JPH0640388B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気記録媒体の製法に関するものであり、特に
フロツピーデイスク等の塗布型デイスク媒体を製造する
場合に適用して好適な磁気記録媒体の製造方法に関する
ものである。

（従来の技術） 磁気デイスクや磁気テープ等の磁気記録媒体は、一般
に、帯状の非磁性支持体をその長手方向に連続移送しな
がら該支持体上に、溶剤により溶解された結合剤中に強
磁性微粒子を分散させてなる磁性液を塗着し、次いで上
記磁性液を乾燥固化させたのち支持体を打抜きあるいは
裁断して製造されている。

ところが、磁気デイスクの製造においては、製造中に強
磁性微粒子が特定方向に配列され磁気記録媒体に異方性
が生ずると、種々の方向に対する磁気特性および電気特
性にも異方性が生ずる。例えば、磁性粒子が磁性液塗布
方向（すなわち非磁性支持体の移送方向）に沿つて配列
されると、特に、磁気デイスクの場合のように磁気ヘツ
ドが直線的に走査するのではなく、円周方向に同心円状
に走査する場合には、この塗布方向の再生出力信号レベ
ルが他方向のそれに比して高くなり、その結果、該磁気
デイスクから読み取られる再生出力信号レベルはデイス
クの回転に従つて変化する（この現象は一般にモジユレ
ーシヨンと称されている）。特に、磁性層の塗布厚を薄
くしたり、塗布スピードを速くしたりした場合には磁性
粒子が機械的影響を受け易く、特定方向に配向処理され
たような状態が高い割合で発生する。したがつて従来よ
り磁気デイスク等を製造する場合には、磁性液塗布時の
流動配向により磁性粒子に直線的方向性が生じるという
前記のような問題を解決するため、磁性液が未乾燥中に
磁界を作用させて、磁性粒子の配向を無秩序化（ランダ
マイズ化）させる方法がとられている。上述の様に、磁
性液が未乾燥中に磁界を作用させる方法として、特開昭
57-198545号公報に開示されているような交流磁場を印
加する方法が知られている。

（発明が解決しようとする問題点） ところが上述の交流磁場によるランダム配向処理を磁気
記録媒体の製造方法に適用した場合、液組成および塗布
スピードの影響を受け、これらが変わるとランダム配向
処理がうまく行かない事が判明した。また、同一組成の
液でも、分散状態・磁性粉末の磁気的特性等の微妙な変
化によつて完全にランダム化するための磁場条件が変化
してしまい、安定したランダム配向処理が出来ない事が
判明した。

そこで、これらの原因をつきとめてみると、まず第一の
問題においては、液組成および塗布スピード（支持体走
行速度）に対して最適周波数が存在する事が判明した。
すなわち、周波数が高過ぎると磁場の変化に磁性体の動
きが追従できなくなり、印加磁場の方向と垂直な向き
（長手方向への磁場印加に対して、横方向）へ磁性体が
揃つてしまい、また逆に周波数が低過ぎると磁場印加方
向に磁性体が揃つてしまうためである事が判明した。ま
た、第二の問題においては、液組成と磁場強度とのバラ
ンス点でランダマイズ化するため分散状態・磁性粉末の
磁気的特性等の液物性の微妙な変化の影響を受けやすい
たである事が判明した。

（問題点を解決するための手段） 本発明者らは上記の如き欠点を解消すべく種々検討の結
果、ある特定の液組成および塗布スピードに対し最適周
波数を決定する事により、低い磁場強度領域（磁材抗磁
力の1/10〜1/1）で高いランダム配向処理が可能となる
事を見出した。すなわち、周波数が磁性層の磁場中通過
速度に対して、周波数（Hz）／塗布スピード（ｍ／分）
1/10〜1/1まで可変となる交流磁場発生装置を使用して
ランダム配向処理を行う事により高特性の磁気記録媒体
を製造し得ることを見出し、本発明を達成した。

以下、本発明の方法を実施した装置を図面を参照しつつ
詳細に説明する。

第１図は本発明の方法を適用した磁気記録媒体の製造装
置の一実施態様の概略図を示すものである。送り出しロ
ール１に巻回された長尺、帯状の非磁性支持体２は、矢
印Ａ方向に連続移送され、巻取りロール６に巻取られる
ようになつている。移送される非磁性支持体２の表面に
近接する位置には、塗布装置３が配設されており磁性液
を塗布する。

上記塗布装置３から支持体移送方向Ａの下流側には、磁
界を作用させてランダム配向処理を行うための周波数可
変交流磁場発生装置４が配設され、そしてさらに下流側
に乾燥装置５が配設されている。

上記製造装置において、非磁性支持体２上に層成された
磁性液は、周波数可変交流磁場発生装置４により未乾燥
状態で磁性粒子がランダム配向される。この時、周波数
可変交流磁場発生装置４が発生する周波数（Hz）は、非
磁性支持体２の走行速度（磁場発生装置４内の通過速度
（ｍ／分））に対し、絶対数値が0.1〜１の範囲で可変
となるように設定されており、又、印加する交流磁場の
磁場強度は磁材抗磁力の0.1〜１の範囲に設定されてい
る。

上記のようにして配向処理された後、次いで乾燥装置５
を通過すると、該未乾燥磁性塗布層が乾燥・固化し、シ
ート状の磁気記録媒体が得られる。この磁気記録媒体を
その後打ち抜くことにより磁気デイスク等を形成するこ
とができる。

上記磁場発生装置４のように印加する磁場強度を磁性液
中の磁性粒子（磁材）の抗磁力に対して一定範囲内と
し、かつ交番磁界を発生する電流の周波数を塗布スピー
ドに対して一定範囲内に可変とすることにより、塗布液
の例えば分散状態・磁性粒子の磁気的特性等の諸特性に
よる影響が多少生じても、該磁性粒子のランダム配向を
所望の範囲に容易に行うことができる。これは、磁性粒
子の抗磁力とほぼ同等かそれよりも小さくかつ1/10以上
の強さの交流磁場を印加させることによつて、磁性粒子
のランダム化が効果的に進行することに加え、交流磁場
が磁性粒子に与える力学的影響はその周波数と磁場内通
過速度（塗布スピード）との関係にも左右され、本発明
者らが設定した次式、周波数（Hz）／塗布スピード（ｍ
／分）の値が0.1〜１の範囲においては、配向比（SQ
比）が極端に悪化する領域が存在することがなく、ラン
ダム配向処理が効果的に行われ配向比がほぼ１に近づけ
ることが出来ることによる。

なお、磁場印加時間は特に限定されるものではなく、例
えば磁場強度や支持体走行速度等により適宜変更するこ
とができる。又、本明細書において配向比（SQ比）と
は、磁性層の長手方向の角型比SQとそれに直交する角
型比SQ⊥との比（SQ⊥／SQ）で示したものである。

従つて、本発明の方法を実施した周波数可変交流磁場発
生装置４を用いることにより、種々の磁気記録媒体を製
造する場合でも、ランダム配向処理の設定が容易にな
り、安定した品質の磁気記録媒体を提供することができ
る。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例にて詳細に説明する。

厚さ75μｍのポリエチレンテレフタレート(PET)から成
る非磁性支持体上に、乾燥厚み２μｍに相当する磁性液
を塗布し、その移送方向下流側に配設された周波数可変
交流磁場発生装置４にて磁性粒子その配向のランダマイ
ズ化を行い、乾燥、打ち抜きをし、磁気デイスクを製造
する工程において、塗布スピードが50ｍ／分、100ｍ／
分のそれぞれにおいて周波数を５Hz、50Hz、100Hzの３
通りに変化させランダム配向処理を行つた場合の磁性粒
子のランダマイズ化の違いを、製造したそれぞれの磁性
層の配向比（SQ比）を測定することにより調べた。なお
配向比（SQ比）は、その値が１の時、磁性粒子が完全に
ランダマイズ化された事を示すものである。

本実施例では、液組成の異なる２種類の液Ａ，Ｂを塗布
液として使用した。Ａ，Ｂ２種類の液の組成は下記の表
１、表２に示す通りである。

上述のように、周波数可変交流磁場発生装置によりラン
ダム配向処理した磁気デイスクの配向比（SQ比）を磁場
強度に対してプロツトした結果を第２図、第３図および
第４図、第５図に示す。第２図、第３図は塗布スピード
が50ｍ／分の場合、第４図、第５図は塗布スピードが10
0ｍ／分の結果を示したものである。この結果より、例
えば第２図のＡ液の結果を見れば、周波数100および50H
zでも確かに配向比１になる（完全にランダマイズ化さ
れる）磁場強度が磁材抗磁力（240 Oe）をはさんで両側
に２点存在し、この磁場強度にてランダム配向処理を行
えば配向比≒１なる磁気デイスクが製造可能である。し
かしながら、同一組成であつても、液の分散状態・磁性
粉末の磁気的特性等の微妙な変化の影響を受け、この最
適磁場強度点は変化してしまい、安定に製造出来ない。
したがつてこの第２図Ａ液の結果より明らかなように、
最適周波数である５Hzとする事により、配向比≒１とな
る磁場強度領域が広くなり、この磁場強度領域の中心付
近の磁場強度に設定し配向処理を行うことにより、安定
に高品質の磁気デイスクを製造し得る。さらに、第４図
に示すように、塗布スピードを上げるにつれ同じ塗布液
でも最適周波数も高くなる事が明らかである。

また、Ｂ液を塗布した場合（第３図、第５図）最適周波
数はＡ液とは異なるが、上述のようなＡ液の場合の結果
と同様の傾向を示した。このように、液の組成および塗
布スピードにより最適周波数は変化するが、通常周波数
（Hz）／塗布スピード（ｍ／分）の値が1/10〜1/1まで
可能となるような周波数可変領域を有する交流磁場発生
装置を使用しランダム配向処理を行えば、安定に高品質
の磁気記録媒体を製造し得ることが判る。

（発明の効果） 以上述べたように本発明の方法は磁場強度の範囲設定と
共に、周波数（Hz）と塗布スピードとの関係を特定範囲
内に可変設定することにより、該範囲内にでは配向比≒
１なる状態を連続して保つことができるので、安定した
ランダム配向処理を行うことができる。したがつて、本
発明の方法を用いた装置によれば、良好なランダム配向
処理の設定が容易であり、高品質な磁気記録媒体の安定
製造を保証することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の方法を用いた磁気記録媒体の製造装置
の一実施態様を示す概略図、第２図〜第５図は本発明を
説明するための実施例のグラフである。 １……送り出しロール、２……非磁性支持体 ３……塗布装置 ４……周波数可変交流磁場発生装置 ５……乾燥装置、６……巻取りロール

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】連続的に走行する支持体上に磁性液を塗布
   して磁性層を設け、該磁性層に未乾燥中に交流磁場を印
   加してランダム配向処理を行う磁気記録媒体の製造方法
   において、印加する交流磁場の磁場強度が磁材抗磁力の
   1/10〜1/1まで、かつ周波数が磁性層の磁場中通過速度
   に対して、周波数（Hz）／塗布スピード（ｍ／分）が1/
   10〜1/1まで可変である範囲で配向処理をする事を特徴
   とする磁気記録媒体の製造方法。