JPH0639489B2 - ゲルを含まない、エチレン性不飽和含量の少ない凝固したゴムの製造法 - Google Patents

ゲルを含まない、エチレン性不飽和含量の少ない凝固したゴムの製造法

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JPH0639489B2 JP51562590A JP51562590A JPH0639489B2 JP H0639489 B2 JPH0639489 B2 JP H0639489B2 JP 51562590 A JP51562590 A JP 51562590A JP 51562590 A JP51562590 A JP 51562590A JP H0639489 B2 JPH0639489 B2 JP H0639489B2
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Description

【発明の詳細な説明】 最近、色々な形態の水酸化ニトリルゴムが上市されて来
ている。水酸化ニトリルゴムには高温における酸化性劣
化に対して抵抗性であるのみならず、酸環境等の腐食性
環境に対しても抵抗性であると言う利点がある。これら
のニトリルゴムにはファンベルト、シール、ガスケッ
ト、及び次第に小型になって来ているホットランニング
用(hot-running)自動車エンジンにおけるホースの製造
に用途が見い出されている。
ラテックス形態の水素化されたポリマー、特に水素化さ
れたラテックスゴムを製造する1つの方法はヒドラジン
とオキシダント、及び出発原料物質としての不飽和ポリ
マーを使用するものである。この方法はグッドイヤー・
タイヤ・アンド・ラバー社(Goodyear Tire and Rubber
Company)に譲渡された米国特許第4,452,950号
明細書に更に詳しく説明されている。しかし、この米国
特許第4,452,950号明細書に記載された方法に
従って製造される生成物は(a)未反応の残留ヒドラジ
ンを実質的な量で含有し、かつ(b)エチレン性不飽和
を実質的な量で含有していると言う2つの重大な欠点が
避けられない。残留ヒドラジンは環境及び/又は毒性の
立場から望ましくないと考えられるものであり、これに
対して不飽和はそのゴムを使用中に望まれるだろう以上
に劣化させてしまうのである。
上記に鑑みて、ヒドラジンを本質的に含まず、かつ不飽
和を本質的に含まないニトリルゴムの製造法を提供する
ことが極めて望ましいだろう。
本発明は、1つの態様として、次の: (a)ラテックス形態の不飽和ポリマー、ヒドラジン及
びオキシダントを含有する反応混合物を反応させてその
不飽和ポリマー中のエチレン性不飽和の少なくとも約9
0%(好ましくは、少なくとも約95%)を還元するこ
とによって還元されたゴムを得る工程;ここでヒドラジ
ン対不飽和ポリマーのモル比は約7:1〜約15:1又
はそれ以上であり、オキシダント対不飽和ポリマーのモ
ル比は約2.0:1〜約5:1であり、オキシダントは
制御された反応速度を与えるべく徐々に添加される; (b)生成物の混合物に凝固剤を加えることによって還
元ゴムを凝固させて、その生成物の混合物中に凝固した
還元ゴムを得る工程;及び (c)生成物の混合物から凝固した還元ゴムを濾過、単
離して少なくとも約90%(好ましくは、少なくとも約
95%)飽和されている、ゲルを本質的に含まない、凝
固した還元ゴムと、水性ヒドラジンを含んで成る濾液を
得る工程; を含んで成るニトリルゴムの製造法に関する。
本発明は、もう1つの態様として、前記の濾液をアルデ
ヒド、ケトン又はそれらの混合物で処理して濾液中の水
性ヒドラジンの少なくとも1部を水性アルダジン若しく
は水性ケタジン又はそれらの混合物に転化することに関
する。
本発明は、更にもう1つの態様として、前記方法で製造
された、凝固した、本質的にゲルを含まない還元ゴム生
成物に関する。
これらの及び他の態様は本発明に関する次の詳細な説明
を読めば明らかになるだろう。
本発明によれば、驚くべきことに、ラテックス形態の不
飽和ポリマーを特定の反応条件下で還元し、続いてその
還元されたゴムを凝固、濾過して還元ゴムを回収するこ
とによってゲルを本質的に含まない、凝固した還元ゴム
が得られることがここに見い出された。本発明者は本発
明を何等かの特定の理論に結び付けたいとは思わない
が、ゴムの還元に際してヒドラジン対不飽和ポリマーの
モル比を大きく取ることが少なくとも約90%の飽和度
のレベルを有するゲル不含還元ゴムを得ることに対して
鍵となると考えるものである。本発明者は、更に、これ
らの結果は還元反応中に存在するその大量のヒドラジン
による溶媒効果に基づいて達成されると考えるものであ
る。
ヒドラジン対不飽和ポリマーのモル比は約7:1〜約1
5:1が適当で、好ましくは約8:1〜約12:1、最
も好ましくは約10:1である。
本発明の方法において有用なヒドラジンはヒドラジン水
和物か無水ヒドラジンのどちらかの形態を取ることがで
きるが、好ましくは水性ヒドラジン濃度が少なくとも約
50%のヒドラジン水和物、更に好ましくは濃度が64
%の市販品である。本発明方法の工程(a)の還元反応
の際には、反応混合物の水性相中のヒドラジンの初期濃
度は水性相の全容量に基づいて少なくとも約20%であ
るのが好ましく、そして更に好ましくは少なくとも約3
0%、最も好ましくは少なくとも約35%である。
反応体として有用な不飽和ポリマーは、典型的には、5
〜100重量%の共役ジエンモノマー単位と95〜0重
量%のエチレン性不飽和モノマー単位から成る。共役ジ
エンモノマーの特定の例は1,3−ブタジエン、2,3
−ジメチルブタジエン、イソプレン及び1,3−ペンタ
ジエンであり、またエチレン性不飽和モノマーの特定の
例には、アクリロニトリル及びメタクリロニトリル等の
不飽和ニトリル;スチレン(o−,m−及びp−)アル
キルスチレン等のモノビニル芳香族炭化水素;ジビニル
ベンゼン等のジビニル芳香族化合物;ジイソプロペニル
ベンゼン等のジアルケニル芳香族化合物;アクリル酸、
メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチ
ル、アクリル酸2−エチルヘキシル及びメタクリル酸メ
チル等の不飽和カルボン酸及びそれらのエステル;ビニ
ルピロリドン;並びに酢酸ビニル等のビニルエステルが
ある。
共役ジエンポリマーは乳化重合、溶液重合又は塊状重合
等の任意の製造法で製造されたものであることができ
る。共役ジエンポリマーの特定の例にポリイソプレン、
ポリブタジエンン、スチレン/ブタジエン(ランダム又
はブロック)コポリマー、アクリロニトリル/ブタジエ
ン(ランダム又はブロック)コポリマー、ブタジエン/
イソプレンコポリマー及びイソプレン/イソブチレンコ
ポリマーがある。
本発明の方法において有用なオキシダントは酸素、空
気、過酸化水素及び有機ヒドロペルオキシドから選択す
るのが好ましい。典型的な有機ヒドロペルオキシドにク
ミルヒドロペルオキシド、p−メンタンヒドロペルオキ
シド、t−ブチルヒドロペルオキシド等がある。空気又
は酸素をオキシダントとして使用する場合、触媒を使用
するのが好ましい。有用な触媒としては第二銅イオンと
第一鉄イオンが挙げられる。
本発明の方法において有用な凝固剤は常用の任意の凝固
剤であることができるが、好ましくは硫酸マグネシウ
ム、塩化ナトリウム、塩化カルシウム、硫酸ナトリウム
等の可溶性の塩である。凝固剤は還元ゴムを凝固させる
のに十分な量で用いられる。
凝固したゴムの濾過後、濾液は、好ましくは、その中の
水からヒドラジンを分離するために処理される。ヒドラ
ジンは高沸点の共沸混合物を形成するので、ヒドラジン
自体は容易には分離されないけれども、分離は、その水
性ヒドラジンを適当な処理剤と反応させてその生成物の
混合物を分別蒸留又はデカンテーション等の物理的手段
で分離できるようにすることによって促進される。適当
な処理剤にアルデヒドとケトン、及びそれらの混合物が
ある。好ましい処理剤としてはアセトンと2−ブタノン
が挙げられる。
本発明方法の工程(a)の反応は大気圧下又は昇圧下で
行うのが適当であるが、好ましい過酸化水素をオキシダ
ントとして用いる場合は大気圧下で、またガス状オキシ
ダントを用いる場合は過圧下で行うのが好ましい。本発
明の方法は約20〜約80℃の温度で行うのが適当であ
るが、約20〜約60℃の温度で行うのが更に好まし
い。本発明の方法の反応時間は広い範囲にわたって変え
ることができるが、好ましくは約1〜約50時間、更に
好ましくは約1〜約20時間、最も好ましくは約1〜約
5時間である。
以上、本発明を特定の態様を参照して説明したが、本発
明にここに開示される発明の着想から逸脱しない範囲で
多くの改変、修正及び変更を加え得ることは明白であ
る。従って、本発明は添付請求の範囲の広い発明の範囲
とその精神に入るそのような全ての改変、修正及び変更
を包含するのである。本明細書はこの中で引用された全
ての特許出願、特許及びその他の刊行物の全体を参考例
として含むものである。
実施例1 63%のブタジエンと37%のアクリロニトリルを含有
する、固形分含量が18.5%のブタジエン/アクリロ
ニトリルポリマーのラテックスを水素化するために使用
した。即ち、このラテックス75g(炭素−炭素二重結
合0.162モル)に64.2%水性ヒドラジン77.
2mL(1.6モル、理論値より10倍過剰)を加え、そ
の混合物を35℃に加熱した。この時点でヒドラジン濃
度は固形分不含基準で36%であった。この懸濁液に3
0.8%過酸化水素40mL(0.40モル)を3時間に
わたって添加し、35℃における後反応時間として2時
間を、外囲温度における追加反応時間として16時間を
取った。
次いで、同過酸化水素を同じ速度と反応温度で更に40
mL添加し、3時間の後反応を行い、そして再び室温で1
6時間攪拌した。この時点でラテックスは固形分不含基
準で15.4%のヒドラジンを含有していた。水素化度
は98.6%、即ち1.4%を除き炭素−炭素二重結合
の殆どが水素化されていた。このラテックスを65℃に
予熱された2%硫酸マグネシウム溶液100mLにゆっく
り注入することによってラテックスからゴムを凝固させ
た。この添加中に温度を55〜65℃に維持した。ゴム
は容易に濾過される沈殿として凝固した。凝固したゴム
生成物は目で見て観察すると、塩化メチレンに完全に溶
解することによって証明される通り、ゲルが含まれてい
ないことが認められ、そのゴムは98.6%飽和されて
いた。
沈澱したゴムを除去した後、その濾液は約39g(1.
2モル)のヒドラジンを含有していた。この濾液に攪拌
しながら354g(6.1モル)のアセトンを加えた。
得られたケタジン含有溶液の既知少量を次に蒸留してケ
タジンのオーバーヘッドを水性画分として採集した。追
加のアセトンを加えることによってヒドラジンを全ての
ケタジシオーバーヘッドとして採集することが可能であ
った。ヒドラジンの割合は96%であった。
比較例 前記実施例で使用したのと同じラテックス75gに6
4.2%水性ヒドラジン19.3mL(0.4モル、理論
値より2.5倍過剰)を加え、35℃に加熱する。この
時点でヒドラジン濃度は15.8%である。この懸濁液
に29.5%過酸化水素41.6mL(0.4モル、理論
値より2.5倍過剰)を3.8時間にわたって均一に添
加し、次いで過酸化水素を35℃において16時間にわ
たって更に10mL(0.1モル)均一に添加する。達成
された水素化度は97%であった。このポリマーラテッ
クスは、塩化メチレンに不溶性であることによって証明
されるように、著しくゲル化していた。このことは、9
8.6%水素化されていたが、塩化メチレン中にはゲル
の痕跡も認められなかった前記実施例のラテックスと著
しく相違する点である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 スキースル,ヘンリー,ダブリュ. アメリカ合衆国06472 コネチカット州ノ ースフォード,パーソネッジ ヒル ロー ド 79 (72)発明者 ミグリアロ,フランシス,ダブリュ.,ジ ュニア アメリカ合衆国06705 コネチカット州ウ オーターベリィ,ピアーポイント ロード 325

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】次の: (a)ラテックス形態のエチレン性不飽和ポリマー、ヒ
    ドラジン及びオキシダントを含有する反応混合物を反応
    させて該不飽和ポリマー中のエチレン性不飽和の少なく
    とも約90%を還元することによって還元されたゴムを
    得る工程;ここで、ヒドラジン対不飽和ポリマーのモル
    比は約7:1〜約15:1であり、オキシダント対不飽
    和ポリマーのモル比は約2.0:1〜約5:1であり、
    該オキシダントは制御された反応速度を与えるべく徐々
    に添加される; (b)生成物の混合物に凝固剤を加えることによって該
    還元ゴムを凝固させて該生成物の混合物中に凝固した還
    元ゴムを得る工程;及び (c)該生成物の混合物から凝固した該還元ゴムを濾
    過、単離して少なくとも約90%飽和されている、ゲル
    を本質的に含まない、凝固した還元ゴムと、水性ヒドラ
    ジンを含んで成る濾液を得る工程; を特徴とするニトリルゴムの製造法。
  2. 【請求項2】濾液をアルデヒド、ケトン又はそれらの混
    合物で処理して該濾液中の水性ヒドラジンの少なくとも
    1部を水性アルダジン若しくは水性ケタジン又はそれら
    の混合物に転化する追加の工程を特徴とする請求の範囲
    第1項に記載の方法。
  3. 【請求項3】水性ヒドラジン対不飽和ポリマーのモル比
    が約8:1〜約12:1であることを特徴とする請求の
    範囲第1項に記載の方法。
  4. 【請求項4】ゲルを本質的に含まない、凝固した還元ゴ
    ムが少なくとも約95%飽和されていることを特徴とす
    る請求の範囲第1項に記載の方法。
  5. 【請求項5】工程(a)を約0〜約80℃の温度及び大
    気圧において実施することを特徴とする請求の範囲第1
    項に記載の方法。
  6. 【請求項6】ゲルを本質的に含まず、かつ少なくとも約
    95%飽和されていることを特徴とする請求の範囲第1
    項に記載の方法で製造された還元ゴム。
  7. 【請求項7】工程(b)を処理剤としてアセトン又は2
    −ブタノンを用いて実施することを特徴とする請求の範
    囲第2項に記載の方法。
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