JPH0636348A - 光学式情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】透明基板上に形成された記録層、光反射層から
なる情報形成層上に、下記一般式の金属アルコキシド及
び／又はその部分加水分解物の縮合物からなる表面保護
層を設けた光学式情報記録媒体。 Ｒ¹ _mＭ（ＯＲ）_n-m （上記式中、ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｒは炭素数
１〜５の炭化水素残基、Ｒ¹ は有機官能基、ｎはＭの有
し得る価数、ｍは０以上ｎ未満の整数を示す） 【効果】光ディスクの情報形成層上に比較的簡便な方法
で塗布性、密着性が良好で、しかも硬化後の成膜が耐湿
性、耐熱性に優れ、かつ高硬度な表面保護層を形成で
き、したがって光ディスクの生産性、歩留まり、信頼性
向上を図ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、文書ファイル、画像
ファイル、コンピュータメモリ等として使用される光学
式情報記録媒体（以下、光ディスクという）に関するも
のであり、更に詳しくは光ディスクの基板上に形成され
た情報形成層上にＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ等の金属アル
コキシド及び／又はその部分加水分解物の縮合物からな
る表面保護層を設けた光学式情報記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、取り扱われる情報量の急激な増加
に伴い、情報処理技術も急激な発展を遂げているが、こ
れらの大量の情報の処理及び蓄積の手段として光ディス
クが注目されている。

【０００３】この光ディスクはプラスチック乃至ガラス
製の透明基板の片面に記録膜とその上に一般にＡｌ等の
金属反射膜を設けた情報形成層を有するが、この情報形
成層の配置によって光ディスクは片面記録タイプ或は両
面記録タイプに分類され、このうち両面記録タイプのも
のは密着構造タイプ、エアサンドタイプに分けることが
できる。

【０００４】密着構造タイプは図１に示すように、一方
の面に情報形成層２を設けた２枚の透明基板１を互いに
情報形成層２を内側に向かい合わせて、接着剤３を介し
て接合し、透明基板１、１の外側にコーティング剤４を
塗布したものである。

【０００５】エアサンドタイプは図２に示すように、一
方の面に情報形成層２を設けた２枚の透明基板１を情報
形成層２を内側に向かい合わせて中心部と周辺部のスペ
ーサー５を挟んで接合し、透明基板１、１の外側にコー
ティング剤４を塗布したものである。

【０００６】ここで、接着剤３としてはホットメルト系
の接着剤が使用されているが、これを塗布する際、接着
剤自身の有する粘着性や接着剤中に存在する異物等によ
り情報形成層２表面の金属反射膜が傷付けられたり、剥
離されたりすることが起る。

【０００７】また、情報形成層２の記録膜は水分やヒー
トサイクルに弱く、特に光磁気ディスク用情報記録膜は
Ｇｄ−Ｃｏ，Ｔｂ−Ｃｏ，Ｇｄ−Ｆｅ，Ｔｂ−Ｆｅなど
の二元合金、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｇｄ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｇ
ｄ−Ｔｂ−Ｆｅ，Ｇｄ−Ｔｂ−Ｃｏなどの三元合金、Ｇ
ｄ−Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏなどの四元合金で構成され、これ
らの合金薄膜は大気中の酸素や水により腐食或は酸化さ
れてしまい、情報の記録、再生が不可能になるなどこの
傾向が強い。

【０００８】このような欠点を解消するために、従来は
情報形成層２上にＳｉＯ，ＳｉＯ₂，Ｓｉ₃ Ｎ₄ ，Ａｌ₂
Ｏ₃ 等の無機質の保護膜を設け、保護膜と透明基板１
との間に情報形成層２をサンドイッチする方法が取られ
てきた。

【０００９】

【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、上述
のような無機質の保護膜の形成は蒸着やスパッタなどの
方法によって行なわれるが、このためには真空装置を用
いて成膜しなければならず、またその成膜には時間が掛
かるなど、設備投資や人件費が掛かる等の難点がある。

【００１０】一方、片面記録タイプの光ディスクのうち
単板タイプのものは、図３に示すように情報形成層２の
上に保護樹脂層６を被覆してあるが、これら樹脂層は軟
質であり、しかも耐湿性、耐熱性欠けるところから図１
乃至図２に示すような両面記録タイプの光ディスクの保
護膜として使用した場合には、情報形成層２が物理的に
変形してしまう等の難点がある。

【００１１】そこで、本願発明者は情報形成層の上に塗
布性、密着性が良好で、しかも硬化後の成膜が耐湿性、
耐熱性に優れ、かつ高硬度でディスク基板の情報形成層
に対して物理的変形を与えないような保護膜を開発して
光ディスクの生産性、歩留まり、信頼性向上に寄与する
ことを目的とする。

【００１２】

【問題点を解決するための手段】以上の問題点を解決す
るため、この発明では透明基板上に形成された記録層、
光反射層からなる情報形成層上に、下記一般式の金属ア
ルコキシド及び／又はその部分加水分解物の縮合物から
なる表面保護層を設けた光学式情報記録媒体を提案する
ものである。

【００１３】Ｒ¹ _mＭ（ＯＲ）_n-m （上記式中、ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｒは炭素数
１〜５の炭化水素残基、Ｒ¹ は有機官能基、ｎはＭの有
し得る価数、ｍは０以上ｎ未満の整数を示す）

【００１４】この発明において、種々の金属アルコキシ
ドのうち、特にＳｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ａｌの金属アルコキ
シドを用いる利点としては、価格が比較的安価で入手
し易いこと、80℃以下の低温における反応性が良好で
あること、造膜性が良好であるなどを挙げることがで
きる。

【００１５】また、金属アルコキシドの部分加水分解物
を用いる利点としては、見掛けの硬化時間が短縮され
る、硬化収縮が低減できる、造膜性が向上するなど
を挙げられる。

【００１６】これら金属アルコキシドのアルコキシ残基
としては、通常炭素数１〜５のアルコキシ基が用いら
れ、またこれら金属アルコキシド及びその部分加水分解
物はそれぞれ１種または２種以上を併用することもでき
る。

【００１７】この発明に供し得る金属アルコキシドの具
体例としては以下のものを例示することができる。Ｓｉ化合物 テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ
（２−メトキシエトキシ）シラン、テトラｎ−プロポキ
シシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ−ブ
トキシシラン、テトライソプトキシシラン、テトラｓｅ
ｃ−ブトキシシラン、テトラｔｅｒｔ−ブトキシシラ
ン、、エチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキ
シシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエト
キシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエ
トキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキ
シプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピ
ルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエ
トキシシラン等である。

【００１８】Ｔｉ化合物 チタンテトラエトキシド、チタンテトラｎ−プロポキシ
ド、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラｎ−
ブトキシド、チタンテトライソブトキシド、チタンテト
ラｓｅｃ−ブトキシド、チタンテトラｔｅｒｔ−ブトキ
シドなどである。

【００１９】Ｚｒ化合物 ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラｎ
−プロポキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシ
ド、ジルコニウムテトライソブトキシド、ジルコニウム
テトラｔｅｒｔ−ブトキシドなどである。

【００２０】Ａｌ化合物 アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリｎ−プ
ロポキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アル
ミニウムトリｎ−ブトキシド、アルミニウムトリイソブ
トキシド、アルミニウムトリｓｅｃ−ブトキシド、アル
ミニウムトリｔｅｒｔ−ブトキシド、アルミニウムアル
キルアセテートのジアルコキシドなどである。

【００２１】なお、この発明においては以上の金属アル
コキシドの部分的加水分解物を使用することができ、こ
れらの加水分解物は線状高分子物であっても、２次元高
分子物であってもよい。

【００２２】これらの塗料組成物には、固型分、硬化速
度を調整し、更に塗装性を向上させるために適宜水及び
有機溶剤を加えて調整する。

【００２３】このような有機溶剤としては、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、或はセロソルブ類など
のアルコール類及びアルコール誘導体、ケトン類、酢酸
エステル類、芳香族炭化水素の他、テトラヒドロフラ
ン、シクロヘキサンなどを用いることができ、これらの
有機溶剤は単独でも、或は２種以上を併用してもよい。

【００２４】また、この発明では塗膜形成のための硬化
促進剤として、酸、塩基、無機塩、有機金属化合物など
従来公知の加水分解触媒及びその手法を用いることがで
きるが、光ディスクの情報形成層は通常酸や塩基などに
より侵され易い材料で形成されているため、使用する硬
化促進剤の種類乃至添加量等には留意する必要がある。

【００２５】このようにして得られた塗料組成物は光デ
ィスクの透明基板上に形成された情報形成層の表面に塗
布する。塗布方法としてはスピンコートが好ましいが、
これに限定されず、公知の塗布方法を用いることができ
る。

【００２６】また、塗膜の膜厚は塗料組成物の固型分や
振切速度に応じて１〜50μm 程度の膜厚にすることがで
き、更に塗装を繰り返すことにより更に厚い膜厚とする
ことができる。

【００２７】塗布後、例えば室温下で上記金属アルコキ
シド乃至その部分的加水分解物の縮合物からなる保護層
が情報形成層上に成膜される。

【００２８】情報形成層上に保護層を設けた２枚の透明
基板は、図１に示すように接着剤を介して接合し、両面
記録の密着構造タイプの光ディスクとしてもよく、図２
に示すようにスペーサーを介して接合し、両面記録のエ
アサンドタイプの光ディスクとしてもよい。

【００２９】情報形成層上に保護層を設けた１枚の透明
基板で、図３に示すような単板タイプの光ディスクを構
成してもよい。

【００３０】

【実施例】以下、この発明の実施例を示す。 実施例１ テトラエトキシシラン100 部、 チタンテトラｎ−プロポ
キシド５部よりなる金属アルコキシド溶液を調整した。
次にこの溶液を光ディスクの情報形成層上にスピンコー
ターを用いて塗布した後、室温下にて成膜し、この発明
に係る光ディスクを得た。なお、情報形成層上の成膜の
厚さはこの実施例では約１μｍ以下ではクラックが生成
せず、また得られた光ディスクは実用上全く問題なく使
用することができた。

【００３１】実施例２ テトラエトキシシラン100 部、チタンテトラｎ−プロポ
キシド５部、ジルコニウムテトラエトキシド５部よりな
る金属アルコキシド溶液を調整した。次いでこの溶液を
光ディスクの情報形成層上にスピンコーターを用いて塗
布した後、室温下にて成膜し、この発明に係る光ディス
クを得た。なお、情報形成層上の成膜の厚さはこの実施
例では約３μｍ以下ではクラックが生成せず、また得ら
れた光ディスクは実用上問題なく使用することができ
た。

【００３２】実施例３ テトラエトキシシランの部分加水分解物のアルコール溶
液（コルコート社製：商品名ＡＳ−６）100 部、 チタン
テトラｎ−プロポキシド３部よりなる金属アルコキシド
溶液を調整した。次いで、この溶液を光ディスクの情報
形成層上にスピンコーターを用いて塗布した後、室温下
にてにて成膜し、この発明に係る光ディスクを得た。な
お、情報形成層上の成膜の厚さはこの実施例では約10μ
ｍ以下ではクラックが生成せず、また得られた光ディス
クは実用上問題なく使用することができた。

【００３３】実施例４ テトラエトキシシランの部分加水分解物のアルコール溶
液（コルコート社製：商品名ＡＳ−６）100 部、 チタン
テトラｎ−プロポキシド３部よりなる金属アルコキシド
溶液に可とう性付与を目的としてシリコンワニス（信越
化学工業社製：商品名ＫＲ−２５５）を20部添加したコ
ーティング剤溶液を調整した。次いで、この溶液を光デ
ィスクの情報形成層上にスピンコーターを用いて塗布し
た後、室温下にて成膜し、この発明に係る光ディスクを
得た。なお、情報形成層上の成膜の厚さはこの実施例で
は約10μｍ以下ではクラックが生成せず、また得られた
光ディスクは実用上問題なく使用することができた。

【００３４】

【発明の効果】以上要するに、この発明によれば光ディ
スクの情報形成層上に比較的簡便な方法で塗布性、密着
性が良好で、しかも硬化後の成膜が耐湿性、耐熱性に優
れ、かつ高硬度な表面保護層を形成でき、したがって光
ディスクの生産性、歩留まり、信頼性向上を図ることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】両面記録タイプの光学式情報記録媒体の一例を
示す断面図

【図２】両面記録タイプの光学式情報記録媒体の他の一
例を示す断面図

【図３】片面記録タイプの光学式情報記録媒体の一例を
示す断面図

【符号の説明】

１ 透明基板 ２ 情報形成層 ３ 接着剤層 ４ コーティング層 ５ スペーサー ６ 保護樹脂層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板上に形成された記録層、光反射
   層からなる情報形成層上に、下記一般式の金属アルコキ
   シド及び／又はその部分加水分解物の縮合物からなる表
   面保護層を設けたことを特徴とする光学式情報記録媒
   体。 Ｒ¹ _mＭ（ＯＲ）_n-m （上記式中、ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｒは炭素数
   １〜５の炭化水素残基、Ｒ¹ は有機官能基、ｎはＭの有
   し得る価数、ｍは０以上ｎ未満の整数を示す）