JPH0637483B2 - シツフ塩基化合物 - Google Patents
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Landscapes
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Pyrrole Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、除草剤を製造するための原料として有用な新
規なシッフ塩基化合物を提供するものである。
規なシッフ塩基化合物を提供するものである。
(従来の技術及び発明の解決しようとする問題点) 本発明者らは、シッフ塩基化合物を原料としたN−置換
−ハロアセトアミドの合成及びその生理活性の研究を行
なってきた。その結果、特定のN−置換−クロロアセト
アミドが優れた除草活性を有することを見い出した。
−ハロアセトアミドの合成及びその生理活性の研究を行
なってきた。その結果、特定のN−置換−クロロアセト
アミドが優れた除草活性を有することを見い出した。
従来、原料となるシッフ塩基化合物については数多くの
ものが合成されており、アミン化合物とアルデヒド化合
物又はケトン化合物とを反応させる方法が一般的であ
る。
ものが合成されており、アミン化合物とアルデヒド化合
物又はケトン化合物とを反応させる方法が一般的であ
る。
しかしながら、該合成方法によってシッフ塩基を合成す
る場合、原料アミン化合物は一般的なものに限られてい
た。即ち一般式(II)で示される様な (R′、R″、及びRは同種又は異種の水素原子、ア
ルキル基、又はアリール基を表わす。) 置換ビニルアミンは一般に不安定であり、該化合物をシ
ッフ塩基の原料として用いることは困難であるため窒素
原子に置換エテニル基が直結したシッフ塩基化合物は未
だ報告されておらず、従って該シッフ塩基化合物を原料
としたN−置換−ハロアセトアミドの除草活性は全く知
られていなかった。
る場合、原料アミン化合物は一般的なものに限られてい
た。即ち一般式(II)で示される様な (R′、R″、及びRは同種又は異種の水素原子、ア
ルキル基、又はアリール基を表わす。) 置換ビニルアミンは一般に不安定であり、該化合物をシ
ッフ塩基の原料として用いることは困難であるため窒素
原子に置換エテニル基が直結したシッフ塩基化合物は未
だ報告されておらず、従って該シッフ塩基化合物を原料
としたN−置換−ハロアセトアミドの除草活性は全く知
られていなかった。
(問題点を解決するための手段及び硬化) 本発明者らは、雑草のみを枯死させる選択除草活性に優
れたN−置換−ハロアセトアミドの合成について鋭意研
究を行なった。その結果、原料として特定のシッフ塩基
化合物を用いた場合に、選択除草活性に優れたN−置換
−ハロアセトアミドが得られることを見い出し、本発明
を完成させるに至った。
れたN−置換−ハロアセトアミドの合成について鋭意研
究を行なった。その結果、原料として特定のシッフ塩基
化合物を用いた場合に、選択除草活性に優れたN−置換
−ハロアセトアミドが得られることを見い出し、本発明
を完成させるに至った。
即ち、本発明は一般式 (式中、R1は置換されたもしくは非置換のヘテロアリ
ール基を表わし、 R2及びR3は同種又は異種の水素原子又は炭素原子数
1〜6のアルキル基を表わし、R2とR3とが相互に連
結して環状のアルキレン基を形成してもよく、 R4は水素原子、置換されたもしくは非置換の炭素原子
数1〜8のアルキル基、又は置換されたもしくは非置換
のアリール基を表わし、 R5は水素原子、又は炭素原子数1〜6のアルキル基を
表わし、Xは酸素原子またはイオウ原子を表わし、nは
0又は1を表わす。ただしR5 が水素原子の場合、nは0である。) で示されるシッフ塩基化合物である。
ール基を表わし、 R2及びR3は同種又は異種の水素原子又は炭素原子数
1〜6のアルキル基を表わし、R2とR3とが相互に連
結して環状のアルキレン基を形成してもよく、 R4は水素原子、置換されたもしくは非置換の炭素原子
数1〜8のアルキル基、又は置換されたもしくは非置換
のアリール基を表わし、 R5は水素原子、又は炭素原子数1〜6のアルキル基を
表わし、Xは酸素原子またはイオウ原子を表わし、nは
0又は1を表わす。ただしR5 が水素原子の場合、nは0である。) で示されるシッフ塩基化合物である。
上記一般式(I)中、R1は置換されたもしくは非置換
のヘテロアリール基である。非置換のヘテロアリール基
としては、酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子を含むヘ
テロアリール基、例えばフリル基、チェニル基、ピロリ
ル基、ベンゾフリル基、ベンゾチェニル基、ピラゾリル
基、イミダゾリル基及びチアゾリル基等が好適である。
のヘテロアリール基である。非置換のヘテロアリール基
としては、酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子を含むヘ
テロアリール基、例えばフリル基、チェニル基、ピロリ
ル基、ベンゾフリル基、ベンゾチェニル基、ピラゾリル
基、イミダゾリル基及びチアゾリル基等が好適である。
またヘテロアリール基は置換されてもよく、該置換基は
特に限定されず公知の置換可能な基が採用できる。具体
的に例示すれば次の通りである。即ち、炭素原子数1〜
6のアルキル基;塩素原子、臭素原子、ヨウ素及びフッ
素原子のハロゲン原子;炭素原子数1〜6のアルコキシ
基;炭素原子数1〜6のハロアルキル基;炭素原子数1
〜6のアルキルチオ基;炭素原子数1〜6からなるアル
キル基および/又は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子及
びフッ素原子からなる群から選ばれたハロゲン原子で置
換されたもしくは非置換のフェノキシ基;炭素原子数1
〜6からなるアルキル基および/又は塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子及びフッ素原子からなる群から選ばれた
ハロゲン原子で置換されたもしくは非置換のフェニル基
等である。
特に限定されず公知の置換可能な基が採用できる。具体
的に例示すれば次の通りである。即ち、炭素原子数1〜
6のアルキル基;塩素原子、臭素原子、ヨウ素及びフッ
素原子のハロゲン原子;炭素原子数1〜6のアルコキシ
基;炭素原子数1〜6のハロアルキル基;炭素原子数1
〜6のアルキルチオ基;炭素原子数1〜6からなるアル
キル基および/又は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子及
びフッ素原子からなる群から選ばれたハロゲン原子で置
換されたもしくは非置換のフェノキシ基;炭素原子数1
〜6からなるアルキル基および/又は塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子及びフッ素原子からなる群から選ばれた
ハロゲン原子で置換されたもしくは非置換のフェニル基
等である。
上記置換されたヘテロアリール基で最も好適なものを更
に具体的に例示すると次の通りである。即ちメチルフリ
ル、ジメチルフリル、エチルフリル、プロピルフリル、
クロロフリル、ブロモフリル、メトキシフリル、エトキ
シフリル、プロポキシフリル、(トリフルオロメチル)
フリル、メチルチオフリル、エチルチオフリル、フェノ
キシフリル、及びフェニルフリル等の置換フリル基;メ
チルチエニル、ジメチルチエニル、エチルチエニル、プ
ロピルチエニル、ブチルチエニル、フルオロチエニル、
クロロチエニル、ブロモチエニル、メトキシチエニル、
エトキシチエニル、プロポキシチエニル、(クロロチエ
ニル)チエニル、(トリフルオロメチル)チエニル、メ
チルチオチエニル、エチルチオチエニル、ジブロモチエ
ニル、ジメトキシチエニル、フェノキシチエニル、及び
フェニルチエニル等の置換チエニル基;N−メチルピロ
リル、N−エチルピロリル、メチル−N−メチルピロリ
ル、クロロ−N−エチルピロリル、メトキシ−N−メチ
ルピロリル、メチルチオ−N−メチルピロリル、及びフ
ェノキシ−N−メチルピロリル等の置換ピロリル基;メ
チルベンゾフリル、クロロベンゾフリル、エトキシベン
ゾフリル、(トリフルオロメチル)ベンゾフリル、及び
フェノキシベンゾフリル等の置換ベンゾフリル基;エチ
ルベンゾチエニル、フルオロベンゾチエニル、メトキシ
ベンゾチエニル、及びフェニルベンゾチエニル等の置換
ベンゾチエニル基;メチルピラゾリル基、ジメチルピラ
ゾリル基、フェニルピラゾリル基、メトキシイミダゾリ
ル基、フェニルイミダゾリル基、及びメチルチアゾリル
基等が挙げられる。
に具体的に例示すると次の通りである。即ちメチルフリ
ル、ジメチルフリル、エチルフリル、プロピルフリル、
クロロフリル、ブロモフリル、メトキシフリル、エトキ
シフリル、プロポキシフリル、(トリフルオロメチル)
フリル、メチルチオフリル、エチルチオフリル、フェノ
キシフリル、及びフェニルフリル等の置換フリル基;メ
チルチエニル、ジメチルチエニル、エチルチエニル、プ
ロピルチエニル、ブチルチエニル、フルオロチエニル、
クロロチエニル、ブロモチエニル、メトキシチエニル、
エトキシチエニル、プロポキシチエニル、(クロロチエ
ニル)チエニル、(トリフルオロメチル)チエニル、メ
チルチオチエニル、エチルチオチエニル、ジブロモチエ
ニル、ジメトキシチエニル、フェノキシチエニル、及び
フェニルチエニル等の置換チエニル基;N−メチルピロ
リル、N−エチルピロリル、メチル−N−メチルピロリ
ル、クロロ−N−エチルピロリル、メトキシ−N−メチ
ルピロリル、メチルチオ−N−メチルピロリル、及びフ
ェノキシ−N−メチルピロリル等の置換ピロリル基;メ
チルベンゾフリル、クロロベンゾフリル、エトキシベン
ゾフリル、(トリフルオロメチル)ベンゾフリル、及び
フェノキシベンゾフリル等の置換ベンゾフリル基;エチ
ルベンゾチエニル、フルオロベンゾチエニル、メトキシ
ベンゾチエニル、及びフェニルベンゾチエニル等の置換
ベンゾチエニル基;メチルピラゾリル基、ジメチルピラ
ゾリル基、フェニルピラゾリル基、メトキシイミダゾリ
ル基、フェニルイミダゾリル基、及びメチルチアゾリル
基等が挙げられる。
前記一般式(I)中のR2及びR3と同種又は異種の水
素原子、炭素原子数1〜6のアルキル基であり、また該
R2とR3とは相互に連結して環状のアルキレン基を形
成してもよい。該アルキル基は直鎖状もしくは分枝状の
アルキル基のいずれでもよく、具体的に例示すればメチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、
n−ブチル基、iso−ブチル基、n−ペンチル基、及び
n−ヘキシル基等である。また前記R2とR3とが相互
に連結して環状のアルキレン基を形成するときの、該ア
ルキレン基は、エチレン基、トリメチレン基、テトラメ
チレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプ
タメチレン基、及びオクタメチレン基等が好適である。
素原子、炭素原子数1〜6のアルキル基であり、また該
R2とR3とは相互に連結して環状のアルキレン基を形
成してもよい。該アルキル基は直鎖状もしくは分枝状の
アルキル基のいずれでもよく、具体的に例示すればメチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、
n−ブチル基、iso−ブチル基、n−ペンチル基、及び
n−ヘキシル基等である。また前記R2とR3とが相互
に連結して環状のアルキレン基を形成するときの、該ア
ルキレン基は、エチレン基、トリメチレン基、テトラメ
チレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプ
タメチレン基、及びオクタメチレン基等が好適である。
前記一般式(I)で示されるR4は水素原子、置換され
たもしくは非置換の炭素原子数1〜8のアルキル基、又
は置換されたもしくは非置換のアリール基である。前記
非置換アルキル基は、前記R2及びR3で具体的に例示
したものが好適であり、これらの他に例えば、ヘプチル
基、オクチル基等の炭素原子数7、8のアルキル基が好
適である。また該アルキル基は置換されていてもよく、
該置換基は特に限定されないが、一般に工業的に好適な
ものを例示すれば次の通りである。即ち、炭素原子数1
〜6のアルコキシ基;炭素原子数1〜6のアルキルチオ
基;炭素原子数1〜6のアルキルカルボニル基;炭素原
子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキ
シ基、又はハロゲン原子で置換されたもしくは非置換の
フェノキシ基;炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原
子数1〜6のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換さ
れたもしくは非置換のフェニル基等である。好適な置換
されたアルキル基を具体的に例示すれば次の通りであ
る。例えば、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキ
シプロピル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキ
シプロピル、エトキシペンチル、プロポキシメチル、プ
ロポキシエチル、プロポキシブチル、ブトキシエチル、
ブトキシプロピル、及びペントキシエチル等のアルコキ
シアルキル基;メチルチオメチル、メチルチオエチル、
メチルチオプロピル、メチルチオブチル、メチルチオペ
ンチル、エチルチオエチル、プロピルチオメチル、プロ
ピルチオプロピル、及びブチルチオメチル等のアルキル
チオアルキル基;メチルカルボニルメチル、メチルカル
ボニルエチル、メチルカルボニルプロピル、メチルカル
ボニルブチル、メチルカルボニルペンチル、メチルカル
ボニルヘキシル、エチルカルボニルエチル、エチルカル
ボニルプロピル、エチルカルボニルヘキシル、プロピル
カルボニルメチル、プロピルカルボニルプロピル、ブチ
ルカルボチルエチル、ペンチルカルボニルプロピル、及
びヘキシルカルボニルブチル等のアルキルカルボニルア
ルキル基;フェノキシメチル、フェノキシエチル、フェ
ノキシプロピル、フェノキシブチル、(メチルフェノキ
シ)エチル、(エチルフェノキシ)メチル、(プロピル
フェノキシ)エチル、(メトキシフェノキシ)プロピ
ル、(エトキシフェノキシ)ブチル、(プロポキシフェ
ノキシ)エチル、(クロロフェノキシ)メチル、(ブロ
モフェノキシ)エチル、(フルオロフェノキシ)プロピ
ル、及び〔(クロロ)メチルフェノキシ〕エチル等のフ
ェノキシアルキル基;フェニルメチル、フェニルエチ
ル、フェニルプロピル、(メチルフェニル)エチル、
(エチルフェニル)プロピル、(プロピルフェニル)メ
チル、(メトキシフェニル)メチル、(メトキシフェニ
ル)プロピル、(エトキシフェニル)エチル、及び(プ
ロポキシフェニル)エチル等のフェニルアルキル基が挙
げられる。
たもしくは非置換の炭素原子数1〜8のアルキル基、又
は置換されたもしくは非置換のアリール基である。前記
非置換アルキル基は、前記R2及びR3で具体的に例示
したものが好適であり、これらの他に例えば、ヘプチル
基、オクチル基等の炭素原子数7、8のアルキル基が好
適である。また該アルキル基は置換されていてもよく、
該置換基は特に限定されないが、一般に工業的に好適な
ものを例示すれば次の通りである。即ち、炭素原子数1
〜6のアルコキシ基;炭素原子数1〜6のアルキルチオ
基;炭素原子数1〜6のアルキルカルボニル基;炭素原
子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキ
シ基、又はハロゲン原子で置換されたもしくは非置換の
フェノキシ基;炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原
子数1〜6のアルコキシ基、又はハロゲン原子で置換さ
れたもしくは非置換のフェニル基等である。好適な置換
されたアルキル基を具体的に例示すれば次の通りであ
る。例えば、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキ
シプロピル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキ
シプロピル、エトキシペンチル、プロポキシメチル、プ
ロポキシエチル、プロポキシブチル、ブトキシエチル、
ブトキシプロピル、及びペントキシエチル等のアルコキ
シアルキル基;メチルチオメチル、メチルチオエチル、
メチルチオプロピル、メチルチオブチル、メチルチオペ
ンチル、エチルチオエチル、プロピルチオメチル、プロ
ピルチオプロピル、及びブチルチオメチル等のアルキル
チオアルキル基;メチルカルボニルメチル、メチルカル
ボニルエチル、メチルカルボニルプロピル、メチルカル
ボニルブチル、メチルカルボニルペンチル、メチルカル
ボニルヘキシル、エチルカルボニルエチル、エチルカル
ボニルプロピル、エチルカルボニルヘキシル、プロピル
カルボニルメチル、プロピルカルボニルプロピル、ブチ
ルカルボチルエチル、ペンチルカルボニルプロピル、及
びヘキシルカルボニルブチル等のアルキルカルボニルア
ルキル基;フェノキシメチル、フェノキシエチル、フェ
ノキシプロピル、フェノキシブチル、(メチルフェノキ
シ)エチル、(エチルフェノキシ)メチル、(プロピル
フェノキシ)エチル、(メトキシフェノキシ)プロピ
ル、(エトキシフェノキシ)ブチル、(プロポキシフェ
ノキシ)エチル、(クロロフェノキシ)メチル、(ブロ
モフェノキシ)エチル、(フルオロフェノキシ)プロピ
ル、及び〔(クロロ)メチルフェノキシ〕エチル等のフ
ェノキシアルキル基;フェニルメチル、フェニルエチ
ル、フェニルプロピル、(メチルフェニル)エチル、
(エチルフェニル)プロピル、(プロピルフェニル)メ
チル、(メトキシフェニル)メチル、(メトキシフェニ
ル)プロピル、(エトキシフェニル)エチル、及び(プ
ロポキシフェニル)エチル等のフェニルアルキル基が挙
げられる。
また前記R4における置換されたもしくは非置換のアリ
ール基のうち非置換のアリール基としては、フェニル
基、ナフチル基、アントラニル基、及びフェナンスレニ
ル基等が好適である。
ール基のうち非置換のアリール基としては、フェニル
基、ナフチル基、アントラニル基、及びフェナンスレニ
ル基等が好適である。
また上記アリーナ基は置換されてもよく、該置換基は特
に限定されず公知の置換可能な基が採用できる。具体的
に例示すれば次の通りである。即ち、炭素原子数1〜6
のアルキル基;塩素原子、臭素原子、ヨウ素及びフッ素
原子のハロゲン原子;炭素原子数1〜6のアルコキシ
基;炭素原子数1〜6のはハロアルキル基;炭素原子数
1〜6のアルキルチオ基;炭素原子数1〜6からなるア
ルキル基および/又は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
及びフッ素原子からなる群から選ばれたハロゲン原子で
置換されたもしくは非置換のフェノキシ基;炭素原子数
1〜6からなるアルキル基および/又は塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子及びフッ素原子からなる群から選ばれ
たハロゲン原子で置換されたもしくは非置換のフェニル
基等である。
に限定されず公知の置換可能な基が採用できる。具体的
に例示すれば次の通りである。即ち、炭素原子数1〜6
のアルキル基;塩素原子、臭素原子、ヨウ素及びフッ素
原子のハロゲン原子;炭素原子数1〜6のアルコキシ
基;炭素原子数1〜6のはハロアルキル基;炭素原子数
1〜6のアルキルチオ基;炭素原子数1〜6からなるア
ルキル基および/又は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
及びフッ素原子からなる群から選ばれたハロゲン原子で
置換されたもしくは非置換のフェノキシ基;炭素原子数
1〜6からなるアルキル基および/又は塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子及びフッ素原子からなる群から選ばれ
たハロゲン原子で置換されたもしくは非置換のフェニル
基等である。
上記置換されたアリール基で最も好適なものを更に具体
的に例示すると次の通りである。即ち、メチルフェニ
ル、ジメチルフェニル、エチルフェニル、ジメチルフェ
ニル、プロピルフェニル、ブチルフェニル、ペンチルフ
ェニル、メチルエチルフェニル、及びメチルプロピルフ
ェニル等のアルキルフェニル基;フルオロフェニル、ジ
フルオロフェニル、クロロフェニル、ジクロロフェニ
ル、トリクロロフェニル、ブロモフェニル、及びヨード
フェニル等のハロフェニル基;メトキシフェニル、ジメ
トキシフェニル、エトキシフェニル、プロポキシフェニ
ル、及びブトキシフェニル等のアルコキシフェニル基;
(クロロメチル)フェニル、(クロロエチル)フェニ
ル、(クロロプロピル)フェニル、(ブロモエチル)フ
ェニル、(フルオロエチル)フェニル、及び(トリフル
オロメチル)フェニル等の(ハロアルキル)フェニル
基;メチルチオフェニル、エチルチオフェニル、及びプ
ロピルチオフェニル等のアルキルチオフェニル基;フェ
ノキシフェニル、(メチルフェノキシ)フェニル、(エ
チルフェノキシ)フェニル、(クロロフェノキシ)フェ
ニル、(ブロモフェノキシ)フェニル、(フルオロフェ
ノキシ)フェニル、及び〔クロロ(メチル)フェノキ
シ〕フェニル等のフェノキシフェニル基;(メチルフェ
ニル)フェニル、(エチルフェニル)フェニル、(プロ
ピルフェニル)フェニル、(クロロフェニル)フェニ
ル、及び(フルオロフェニル)フェニル等のフェニルフ
ェニル基;クロロ(メチル)フェニル、クロロ(エトキ
シ)フェニル、及びメチル(メトキシ)フェニル等の置
換フェニル基;メチルナフチル、ジメチルナフチル、エ
チルナフチル、クロロナフチル、ブロモナフチル、ジク
ロロナフチル、メトキシナフチル、(トリフルオロメチ
ル)ナフチル、メチルチオナフチル、フェノキシナフチ
ル、フェニルナフチル、メチルアントラニル、クロロア
ントラニル、メトキシアントラニル、及びメチルフェナ
ンスリル等の置換アリーナ基が挙げられる。
的に例示すると次の通りである。即ち、メチルフェニ
ル、ジメチルフェニル、エチルフェニル、ジメチルフェ
ニル、プロピルフェニル、ブチルフェニル、ペンチルフ
ェニル、メチルエチルフェニル、及びメチルプロピルフ
ェニル等のアルキルフェニル基;フルオロフェニル、ジ
フルオロフェニル、クロロフェニル、ジクロロフェニ
ル、トリクロロフェニル、ブロモフェニル、及びヨード
フェニル等のハロフェニル基;メトキシフェニル、ジメ
トキシフェニル、エトキシフェニル、プロポキシフェニ
ル、及びブトキシフェニル等のアルコキシフェニル基;
(クロロメチル)フェニル、(クロロエチル)フェニ
ル、(クロロプロピル)フェニル、(ブロモエチル)フ
ェニル、(フルオロエチル)フェニル、及び(トリフル
オロメチル)フェニル等の(ハロアルキル)フェニル
基;メチルチオフェニル、エチルチオフェニル、及びプ
ロピルチオフェニル等のアルキルチオフェニル基;フェ
ノキシフェニル、(メチルフェノキシ)フェニル、(エ
チルフェノキシ)フェニル、(クロロフェノキシ)フェ
ニル、(ブロモフェノキシ)フェニル、(フルオロフェ
ノキシ)フェニル、及び〔クロロ(メチル)フェノキ
シ〕フェニル等のフェノキシフェニル基;(メチルフェ
ニル)フェニル、(エチルフェニル)フェニル、(プロ
ピルフェニル)フェニル、(クロロフェニル)フェニ
ル、及び(フルオロフェニル)フェニル等のフェニルフ
ェニル基;クロロ(メチル)フェニル、クロロ(エトキ
シ)フェニル、及びメチル(メトキシ)フェニル等の置
換フェニル基;メチルナフチル、ジメチルナフチル、エ
チルナフチル、クロロナフチル、ブロモナフチル、ジク
ロロナフチル、メトキシナフチル、(トリフルオロメチ
ル)ナフチル、メチルチオナフチル、フェノキシナフチ
ル、フェニルナフチル、メチルアントラニル、クロロア
ントラニル、メトキシアントラニル、及びメチルフェナ
ンスリル等の置換アリーナ基が挙げられる。
前記一般式(I)で示されるR5は水素原子又は炭素原
子数1〜6のアルキル基である。該アルキル基は前記R
2及びR3のアルキル基と同じ基が好適である。
子数1〜6のアルキル基である。該アルキル基は前記R
2及びR3のアルキル基と同じ基が好適である。
前記一般式(I)中、Xは酸素原子又はイオウ原子であ
る。またnは0又は1である。ただしR5が水素原子で
ある場合には、nは0である。
る。またnは0又は1である。ただしR5が水素原子で
ある場合には、nは0である。
以上、具体的に例示した基を有する化合物には多くの場
合、種々の位置異性体が存在するが、とくに限定されず
本発明に供することができる。
合、種々の位置異性体が存在するが、とくに限定されず
本発明に供することができる。
本発明の前記一般式(I)で示される化合物の構造は、
次の手段により確認することができる。
次の手段により確認することができる。
(イ)赤外吸収スペクトル(ir)を測定することにより、305
0cm-1〜2800cm-1付近にCH結合に基づく吸収、1630cm-1
付近に に基づく強い吸収等を観察することができる。
0cm-1〜2800cm-1付近にCH結合に基づく吸収、1630cm-1
付近に に基づく強い吸収等を観察することができる。
(ロ)質量スペクトル(mS)を測定し、観察される各ピーク
(一般にはイオン分子量mをイオン質量数eで除したm
/eで表わされる質量数)に相当する組成式を算出する
ことにより、測定に供した化合物の分子量ならび該分子
内における各原子団の結合様式を知ることができる。即
ち、測定に供した試料を一般式 で表わした場合、一般に分子イオンピーク(以下M と
略記する)が観察され、測定に供した化合物の分子量を
決定することができる。さらに前記一般式で示される本
発明の化合物については、M −(X)nR5等に相当
する特徴的ピークが観察され、該分子内の結合様式を知
ることができる。
(一般にはイオン分子量mをイオン質量数eで除したm
/eで表わされる質量数)に相当する組成式を算出する
ことにより、測定に供した化合物の分子量ならび該分子
内における各原子団の結合様式を知ることができる。即
ち、測定に供した試料を一般式 で表わした場合、一般に分子イオンピーク(以下M と
略記する)が観察され、測定に供した化合物の分子量を
決定することができる。さらに前記一般式で示される本
発明の化合物については、M −(X)nR5等に相当
する特徴的ピークが観察され、該分子内の結合様式を知
ることができる。
(ハ)1H−核磁気共鳴スペクトル(1H−nmr)を測定す
ることにより、前記一般式で表わされる本発明の化合物
中に存在する水素原子の結合様子を知ることができる。
前記一般式(I)で示される化合物の1H−nmr〔テト
ラメチルシラン基準、δ(ppm)〕の代表例として、下
記化合物の解析結果を示すと次の通りである。
ることにより、前記一般式で表わされる本発明の化合物
中に存在する水素原子の結合様子を知ることができる。
前記一般式(I)で示される化合物の1H−nmr〔テト
ラメチルシラン基準、δ(ppm)〕の代表例として、下
記化合物の解析結果を示すと次の通りである。
即ち、1.32ppmにメチル基(f)に基づくプロトン3個分の
3重線、1.85ppmにメチル基(c)に基づくプロトン6個分
の2重線、4.18ppmにメチレン基(e)に基づくプロトン2
個分の4重線、6.15ppmにチオフェン環(a)に基づくプロ
トン1個分の2重線、6.40ppmにチオフェン環(b)に基づ
くプロトン1個分の2重線、及び7.23ppmにメチン基(d)
に基づくプロトン1個分の1重線が観察された。
3重線、1.85ppmにメチル基(c)に基づくプロトン6個分
の2重線、4.18ppmにメチレン基(e)に基づくプロトン2
個分の4重線、6.15ppmにチオフェン環(a)に基づくプロ
トン1個分の2重線、6.40ppmにチオフェン環(b)に基づ
くプロトン1個分の2重線、及び7.23ppmにメチン基(d)
に基づくプロトン1個分の1重線が観察された。
(ニ)元素分析によって炭素、水素、窒素、及びハロゲン
(又は、イオウを含む場合にはイオウ)の各重量%を求
め、さらに認知された各元素の重量%の和を100から
減じることにより酸素の重量%を算出することができ、
従って該化合物の組成式を決定することができる。
(又は、イオウを含む場合にはイオウ)の各重量%を求
め、さらに認知された各元素の重量%の和を100から
減じることにより酸素の重量%を算出することができ、
従って該化合物の組成式を決定することができる。
本発明のシッフ塩基化合物は、前記一般式中のR1、R
2、R3、R4、R5、X、及びnの種類、ならびに精
製の度合いによって多少性状が異なるが、一般に常温常
圧においては無色から黄色の液体又は固体である。本発
明の化合物は、ベンゼン、エーテル、アルコール、クロ
ロホルム、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド等の一般有機溶媒には可溶である
が、水には難溶である。
2、R3、R4、R5、X、及びnの種類、ならびに精
製の度合いによって多少性状が異なるが、一般に常温常
圧においては無色から黄色の液体又は固体である。本発
明の化合物は、ベンゼン、エーテル、アルコール、クロ
ロホルム、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド等の一般有機溶媒には可溶である
が、水には難溶である。
本発明の前記一般式(I)で示される化合物の製造方法
は特に限定されるものではない、代表的な製造方法を記
述すれば以下のようになる。
は特に限定されるものではない、代表的な製造方法を記
述すれば以下のようになる。
一般式 (式中、R1、R2、及びR3は前記と同じであり、A
は水素原子又は(トリアルキル)シリル基である。〕 で示されるイミン化合物と、一般式 (式中、R4、R5、X、及びnは前記と同じであり、
Y及びZは水素原子又はアルキル基である。ただし、n
が0の場合は、 部分が となっても良い。) で示される化合物とを反応させることにより、前記一般
式(I)で示される化合物を得ることができる。
は水素原子又は(トリアルキル)シリル基である。〕 で示されるイミン化合物と、一般式 (式中、R4、R5、X、及びnは前記と同じであり、
Y及びZは水素原子又はアルキル基である。ただし、n
が0の場合は、 部分が となっても良い。) で示される化合物とを反応させることにより、前記一般
式(I)で示される化合物を得ることができる。
該方法の原料となる前記一般式(III)で示されるイミ
ン化合物はいかなる方法で得られたものでもよい。一般
式には、下記式の如くニトリル化合物と有機マグネシウ
ム化合物又は有機リチウム化合物との反応によって得ら
れる。
ン化合物はいかなる方法で得られたものでもよい。一般
式には、下記式の如くニトリル化合物と有機マグネシウ
ム化合物又は有機リチウム化合物との反応によって得ら
れる。
(式中、R1、R2、R3、及びAは前記と同じであ
り、QはLi又はMgCl、MgBr、MgIであ
る。) 該反応における両化合物の仕込みモル比は必要に応じて
適宜決定すればよいが、通常等モルもしくは一般式(I
V)の化合物をやや過剰に使用するのが一般的である。
また、両化合物の添加順序は特に限定されない。
り、QはLi又はMgCl、MgBr、MgIであ
る。) 該反応における両化合物の仕込みモル比は必要に応じて
適宜決定すればよいが、通常等モルもしくは一般式(I
V)の化合物をやや過剰に使用するのが一般的である。
また、両化合物の添加順序は特に限定されない。
該反応は有機溶媒中もしくは無溶媒で行なうことができ
る。有機溶媒を使用する場合好適なものを例示すれば、
ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、クロロホル
ム、塩化メチレン、エチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、アセ
トニトリル、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ヘキサメチルホスホルアミド、及びジメチルスルホ
キシド等が挙げられる。
る。有機溶媒を使用する場合好適なものを例示すれば、
ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、クロロホル
ム、塩化メチレン、エチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、アセ
トニトリル、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ヘキサメチルホスホルアミド、及びジメチルスルホ
キシド等が挙げられる。
前記反応における反応温度は広い範囲から選択でき、一
般には−50℃〜200℃、好ましくは−30℃〜15
0℃の範囲で選べばよい。反応時間は、原料及び反応温
度によっても異なるが、通常5分〜10日間、好ましく
は30分〜2日間の範囲で選べばよい。また反応中は撹
拌を行なうことが好ましい。
般には−50℃〜200℃、好ましくは−30℃〜15
0℃の範囲で選べばよい。反応時間は、原料及び反応温
度によっても異なるが、通常5分〜10日間、好ましく
は30分〜2日間の範囲で選べばよい。また反応中は撹
拌を行なうことが好ましい。
また該反応を促進するために、反応系に塩酸、酢酸、p
−トルエンスルホン酸等の酸、BF3・Et2O、塩化アルミニ
ウム等のルイス酸、水素化カルシウム、モレキュラーシ
ーブス、シリカゲル、又はアルミナ等を添加する手段
は、しばしば好適に用いられる。
−トルエンスルホン酸等の酸、BF3・Et2O、塩化アルミニ
ウム等のルイス酸、水素化カルシウム、モレキュラーシ
ーブス、シリカゲル、又はアルミナ等を添加する手段
は、しばしば好適に用いられる。
目的精製物、即ち、前記一般式(I)で示されるシッフ
塩基化合物を単離精製する方法は特に限定されず、公知
の方法を採用できる。例えば、反応液から反応溶媒を留
去した後、残渣を真空蒸留することにより目的物を得る
ことができる。また無溶媒で反応を行なった場合は、反
応液を真空蒸留することにより目的物を得ることができ
る。さらに、クロマトグラフによる精製、あるいは生成
物が固体である場合には、再結晶による精製等も採用す
ることができる。
塩基化合物を単離精製する方法は特に限定されず、公知
の方法を採用できる。例えば、反応液から反応溶媒を留
去した後、残渣を真空蒸留することにより目的物を得る
ことができる。また無溶媒で反応を行なった場合は、反
応液を真空蒸留することにより目的物を得ることができ
る。さらに、クロマトグラフによる精製、あるいは生成
物が固体である場合には、再結晶による精製等も採用す
ることができる。
本発明の前記一般式(I)で示されるシッフ塩基化合物
は、優れた選択除草活性を有する除草剤の原料として有
用な化合物である。
は、優れた選択除草活性を有する除草剤の原料として有
用な化合物である。
例えば、本発明のシッフ塩基化合物、トリクロロシラン
又はジクロロシラン、及びクロロアセチルクロライドと
反応させて、一般式 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、X、及びnは
前記と同じである。) で示されるN−置換−クロロアセトアミドを得ることが
できる。
又はジクロロシラン、及びクロロアセチルクロライドと
反応させて、一般式 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、X、及びnは
前記と同じである。) で示されるN−置換−クロロアセトアミドを得ることが
できる。
本発明のシッフ塩基からN−置換−クロロアセトアミド
を得る際、反応を無溶媒で行なうこともできるが、一般
には溶媒中で行なうのが好ましい。該溶媒としては、共
存する原料、例えばトリクロロシラン又はジクロロシラ
ン及びクロロアセチルクロライドと相互作用しない不活
性な有機溶媒であれば限定されず使用できる。一般には
ベンゼン、トルエン、クロロホルム、及びアセトニトリ
ル等が好適に使用される。また該反応における原料の仕
込みモル比は特に限定されるものではないが、副生成物
の増加及び経済性を考慮すると、シッフ塩基1モルに対
してトリクロロシラン又はジクロロシランを1〜2モ
ル、クロロアセチルクロライドを1〜1.2モルの割合
で使用するのが好ましい。
を得る際、反応を無溶媒で行なうこともできるが、一般
には溶媒中で行なうのが好ましい。該溶媒としては、共
存する原料、例えばトリクロロシラン又はジクロロシラ
ン及びクロロアセチルクロライドと相互作用しない不活
性な有機溶媒であれば限定されず使用できる。一般には
ベンゼン、トルエン、クロロホルム、及びアセトニトリ
ル等が好適に使用される。また該反応における原料の仕
込みモル比は特に限定されるものではないが、副生成物
の増加及び経済性を考慮すると、シッフ塩基1モルに対
してトリクロロシラン又はジクロロシランを1〜2モ
ル、クロロアセチルクロライドを1〜1.2モルの割合
で使用するのが好ましい。
また前記反応に於ける反応温度は特に限定されず広い温
度範囲で選ぶことができるが、一般には−20℃〜15
0℃の範囲から選べばよい。更にまた反応時間は反応温
度によっても異なるが、一般には数分から数日例えば5
分〜10日の間で選べばよい。
度範囲で選ぶことができるが、一般には−20℃〜15
0℃の範囲から選べばよい。更にまた反応時間は反応温
度によっても異なるが、一般には数分から数日例えば5
分〜10日の間で選べばよい。
該反応における各原料の添加順序は特に限定されず必要
に応じて選べばよい。一般にはシッフ塩基化合物に室温
又は冷却下にて、トリクロロシラン又はジクロロシラン
及びクロロアセチルクロライドを添加すれば良い。ま
た、トリクロロシラン又はジクロロシラン及びクロロア
セチルクロライドの溶液にシッフ塩基化合物を添加して
もよい。これらの場合、一般に溶媒を用いる場合が多
く、溶媒中にシッフ塩基化合物、トリクロロシラン又は
ジクロロシラン、及びクロロアセチルクロライドの三成
分を添加反応させてもよく、各成分を該溶媒に溶解して
おき、この溶媒をそれぞれ添加して反応させてもよい。
に応じて選べばよい。一般にはシッフ塩基化合物に室温
又は冷却下にて、トリクロロシラン又はジクロロシラン
及びクロロアセチルクロライドを添加すれば良い。ま
た、トリクロロシラン又はジクロロシラン及びクロロア
セチルクロライドの溶液にシッフ塩基化合物を添加して
もよい。これらの場合、一般に溶媒を用いる場合が多
く、溶媒中にシッフ塩基化合物、トリクロロシラン又は
ジクロロシラン、及びクロロアセチルクロライドの三成
分を添加反応させてもよく、各成分を該溶媒に溶解して
おき、この溶媒をそれぞれ添加して反応させてもよい。
上記反応で得られるアミド化合物の精製方法は、特に限
定されるものではない。一般には反応終了後、常圧、減
圧もしくは真空蒸留を行なえば良く、必要に応じて洗
浄、再結晶、又はクロマトグラフによる精製方法も用い
ることができる。
定されるものではない。一般には反応終了後、常圧、減
圧もしくは真空蒸留を行なえば良く、必要に応じて洗
浄、再結晶、又はクロマトグラフによる精製方法も用い
ることができる。
このようにして得られN−置換−クロロアセトアミド
は、イネ科雑草、広葉雑草、多年生雑草の発芽前および
発芽後の土壌処理又は茎葉処理にすぐれた除草効果を発
揮する。特に、イネ科雑草については著しい除草効果を
示し、例えば水田に於て強害雑草であるノビエに対して
その発芽時だけでなく1.5葉期に生育したものにもす
ぐれた除草効果を示す。しかも水稲に対しては1.5葉
期の種苗だけでなく発芽時においても高い安全性を有す
る。
は、イネ科雑草、広葉雑草、多年生雑草の発芽前および
発芽後の土壌処理又は茎葉処理にすぐれた除草効果を発
揮する。特に、イネ科雑草については著しい除草効果を
示し、例えば水田に於て強害雑草であるノビエに対して
その発芽時だけでなく1.5葉期に生育したものにもす
ぐれた除草効果を示す。しかも水稲に対しては1.5葉
期の種苗だけでなく発芽時においても高い安全性を有す
る。
さらに該N−置換−クロロアセトアミドは、ノビエと水
稲との間に高度の選択性を有しているため、水稲の発芽
期から生育期の長期間の生育段階での適用が可能であ
り、処理適期幅が従来の除草剤に比べると著しく長いす
ぐれた利点を有している。また湛水直播水稲に対してき
わめて安全に適用出来る利点は該N−置換−クロロアセ
トアミドの大きな特徴である。
稲との間に高度の選択性を有しているため、水稲の発芽
期から生育期の長期間の生育段階での適用が可能であ
り、処理適期幅が従来の除草剤に比べると著しく長いす
ぐれた利点を有している。また湛水直播水稲に対してき
わめて安全に適用出来る利点は該N−置換−クロロアセ
トアミドの大きな特徴である。
さらにまた、畑地の除草剤とするときも選択的除草効果
を発揮するので、大豆、ワタ、コウリャン等の広葉作用
だけでなく小麦、大麦、とうもろこし、陸稲等のイネ科
作物にも損害なしに適用することができる。
を発揮するので、大豆、ワタ、コウリャン等の広葉作用
だけでなく小麦、大麦、とうもろこし、陸稲等のイネ科
作物にも損害なしに適用することができる。
本発明を更に具体的に説明するために、以下実施例及び
参考例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に
限定されるものではない。
参考例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に
限定されるものではない。
実施例1 フラスコに、5−クロロ−2チエニル イソプロピルケ
トン(6.82g、0.0028モル)、及びオルトギ
酸エチル(4.77g、0.032モル)を入れ、油浴
上(105℃)にて生成するアルコールを除去しながら
4時間加熱撹拌した。冷却後反応液を蒸留することによ
り、淡黄色液体(4.16g)を得た。沸点は83℃/
0.4mmHgであった。
トン(6.82g、0.0028モル)、及びオルトギ
酸エチル(4.77g、0.032モル)を入れ、油浴
上(105℃)にて生成するアルコールを除去しながら
4時間加熱撹拌した。冷却後反応液を蒸留することによ
り、淡黄色液体(4.16g)を得た。沸点は83℃/
0.4mmHgであった。
該化合物の赤外吸収スペクトルを測定したところ、30
60〜2850cm-1にC−Hに基づく吸収、1650cm
-1に に基づく吸収、1625cm-1に−N=CH−に基づく強
い吸収を示した。
60〜2850cm-1にC−Hに基づく吸収、1650cm
-1に に基づく吸収、1625cm-1に−N=CH−に基づく強
い吸収を示した。
また、質量スペクトルを測定したところ、m/e244に
分子イオンピーク(M )、 m/e215にM −C2H5に対応するピーク、 m/e199にM −OC2H5に対応するピーク、 m/e172に に対応するピーク等を示した。1 H−核磁気共鳴スペクトル〔テトラメチルシラン基
準、σ(ppm)〕を測定した。その解析結果は次の通り
であった。
分子イオンピーク(M )、 m/e215にM −C2H5に対応するピーク、 m/e199にM −OC2H5に対応するピーク、 m/e172に に対応するピーク等を示した。1 H−核磁気共鳴スペクトル〔テトラメチルシラン基
準、σ(ppm)〕を測定した。その解析結果は次の通り
であった。
(a)6.15 (d、1H) (b)6.40 (d、1H) (c)1.85 (d、6H) (d)7.23 (s、1H) (e)4.18 (g、2H) (f)1.32 (t、3H) その元素分析値は、C54.08%、H5.81%、N
5.86%であり、組成式C11H14NOClS(2
43.76)に対する計算値C54.20%、H5.7
9%、N5.75%によく一致した。
5.86%であり、組成式C11H14NOClS(2
43.76)に対する計算値C54.20%、H5.7
9%、N5.75%によく一致した。
上記の結果から、単離生成物がN−エトキシメチリデン
1−(5−クロロ−2−チエニル)−2,2−ジメチル
−エテニルアミンであることが明らかとなった。収率は
61%であった。該化合物のNo.を1とする。
1−(5−クロロ−2−チエニル)−2,2−ジメチル
−エテニルアミンであることが明らかとなった。収率は
61%であった。該化合物のNo.を1とする。
実施例2 実施例1と同様な方法にて種々のシッフ塩基化合物を合
成した。合成した化合物のNo.、構造、及び元素分析値
を第1表に記載した。なお、表中のR1、R2、R3、
R4、 は下記式のR1、R2、R3、R4、 に対応するものである。
成した。合成した化合物のNo.、構造、及び元素分析値
を第1表に記載した。なお、表中のR1、R2、R3、
R4、 は下記式のR1、R2、R3、R4、 に対応するものである。
参考例1 滴下ロートを備えた3つ口フラスコに実施例1で得られ
たN−エトキシメチリデン1−(5−クロロ−2−チエ
ニル)−2,2,ジメチル−エテニルアミン(2.44
g、0.010モル)、ベンゼン(15ml)を入れ、氷
冷下、撹拌しながら、滴下ロートよりクロロアセチルク
ロライド(1.20g、0.011モル)、トリクロロ
シラン(1.80g、0.013モル)のベンゼン(5
ml)溶液を滴下した。滴下終了後、室温に戻し、室温に
て2時間撹拌した。反応終了後、反応液に炭酸カリウム
水溶液を加えて中和し、有機層をエーテルで抽出した。
抽出液を硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を除去して
得られた粘稠液体をカラムクロマトグラフ(シリカゲ
ル;ベンゼン/アセトン=30/1)を用いて精製を行
ない、無色粘稠液体(1.72g)を得た。収率は63
%であった。常法により元素分析を行なった。この化合
物は、化合物No.113として、第2表に示す。
たN−エトキシメチリデン1−(5−クロロ−2−チエ
ニル)−2,2,ジメチル−エテニルアミン(2.44
g、0.010モル)、ベンゼン(15ml)を入れ、氷
冷下、撹拌しながら、滴下ロートよりクロロアセチルク
ロライド(1.20g、0.011モル)、トリクロロ
シラン(1.80g、0.013モル)のベンゼン(5
ml)溶液を滴下した。滴下終了後、室温に戻し、室温に
て2時間撹拌した。反応終了後、反応液に炭酸カリウム
水溶液を加えて中和し、有機層をエーテルで抽出した。
抽出液を硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を除去して
得られた粘稠液体をカラムクロマトグラフ(シリカゲ
ル;ベンゼン/アセトン=30/1)を用いて精製を行
ない、無色粘稠液体(1.72g)を得た。収率は63
%であった。常法により元素分析を行なった。この化合
物は、化合物No.113として、第2表に示す。
参考例2 参考例1と同様な方法で、種々のクロロアセトアミド化
合物の合成を行なった。合成した化合物のNo.、構造、
用いたシラン化合物、元素分析値及び収率を第2表に記
載した。なお、表中のR1、R2、R3、R4、 は下記式のR1、R2、R3、R4、 に対応するものである。
合物の合成を行なった。合成した化合物のNo.、構造、
用いたシラン化合物、元素分析値及び収率を第2表に記
載した。なお、表中のR1、R2、R3、R4、 は下記式のR1、R2、R3、R4、 に対応するものである。
製剤例1(水和剤) 参考例1に於て得られたN−〔1−(5−クロロ−2−
チエニル)−2,2−ジメチル−エテニル〕−N−クロ
ロアセト−エトキシメチルアミド(化合物No.113)
10部、ジークライト(商品名:ジークライト礦業製)
とクニライト(商品名:クニミネ工業製)の2:1混合
物85部、界面活性剤としてソルポール800A(商品
名:東邦化学工業製)5部を均一に混合粉砕して10%
水和剤を得た。
チエニル)−2,2−ジメチル−エテニル〕−N−クロ
ロアセト−エトキシメチルアミド(化合物No.113)
10部、ジークライト(商品名:ジークライト礦業製)
とクニライト(商品名:クニミネ工業製)の2:1混合
物85部、界面活性剤としてソルポール800A(商品
名:東邦化学工業製)5部を均一に混合粉砕して10%
水和剤を得た。
参考例3 1/8850アールの磁製ポットに水を加えて撹拌した
水田土壌(沖積壌土)を充填し、水田雑草を播種した後
3葉期のイネ苗(品種:アキニシキ)を深さ1cmに移植
し、水を加えて3cmの湛水状態にした。次いで製剤例1
に準じて調製した各化合物の水和剤の水希釈液を雑草発
芽時に所定量滴下処理した。処理後平均気温25℃の温
度内で生育させ、3週間後に各供試化合物の除草効果を
調査した結果を第3表に示した。但し、表中に示した広
葉とはアゼナ、キカシグサ、アゼトウガラシなどを言
う。なお、評価は6段階とし表中の数字において0は正
常、1〜4は正常と完全枯死の中間を、5は完全枯死を
表示するものである。
水田土壌(沖積壌土)を充填し、水田雑草を播種した後
3葉期のイネ苗(品種:アキニシキ)を深さ1cmに移植
し、水を加えて3cmの湛水状態にした。次いで製剤例1
に準じて調製した各化合物の水和剤の水希釈液を雑草発
芽時に所定量滴下処理した。処理後平均気温25℃の温
度内で生育させ、3週間後に各供試化合物の除草効果を
調査した結果を第3表に示した。但し、表中に示した広
葉とはアゼナ、キカシグサ、アゼトウガラシなどを言
う。なお、評価は6段階とし表中の数字において0は正
常、1〜4は正常と完全枯死の中間を、5は完全枯死を
表示するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 207/335 8314−4C 333/20 333/28 333/58 521/00
Claims (1)
- 【請求項1】一般式 (式中、R1は置換されたもしくは非置換のヘテロアリ
ール基を表わし、 R2及びR3は同種又は異種の水素原子又は炭素原子数
1〜6のアルキル基を表わし、R2とR3とが相互に連
結して環状のアルキレン基を形成してもよく、 R4は水素原子、置換されたもしくは非置換の炭素原子
数1〜8のアルキル基、又は置換されたもしくは非置換
のアリール基を表わし、 R5は水素原子、又は炭素原子数1〜6のアルキル基を
表わし、Xは酸素原子又はイオウ原子を表わし、nは0
又は1を表わす。ただしR5が水素原子の場合、nは0
である。) で示されるシッフ塩基化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61165637A JPH0637483B2 (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | シツフ塩基化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61165637A JPH0637483B2 (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | シツフ塩基化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6323849A JPS6323849A (ja) | 1988-02-01 |
| JPH0637483B2 true JPH0637483B2 (ja) | 1994-05-18 |
Family
ID=15816144
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61165637A Expired - Lifetime JPH0637483B2 (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | シツフ塩基化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0637483B2 (ja) |
-
1986
- 1986-07-16 JP JP61165637A patent/JPH0637483B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| CHEMICALABSTRACTS103(17):142131n(1985) |
| CHEMICALABSTRACTS87(17):134312h(1977) |
| CHEMICALABSTRACTS99(11):87597r(1983) |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6323849A (ja) | 1988-02-01 |
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