JPH06338086A - 光磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
光磁気ディスクの製造方法Info
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- JPH06338086A JPH06338086A JP12715893A JP12715893A JPH06338086A JP H06338086 A JPH06338086 A JP H06338086A JP 12715893 A JP12715893 A JP 12715893A JP 12715893 A JP12715893 A JP 12715893A JP H06338086 A JPH06338086 A JP H06338086A
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- Japan
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- magneto
- optical disk
- plastic substrate
- curable resin
- recording layer
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 本発明はプラスチック基板の記録層の反対
面に、ＵＶ硬化型樹脂を密着性よく被覆して、プラスチ
ック基板の硬度を高くし、ゴミなど静電付着をなくして
ディスクのエラーを抑制するようにした光磁気ディスク
の製造方法の提供を目的とするものである。 【構成】 本発明による光磁気ディスクの製造方法
は、プラスチック基板上に垂直磁気記録層を有する光磁
気ディスクにおいて、プラスチック基板の記録層との反
対面に、式 【化７】 （ここにＲ1 は水素原子またはメチル基、Ｒ2 は炭素数
３〜６の二価炭化水素基、Ｒ3 はメチル基またはフェニ
ル基、ａは０≦ａ≦２の数）で示される構造と式−(C
H3)2Si(NH)−で示される構造を同時に含有するオルガノ
ポリシラザンを下塗りし、ついでＵＶ硬化型樹脂を上塗
りしてＵＶ硬化することを特徴とするものである。
面に、ＵＶ硬化型樹脂を密着性よく被覆して、プラスチ
ック基板の硬度を高くし、ゴミなど静電付着をなくして
ディスクのエラーを抑制するようにした光磁気ディスク
の製造方法の提供を目的とするものである。 【構成】 本発明による光磁気ディスクの製造方法
は、プラスチック基板上に垂直磁気記録層を有する光磁
気ディスクにおいて、プラスチック基板の記録層との反
対面に、式 【化７】 （ここにＲ1 は水素原子またはメチル基、Ｒ2 は炭素数
３〜６の二価炭化水素基、Ｒ3 はメチル基またはフェニ
ル基、ａは０≦ａ≦２の数）で示される構造と式−(C
H3)2Si(NH)−で示される構造を同時に含有するオルガノ
ポリシラザンを下塗りし、ついでＵＶ硬化型樹脂を上塗
りしてＵＶ硬化することを特徴とするものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光磁気ディスクの製造方
法、特にはプラスチック基板の一主面上にＵＶ硬化型樹
脂被覆を密着性よく接着させる光磁気ディスクの製造方
法に関するものである。
法、特にはプラスチック基板の一主面上にＵＶ硬化型樹
脂被覆を密着性よく接着させる光磁気ディスクの製造方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】現在、光磁気ディスクの基板材料として
は広くプラスチック材が使用されている。この代表的な
材料であるポリカーボネート樹脂は耐熱性に優れ、吸水
による変形も小さいという利点があるが、これには樹脂
自体の硬度が小さいために傷が付き易く、しかも誘電体
であるためにゴミなどが静電付着し易く、これが原因と
なって電気信号にエラーが引き起こされるという問題点
がある。
は広くプラスチック材が使用されている。この代表的な
材料であるポリカーボネート樹脂は耐熱性に優れ、吸水
による変形も小さいという利点があるが、これには樹脂
自体の硬度が小さいために傷が付き易く、しかも誘電体
であるためにゴミなどが静電付着し易く、これが原因と
なって電気信号にエラーが引き起こされるという問題点
がある。
【０００３】そのため、この基板については、基板上に
成膜される記録膜との反対面に、帯電防止機能を付与し
たハードコートを施すことが行なわれており、このハー
ドコート材料としては透明なＵＶ硬化型樹脂や無機系の
材料などが考えられるが安価、簡便であるというこうと
から、エポキシ系、メタクリル系、ウレタン系などのＵ
Ｖ硬化型樹脂が利用されている。
成膜される記録膜との反対面に、帯電防止機能を付与し
たハードコートを施すことが行なわれており、このハー
ドコート材料としては透明なＵＶ硬化型樹脂や無機系の
材料などが考えられるが安価、簡便であるというこうと
から、エポキシ系、メタクリル系、ウレタン系などのＵ
Ｖ硬化型樹脂が利用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このＵＶ硬化
型樹脂についてはプラスチック基板との濡れ性や密着性
に問題があることから、ＵＶ硬化型樹脂被覆の前の基板
にプライマー処理を施してこの密着性を改良することも
行なわれているし、このＵＶ硬化型樹脂自体を改良する
ことも試みられているが、いずれも満足する効果は得ら
れていない。
型樹脂についてはプラスチック基板との濡れ性や密着性
に問題があることから、ＵＶ硬化型樹脂被覆の前の基板
にプライマー処理を施してこの密着性を改良することも
行なわれているし、このＵＶ硬化型樹脂自体を改良する
ことも試みられているが、いずれも満足する効果は得ら
れていない。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不
利、問題点を解決した光磁気ディスクの製造方法に関す
るものであり、これはプラスチック基板上に垂直磁気記
録層を有する光磁気ディスクの製造方法において、プラ
スチック基板の記録層との反対面に、一般式（Ｉ）で示
される式
利、問題点を解決した光磁気ディスクの製造方法に関す
るものであり、これはプラスチック基板上に垂直磁気記
録層を有する光磁気ディスクの製造方法において、プラ
スチック基板の記録層との反対面に、一般式（Ｉ）で示
される式
【化３】 （ここにＲ1 は水素原子またはメチル基、Ｒ2 は炭素数
３〜６の二価炭化水素基、Ｒ3 はメチル基またはフェニ
ル基、ａは０≦ａ≦２）で示される構造および式−(C
H3)2Si(NH)−で示される構造を同時に含有するオルガノ
ポリシラザンを下塗りし、ついでＵＶ硬化被覆剤を上塗
りしてＵＶ硬化することを特徴とするものである。
３〜６の二価炭化水素基、Ｒ3 はメチル基またはフェニ
ル基、ａは０≦ａ≦２）で示される構造および式−(C
H3)2Si(NH)−で示される構造を同時に含有するオルガノ
ポリシラザンを下塗りし、ついでＵＶ硬化被覆剤を上塗
りしてＵＶ硬化することを特徴とするものである。
【０００６】すなわち、本発明者らはプラスチック基板
とＵＶ硬化樹脂被覆とが良好に密着している光磁気ディ
スクの製造方法を開発すべく種々検討した結果、このＵ
Ｖ硬化型樹脂でプラスチック基板を被覆する前に、この
プラスチック基板の記録層との反対面を予め上記した一
般式（Ｉ）で示される基と−(CH3)2Si(NH)−で示される
基を同時に含有するオルガノポリシラザンを下塗りする
と、ここにこのプラスチック基材とこのシラザンとの化
学結合層とが形成されるので、この上にＵＶ硬化型樹脂
を上塗りするとこのＵＶ硬化型樹脂層がプラスチック基
板に密着良く被覆できることを見出し、これによればプ
ラスチック基板にＵＶ硬化型樹脂を密着良く被覆するこ
とができ、ＵＶ硬化型樹脂によるハブを密着性よく接着
することができることを確認して本発明を完成させた。
以下にこれをさらに詳述する。
とＵＶ硬化樹脂被覆とが良好に密着している光磁気ディ
スクの製造方法を開発すべく種々検討した結果、このＵ
Ｖ硬化型樹脂でプラスチック基板を被覆する前に、この
プラスチック基板の記録層との反対面を予め上記した一
般式（Ｉ）で示される基と−(CH3)2Si(NH)−で示される
基を同時に含有するオルガノポリシラザンを下塗りする
と、ここにこのプラスチック基材とこのシラザンとの化
学結合層とが形成されるので、この上にＵＶ硬化型樹脂
を上塗りするとこのＵＶ硬化型樹脂層がプラスチック基
板に密着良く被覆できることを見出し、これによればプ
ラスチック基板にＵＶ硬化型樹脂を密着良く被覆するこ
とができ、ＵＶ硬化型樹脂によるハブを密着性よく接着
することができることを確認して本発明を完成させた。
以下にこれをさらに詳述する。
【０００７】
【作用】本発明は光磁気ディスクの製造方法に関するも
のであり、これは前記したようにプラスチック基板の記
録層成膜面と反対面に、一般式（Ｉ）で示される構造と
式−(CH3)2Si(NH)−で示される構造を同時に含有するオ
ルガノポリシラザンを下塗りし、ついでＵＶ硬化型被覆
剤を上塗りしてＵＶ硬化させることを特徴とするもので
あるが、これによればＵＶ硬化型被覆剤をプラスチック
基板に密着性よく被覆することができるので、このプラ
スチック基板に傷がつきにくく、ゴミなどが静電付着す
ることもないようにすることができるので、この光磁気
ディスクをエラーの少ないものとすることができるとい
う有利性が与えられる。
のであり、これは前記したようにプラスチック基板の記
録層成膜面と反対面に、一般式（Ｉ）で示される構造と
式−(CH3)2Si(NH)−で示される構造を同時に含有するオ
ルガノポリシラザンを下塗りし、ついでＵＶ硬化型被覆
剤を上塗りしてＵＶ硬化させることを特徴とするもので
あるが、これによればＵＶ硬化型被覆剤をプラスチック
基板に密着性よく被覆することができるので、このプラ
スチック基板に傷がつきにくく、ゴミなどが静電付着す
ることもないようにすることができるので、この光磁気
ディスクをエラーの少ないものとすることができるとい
う有利性が与えられる。
【０００８】本発明は光磁気ディスクの製造方法に関す
るものであり、これはプラスチック基板の記録層成膜面
の反対面に、ＵＶ硬化型被覆剤を密着性よく被覆する方
法を要旨とするものである。この光磁気ディスク自体の
構成は公知のものとすればよく、したがってこれはポリ
カーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂
などからなる案内溝のついたプラスチック基板の表面
に、第１の誘電体層としてのＳｉＮ、ＡｌＮ、ＳｉＣ層
などを設けたのち、この上にＴｂＦｅ、ＴｂＦｅＣｏな
どからなる記録層を単一層または二層以上の積層で設
け、さらにこの上に第１の誘電体層と同じ第２の誘電体
層を設け、最後にＡｌ、Ｃｕ、Ａｇなどの単体または合
金からなる反射層を設けたものとすればよいが、これは
この反射層の上にさらに有機保護層を設けたものとする
ことが好ましい。
るものであり、これはプラスチック基板の記録層成膜面
の反対面に、ＵＶ硬化型被覆剤を密着性よく被覆する方
法を要旨とするものである。この光磁気ディスク自体の
構成は公知のものとすればよく、したがってこれはポリ
カーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂
などからなる案内溝のついたプラスチック基板の表面
に、第１の誘電体層としてのＳｉＮ、ＡｌＮ、ＳｉＣ層
などを設けたのち、この上にＴｂＦｅ、ＴｂＦｅＣｏな
どからなる記録層を単一層または二層以上の積層で設
け、さらにこの上に第１の誘電体層と同じ第２の誘電体
層を設け、最後にＡｌ、Ｃｕ、Ａｇなどの単体または合
金からなる反射層を設けたものとすればよいが、これは
この反射層の上にさらに有機保護層を設けたものとする
ことが好ましい。
【０００９】本発明ではこのようにして作られた光磁気
ディスクのプラスチック基板の記録層の反対面にＵＶ硬
化型被覆層を設けるのであるが、このＵＶ硬化型被覆剤
を塗布する前に、このプラスチック基板にオルガノポリ
シラザンが下塗りされる。しかして、このオルガノポリ
シラザンは一般式（Ｉ）としての式
ディスクのプラスチック基板の記録層の反対面にＵＶ硬
化型被覆層を設けるのであるが、このＵＶ硬化型被覆剤
を塗布する前に、このプラスチック基板にオルガノポリ
シラザンが下塗りされる。しかして、このオルガノポリ
シラザンは一般式（Ｉ）としての式
【化４】 で示され、このＲ1 は水素原子またはメチル基、Ｒ2 は
プロピレン基、ブチレン基、アミレン基、ヘキシレン基
などの炭素数３〜６の二価炭化水素基、Ｒ3 はメチル基
またはフェニル基でａは０≦ａ≦２の数とされる構造と
式−(CH3)2Si(NH)−で示される構造を同時に含有するも
の、例えば
プロピレン基、ブチレン基、アミレン基、ヘキシレン基
などの炭素数３〜６の二価炭化水素基、Ｒ3 はメチル基
またはフェニル基でａは０≦ａ≦２の数とされる構造と
式−(CH3)2Si(NH)−で示される構造を同時に含有するも
の、例えば
【化５】 で示されるものとすることが必要とされる。
【００１０】このようなオルガノポリシラザンのプラス
チック基板への下塗りによるプラスチック基板へのプラ
イマー処理はスピンコート法、浸漬法、スプレー法など
で行えばよいが、このように処理するとプラスチック基
板とシラザンとの間に化学結合層が形成されるので、こ
こにエポキシ系、アクリル系、メタクリル系、ウレタン
系などのＵＶ硬化型樹脂を上塗りすると、このＵＶ硬化
型樹脂がこの化学結合層を介してプラスチック基板に被
覆されるので、このものはプラスチック基板に密着性よ
く被覆され、したがってここに濡れ性や密着性の問題が
生ずることはないという有利性が与えられる。
チック基板への下塗りによるプラスチック基板へのプラ
イマー処理はスピンコート法、浸漬法、スプレー法など
で行えばよいが、このように処理するとプラスチック基
板とシラザンとの間に化学結合層が形成されるので、こ
こにエポキシ系、アクリル系、メタクリル系、ウレタン
系などのＵＶ硬化型樹脂を上塗りすると、このＵＶ硬化
型樹脂がこの化学結合層を介してプラスチック基板に被
覆されるので、このものはプラスチック基板に密着性よ
く被覆され、したがってここに濡れ性や密着性の問題が
生ずることはないという有利性が与えられる。
【００１１】なお、このＵＶ硬化型樹脂の硬化はこれが
ＵＶ硬化型のものであることから、この塗布に水銀灯な
どからの紫外線を照射すれば容易にこれを硬化させるこ
とができるが、このオルガノポリシラザンはハブの接着
面とディスクの被接着面に塗布してよく、これによれば
ＵＶ硬化型樹脂によりハブを密着性よく接着することが
できるという有利性が与えられる。
ＵＶ硬化型のものであることから、この塗布に水銀灯な
どからの紫外線を照射すれば容易にこれを硬化させるこ
とができるが、このオルガノポリシラザンはハブの接着
面とディスクの被接着面に塗布してよく、これによれば
ＵＶ硬化型樹脂によりハブを密着性よく接着することが
できるという有利性が与えられる。
【００１２】
【実施例】つぎに本発明で使用されるオルガノポリシラ
ザンの合成例および実施例をあげる。 （合成例）３−メタクロキシプロピルトリクロロシラン
とジメチルジクロロシランのヘキサン混合溶液にアンモ
ニアガスをフローし、副生成した塩化アンモニウムを窒
素ガス雰囲気下で濾別したところ、式
ザンの合成例および実施例をあげる。 （合成例）３−メタクロキシプロピルトリクロロシラン
とジメチルジクロロシランのヘキサン混合溶液にアンモ
ニアガスをフローし、副生成した塩化アンモニウムを窒
素ガス雰囲気下で濾別したところ、式
【化６】 で示されるオルガノポリシラザンのヘキサン溶液が得ら
れた。
れた。
【００１３】実施例 案内溝のついた透明なポリカーボネート基板上に、第１
誘電体層としてのＳｉＮ膜を 1,000Åの厚さにスパッタ
成膜したのち、この上に記録層としてのＴｂＦｅＣｏ膜
を 200Åの厚さにスパッタ成膜し、この上に第２の誘電
体層としてのＳｉＮ膜を 350Åの厚さにスパッタ成膜
し、さらにこの上に反射層としてのＡｌ膜を 500Åの厚
さにスパッタ成膜し、このスパッタ膜上にアクリル系Ｕ
Ｖ硬化型樹脂をスピンコートし、ＵＶ硬化しここに10μ
ｍの被覆層を作って光磁気デバイスを作製した。
誘電体層としてのＳｉＮ膜を 1,000Åの厚さにスパッタ
成膜したのち、この上に記録層としてのＴｂＦｅＣｏ膜
を 200Åの厚さにスパッタ成膜し、この上に第２の誘電
体層としてのＳｉＮ膜を 350Åの厚さにスパッタ成膜
し、さらにこの上に反射層としてのＡｌ膜を 500Åの厚
さにスパッタ成膜し、このスパッタ膜上にアクリル系Ｕ
Ｖ硬化型樹脂をスピンコートし、ＵＶ硬化しここに10μ
ｍの被覆層を作って光磁気デバイスを作製した。
【００１４】ついで、この光磁気デバイスのポリカーボ
ネート基板の記録層との反対面上に、上記した合成例で
合成したオルガノポリシラザンのヘキサン溶液をスピン
コートしたのち、ここにアクリル系ＵＶ硬化型樹脂をス
ピンコートし、ＵＶ硬化させて厚さ５μｍの被覆層を作
ると共に、比較のためにオルガノポリシラザンを使用せ
ずにポリカーボネート基板に直接アクリル系ＵＶ硬化型
樹脂をスピンコートし、ＵＶ硬化させて被覆層を作っ
た。
ネート基板の記録層との反対面上に、上記した合成例で
合成したオルガノポリシラザンのヘキサン溶液をスピン
コートしたのち、ここにアクリル系ＵＶ硬化型樹脂をス
ピンコートし、ＵＶ硬化させて厚さ５μｍの被覆層を作
ると共に、比較のためにオルガノポリシラザンを使用せ
ずにポリカーボネート基板に直接アクリル系ＵＶ硬化型
樹脂をスピンコートし、ＵＶ硬化させて被覆層を作っ
た。
【００１５】つぎにこのようにして得たアクリル系ＵＶ
硬化型樹脂でポリカーボネート基を被覆した光磁気ディ
スクのアクリル系ＵＶ硬化型樹脂の接着強度を、製造直
後および温度80℃、湿度85％での 2,000時間耐久試験後
の碁盤目テープ法で評価したところ、つぎの表１に示し
たとおりの結果が得られた。
硬化型樹脂でポリカーボネート基を被覆した光磁気ディ
スクのアクリル系ＵＶ硬化型樹脂の接着強度を、製造直
後および温度80℃、湿度85％での 2,000時間耐久試験後
の碁盤目テープ法で評価したところ、つぎの表１に示し
たとおりの結果が得られた。
【００１６】
【表１】
【００１７】
【発明の効果】本発明は光磁気ディスクの製造方法に関
するものであり、これは前記したようにプラスチック基
板上に垂直磁気記録層を有する光磁気ディスクにおい
て、プラスチック基板の記録層との反対面に、一般式
（Ｉ）で示される構造と式−(CH3)2Si(NH)−で示される
構造を同時に含有するオルガノポリシラザンを下塗り
し、ついでＵＶ硬化型樹脂を上塗りしてＵＶ硬化するこ
とを特徴とするものであるが、これによればオルガノポ
リシラザンの下塗りでプラスチック基板とシラザンとの
間に化学結合層が形成されるのでここに上塗りされたＵ
Ｖ硬化型樹脂はプラスチック基板に密着性よく被覆さ
れ、したがって、ここに濡れ性や密着性の問題が発生せ
ず、プラスチック基板の硬度が改善され、傷がつかない
ようになり、ここにゴミなどが静電付着するということ
がなくなり、電気信号のエラーが少なくなるという有利
性が与えられる。
するものであり、これは前記したようにプラスチック基
板上に垂直磁気記録層を有する光磁気ディスクにおい
て、プラスチック基板の記録層との反対面に、一般式
（Ｉ）で示される構造と式−(CH3)2Si(NH)−で示される
構造を同時に含有するオルガノポリシラザンを下塗り
し、ついでＵＶ硬化型樹脂を上塗りしてＵＶ硬化するこ
とを特徴とするものであるが、これによればオルガノポ
リシラザンの下塗りでプラスチック基板とシラザンとの
間に化学結合層が形成されるのでここに上塗りされたＵ
Ｖ硬化型樹脂はプラスチック基板に密着性よく被覆さ
れ、したがって、ここに濡れ性や密着性の問題が発生せ
ず、プラスチック基板の硬度が改善され、傷がつかない
ようになり、ここにゴミなどが静電付着するということ
がなくなり、電気信号のエラーが少なくなるという有利
性が与えられる。
Claims (3)
- 【請求項１】プラスチック基板上に垂直磁気記録層を有
する光磁気ディスクの製造方法において、プラスチック
基板の記録層との反対面に、式 【化１】 （ここにＲ1 は水素原子またはメチル基、Ｒ2 は炭素数
３〜６の二価炭化水素基、Ｒ3 はメチル基またはフェニ
ル基、ａは０≦ａ≦２）で示される構造および式−(C
H3)2Si(NH)−で示される構造を同時に含有するオルガノ
ポリシラザンを下塗りし、ついでＵＶ硬化型樹脂を上塗
りしてＵＶ硬化することを特徴とする光磁気ディスクの
製造方法。 - 【請求項２】オルガノポリシラザンが式 【化２】 （ここにＲ1 は水素原子またはメチル基、Ｒ2 は炭素数
３〜６の二価炭化水素基、Ｒ3 はメチル基またはフェニ
ル基、ａは０≦ａ≦２、ｘは０＜ｘ≦0.8 、ｙは０＜ｙ
≦0.8 ）で示されるものである請求項１に記載した光磁
気ディスクの製造方法。 - 【請求項３】オルガノポリシラザンの下塗りを、ハブの
接着面とディスク上の被接着面に行なったのち、ＵＶ硬
化型樹脂によりハブを接着する請求項１に記載した光磁
気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12715893A JPH06338086A (ja) | 1993-05-28 | 1993-05-28 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12715893A JPH06338086A (ja) | 1993-05-28 | 1993-05-28 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06338086A true JPH06338086A (ja) | 1994-12-06 |
Family
ID=14953077
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12715893A Pending JPH06338086A (ja) | 1993-05-28 | 1993-05-28 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06338086A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020176195A (ja) * | 2019-04-17 | 2020-10-29 | 信越化学工業株式会社 | ビスシリルアミノ基含有有機ポリシラザン化合物及びその製造方法並びにこれを含む組成物及び硬化物 |
-
1993
- 1993-05-28 JP JP12715893A patent/JPH06338086A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020176195A (ja) * | 2019-04-17 | 2020-10-29 | 信越化学工業株式会社 | ビスシリルアミノ基含有有機ポリシラザン化合物及びその製造方法並びにこれを含む組成物及び硬化物 |
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