JPH0639323B2 - 合成スチブンサイト及びその製法 - Google Patents

合成スチブンサイト及びその製法

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JPH0639323B2
JPH0639323B2 JP62020476A JP2047687A JPH0639323B2 JP H0639323 B2 JPH0639323 B2 JP H0639323B2 JP 62020476 A JP62020476 A JP 62020476A JP 2047687 A JP2047687 A JP 2047687A JP H0639323 B2 JPH0639323 B2 JP H0639323B2
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、合成スチブンサイト(STEVENSITE)及びその製
造方法に関するもので、より詳細には、Mg,Si及びNaの
3種の金属成分のみから形成され且つ純度に優れてお
り、増粘剤及び吸着剤等の用途に有用な合成スチブンサ
イト及びその製法に関する。
(従来の技術) 従来水膨潤性の合成粘土鉱物としては特開昭60−11
3115号及び特開昭60−197671号公報に記載
されている通り、合成ヘクトライトが知られているが、
この合成ヘクトライトは、1価金属成分としてリチウム
及びアニオン成分としてフッ素イオンを含有しており、
これらの成分による人体或いは生物への影響からその用
途が制限されている。
スチブンサイトは、下記式 (Mg2.88Mn0.02Fe0.02)Si4O10(OH)2・(Ca,Mg)0.07……(1) で表わされる化学組成を有する粘土鉱物であり、この鉱
物はフイロケイ酸マグネシウム〔Mg3Si4O10(OH)2〕のマ
グネシウム成分の一部が他の金属で置換されると共に、
他の一部が空位となった化合物である。
このスチブンサイトを合成しようとする試みも既に知ら
れており、例えばクレイズ・アンド・クレイ・ミネラル
ズ誌、第27巻、第4号、第253乃至第260頁(1
979)には、セピオライト−水系を水熱処理すること
により、スチブンサイトに転化することが記載されてい
る。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、天然に産出するスチブンサイトは上記式
(1)で示されるように、鉄、マンガン等の着色金属成分
を含有しており、また上記公知の合成法ではセピオライ
トを完全にスチブンサイトに転化することができず、生
成物中にかなりの量のセピオライトが不純物として混入
するという問題がある。
また、ヘクトライトの場合は、マグネシウム成分の一部
がLi原子のみで置換されているため、原子の配列が規則
的になり結晶化しやすい。
一方、スチブンサイトの場合はマグネシウム成分の一部
が他の原子で置換されているとともに、残りの一部が空
位となっているため、原子の配列が規則的でないことか
ら結晶化が難しい。
かくして、本発明者等の知る限り、Mg,Si及びNaの3種
の金属成分のみから成りしかも純度に優れた合成スチブ
ンサイトは未だ知られていない。
従って、本発明の目的は、実質上Mg,Si及びNaの3種の
金属成分のみから成りしかも不純金属成分を含まない合
成スチブンサイトを提供するにある。
本発明の他の目的は、それ自体白色度に優れていると共
に、水中に分散されたとき透明性に優れた増粘液を形成
し得る合成スチブンサイトを提供するにある。
本発明の他の目的は、上記合成スチブンサイトを高収率
でしかも高純度で合成し得る方法を提供するにある。
(問題点を解決するための手段) 本発明によれば、金属成分が実質上マグネシウム、ナト
リウム及びケイ素のみから成るスチブンサイト型フイロ
ケイ酸マグネシウムナトリウムから成り且つエチレング
リコール処理した状態で面間隔16乃至26ÅにX線回
折ピークを有することを特徴とする合成スチブンサイト
が提供される。
好適な合成スチブンサイトは、実質上下記式 MgxNaySi4O10(OH)2・Naz……(2) 式中、xとyはx+y<3という条件下で xは2以上の数であり、 yは0乃至0.1の数であり、 zは0より大で1.0までの数である、 で表わされる化学組成を有する。
本発明によればまた、塩基性炭酸マグネシウムと、(i)
ケイ酸ナトリウム、(ii)ケイ酸ナトリウムと非晶質シリ
カ及び(iii)非晶質シリカと水酸化ナトリウムから成る
群より選ばれたシリカ−ナトリウム成分を含有する水性
組成物を水熱処理に付することを特徴とする合成スチブ
ンサイトの製造方法が提供される。
(作用) 目的物 本発明の合成スチブンサイトは、スメクタイトに属する
ケイ酸マグネシウム水和物であるという点では、ヘクト
ライトと軌を一にしている。しかしながら、本発明の合
成スチブンサイトでは層内のアルカリ金属分がNaである
のに対して、ヘクトライトでは層内のアルカリ金属分が
Liであること、及びヘクトライトでは層内のMgとLiとの
合計原子数(x+y)が3であるのに対して、本発明の
合成スチブンサイトでは層内のMgとNaとの合計原子数
(x+y)が3よりも小さいことにおいて相違すること
が認められる。
本発明の合成スチブンサイトにおいて、層内のMgとNaと
の合計原子数が3よりも小さいという事実は、MgO6八面
体層におけるMg原子の一部がNaで置換されると共に、残
りの一部が空位となっていることを物語っている。更に
は、Mg原子の他の一部が水素原子で置換されていること
も有り得る。Mg原子の一部がNaで置換されていること及
びMg原子の残りの一部が空位となっていることによる価
電荷の不足を補う形で、SiO4四面体層−Mg(Na)O6八面体
層−SiO4四面体層から成る基本層構造の積層層間には、
Naイオンが存在している。
前記式(2)の化学組成の決定は次のように行われる。合
成鉱物の組成分析からSi4原子当りのMgの原子数(x)
及びNaの全原子数(y+z)が求められる。次いで合成
鉱物の陽イオンをアンモニウムイオンでイオン交換した
ものの組成分析から層内に存在するNaの原子数(y)が
求められる。かくして、式(2)の各原子数(x,y,
z)を求めることができる。ここで、zは層間に存在す
る交換性Naの原子数と単に付着しているNaの原子数
(α)の和である。
本発明において、x+yは3よりも小さく、特に2以上
の範囲が好ましい。xは、この条件を満足する範囲内で
2以上の値であり、2.6乃至2.8の範囲が好適である。y
も、前記条件を満足する範囲内で0乃至0.1の値であ
り、特に0乃至0.05の範囲が好適である。zの値は一般
に0乃至1の範囲である。理論上、陽イオン交換容量
(z−α)の値は、下記式 z−α=y+2(3−x−y)……(3) ただし、αは単に付着しているNaの原子数を表わす。
で表わされる。
本発明の合成スチブンサイトは、スメクタイト粘土鉱物
に特有のX線回折像を示す。添付図面第1図は本発明に
よる合成スチブンサイトのX線回折像である。
また、スメクタイトおよび含スメクタイト混合層鉱物に
エチレングリコール処理したものはX線底面反射が、1
6乃至26Åに現われる。本発明の合成スチブンサイト
は、添付図面第2図に示すようにこの特徴を有する。
さらに本発明の合成スチブンサイトは示差熱分析におい
て750乃至820℃に最大の発熱ピークを有するのに
対して合成ヘクトライトは700乃至750℃に最大の
発熱ピークを有するという相違がある。添付図面第3,
4図は本発明による合成スチブンサイトと合成ヘクトラ
イト(ラポート社製ラポナイトXLG)の示差熱曲線で
ある。
本発明による合成スチブンサイトは不純金属成分を含ま
ない形で得られ、一般にハンター白色度が80%以上、
特に90%以上の白色粉末である。
合成スチブンサイトの陽イオン交換容量は、一般に0.20
乃至1.58ミリイクイバレント(meq)/g,特に0.2乃至1.
0meq/gの範囲内にある。このイオン交換容量により、
本発明の合成スチブンサイトは、種々のカチオン類に対
するイオン交換材或いはカチオン性物質に対するイオン
的吸着剤として用いることができる。
また、この合成スチブンサイトは、微細な層状化合物の
特性として比較的大きな比表面積を有しており、BET
比表面積は一般に200乃至500m2/g、特に350
乃至450m2/gの範囲内にある。この特性を利用し
て、本発明の合成スチブンサイトを色素類、有臭成分等
に対する吸着剤として利用できると共に、触媒担体とし
ての用途も期待される。
更に、この合成スチブンサイトは、水及びメタノール、
エタノール、グリセリン等のアルコールにより膨潤し、
透明な増粘液を与える。特に、この合成スチブンサイト
は、有害と思われる金属成分やアニオン類を含有してい
ず、純度にも優れていることから、例えば、化粧品、医
薬品、農薬、家庭用品、農業用品、食品及びセラミック
品等の各種増粘剤、膨潤剤、粘結剤、ゲル基剤等の用途
に有用である。
製法 本発明によれば、上記合成スチブンサイトは塩基性炭酸
マグネシウムと、(i)ケイ酸ナトリウム、(ii)ケイ酸ナ
トリウムと非晶質シリカ及び(iii)非晶質シリカと水酸
化ナトリウムから成る群より選ばれたシリカ−ナトリウ
ム成分を含有する水性組成物を水熱処理に付することに
より得られる。
マグネシウム原料として塩基性炭酸マグネシウムを選択
することにより、スチブンサイトの合成が可能となり、
更に高収率及び高純度での製造が可能となる。塩基性炭
酸マグネシウムとしては、任意のものを使用し得るが、
炭酸マグネシウムや、水酸化マグネシウム或いはこれら
の混合物を使用したのではスチブンサイトの高収率及び
高純度での製造は期待できない。塩基性炭酸マグネシウ
ムとしては、ハイドロマグネサイトを使用するのが特に
望ましく、このものは下記式 4Mg Co3・Mg(OH)2・4H2O……(4) で示される化学組成と、ASTM NO.25−513に帰属
されるX−線回折像とを有する。
Si及びNa成分原料としては、ケイ酸ナトリウム水溶液が
有利に使用されるが、非晶質シリカと水酸化ナトリウム
及び非晶質シリカとケイ酸ナトリウムとの組合せを使用
することもできる。ケイ酸ナトリウムとしては式 n SiO2.Na2O……(5) 式中、nは1乃至5の数、特に2.0乃至3.5の数である、 のケイ酸ナトリウムが使用される。また、非晶質シリカ
としては、シリカのヒドロゾル、ヒドロゲル、キセロゲ
ルや、湿式法非晶質シリカ或いは気相法非晶質シリカ等
が使用される。
塩基性炭酸マグネシウムとケイ酸ナトリウム或いは非晶
質シリカ及び水酸化ナトリウムとの使用割合いは、マグ
ネシウム分とケイ酸分とが実質上化学量論的量で用いる
のがよく、またナトリウム分は化学量論的量以上に用い
るのがよい。ケイ酸ナトリウムを使用するときには、格
別の水酸化ナトリウムを添加しなくともナトリウム分が
系中に過剰に存在することになる。
水熱反応に先立って、用いる原料を可及的に均一に混合
させて、均質化した水性スラリーを形成させることが、
収率及び純度向上の見地から望ましい。この均質混合は
強剪断攪拌下に行うのがよく、この目的に、高速剪断ミ
キサー、ボールミル、サンドミル、コロイドミル、超音
波照射等を用いることができる。
また、少量のケイ酸ナトリウムは水溶液中で塩基性炭酸
マグネシウムを均一に分散させる効果があるので、原料
としてケイ酸ナトリウムで分散させた分散スラリーを調
合してから残りの原料を加えても、均一混合の目的を達
成できる。この場合に用いるケイ酸ナトリウムは水性ス
ラリーに対して0.01乃至10重量%の範囲で用いるのが
望ましい。
また、水性混合物中の固形分濃度は、一般に1乃至30
重量%、特に5乃至15重量%の範囲にあることが望ま
しい。
この混合物をオートクレーブに仕込み、水熱処理を行な
う。水熱処理条件は、従来法に比して比較的温和な条件
であってよく、例えば一般に100乃至300℃、特に
150乃至200℃の温度で、0乃至100kg/cm
2(ゲージ)、特に6乃至40kg/cm2Gの圧力下に行な
うのがよい。反応時間は一般に0.5乃至20時間のオー
ダーで十分である。反応により得られる合成スチブンサ
イトは母液から固−液分離し、水洗し、乾燥して製品と
する。
(発明の効果) 本発明によれば、実質上Mg,Si及びNaの3種の金属成分
のみから成りしかも不純金属成分を含まない合成スチブ
ンサイトを始めて提供できた。また、本発明によれば、
安価に且つ容易に入手し得る原料を用いて、比較的温和
な水熱合成条件で、高収率及び高純度で合成スチブンサ
イトを合成することが可能となった。
本発明を次の例で説明する。
試験方法 本明細書における各項目の試験方法は下記によった。
1.X線回折 本実施例においては、理学電機(株)製X線回折装置
(X線発生装置4036A1、ゴニオメーター2125
D1、計数装置5071)を用いた。
回折条件は下記のとおりである。
ターゲット Cu フィルター Ni 検 出 器 SC 電 圧 35kVP 電 流 15mAカウント・フルスケ -ル 8000c/s 時 定 数 1sec 走査速度 2°/min チャート速度 2cm/min 放 射 角 1° スリット巾 0.3mm 照 角 6° 2.エチレングリコール処理した試料のX線回折 110℃で2時間乾燥した試料を1.0g採取する。これ
に10%エチレングリコール水溶液をホールピペットで
5m加える。攪拌棒で良くかき混ぜてから60℃で1
2時間乾燥する。乾燥物をメノウ乳針ですりつぶしてで
きた粉末を下記の条件でX線回折測定した。
a.X線回折の条件 ターゲット Cu フィルター Ni 検 出 器 SC 電 圧 40kVP 電 流 20mAカウント・フルスケ -ル 2000c/s 時 定 数 2sec 走査速度 1°/min チャート速度 1cm/min 放 射 角 1/6° スリット巾 0.3mm 照 角 6° 測定回折角範囲 1°〜9°(2θ) 面間隔(d)は、半価幅の中点から求めた回折角度(2
θ)から下記式(6)によって算出した。
ただしλはX線波長1.542Å 3.組成分析 110℃で乾燥した試料についてSiO2は重量法、MgOは
キレート滴定法、Na2OとLi2Oは炎光光度法で濃度測定し
た。
また層内のNa2O,Li2O、については水で充分膨潤させた
試料の交換性および付着陽イオンを1N酢酸アンモニウ
ム水溶液で流去し、水洗、110℃乾燥したものについ
て濃度測定した。
4.熱分析 熱分析装置は、理学電機(株)製 示差熱天秤(標準形
TG−DTA8078G1)を用いた。測定条件は下記
のとおりである。
試料重量 15mg DTAレンジ 100μV 昇温速度 10℃/min 雰囲気 空気 実施例1 市販塩基性炭酸マグネシウム(徳山曹達製TT)25.6g
と3号ケイ酸ナトリウム108.0g(シリカ分24g)と
を400mの水に加え家庭用ミキサーで3分間混合す
る。この液に水を加えて600mとし、内容積1の
オートクレーブに入れる。攪拌器にて攪拌しているとこ
ろへ炭酸ガスを吹込む。液の流動性が無くなった時点で
吹込を止める。つぎに180℃で3時間水熱処理をして
から放冷する。内容物を過、水洗した後、乾燥して3
8.2gの生成物を得た。
このものの組成分解を行なったところ一般式(2)におけ
るx,y,zは下記の値であった。
x=2.698 y=0.014 z=0.777 内容積50mlのサンプルビンにそれぞれ0.5gの蒸気乾
燥生成物をとり、それぞれ25mlの水、25mlの濃度8
0%メタノール溶液及び25mlの濃度40%グリセリン
溶液を加え、時々振とうさせて透明な水性ゲル及びアル
コール性ゲルとした。このビンを穏やかに倒立させても
中の均一なゲルは流動しないが、激しく振とうしてから
倒立させると流動し、ビンガム流体の特徴を示した。
実施例2 市販塩基性炭酸マグネシウム(神島化学製 金星)25.6
gとシリカヒドロゲル(水澤化学製ミズカソーブ)546.
2g(シリカ分24g)とを家庭用ミキサーに入れて3
分間混合する。この液にカ性ソーダ水溶液(水酸化ナト
リウム分2.7g)と水とを加えて800mとし、内容
積1のオートクレーブに入れる。攪拌しながら175
℃で3時間水熱処理をする。途中発生する気体を時々排
気する。放冷してから内容物を取り出し、過してから
乾燥し38.9gの生成物を得た。
このものの組成分解を行なったところ一般式(2)におけ
るx,y,zは下記の値であった。
x=2.67 y=0.01 z=0.65 このものは実施例1と同様に水中及びアルコール溶液中
で透明なゲルとなり、その液性はビンガム流体の特徴を
示した。
実施例3 市販塩基性炭酸マグネシウム(徳山曹達(株)製TT)
1077g(マグネシア分430g)を約4の水に入
れ、3号ケイ酸ナトリウム1136g(シリカ分264
g)を加えて攪拌し、分散スラリーを調合する。シリカ
ヒドロゲル(水澤化学(株)製ミズカソーブ)2106
8g(シリカ分697g)を攪拌下、分散スラリーを注
下して水性スラリーとなす。
この水性スラリーを、内容積40のオートクレーブに
入れる。攪拌しながら170℃で5時間水熱処理する。
途中発生する気体を時々排気する。放冷してから内容物
を取出し、濾過してから乾燥し、1612gの生成物を
得た。
このものの組成分析を行ったところ一般式(2)における
x,y,zは下記の値であった。
x=2.809 y=0.047 z=0.430 このものは実施例1と同様に、水中では透明な水性ゲル
となり、その液性はビンガム流体の特徴を示した。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明実施例1による合成スチブンサイトのC
u−Kα線によるX線回折スペクトルである。 第2図は本発明実施例1による合成スチブンサイトをエ
チレングリコール処理したもののCu−Kα線によるX
線底面反射スペクトルである。 第3図は本発明実施例2による合成スチブンサイトの熱
分析曲線である。 第4図は合成ヘクトライト(ラポート社製ラポナイトX
LG)の熱分析曲線である。

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】金属成分が実質上マグネシウム、ナトリウ
    ム及びケイ素のみから成るスチブンサイト型フィロケイ
    酸マグネシウムナトリウムから成り且つエチレングリコ
    ール処理した状態で面間隔16乃至26ÅにX線回折ピ
    ークを有することを特徴とする合成スチブンサイト。
  2. 【請求項2】フッ素イオンを実質上含有しないことを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の合成スチブンサイ
    ト。
  3. 【請求項3】実質上下記式 MgxNaySi4O10(OH)2・Naz 式中、xとyはx+y<3という条件下で、 xは2以上の数であり、 yは0乃至0.1の数であり、 zは0より大で1.0までの数である、 で表わされる化学組成を有することを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の合成スチブンサイト。
  4. 【請求項4】前記式中xが2.6乃至2.8の数であり、yが
    0乃至0.05の数である特許請求の範囲第3項記載の合成
    スチブンサイト。
  5. 【請求項5】0.20乃至1.58ミリイクイバレント/gの陽
    イオン交換容量を有する特許請求の範囲第1項記載の合
    成スチブンサイト。
  6. 【請求項6】添付図面第1図と実質上同一のX線回折像
    を有する特許請求の範囲第1項記載の合成スチブンサイ
    ト。
  7. 【請求項7】示差熱分析において755乃至820℃に
    最大の発熱ピークを有する特許請求の範囲第1項記載の
    合成スチブンサイト。
  8. 【請求項8】200乃至500m2/gの範囲内のBET
    比表面積を有する特許請求の範囲第1項記載の合成スチ
    ブンサイト。
  9. 【請求項9】塩基性炭酸マグネシウムと、(i)ケイ酸ナ
    トリウム、(ii)ケイ酸ナトリウムと非晶質シリカ及び(i
    ii)非晶質シリカと水酸化ナトリウムから成る群より選
    ばれたシリカ−ナトリウム成分を含有する水性組成物を
    水熱処理に付することを特徴とする合成スチブンサイト
    の製造方法。
  10. 【請求項10】塩基性炭酸マグネシウムがハイドロマグ
    ネサイトである特許請求の範囲第9項記載の方法。
  11. 【請求項11】マグネシウム分とシリカ分とが実質上化
    学量論的量で用いられている特許請求の範囲第10項記
    載の方法。
  12. 【請求項12】水性組成物中の固形分濃度が5乃至15
    重量%である特許請求の範囲第9項記載の方法。
  13. 【請求項13】水熱処理を100乃至300℃の温度及
    び0乃至100kg/cm2ゲージの圧力下に行う特許請求
    の範囲第9項記載の方法。
  14. 【請求項14】水熱処理を150乃至200℃の温度及
    び6乃至40kg/cm2ゲージの圧力下に行う特許請求の
    範囲第9項記載の方法。
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