般式
（ＩＩ）で示される構造を少なくとも一つ有する化合物
を単独、あるいは二種以上キノンジアジド化合物と反応
させることにより、目的とする反応物を得ることができ
る。

【００２２】キノンジアジド化合物としては、ベンゾキ
ノン−１，２−ジアジドスルホン酸およびその誘導体、
ナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸およびその
誘導体、あるいはジアゾジフェニルアミンおよびその誘
導体などが挙げられるがこれらに限定されない。これら
の中ではナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸お
よびその誘導体が特に有効である。キノンジアジド化合
物として、例えばスルホン酸系の化合物を使用すると、
目的とする反応物はエステル化物となる。

【００２３】一般式（Ｉ）で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応割
合、および一般式（ＩＩ）で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応割合
は特に限定されないが、好ましくは一般式（Ｉ）で示さ
れる構造あるいは一般式（ＩＩ）で示される構造を少な
くとも一つ有する化合物１００重量部に対してキノンジ
アジド化合物を０．０１〜１００万重量部、より好まし
くは一般式（Ｉ）で示される構造あるいは一般式（Ｉ
Ｉ）で示される構造を少なくとも一つ有する化合物１０
０重量部に対してキノンジアジド化合物を０．１〜１０
万重量部反応させることにより得られるのがよい。

【００２４】一般式（ＩＩＩ）で示される化合物の具体
例としては、ベンゾキノン−１，２−ジアジドスルホン
酸、ベンゾキノン−１，２−ジアジドスルホン酸ナトリ
ウム、ベンゾキノン−１，２−ジアジドスルホン酸カリ
ウム、ベンゾキノン−１，２−ジアジドスルホン酸クロ
リド、ベンゾキノン−１，２−ジアジドスルホン酸ブロ
ミド、ベンゾキノン−１，２−ジアジドスルホン酸メチ
ルエステル、ベンゾキノン−１，２−ジアジドスルホン
酸エチルエステルなどが挙げられるが、これらに限定さ
れない。これらの中ではベンゾキノン−１，２−ジアジ
ドスルホン酸ナトリウムおよびベンゾキノン−１，２−
ジアジドスルホン酸クロリドが好ましい。

【００２５】一般式（ＩＶ）で示される化合物の具体例
としては、ｏ−ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−
スルホン酸、ｏ−ナフトキノン−１，２−ジアジド−５
−スルホン酸ナトリウム、ｏ−ナフトキノン−１，２−
ジアジド−５−スルホン酸カリウム、ｏ−ナフトキノン
−１，２−ジアジド−５−スルホン酸クロリド、ｏ−ナ
フトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸ブロミ
ド、ｏ−ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホ
ン酸メチルエステル、ｏ−ナフトキノン−１，２−ジア
ジド−５−スルホン酸エチルエステルなどが挙げられる
が、これらに限定されない。これらの中ではｏ−ナフト
キノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸ナトリウム
およびｏ−ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スル
ホン酸クロリドが好ましい。

【００２６】一般式（Ｖ）で示される化合物の具体例と
しては、ｏ−ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−ス
ルホン酸、ｏ−ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−
スルホン酸ナトリウム、ｏ−ナフトキノン−１，２−ジ
アジド−４−スルホン酸カリウム、ｏ−ナフトキノン−
１，２−ジアジド−４−スルホン酸クロリド、ｏ−ナフ
トキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸ブロミ
ド、ｏ−ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホ
ン酸メチルエステル、ｏ−ナフトキノン−１，２−ジア
ジド−４−スルホン酸エチルエステルなどが挙げられる
が、これらに限定されない。これらの中ではｏ−ナフト
キノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸ナトリウム
およびｏ−ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スル
ホン酸クロリドが好ましい。

【００２７】感光層に架橋剤を用いる場合の架橋剤とし
ては、多官能性イソシアネート類、例えば、パラフェニ
レンジイソシアネート、２，４−または２，６−トリレ
ンジイソシアネート、４，４´−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイ
ソシアネートもしくはこれらのアダクト体など、あるい
は多官能エポキシ化合物、例えば、ポリエチレングリコ
ールジグリシジルエ−テル類、ポリプロピレングリコー
ルジグリシジルエ−テル類、ビスフェノールＡジグリシ
ジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジル
エーテルなどがあげられるが、これらに限定されない。
これらの熱硬化は感光性物質の感光性を失わせない範
囲、通常１３０℃以下で行うことが好ましく、このため
通常触媒などが併用される。

【００２８】また一般式（Ｉ）で示される構造あるいは
一般式（ＩＩ）で示される構造を少なくとも一つ有する
化合物とキノンジアジド化合物との反応物に単官能化合
物を反応させて変性して現像液に難溶もしくは不溶にす
る場合の方法としては、同様に該感光性化合物の活発な
基を例えばエステル化、アミド化、ウレタン化すること
などが挙げられる。感光性化合物の活発な基と反応させ
る化合物としては、低分子であっても比較的高分子であ
ってもよいし、感光性化合物にモノマをグラフト重合さ
せてもよい。

【００２９】さらに必要であれば、これらの化合物と混
合しえる有機高分子化合物を添加することも可能であ
る。このような有機高分子化合物としては、例えば次の
〜に示す重合体、共重合体を挙げることができる
が、これらに限定されない。

【００３０】アクリル酸エステル、メタクリル酸エス
テル、アクリロニトリルの重合体、例えばポリアクリル
酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、ポリメタクリル酸メ
チルなど、およびそれらの共重合体。

【００３１】未加流ゴム、例えばポリブタジエン、ポ
リイソブチレン、ポリクロロプレン、スチレンブタジエ
ンゴムなど。

【００３２】ビニル重合体、例えばポリ酢酸ビニル、
ポリビニルアルコール、ポリブチルブチラールなど、お
よびそれらの共重合体。

【００３３】ポリエーテル、例えばポリエチレンオキ
シドなど。

【００３４】ポリエステル、例えばフタル酸、イソフ
タル酸、マレイン酸、アジピン酸などとエチレングリコ
ール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオ
ール、ネオペンチルグリコールなどの反応物。

【００３５】ポリウレタン、例えばトリレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネー
トなどと１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジ
オール、のポリエーテルポリオール、で得られるポ
リエステルポリオールなどとの反応生成物。

【００３６】エポキシ樹脂 ポリアミド これらの有機高分子化合物を単独、あるいは二種以上用
いることにより、膜の形態保持性その他を向上させるこ
とが可能である。これらの有機高分子化合物の中では
、、、が特に好ましい。

【００３７】更に、キノンジアジド化合物の光反応性向
上その他の目的で、公知の光開始剤あるいは光増感剤を
添加することも可能である。添加する光開始剤あるいは
光増感剤としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、α、α−ジメトキシ−α−
フェニルアセトフェノンなどのベンゾイン誘導体、ベン
ゾフェノン、フルオレノン、キサントン、チオキサント
ン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、
４，４´−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、
４，４´−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２
−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサン
トン、２，４−ジエチルチオキサントンなどが挙げられ
るが、これらに限定されない。これらの中ではベンゾフ
ェノン類が特に有効である。

【００３８】上記の諸成分に加え、必要に応じて染料、
顔料、光発色剤などの添加剤や公知の触媒を感光層に加
えることは任意である。

【００３９】光剥離性感光層中の各成分の配合割合につ
いては特に限定されないが、好ましくは上記の一般式
（Ｉ）で示される構造を少なくとも一つ有する化合物と
キノンジアジド化合物との反応物を１００重量部、下記
一般式（ＩＩ）で示される構造とを少なくとも一つ有す
る化合物とキノンジアジド化合物との反応物を０．００
１〜１０万重量部、一般式（ＩＩＩ）〜一般式（Ｖ）で
示される化合物を１〜１００００重量部、架橋剤あるい
は感光性化合物の活発な基と反応させる化合物を０〜１
０００万重量部、有機高分子化合物を０〜１０００万重
量部、光開始剤あるいは光増感剤を０〜１万重量部、必
要に応じて添加剤や公知の触媒などを各々０〜１万重量
部加え、膜厚０．１〜１００μｍ、好ましくは０．５〜
１０μｍで設けることによって得られるのがよい。薄す
ぎると感光層中にハジキを生じやすくなり、厚すぎると
経済的に不利であるので上記の範囲が好ましい。

【００４０】本発明に用いられるシリコーンゴム層は、
次の〜に示されるシリコーンゴムが挙げられるが、
これらに限定されない。

【００４１】下記一般式（ＶＩ）で示される分子量１
００〜１００万、好ましくは１０００〜５０万の有機ポ
リシロキサンを架橋することにより得られるもの。

【００４２】

【化１６】 （式中、ｎは２以上の整数、Ｒ７、Ｒ８は炭素数１〜５
０の置換もしくは非置換のアルキル基、炭素数２〜５０
の置換もしくは非置換のアルケニル基、炭素数５〜５０
の置換もしくは非置換のアリール基の群から選ばれるす
くなくとも一種であり、それぞれ同一でも異なっていて
もよく、特にメチル基が６０％以上のものが好まし
い。） このような有機ポリシロキサンは有機過酸化物を添加し
て熱処理を施すことにより、さらに架橋したシリコーン
ゴムとすることもできる。

【００４３】有機ポリシロキサンを架橋する一般的な方
法としては、ケイ素原子に直接結合した加水分解性官能
基含有ケイ素化合物により有機ポリシロキサンを架橋す
る方法が挙げられ、特に末端がシラノール構造を持つ有
機ポリシロキサンとケイ素原子に直接結合したアルコキ
シ基、アシルオキシ基、ケトオキシム基、アミド基、ア
ミノオキシ基、アミノ基、アルケニルオキシ基、水素な
どの官能基を二個以上有するケイ素化合物との反応によ
り硬化し、ゴムとすることが通常用いられる方法であ
る。また、ラジカル開始剤により、有機ポリシロキサン
を硬化させてゴムとすることも可能である。これらの硬
化において、公知の触媒を加えることは任意である。

【００４４】下記一般式（ＶＩＩ）で示される基を有
する有機ポリシロキサンと下記一般式（ＶＩＩＩ）で示
される基を有するポリシロキサン化合物との付加反応に
より架橋を行ったもの。

【００４５】

【化１７】

【化１８】 （式中、Ｒ９、Ｒ１０は炭素数１〜５０の置換もしくは
非置換のアルキル基、炭素数２〜５０の置換もしくは非
置換のアルケニル基、炭素数５〜５０の置換もしくは非
置換のアリール基の群から選ばれるすくなくとも一種で
あり、それぞれ同一でも異なっていてもよい。） このようなシリコーンゴムは、多価ハイドロジェン有機
ポリシロキサンと、１分子中に２個以上のエチレン性不
飽和結合を有するポリシロキサン化合物との反応によっ
て得られる。ここで、一般式（ＶＩＩ）の基は分子鎖末
端、中間のいずれにあってもよい。また、一般式（ＶＩ
ＩＩ）の基も分子鎖末端、中間のいずれにあってもよ
い。一般式（ＶＩＩ）の基および一般式（ＶＩＩＩ）の
基以外の有機基としては、炭素数１〜５０の置換もしく
は非置換のアルキル基、炭素数２〜５０の置換もしくは
非置換のアルケニル基、炭素数５〜５０の置換もしくは
非置換のアリール基などが挙げられるが、特にメチル基
が６０％以上のものが好ましい。一般式（ＶＩＩ）で示
される基を有する有機ポリシロキサンおよび一般式（Ｖ
ＩＩＩ）で示される基を有するポリシロキサン化合物の
分子量はそれぞれ独立して１００〜１００万のものが好
ましく、１０００〜５０万のものがより好ましい。この
付加反応において、公知の触媒を加えることは任意であ
る。

【００４６】シリコーンゴム層中の各成分の配合割合に
ついては特に限定されないが、のシリコーンゴム層の
場合は一般式（ＶＩ）で示される有機ポリシロキサンを
１００重量部、ケイ素原子に直接結合した加水分解性官
能基含有ケイ素化合物を０．１〜１００重量部、必要に
応じて公知の触媒を０〜５０重量部加えた組成で、膜厚
０．１〜１００μｍ、好ましくは０．５〜３０μｍで設
けることによって得られるのがよい。また、のシリコ
ーンゴム層の場合は一般式（ＶＩ）で示される基を有す
る有機ポリシロキサンを１００重量部、一般式（ＶＩＩ
Ｉ）で示される基を有するポリシロキサン化合物０．１
〜１０万重量部、必要に応じて公知の触媒を０〜１００
重量部加えた組成で膜厚０．１〜１００μｍ、好ましく
は０．５〜３０μｍで設けることによって得られるのが
よい。

【００４７】本発明の水なし平版印刷版において、支持
体と感光層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、画
像再現性、耐刷力などの基本的な版性能にとって非常に
重要であるので、必要に応じて各層間の接着剤層を設け
たり、各層に接着性改良成分を添加したりすることが可
能である。特に感光層とシリコーンゴム層間の接着のた
めに、層間に公知のシリコーンプライマやシランカップ
リンク剤を設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光層
にシリコーンプライマやシランカップリング剤を添加す
ると効果的である。このような接着剤層を設ける場合、
接着剤層の膜厚については特に限定されないが、０．０
５〜１００μｍ、好ましくは０．５〜３０μｍで設ける
ことによって得られるのがよい。

【００４８】以上説明したようにして構成された水なし
平版印刷版原版の表面を形成するシリコーンゴム層を保
護するなどの目的で、シリコーンゴム層の表面にプレー
ンまたは凹凸処理した保護フィルムをラミネートまたは
プラスチックシート状物を塗布または転写して保護層と
することも可能である。このような保護フィルムあるい
は保護層の膜厚については特に限定されないが、０．０
５〜１０００μｍ、好ましくは０．５〜１００μｍで設
けることによって得られるのがよい。

【００４９】本発明で用いられる水なし平版印刷版原版
は、例えば次のようにして製造されるがこれらに限定さ
れない。まず支持体上に、リバースロールコータ、エア
ナイフコータ、メーヤバーコータなどの通常のコータ、
あるいはホエラのような回転塗布装置、その他の塗布装
置を用い、必要な場合プライマ層を構成すべき組成物溶
液を塗布、乾燥、必要に応じて熱キュア後、この上に感
光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥、必要に応じ
て熱キュアし、その後必要ならば該感光層上に接着剤層
を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥、必要に応じて熱
キュアし、この上にシリコーンゴム層を構成すべき組成
物溶液を塗布、乾燥、必要に応じて熱キュアし、最後に
必要ならば保護フィルムをラミネータなどを用いてかけ
る。

【００５０】このようにして製造された水なし平版印刷
版原版は、例えば光透過性保護フィルムの場合はそのま
ま、あるいは剥いで、光透過性の劣るフィルムの場合は
剥いでから真空密着されたネガフィルムを通して活性光
線で露光される。この露光工程で用いられる光源は、紫
外線を豊富に発生するものであり、水銀灯、カーボンア
ーク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、タン
グステンランプ、蛍光灯などを用いることができるが、
これらに限定されない。

【００５１】次いで、保護フィルムがある時は剥いでか
ら版面を現像液を含んだ現像用パットでこすると露光部
のシリコーンゴム層が除去され、場合によってはその下
の感光層も除去され、インキ受容部となり、水なし平版
印刷版が得られる。

【００５２】本発明において用いられる現像液として
は、水なし平版印刷版の現像液として提案されているも
のであればどのようなものでもよく、例えば、水、脂肪
族炭化水素類、芳香族炭化水素類、アルコール類、エー
テル類、エステル類およびこれらの二種以上を混合した
ものなどが挙げられるが、これらに限定されない。

【００５３】現像方法としては、手による現像でも公知
の現像装置による現像でもよいが、好ましくは前処理部
と現像部、および後処理部がこの順に設けられている現
像装置を用いるのがよい。

【００５４】

【実施例】以下、実施例により具体的に説明するが、本
発明はこれらに限定されない。

【００５５】合成例１ 一般式（Ｉ）で示される構造を一つ有する化合物である
２−ヒドロキシエチルメタクリレート２０ｇとｏ−ナフ
トキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸クロリド
１０ｇとをジオキサン１００ｇに溶解させた。次に、炭
酸ナトリウム１０ｇを水９０ｇに溶解させ、この炭酸ナ
トリウム１０重量％溶液を前述のジオキサン溶液中に１
０分間かけて滴下した。（この際、ジオキサン溶液は攪
拌を行い、４０℃に液温を保っていた。）滴下終了後、
４０℃で４時間、攪拌しながら反応させた。反応後、水
１０００ｇの入ったビーカー中に反応溶液を注ぎ、生成
物を析出、沈降させた。ビーカー中の上澄液を除去し、
減圧乾燥を行い、目的とする化合物を得た。

【００５６】合成例２ 合成例１で得られた化合物３０ｇをジオキサン２００ｇ
に溶解させ、アゾビスイソブチロニトリル０．１ｇを加
え、窒素雰囲気の下で６５℃４時間共重合反応を行っ
た。反応後、メタノール１０００ｇの入ったビーカー中
に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビーカ
ー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化
合物を得た。

【００５７】合成例３ 合成例１で得られた化合物１５ｇと２−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート１５ｇとをジオキサン２００ｇに溶解
させ、アゾビスイソブチロニトリル０．１ｇを加え、窒
素雰囲気の下で６５℃４時間共重合反応を行った。反応
後、メタノール１０００ｇの入ったビーカー中に反応溶
液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビーカー中の上
澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化合物を得
た。

【００５８】合成例４ 一般式（Ｉ）で示される構造を有する化合物であるグリ
セリン２０ｇとｏ−ナフトキノン−１，２−ジアジド−
５−スルホン酸クロリド１０ｇとをジオキサン１００ｇ
に溶解させた。次に、炭酸ナトリウム１０ｇを水９０ｇ
に溶解させ、この炭酸ナトリウム１０重量％溶液を前述
のジオキサン溶液中に１０分間かけて滴下した。（この
際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、４０℃に液温を保っ
ていた。）滴下終了後、４０℃で４時間、攪拌しながら
反応させた。反応後、水１０００ｇの入ったビーカー中
に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビーカ
ー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化
合物を得た。

【００５９】合成例５ 一般式（Ｉ）で示される構造を有する化合物であるトリ
メタノールプロパン２５ｇとｏ−ナフトキノン−１，２
−ジアジド−４−スルホン酸クロリド１０ｇとをジオキ
サン１００ｇに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム１０
ｇを水９０ｇに溶解させ、この炭酸ナトリウム１０重量
％溶液を前述のジオキサン溶液中に１０分間かけて滴下
した。（この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、４０℃
に液温を保っていた。）滴下終了後、４０℃で４時間、
攪拌しながら反応させた。反応後、水１０００ｇの入っ
たビーカー中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降さ
せた。ビーカー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、
目的とする化合物を得た。

【００６０】合成例６ 一般式（Ｉ）で示される構造を有する化合物である１，
６−ヘキサンジオール３０ｇとｏ−ナフトキノン−１，
２−ジアジド−４−スルホン酸クロリド１０ｇとをジオ
キサン１００ｇに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム１
０ｇを水９０ｇに溶解させ、この炭酸ナトリウム１０重
量％溶液を前述のジオキサン溶液中に１０分間かけて滴
下した。（この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、４０
℃に液温を保っていた。）滴下終了後、４０℃で４時
間、攪拌しながら反応させた。反応後、水１０００ｇの
入ったビーカー中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈
降させた。ビーカー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行
い、目的とする化合物を得た。

【００６１】合成例７ 一般式（ＩＩ）で示される構造を一つ有する化合物であ
るフェノール２０ｇとｏ−ナフトキノン−１，２−ジア
ジド−５−スルホン酸クロリド１０ｇとをジオキサン１
００ｇに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム１０ｇを水
９０ｇに溶解させ、この炭酸ナトリウム１０重量％溶液
を前述のジオキサン溶液中に１０分間かけて滴下した。
（この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、４０℃に液温
を保っていた。）滴下終了後、４０℃で４時間、攪拌し
ながら反応させた。反応後、水１０００ｇの入ったビー
カー中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。
ビーカー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的と
する化合物を得た。

【００６２】合成例８ 一般式（ＩＩ）で示される構造を一つ有する化合物であ
る４−ヒドロキシスチレン２５ｇとｏ−ナフトキノン−
１，２−ジアジド−４−スルホン酸クロリド１０ｇとを
ジオキサン１００ｇに溶解させた。次に、炭酸ナトリウ
ム１０ｇを水９０ｇに溶解させ、この炭酸ナトリウム１
０重量％溶液を前述のジオキサン溶液中に１０分間かけ
て滴下した。（この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、
４０℃に液温を保っていた。）滴下終了後、４０℃で４
時間、攪拌しながら反応させた。反応後、水１０００ｇ
の入ったビーカー中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、
沈降させた。ビーカー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を
行い、目的とする化合物を得た。

【００６３】合成例９ 合成例８で得られた化合物３０ｇをジオキサン２００ｇ
に溶解させ、アゾビスイソブチロニトリル０．１ｇを加
え、窒素雰囲気の下で６５℃４時間共重合反応を行っ
た。反応後、メタノール１０００ｇの入ったビーカー中
に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビーカ
ー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化
合物を得た。

【００６４】合成例１０ 合成例９で得られた化合物１５ｇと４−ヒドロキシスチ
レン１５ｇとをジオキサン２００ｇに溶解させ、アゾビ
スイソブチロニトリル０．１ｇを加え、窒素雰囲気の下
で６５℃４時間共重合反応を行った。反応後、メタノー
ル１０００ｇの入ったビーカー中に反応溶液を注ぎ、生
成物を析出、沈降させた。ビーカー中の上澄液を除去
し、減圧乾燥を行い、目的とする化合物を得た。

【００６５】合成例１１ 一般式（ＩＩ）で示される構造を有する化合物であるフ
ェノールノボラック樹脂（平均分子量６００）２０ｇと
ｏ−ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸
クロリド１０ｇとをジオキサン１００ｇに溶解させた。
次に、炭酸ナトリウム１０ｇを水９０ｇに溶解させ、こ
の炭酸ナトリウム１０重量％溶液を前述のジオキサン溶
液中に１０分間かけて滴下した。（この際、ジオキサン
溶液は攪拌を行い、４０℃に液温を保っていた。）滴下
終了後、４０℃で４時間、攪拌しながら反応させた。反
応後、水１０００ｇの入ったビーカー中に反応溶液を注
ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビーカー中の上澄液を
除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化合物を得た。

【００６６】合成例１２ 一般式（ＩＩ）で示される構造を有する化合物であるフ
ェノールノボラック樹脂（平均分子量６００）１０ｇと
ｏ−ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸
クロリド１０ｇとをジオキサン１００ｇに溶解させた。
次に、炭酸ナトリウム１０ｇを水９０ｇに溶解させ、こ
の炭酸ナトリウム１０重量％溶液を前述のジオキサン溶
液中に１０分間かけて滴下した。（この際、ジオキサン
溶液は攪拌を行い、４０℃に液温を保っていた。）滴下
終了後、４０℃で４時間、攪拌しながら反応させた。反
応後、水１０００ｇの入ったビーカー中に反応溶液を注
ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビーカー中の上澄液を
除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化合物を得た。

【００６７】実施例１ 厚さ０．３ｍｍのアルミ板に下記のプライマ組成物を塗
布し、２００℃、２分間加熱処理して、乾燥後の膜厚５
μｍのプライマ層を形成した。

【００６８】 （ａ）ポリウレタン樹脂“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（三洋化成工業（株） 製） １００重量部 （ｂ）ブロックイソシアネート“タケテート”Ｂ８３０（武田薬品（株）製） ２０重量部 （ｃ）エポキシ・フェノール樹脂“カンコート”９０Ｔ−２５−３０９４（関西 ペイント（株）製） １０重量部 （ｄ）ジメチルホルムアミド ５７０重量部 この上に、下記の感光液を塗布し、１１０℃、１分間加
熱処理し、乾燥後の膜厚２μｍの感光層を形成した。

【００６９】 （ａ）合成例１で合成した化合物 ５０重量部 （ｂ）合成例７で合成した化合物 ５０重量部 （ｃ）ｏ−ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸クロリド １０重量部 （ｄ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート ４０重量部 （ｅ）ポリウレタン樹脂“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（三洋化成工業（株） 製） １０重量部 （ｆ）ジブチルスズジラウレート ０．２重量部 （ｇ）４，４´−ジメチルアミノベンゾフェノン ９重量部 （ｈ）ギ酸 ０．８重量部 （ｉ）テトラヒドロフラン ７４０重量部 この感光層の上に、下記のシリコーンゴム組成物を塗布
し、９０℃、２分間で加熱処理し、乾燥後の膜厚３μｍ
のシリコーンゴム層を形成した。

【００７０】 （ａ）両末端シラノール基のポリジメチルシロキサン（平均分子量３５０００） １００重量部 （ｂ）エチルトリアセトキシシラン ９．９重量部 （ｃ）ジブチルスズジラウレート ０．１重量部 （ｄ）脂肪族系炭化水素溶媒“アイソパー”Ｅ（エクソン化学（株）製） ５９０重量部 このようにして設けたシリコーンゴム層の表面に、厚さ
１０μｍのポリプロピレンフィルム“トレファン”（東
レ（株）製）をカレンダーローラでラミネートし、水な
し平版印刷版原版とした。

【００７１】この印刷版原版にメタルハライドランプ
（岩崎電気（株）製“アイドルフィン”２０００）を用
い、ＵＶメーター（オーク製作所製“ライトメジャータ
イプＵＶ−４０２Ａ”）で１１ｍＷ／ｃｍ² の照度で６
秒間全面露光を施した。

【００７２】上記のようにして得られた印刷版原版に１
５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、１ｍの距離
から６０秒間露光した。

【００７３】露光後、保護フィルム“トレファン”を剥
離し、室温３２℃、湿度８０％の条件で下記の組成を有
する前処理液を版面に塗布し、１分間処理した。

【００７４】 （ａ）脂肪族系炭化水素溶媒“アイソパー”Ｈ（エクソン化学（株）製） ８７重量部 （ｂ）ジエチレングリコールジメチルエーテル ７重量部 （ｃ）エチルセロソルブ ３重量部 （ｄ）Ｎ−メチルジエタノールアミン ３重量部 ゴムスキージで版面に付着した処理液を除去し、次いで
版面と現像パットに以下の組成を有する現像液を注い
だ。

【００７５】 （ａ）水 ７０重量部 （ｂ）ブチルカルビトール ２８重量部 （ｃ）２−エチル酪酸 １．８重量部 （ｄ）クリスタルバイオレット ０．２重量部 現像パットで版面を軽くこすると、画像露光された部分
のシリコーンゴム層が除去され、感光層表面が露出し
た。一方、全面露光のみがなされた非画線部分はシリコ
ーンゴム層が強固に残存しており、ネガフィルムを忠実
に再現した画像が得られた。

【００７６】この印刷版を商業オフ輪印刷機（“ＬＩＴ
ＨＯＰＩＡ”三菱重工（株）製）に取り付け、大日本イ
ンキ化学工業（株）製“ドライオカラー”墨、藍、紅、
黄インキを用いて、６００ｒ．ｐ．ｍ．のスピードで上
質紙に印刷を行い、耐刷テストを行った結果、２０００
００部印刷後も良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷
版を検査したが、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き
印刷を行うことが可能な状態であった。

【００７７】比較例１ 実施例１の水なし平版印刷版において、感光層を以下の
組成液で設けた以外は全て実施例１と同様の方法で印刷
版を作製、露光、現像を行った。

【００７８】 （ａ）ｏ−ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸とフェノールホル ムアルデヒドノボラック樹脂（住友デュレズ製“スミライトレジン”ＰＲ ５０６２２）の部分エステル（元素分析法によるエステル化度２５％） １００重量部 （ｂ）４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート ４０重量部 （ｃ）ポリウレタン樹脂“サンプレン”ＬＱ−Ｔ１３３１（三洋化成工業（株） 製） １０重量部 （ｄ）ジブチルスズジラウレート ０．２重量部 （ｅ）４，４´−ジメチルアミノベンゾフェノン ９重量部 （ｆ）ギ酸 ０．８重量部 （ｇ）テトラヒドロフラン ７４０重量部 この印刷版を観察したところ、画像露光された部分のシ
リコーンゴム層の一部が除去されず、感光層表面が露出
していなかった。一方、全面露光のみがなされた非画線
部の一部のシリコーンゴム層がはげており、ネガフィル
ムを忠実に再現した画像は得られなかった。

【００７９】この印刷版を用い、実施例１と同様に商業
オフ輪印刷機（“ＬＩＴＨＯＰＩＡ”三菱重工（株）
製）に取り付け、大日本インキ化学工業（株）製“ドラ
イオカラー”墨、藍、紅、黄インキを用いて、６００
ｒ．ｐ．ｍ．のスピードで上質紙に印刷を行い、耐刷テ
ストを行った結果、５００００部印刷後は印刷物に汚れ
が発生し、印刷版を検査したところ印刷版の損傷が激し
く、引き続き印刷を行うことは不可能な状態であった。

【００８０】実施例２ 厚さ０．３ｍｍのアルミ板に下記のプライマ組成物を塗
布し、２００℃、２分間加熱処理して、乾燥後の膜厚５
μｍのプライマ層を形成した。

【００８１】 （ａ）ポリウレタン樹脂“パンテックス”Ｔ−５２０１（大日本インキ化学工業 （株）製） １００重量部 （ｂ）ブロックイソシアネート“コロネート”２５０３（日本ポリウレタン工業 （株）製） ２０重量部 （ｃ）エポキシ・フェノール・尿素樹脂ＳＪ９３７２（関西ペイント（株）製） １０重量部 （ｄ）ジメチルホルムアミド ５７０重量部 この上に、下記の感光液を塗布し、１１０℃、１分間加
熱処理し、乾燥後の膜厚２μｍの感光層を形成した。

【００８２】 （ａ）合成例２で合成した化合物 ３０重量部 （ｂ）合成例８で合成した化合物 ７０重量部 （ｃ）ｏ−ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸クロリド １０重量部 （ｄ）２，４ートルエンジイソシアネート ４０重量部 （ｅ）ポリウレタン樹脂“パンテックス”Ｔ−５２０１（大日本インキ化学工業 （株）製） １０重量部 （ｆ）ジブチルスズジアセテート ０．２重量部 （ｇ）４，４´−ジエチルアミノベンゾフェノン ９重量部 （ｈ）酢酸 ０．８重量部 （ｉ）テトラヒドロフラン ７４０重量部 この感光層の上に、下記のシリコーンゴム組成物を塗布
し、９０℃、２分間で加熱処理し、乾燥後の膜厚３μｍ
のシリコーンゴム層を形成した。

【００８３】 （ａ）両末端シラノール基のポリジメチルシロキサン（平均分子量３５０００） １００重量部 （ｂ）ビニルトリオキシムシラン ９．９重量部 （ｃ）ジブチルスズジオクテート ０．１重量部 （ｄ）脂肪族系炭化水素溶媒“アイソパー”Ｇ（エクソン化学（株）製） ５９０重量部 このようにして設けたシリコーンゴム層の表面に、厚さ
８μｍのポリエステルフィルム“ルミラー”（東レ
（株）製）をカレンダーローラでラミネートし、水なし
平版印刷版原版とした。

【００８４】この印刷版原版にメタルハライドランプ
（岩崎電気（株）製“アイドルフィン”２０００）を用
い、ＵＶメーター（オーク製作所製“ライトメジャータ
イプＵＶ−４０２Ａ”）で１１ｍＷ／ｃｍ² の照度で６
秒間全面露光を施した。

【００８５】上記のようにして得られた印刷版原版に１
５０線／インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、１ｍの距離
から６０秒間露光した。

【００８６】露光後、保護フィルム“ルミラー”を剥離
し、室温３２℃、湿度８０％の条件で、ＴＷＬ−１１６
０（東レ（株）製水なし平版印刷版の現像装置）を用い
て現像を行った。ここで、前処理液としては、以下の組
成を有する液を用いた。

【００８７】 （ａ）ジエチレングリコール ８０重量部 （ｂ）ジグリコールアミン １４重量部 （ｃ）水 ６重量部 また、現像液としては水を用いた。染色液としては、以
下の組成を有する液を用いた。

【００８８】 （ａ）エチルカルビトール １８重量部 （ｂ）水 ７９．９重量部 （ｃ）クリスタルバイオレット ０．１重量部 （ｄ）２−エチルヘキサン酸 ２重量部 現像装置を出てきた印刷版を観察したところ、画像露光
された部分のシリコーンゴム層が除去され、感光層表面
が露出していた。一方、全面露光のみがなされた非画線
部分はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガフ
ィルムを忠実に再現した画像が得られた。

【００８９】この印刷版を商業オフ輪印刷機（“ＬＩＴ
ＨＯＰＩＡ”三菱重工（株）製）に取り付け、大日本イ
ンキ化学工業（株）製“ドライオカラー”墨、藍、紅、
黄インキを用いて、６００ｒ．ｐ．ｍ．のスピードで上
質紙に印刷を行い、耐刷テストを行った結果、１９００
００部印刷後も良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷
版を検査したが、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き
印刷を行うことが可能な状態であった。

【００９０】実施例３ 実施例１において、合成例１で合成した化合物を合成例
３で合成した化合物に変更する以外は全て実施例１と同
様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例１と同様の耐
刷テストを行った。その結果、１９００００部印刷後も
良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版を検査した
が、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印刷を行うこ
とが可能な状態であった。

【００９１】実施例４ 実施例２において、合成例８で合成した化合物を合成例
９で合成した化合物に変更する以外は全て実施例１と同
様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例２と同様の耐
刷テストを行った。その結果、２０００００部印刷後も
良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版を検査した
が、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印刷を行うこ
とが可能な状態であった。

【００９２】実施例５ 実施例１において、合成例１で合成した化合物を合成例
４で合成した化合物に変更する以外は全て実施例１と同
様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例１と同様の耐
刷テストを行った。その結果、２０００００部印刷後も
良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版を検査した
が、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印刷を行うこ
とが可能な状態であった。

【００９３】実施例６ 実施例２において、合成例８で合成した化合物を合成例
１０で合成した化合物に変更する以外は全て実施例１と
同様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例２と同様の
耐刷テストを行った。その結果、２１００００部印刷後
も良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版を検査した
が、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印刷を行うこ
とが可能な状態であった。

【００９４】実施例７ 実施例１において、合成例１で合成した化合物を合成例
５で合成した化合物に変更し、合成例７で合成した化合
物を合成例１１で合成した化合物に変更する以外は全て
実施例１と同様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例
１と同様の耐刷テストを行った。その結果、２００００
０部印刷後も良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版
を検査したが、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印
刷を行うことが可能な状態であった。

【００９５】実施例８ 実施例１において、合成例１で合成した化合物を合成例
６で合成した化合物に変更し、合成例７で合成した化合
物を合成例１２で合成した化合物に変更する以外は全て
実施例１と同様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例
１と同様の耐刷テストを行った。その結果、２００００
０部印刷後も良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版
を検査したが、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印
刷を行うことが可能な状態であった。

【００９６】

【発明の効果】本発明は上記のごとく構成したので、高
感度でありかつオフセット印刷を行った場合においても
耐刷性に優れた水なし平版印刷版を得ることができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】支持体上に感光層およびシリコーンゴム層
   をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版におい
   て、該感光層が、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される構
   造を少なくとも一つ有する化合物とキノンジアジド化合
   物との反応物と、（Ｂ）下記一般式（ＩＩ）で示される
   構造を少なくとも一つ有する化合物とキノンジアジド化
   合物との反応物の両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含
   有しており、かつ下記一般式（ＩＩＩ）、下記一般式
   （ＩＶ）および下記一般式（Ｖ）で示される化合物の少
   なくとも一つを含有していることを特徴とする水なし平
   版印刷版原版。 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 （式中、Ｒ１は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
   子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
   換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
   る。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は置換基であり、それぞれ
   同一でも異なっていてもよい。Ｒ６は水酸基、アルカリ
   金属オキシド基、ハロゲン原子、アミノ基、メルカプト
   基、炭素数１〜１００の置換もしくは非置換のアルキル
   基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカ
   ノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数２〜１
   ００の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニル
   オキシ基、炭素数４〜１００の置換もしくは非置換のア
   リール基、アリールオキシ基の群から選ばれる少なくと
   も一種である。）
2. 【請求項２】請求項１記載の水なし平版印刷版原版を選
   択的に露光、現像してなる水なし平版印刷版。