JPH0641531A - ビス−ホスフィット安定化組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 溶融流動安定性及び耐変色性等の優れた加工
安定性及び、優れた加水分解抵抗性を示すビス−ホスフ
ィット安定化有機物質組成物を提供する。 【構成】 酸化、熱及び／または光により誘発される分
解に対して敏感な有機物質、及び少なくとも１種の次式
Ｉまたは／及びII （例えば式（Ｉ）中の符号Ｙ_１〜Ｙ_４、Ｚ_２〜Ｚ_５がｔ
−ブチル、Ｚがフェニル、Ｑが−ＣＨ（ＣＨ_３）−であ
る化合物）で表される化合物からなる組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は酸化、熱もしくは光によ
り誘発される分解に対して敏感な有機物質、及びビスホ
スフィットからなる安定化組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】分解性ポリマー基材の安定化のために、
例えば有機ホスフィット及びホスホナイトのような有機
三価燐化合物の使用は公知である。米国特許第４１４３
０２８号；４１９６１１７号；４３１８８４５号；４３
７４２１９号；４５２４１６６号；４９１２１５５号；
及び４９９９３９３号に、分解性ポリマーの安定化のた
めの７−及び８−員ジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕
ジオキサホスフェピン及びジベンゾ〔ｄ，ｇ〕〔１，
３，２〕ジオキサホスホシンの使用が開示されている。

【０００３】Spivack et al.Polymer Stabilization an
d Degradation,P.P.Klemchuk editor;American Chemica
l Society:Washington D.C.,1985,247-257に加水分解に
対して安定な７−及び８−員ジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，
３，２〕ジオキサホスフェピン及びジベンゾ〔ｄ，ｇ〕
〔１，３，２〕ジオキサホスホシンの使用がそれぞれ加
工安定剤として記載されている。

【０００４】７−及び８−員ジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，
３，２〕ジオキサホスフェピン及びジベンゾ〔ｄ，ｇ〕
〔１，３，２〕ジオキサホスホシンの詳細な製造方法が
Pastor et al.Phosphorus Sulfur,1983,15,9;Phosphoru
s Sulfur,1983,15,253;J.Heterocycl.1983,20,1311;Pho
sphorus Sulfur,1984,19,1; 及びPhosphorus Sulfur,19
84,19,285 に記載されている。

【０００５】米国特許第４７５１３１９号及び４８１２
５０１号に、本発明の化合物とは構造的に異なる１，
３，２−オキサザホスホリジンのビアリール誘導体を含
む安定化組成物が開示されている。

【０００６】米国特許第４５９９２０６号；４７１７７
７５号；４７４８２６１号；４７６９４９８号及び５０
５９７１０号には、遷移金属触媒ヒドロホルミル化作用
のために有用な式Ｉ及びIIで表される配位子が開示され
ている。分解性有機物質の安定化のための式Ｉ及びIIで
表される化合物の使用は記載及び示唆されていない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の分解性ポリマ
ー基材及び本発明において式Ｉ及びIIで表される化合物
からなる本発明の安定化組成物は優れた安定性を示す。
このことはこれらのポリマー組成物溶融流動安定性及び
耐変色性といった優れた加工安定性により証明される。
更に、本発明の組成物は加工前の加水分解に対する優れ
た抵抗性を示す。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は分解性有
機性ポリマー物質及び、式Ｉまたは／及びIIで表される
ビスホスフィットのみもしくは立体障害フェノール性酸
化防止剤及び／または立体障害アミン光安定剤と結合し
たビスホスフィットの有効安定化量を含んだ安定化組成
物を提供することである。

【０００９】本発明は （ａ）酸化、熱及び／または光により誘発される分解に
対して敏感な有機組成物、及び（ｂ）少なくとも１種の
次式Ｉまたは／及びIIで表される化合物

【化２】 〔式中 Ｑが直接結合もしくは−ＣＲ₁ Ｒ₂ −基（式中
それぞれＲ₁ 及びＲ₂が独立して水素原子、炭素原子
数１ないし１８の直鎖アルキル基、炭素原子数１ないし
１２の枝別れ鎖アルキル基、フェニル基、トリル基もし
くはアニシル基を表す。）を表し；それぞれＹ₁ 、
Ｙ₂ 、Ｙ₃ 、Ｙ₄ 、Ｚ₂ 、Ｚ₃ 、Ｚ₄ 及びＺ₅ が独立し
て水素原子、炭素原子数１ないし１８の直鎖もしくは枝
別れ鎖アルキル基、炭素原子数７ないし１０のビシクロ
アルキル基、フェニル基、ベンジル基、１−フェニルエ
チル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル
基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、トリフルオロ
メチル基、ヒドロキシ基、アミノ基、炭素原子数２ない
し１８のアルカノイル基、炭素原子数１ないし１８のア
ルコキシ基もしくはＥ₁ Ｅ₂ Ｅ₃ Ｓｉ−基（式中
Ｅ₁ 、Ｅ₂ 及びＥ₃ が独立して水素原子、炭素原子数１
ないし４のアルキル基もしくはフェニル基を表す。）を
表し；それぞれＺが独立して炭素原子数１ないし１８の
アルキル基、フェニル基もしくは炭素原子数１ないし８
のアルキル基もしくは１−フェニルエチル基によって；
又はシアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、トリフルオロ
メチル基、ヒドロキシ基、アミノ基、炭素原子数２ない
し１８のアルカノイル基、炭素原子数１ないし１８のア
ルコキシ基もしくはＥ₁ Ｅ₂ Ｅ₃ Ｓｉ−基（式中
Ｅ₁ 、Ｅ₂ 及びＥ₃ が独立して水素原子、炭素原子数１
ないし４のアルキル基もしくはフェニル基を表す。）に
よってモノ−もしくはジ−置換された該フェニル基を表
し；及びＺ₆ 及びＺ₇ が独立して水素原子、炭素原子数
１ないし１８の直鎖もしくは枝別れ鎖アルキル基、フェ
ニル基、炭素原子数１ないし８のアルキル基によって置
換された該フェニル基；もしくは独立してベンジル基、
１−フェニルエチル基、シクロヘキシル基、１−メチル
シクロヘキシル基、シアノ基、ハロゲン原子、−ＮＲ₃
Ｒ₄ 基もしくは−ＳＲ₅ 基（式中 Ｒ₃ 、Ｒ₄ 及びＲ₅
が独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８の直鎖も
しくは枝別れ鎖アルキル基、フェニル基、ベンジル基、
シクロヘキシル基もしくは１−メチルシクロヘキシル基
を表す。）を表す。〕からなる安定化組成物に関する。

【００１０】Ｒ₁ ないしＲ₅ ，Ｙ₁ ないしＹ₄ 、及びＺ
ないしＺ₇ のうちのいずれかが炭素原子数１ないし１８
の直鎖もしくは枝別れ鎖アルキル基の場合、そのような
アルキル基は例えばメチル基、エチル基、イソプロピル
基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、第三
アミル基、２エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ラウ
リル基もしくはｎ−オクタデシル基である。Ｙ₁ 、
Ｙ₂ 、Ｙ₃ 、Ｙ₄ 、Ｚ₂ 、Ｚ₃ 、Ｚ₄ 及びＺ₅ に対して
は第三ブチル基が好ましい。

【００１１】Ｙ₁ 、Ｙ₂ 、Ｙ₃ 、Ｙ₄ 、Ｚ₂ 、Ｚ₃ 、Ｚ
₄ 及びＺ₅ が炭素原子数７ないし１０のビシクロアルキ
ル基の場合、それらは例えばイソボルニル基もしくはア
ダマンチル基である。

【００１２】基がハロゲン原子の場合、それらは例えば
弗素原子、塩素原子もしくは臭素原子である。塩素原子
が好ましい。

【００１３】Ｙ₁ 、Ｙ₂ 、Ｙ₃ 、Ｙ₄ 、Ｚ₂ 、Ｚ₃ 、Ｚ
₄ 及びＺ₅ のうちのいずれかが炭素原子数２ないし１８
のアルカノイル基の場合、それらは例えばアセチル基、
プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ピバ
ロイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノ
イル基、ノナノイル基、デカノイル基、アンデカノイル
基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノ
イル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、ヘ
プタデカノイル基もしくはオクタデカノイル基である。

【００１４】炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基と
定義されたＹ₁ 、Ｙ₂ 、Ｙ₃ 、Ｙ₄、Ｚ₂ 、Ｚ₃ 、Ｚ₄
及びＺ₅ は枝別れ鎖もしくは直鎖基である、例えば、メ
トキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキ
シ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ
基、ヘコキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、デシロ
キシ基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシロキシ基、
もしくはオクタデシロキシ基、である。

【００１５】Ｚ、Ｚ₆ 及びＺ₇ が炭素原子数１ないし８
のアルキル基によりモノ−もしくはジ−置換されたフェ
ニル基の場合、それらは、例えばｏ−，ｍ−もしくはｐ
−メチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、
２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニ
ル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチル
フェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２−メチル
−６−エチルフェニル基、４−第三−ブチルフェニル
基、２−第三−ブチルフェニル基、２，４−ジ−第三−
ブチルフェニル基もしくは２，４−ジ−第三−ブチル−
６−メチル−フェニル基である。

【００１６】Ｚが炭素原子数２ないし１８のアルカノイ
ル基によりモノ−もしくはジ−置換されたフェニル基の
場合、それらは、例えば２−アセチルフェニル基、３−
アセチルフェニル基、４−アセチルフェニル基、４−プ
ロピオニルフェニル基、ブタノイルフェニル基、ペンタ
ノイルフェニル基、ピバロイルフェニル基、ヘキサノイ
ルフェニル基、ヘプタノイルフェニル基、オクタノイル
フェニル基、ノナノイルフェニル基、デカノイルフェニ
ル基、アンデカノイルフェニル基、ドデカノイルフェニ
ル基、トリデカノイルフェニル基、テトラデカノイルフ
ェニル基、ペンタデカノイルフェニル基、ヘキサデカノ
イルフェニル基、ヘプタデカノイルフェニル基もしくは
オクタデカノイルフェニル基である。

【００１７】Ｚが炭素原子数１ないし１８のアルコキシ
基によりモノ−もしくはジ−置換されたフェニル基の場
合、それらは、例えば２−メトキシフェニル基、３−メ
トキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−エト
キシフェニル基、４−ヘコキシフェニル基もしくは４−
オクタデシロキシフェニル基である。

【００１８】好ましい組成物は式Ｉ及びＩＩ中、Ｑが直
接結合もしくは−ＣＲ₁ Ｒ₂ −基（式中 それぞれＲ₁
及びＲ₂ が独立して水素原子、炭素原子数１ないし１２
の直鎖アルキル基、炭素原子数１ないし６の枝別れ鎖ア
ルキル基、フェニル基もしくはトリル基を表す。）を表
し；それぞれＹ₁ 、Ｙ₂ 、Ｙ₃ 、Ｙ₄ 、Ｚ₂ 、Ｚ₃ 、Ｚ
₄ 及びＺ₅ が独立して水素原子、炭素原子数１ないし１
２の直鎖もしくは枝別れ鎖アルキル基、フェニル基、ベ
ンジル基、１−フェニルエチル基、シクロヘキシル基、
１−メチルシクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、
炭素原子数２ないし１２のアルカノイル基もしくは炭素
原子数１ないし１２のアルコキシ基を表し；それぞれＺ
が独立して炭素原子数１ないし１２のアルキル基、フェ
ニル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基によ
ってモノ−もしくはジ−置換された該フェニル基を表
し、及び；Ｚ₆ 及びＺ₇ が独立して水素原子、炭素原子
数１ないし１２の直鎖もしくは枝別れ鎖アルキル基、フ
ェニル基、炭素原子数１ないし８のアルキル基によって
置換された該フェニル基；もしくは独立してベンジル
基、ハロゲン原子もしくは−ＮＲ₃ Ｒ₄ 基（式中 Ｒ₃
及びＲ₄ は独立して水素原子、炭素原子数１ないし１２
の直鎖もしくは枝別れ鎖アルキル基、ベンジル基、シク
ロヘキシル基もしくは１−メチルシクロヘキシル基を表
す。）を表す。

【００１９】また好ましい組成物は式Ｉ及びＩＩ中、Ｙ
₁ 、Ｙ₂ 、Ｙ₃ 、Ｙ₄ 、Ｚ₂ 、Ｚ₃、Ｚ₄ 及びＺ₅ が第
三−ブチル基を表す。

【００２０】特に好ましい組成物は式Ｉ及びＩＩ中、
Ｚ、Ｚ₆ 及びＺ₇ がフェニル基を表す。

【００２１】更に興味のある組成物は式Ｉ及びＩＩ中、
Ｑが直接結合もしくは−ＣＲ₁ Ｒ₂−基（式中 それぞ
れＲ₁ 及びＲ₂ が独立して水素原子、炭素原子数１ない
し８の直鎖アルキル基を表し；それぞれＹ₁ 、Ｙ₂ 、Ｙ
₃ 、Ｙ₄ 、Ｚ₂ 、Ｚ₃ 、Ｚ₄ 及びＺ₅ が独立して水素原
子、炭素原子数１ないし８の直鎖もしくは枝別れ鎖アル
キル基、フェニル基、シクロヘキシル基、もしくは１−
メチルシクロヘキシル基を表し；それぞれＺが独立して
フェニル基もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基
によってモノ−もしくはジ−置換された該フェニル基を
表し、及びＺ₆ 及びＺ₇ が独立して水素原子、フェニル
基、炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換さ
れた該フェニル基；もしくは独立して、ハロゲン原子、
もしくは−ＮＲ₃ Ｒ₄ 基（式中 Ｒ₃ 及びＲ₄ は独立し
て水素原子、もしくは炭素原子数１ないし８の直鎖もし
くは枝別れ鎖アルキル基を表す。）を表す。

【００２２】特に興味のある組成物は式Ｉ及びＩＩ中、
Ｑが直接結合もしくは−ＣＲ₁ Ｒ₂−基（式中 それぞ
れＲ₁ 及びＲ₂ が独立して水素原子、炭素原子数１ない
し４の直鎖アルキル基を表す。）を表し；それぞれ
Ｙ₁ 、Ｙ₂ 、Ｙ₃ 、Ｙ₄ 、Ｚ₂ 、Ｚ₃ 、Ｚ₄ 及びＺ₅ が
独立して水素原子、炭素原子数１ないし４の直鎖もしく
は枝別れ鎖アルキル基を表し；Ｚがフェニル基を表し；
及びＺ₆ 及びＺ₇ が独立して水素原子、フェニル基、ク
ロロ基、もしくは−ＮＲ₃ Ｒ₄ 基（式中 Ｒ₃ 及びＲ₄
は独立して水素原子、炭素原子数１ないし４の直鎖もし
くは枝別れ鎖アルキル基を表す。）を表す。

【００２３】一般式ＩもしくはＩＩの組成物の製造方法
は米国特許第４５９９２０６号；４７１７７７５号；４
７４８２６１号；４７６９４９８号及び５０５９７１０
号に開示されている。

【００２４】成分（ａ）の有機物質は好ましくは合成ポ
リマー；最も好ましくはポリオレフィンである。

【００２５】本発明の化合物が特に有用である基材は、
ポリプロピレン及びポリエチレンのようなポリオレフィ
ン；特に衝撃ポリスチレンを含有するポリスチレン；Ａ
ＢＳ樹脂；ブタジエンゴム、ＥＰＭ、ＥＰＤＭ、ＳＢＲ
及びニトリルゴムのようなエラストマーである。

【００２６】本発明はまた更にフェノール性酸化防止剤
もしくは立体障害アミン光安定剤もしくはそれらの混合
物を含む安定化された組成物に適する。適したフェノー
ル酸化防止剤及び立体障害アミン化合物は以下に示され
る。

【００２７】式ＩもしくはＩＩの化合物は、酸化、熱も
しくは光により誘発される分解に対して敏感な有機物質
の保護のための安定剤として有用である。

【００２８】一般に安定化しうるポリマーは以下のもの
を含む。

【００２９】安定化されてよい有機材料の例を示す。 １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えば、ポリエチレン（必要ならば架橋されうる）、ポリ
プロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、
ポリメチルペンテ−１−エン、ポリイソプレンまたはポ
リブタジエン、同様にシクロオレフィン、例えばシクロ
ペンテンまたはノルボルエンのポリマー。

【００３０】２．上記１に挙げたポリマーの混合物、例
えばポリプロピレンとポリイソブチレン。

【００３１】３．モノオレフィンおよびジオレフィンの
相互もしくは他のビニルモノマーとのコポリマー、例え
ばエチレン／プロピレンコポリマー、プロピレン／ブテ
−１−エンコポリマー、プロピレン／ブテ−１−エンコ
ポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロ
ピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプ
レンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポ
リマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマ
ー、エチレン／ビニルアセテートコポリマー、又はエチ
レン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイソマ
ー）、並びにエチレンとプロピレンとジエン、例えばヘ
キサジエン、ジシクロペンタジエン、またはエチリデン
ノルボルネンとのターポリマー。

【００３２】４．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチ
レン）。

【００３３】５．スチレンもしくはα−メチルスチレン
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリ
ル、スチレン／エチルメタクリレート、スチレン／エチ
ルメタアクリレート、スチレン／ブタジエン／エチルア
クリレート、スチレン／アクリロニトリル／メチルアク
リレート；スチレンコポリマーと他のポリマー、例えば
ポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プ
ロピレン／ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合
物；及びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレ
ン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／ス
チレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又
はスチレン／エチレン−プロピレン／スチレン。

【００３４】６．スチレンのグラフトコポリマー、例え
ば、ポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエンにスチ
レン及びアクリロニトリル、ポリブタジエンにスチレン
とアルキルアクリレートもしくはメタアクリレート、エ
チレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンと
アクリロニトリル、アクリレートまたはブタジエンコポ
リマーにスチレンとアクリロニトリル、及びそれらと前
記５で挙げたコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ，Ｍ
ＢＳ，ＡＳＡまたはＡＥＳポリマーとして知られるコポ
リマー混合物。

【００３５】７．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エピクロロヒドリンホモ−及びコポ
リマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例
えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビ
ニル、及びポリ弗化ビニリデン；及びそれらのコポリマ
ー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／
酢酸ビニル、塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーま
たは塩化ビニル／ビニルエーテルコポリマー。

【００３６】８．α，β−不飽和酸、及びその誘導体、
例えばポリアクリレート及びポリメタクリレート、ポリ
アクリルアミド及びポリアクリロニトリル。

【００３７】９．上記８に挙げたモノマーの相互または
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル−ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル−ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル−ア
ルコキシアルキルアクリレートコポリマー、またはアク
リロニトリル−ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアク
リロニトリル−アルキルメタクリレート−ブタジエンタ
ーポリマー。

【００３８】10．不飽和アルコール及びアミン、又はア
シル誘導体もしくはアセタールから誘導されたポリマ
ー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポ
リステアリン酸ビニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリマレ
イン酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタ
レートまたはポリアリルメラミン。

【００３９】11．環状エーテルのホモポリマー及びコポ
リマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレ
ンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビ
スグリシジルエーテルとのコポリマー。

【００４０】12. ポリアセタール、例えばポリオキシメ
チレン、及びコモノマーとしてエチレンオキシドを有す
るポリオキシメチレン。

【００４１】13．ポリフェニレンオキシド及びスルフィ
ド、及びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーの
混合物。

【００４２】14．一方で末端水酸基を有するポリエーテ
ル、ポリエステル及びポリブタジエン、他方で脂肪族も
しくは芳香族ポリイソシアネートから誘導されるポリウ
レタン、及びその前駆物質（ポリイソシアネート、ポリ
オールまたはプレポリマー）。

【００４３】15．ジアミン及びジカルボン酸から、及び
／又はアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミ
ド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、ポリアミド６
／１０、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ポリ−２，
４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド、
ポリ−ｐ−フェニレン−テレフタルアミドもしくは、ポ
リ−ｍ−フェニレン−イソフタルアミド、同様にポリオ
レフィンとそれらのコポリマー、例えばポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラ
メチレングリコールとのコポリマー。

【００４４】16．ポリウレア、ポリイミド、ポリアミド
−イミド。

【００４５】17．ジカルボン酸及びジアルコールから、
及び／又はヒドロキシカルボン酸または相当するラクト
ンから誘導されるポリエステル、例えばポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、
ポリ−〔２，２−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパ
ン〕テレフタレート、及びポリヒドロキシベンゾエー
ト、並びに末端水酸基を有するポリエーテルから誘導さ
れるブロックポリエーテルエステル。

【００４６】18．ポリカーボネート。

【００４７】19．ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
およびポリエーテルケトン。

【００４８】20．一方でアルデヒドから、及び他方でフ
ェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポリ
マー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素
／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒ
ド樹脂。

【００４９】21．乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。

【００５０】22．飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価ア
ルコールとのコポリエステルから、ビニル化合物を架橋
剤として誘導された不飽和ポリエステル樹脂及びそのハ
ロゲン含有、難燃変成樹脂。

【００５１】23．置換アクリル酸エステル、例えばエポ
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステルアクリレートから誘導された熱硬化アクリル樹
脂。

【００５２】24．架橋としてメラミン樹脂、尿素樹脂、
ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂と混合したアル
キッド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。

【００５３】25．ポリエポキシド、例えばビスグリシジ
ルエーテルから、または脂環式ジエポキシドから誘導さ
れた架橋エポキシ樹脂。

【００５４】26．セルロースのような天然ポリマー、ゴ
ム、ゼラチン及びそれらをポリマー同族方法で、化学変
成したその誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース及び酪酸セルロース、及びセルロースエー
テル、例えばメチルセルロース、並びにロジン樹脂およ
びその誘導体。

【００５５】27．前述のポリマーの混合物、例えばＰＰ
／ＥＰＤＭ、ポリアミド６／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ，Ｐ
ＶＣ／ＥＶＡ，ＰＶＣ／ＡＢＳ，ＰＶＣ／ＭＢＳ，ＰＣ
／ＡＢＳ，ＰＢＴＰ／ＡＢＳ。

【００５６】28．純粋なモノマー化合物またはそれらの
混合物からなる天然及び合成有機材料、例えば鉱油、動
物または植物脂肪、オイル及びワックスまたは合成エス
テル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェートま
たはトリメリテート）に基づいたオイル、ワックス及び
脂肪、並びにポリマ−用可塑剤として、または紡糸製剤
油として用いられている材料のいかなる重量比での合成
エステルと鉱油との混合物、そしてそれらの水性エマル
ジョン。

【００５７】29．天然または合成ゴムの水性エマルジョ
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン−ブタジエンコポリマーのラテックス。

【００５８】30. ポリシロキサン、例えば、米国特許第
４２５９４６７号に開示されているヒドロフィリックポ
リシロキサン；例えば米国特許第４３５５１４７号に開
示されているポリオルガノシロキレン。

【００５９】31. 不飽和アクリルポリアセトアセテート
樹脂もしくは不飽和アクリル樹脂とポリケチミン。不飽
和アクリル樹脂はウレタンアクリレート、ポリエーテル
アクリレート、ペンダント不飽和基及びアクリルメラミ
ンとのビニルもしくはアクリルコポリマーを含む。ポリ
ケチミンは酸触媒の存在下でポリアミン及びケトンから
生成される。

【００６０】32. 光硬化組成物はエチレン性不飽和モノ
マーもしくはオリゴマー及びポリ不飽和アリフタリック
オリゴマーを含む。

【００６１】33. LSE-4103(Monsanto)のようなエポキシ
機能性functional coetherfied high solids melamine
樹脂に架橋された光安定性エポキシ樹脂のようなエポキ
シメラミン樹脂

【００６２】本発明は更に安定剤として式ＩもしくはＩ
Ｉの化合物のうちの少なくとも1 種の該化物質を混合し
ているか、適合する酸化、熱もしくは光により誘発され
る分解に対して敏感な有機物質の保護方法に関する。

【００６３】一般に、本発明の化合物は安定化組成物の
約０．０１から約５重量％使用される、にもかかわらず
一般の基材及び用途を変化させる。有効範囲は約０．０
５ないし約２％，及び特に０．０５ないし約１％であ
る。

【００６４】本発明の安定剤は成形物品の製造の工程の
前に、通常の方法により有機ポリマーに容易に混合され
うる。例えば、安定剤は乾燥粉末状ポリマーと混合され
うる、もしくは安定剤の懸濁液もしくは乳濁液はポリマ
ーの溶液、懸濁液もしくは乳濁液と混合されうる。得ら
れる安定化した本発明のポリマー組成物は場合により、
また約０．０１ないし約５％、好ましくは約０．０２５
ないし約２％、及び特に約０．０５ないし約１重量％の
色々な以下に示されるような通常の添加物、またはそれ
らの混合物を含む。

【００６５】１．酸化防止剤 1.1.アルキル化モノフェノール 例えば、2,6-ジ−第三ブチル-4- メチルフェノール、2-
第三ブチル-4,6- ジメチルフェノール、2,6-ジ−第三ブ
チル-4- エチルフェノール、2,6-ジ−第三ブチル-4-n-
ブチルフェノール、2,6-ジ−第三ブチル-4- イソブチル
フェノール、2,6-ジシクロペンチル-4- メチルフェノー
ル、2-( α−メチルシクロヘキシル）-4,6- ジメチルフ
ェノール、2,6-ジオクタデシル-4- メチルフェノール、
2,4,6-トリシクロヘキシルフェノール、2,6-ジ−第三ブ
チル-4- メトキシメチルフェノール。

【００６６】1.2.アルキルチオメチルフェノール 例えば、2,6-ジ- 第三ブチル-4- メトキシフェノール、
2,5-ジ- 第三ブチル- ヒドロキノン、2,5-ジ- 第三アミ
ル- ヒドロキノン、2,6-ジフェニル-4- オトクタデシロ
キシ- フェノール。

【００６７】1.3 ドロキシル化チオジフェニルエーテル 例えば、2,2'- チオビス(6- 第三ブチル-4- メチルフェ
ノール) 、2,2'- チオビス(4- オクチルフェノール) 、
4,4'- チオビス(6- 第三ブチル-3- メチルフェノール)
、4,4'- チオビス(6- 第三ブチル-2- メチルフェノー
ル) 。

【００６８】1.4.アルキリデンビスフェノール 例えば、2,2'- メチレンビス（6-第三ブチル-4- メチル
フェノール）、2,2'- メチレンビス（6-第三ブチル-4-
エチルフェノール）、2,2'- メチレンビス〔4-メチル-6
-(α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、2,2'- メ
チレンビス（4-メチル-6- シクロヘキシルフェノー
ル）、2,2'- メチレンビス（6-ノニル-4- メチルフェノ
ール）、2,2'- メチレンビス〔6-( α−メチルベンジ
ル）-4- ノニルフェノール〕、2,2'- メチレンビス〔6-
( α，α−ジメチルベンジル）-4- ノニルフェノー
ル〕、2,2'- エチレンビス(4,6- ジ 第三ブチル- フェ
ノール) 、2,2'- エチリデン- ビス-(6-第三ブチル-4-
イソブチルフェノール）、4,4'- メチレンビス（2,６−
ジ- 第三ブチルフェノール）、4,4'- メチレンビス（６
−第三ブチル-2- メチルフェノール）、1,1-ビス（5-第
三ブチル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル）ブタン、
2,6-ジ−(3- 第三ブチル-5- メチル-2- ヒドロキシベン
ジル）-4- メチルフェノール、1,1,3-トリス（5-第三ブ
チル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル）ブタン、1,1-
ビス（5-第三ブチル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニ
ル）-3-n- ドデシルメルカプトブタン エチレングリコ
ール ビス〔3,3-ビス（3'−第三ブチル-4'-ヒドロキシ
フェニル）ブチレート〕ジ（3-第三ブチル-4- ヒドロキ
シ-5- メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ジ−
〔2-(3'-第三ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-メチルベンジ
ル）-6- 第三ブチル-4- メチルフェニル〕テレフタレー
ト。

【００６９】1.5.ベンジル化合物 例えば、1.3,5'- トリ- (3,5- 第三- ブチル-4- ヒドロ
キシベンジル)-2,４,6-トリメチルベンゼン、ジ-(3,5-
ジ- 第三ブチル-4- ヒドロキシベンジル) スルフィド、
3,5 ジ- 第三- ブチル-4- ヒドロキシベンジルメルカプ
トアセチックアシドエーテル、ビス-(4-第三ブチル-3-
ヒドロキシ-2,6- ジメチルベンジル) ジチオールテレフ
タレート、1.3,5'- トリ- (3,5- ジ- ブチル-4- ヒドロ
キシベンジル)-イソシアヌレート、1.3,5'- トリ- (3,5
- ジ- 第三ブチル-4- ヒドロキシベンジル)-イソシアヌ
レート、1.3,5'- トリ- (4- 第三ブチル-3- ヒドロキシ
-2,6- ジメチルベンジル)-イソシアヌレート、3,5-ジ-
第三ブチル-4- ヒドロキシベンジル- ホスホリックアシ
ドジオクタデシルエーテル、3,5-ジ- 第三ブチル-4-ヒ
ドロキシベンジル- ホスホリックアシドモノエチルエー
テルカルシウム- 塩。

【００７０】1.6 . アシルアミノフェノール 例えば、ラウリル酸4-ヒドロキシアニリド、ステアリン
酸4-ヒドロキシアニリド、N-(3,5- ジ−第三ブチル-4-
ヒドロキシフェニル）−カルバミン酸オクチルエステ
ル。

【００７１】1.7 . 以下のような一価または多価アルコ
ールとβ−（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸とのエステル アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6-ヘキ
サンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグ
リコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレー
ト、チオジエチレングリコール、ジ−ヒトロキシエチル
オキサリックアシドジアミン。

【００７２】1.8 . 以下のような一価または多価アルコ
ールとβ−（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニ
ルアセチル酸エステル アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6-ヘキ
サンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグ
リコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレー
ト、チオジエチレングリコール、ジ−ヒトロキシエチル
オキサリックアシドジアミン。

【００７３】1.9 . β−（3,5-ジ第三ブチル-4- ヒドロ
キシフェニル）プロピオン酸のアミド 例えばN,N'- ジ（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、N,N'-
ジ- （3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）トリメチレンジアミンおよびN,N'- ジ- （3,
5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）ヒドラジン。

【００７４】1.10. ジアリルアミン N-フェニル-1- ナフチルアミン、N-(4- 第三オクチルフ
ェニル)-1-ナフチルアミン、4,4'- ジ第三- オクチル-
ジフェニルアミン、N-フェニルベンジルアミン及び2,4,
4-トリメチルペンテンの反応生成物、ジフェニルアミン
及び,2,4,4- トリメチルペンテンの反応生成物、N-フェ
ニル-1- ナフチルアミン及び2,4,4-トリメチルペンテン
の反応生成物。

【００７５】２．紫外線吸収剤および光安定剤 2.1. 2-（2'- ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル 例えば５’−メチル、3',5'-ジ第三ブチル−、5'- 第三
ブチル、5'-(1,1,3,3-テトラメチルブチル) - 、5-クロ
ロ-3',5'- 第三ブチル, 5-クロロ-3'-第三ブチル-5'-メ
チル- 、3'- 第二- ブチル-5'-第三ブチル- 、4'- オク
トキシ、3',5'-ジ- 第三アミル- 、3',5'-ビス-(α, α
- ジメチルベンジル）、3'- 第三ブチル-5'-(2- ( オメ
ガ- ヒドロキシ- オクタ-(エチレンオキシ)-カルボニル
エチル）-、3'- ドデシル-5'-メチル- 、及び3'- 第三
ブチル-5'-(2- オクチルオキシカルボニル) エチル- 及
びドデシル化-5'-メチル誘導体。

【００７６】2.2. 2-ヒドロキシベンゾフェノン 例えば4-ヒドロキシ、4-メトキシ、4-オクチルオキシ、
4-デシルオキシ、4-ドデシルオキシ、4-ベンジルオキ
シ、4,2',4'-トリヒドロキシおよび2'−ヒドロキシ-4,
4'-ジメトキシ誘導体。

【００７７】2.3.未置換及び置換された安息香酸のエス
テル 例えば4-第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサ
リチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾ
イルレゾルシノール、ビス-(4-第三ブチルベンゾイル）
レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4-ジ−
第三ブチルフェニル3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシ
安息香酸エステル、3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシ
安息香酸ヘキサデシルエステル、3,5-ジ−第三ブチル-4
- ヒドロキシ安息香酸オクタデシルエステル、2-メチル
-4,6- ジ−第三ブチルフェニル3,5-ジ−第三ブチル-4-
ヒドロキシ安息香酸エステル。

【００７８】2.4.アクリレート 例えばエチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレ
ート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルア
クリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシケイ皮酸のメチ
ルエステルおよびα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキ
シケイ皮酸のブチルエステル、メチルα−カルボメトキ
シ−ｐ−メトキシシンナメート、及びN-（β−カルボメ
トキシ−β−シアノビニル）-2- メチルインドリン。

【００７９】2.5.ニッケル化合物 例えば2,2'- チオ−ビス〔4-(1,1,3,3- テトラメチルブ
チル）フェノール〕のニッケル錯体、例えば、１：１ま
たは１：２錯体、場合により付加配位子、例えばn-ブチ
ルアミン、トリエタノールアミンまたはN-シクロヘキシ
ルジエタノールアミンを有してよいニッケル錯体、ニッ
ケルジブチルジチオカルバメート、4-ヒドロキシ-3,5−
ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステ
ル、例えばメチル、又はエチルエステル及び4-ヒドロキ
シ-3,5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキ
ルエステルのニッケル塩、ケトオキシム、例えば2-ヒド
ロキシ-4- メチルフェニルウンデシルケトオキシムのニ
ッケル錯体、および場合により、付加配位子を含んでよ
い1-フェニル-4- ラウロイル-5- ヒドロキシピラゾール
のニッケル錯体。

【００８０】2.6.立体障害性アミン 例えばビス（2,2,6,6-テトラメチル−ピペリジル）セバ
ケート、ビス（1,2,2,6,6-ペンタメチルピペリジル）セ
バケート、ｎ−ブチル-3,5- ジ−第三ブチル-4-ヒドロ
キシベンジル−マロン酸ビス-(1,2,2,6,6-ペンタメチル
ピペリジル) エステル、1-( ヒドロキシエチル-2,2,6,6
- テトラメチル-4- ヒドロキシピペリジンとコハク酸と
の縮合物、N,N'- ビス（2,2,6,6-テトラメチルピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミンと4-第三オクチルアミノ-
2,6- s-トリアジンとの縮合物、トリス（2,2,6,6-テト
ラメチルピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラ
キス（2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)-1,2,3,4-
ブタンテトラカルボン酸エステル、1,1'-(1,2-エタンジ
イル) ビス(3,3,5,5- テトラメチルピペラジノン) 、ベ
ンゾイル-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン、4-ステア
リルオキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン、ビス-
(1,2,2,6,6-ペンタメチルピペリジル)-2-n-ブチル-2-(2
-ヒドロキシ-3,5- ジ- 第三ブチル- ベンジル) マロネ
ート、3-n-オクチル-7,7,9,9- テトラメチル-1,3,8- ト
リアザスプリ[4.5] デカン-2,4- ジオン、ビス-(1-オク
チルオキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン-4- イ
ル) セバケート。

【００８１】2.7.オキサミド 例えば4,4'- ジオクチルオキシオキサニリド、2,2'- ジ
オクチルオキシ-5,5'-ジ第三ブトキシアニリド、2,2'-
ジドデシルオキシ-5,5'-ジ第三ブチルオキサニリド、2-
エトキシ-2'-エチルオサニリド、N,N'- ビス(3- ジメチ
ルアミノプロピル) オキサルアミド、2-エトキシ-5- 第
三ブチル-2'-エチルオキサニリドおよび、2-エトキシ-
2'-エチル-5,4'-ジ第三ブチルオキサニリドとの混合
物、及びオルト- 並びにパラ- メトキシ- 二置換オキサ
ニリドの混合物、及びo-並びにp-エトキシ二置換オキサ
ニリドの混合物。

【００８２】2.8. 2-(2- ヒドロキシフェニル)-1,3,5-
トリアジン 例えば2,4,6-トリス(2- ヒドロキシ-4- オクチルオキシ
フェニル)-1,3,5-トリアジン、2-(2- ヒドロキシ-4- オ
クチルオキシフェニル-4,6- ビス(2,4- ジメチルフェニ
ル)-1,3,5-トリアジン、2-(2,4- ジヒドロキシフェニ
ル)-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジ
ン、2,4-ビス(2- ヒドロキシ-4- プロピルオキシフェニ
ル)-6-(2,4- ジメチルフェニル) -1,3,5- トリアジン、
2-(2- ヒドロキシ-4- オクチルオキシフェニル)-4,6-ビ
ス(4- メチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-(2- ヒド
ロキシ-4- ドデシルオキシフェニル)-4,6-ビス(2,4- ジ
メチルフェニル) -1,3,5- トリアジン、2-[2- ヒドロキ
シ-4-(2-ヒドロキシ-3- ブチルオキシ- プロピルオキ
シ) フェニル]-4,6-ビス(2,4- ジメチルフェニル) -1,
3,5- トリアジン、2-[2- ヒドロキシ-4-(2-ヒドロキシ-
3- オクチルオキシ- プロピルオキシ) フェニル]-4,6-
ビス(2,4- ジメチルフェニル) -1,3,5- トリアジン。

【００８３】３．金属不活性化剤 例えばN,N'−ジフェニルオキサジアミド、N-サリチラル
-N'-サリチロイルヒドラジン、N,N'- ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、N,N'- ビス（3,5-ジ−第三ブチル-4-
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、3-サリ
チロイルアミノ-1,2,4- トリアゾール、ビス（ベンジリ
デン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフ
タル酸ジヒドラジド、セバシン酸ビスフェニルヒドラジ
ド、N,N'-ジアセチル- アジピン酸ジヒドラジド、N,N'-
ビス( サリチロイル)-オキサリルジヒドラジド、N,N'-
ビス( サリチロイル) チオプロピオン酸ジヒドラジ
ド。

【００８４】４．他のホスフィットおよびホスホニット 例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキ
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リ（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（2,4-
ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシル
ペンタエリトリトールジホスフィット、ジ−（2,4-ジ−
第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィ
ット、トリステアリル−ソルビトールトリホスフィッ
ト、テトラキス- （2,4-ジ−第三ブチルフェニル）4,4'
- ジフェニレンジホスフォナイト。

【００８５】5. 過酸化物を破壊する化合物 β- チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルもしくはトリデシルエステル、
メルカプト- ベンジミダゾールもしくは2-メルカプト-
ベンジミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチル- ジチオカル
バメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリチ
リトールテトラキス-(β- ドデシルメルカプト)-プロピ
オネート。

【００８６】6 . ヒドロキシアミン 例えば、N,N-ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N-ジエ
チルヒドロキシルアミン、N,N-ジオクチルヒドロキシル
アミン、N,N-ジラウリルヒドロキシルアミン、N,N-ジテ
トラデシルヒドロキシルアミン、N,N-ジヘキサデシルヒ
ドロキシルアミン、N,N-ジオクタデシルヒドロキシルア
ミン、N-ヘキサデシル- N-オクタデシルヒドロキシルア
ミン、N-ヘプタデシル- N-オクタデシルヒドロキシルア
ミン、水素化タロウアミンから誘導されたN,N-ジ-アル
キルヒドロキシルアミン。

【００８７】7. ナイトロン 例えば、N-ベンジル- アルファ- フェニルナイトロン、
N-エチル- アルファ- メチルナイトロン、N-オクチル-
アルファ- ヘプチルナイトロン、N-ラウリル- アルファ
- アンデシルナイトロン、N-テトラデシル- アルファ-
トリデシルナイトロン、N-ヘキサデシル- アルファ- ペ
ンタデシルナイトロン、N-オクタデシル-アルファ- ヘ
プタデシルナイトロン、N-ヘキサデシル- アルファ- ヘ
プタデシルナイトロン、N-オクタデシル- アルファ- ペ
ンタデシルナイトロン、N-ヘプタデシル- アルファ- ヘ
プタデシルナイトロン、N-オクタデシル- アルファ- ヘ
キサデシルナイトロン、水素化タロウアミンから誘導さ
れたN,N-ジ- アルキルヒドロキシルアミンから誘導され
たナイトロン。

【００８８】8 ．ポリアミド安定剤 例えば、ヨウ素及び／又はリン化合物及び二価マグネシ
ウムの塩と組み合わせた銅塩。

【００８９】9 ．塩基性補助安定剤 例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジ
アミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩、例え
ば、カルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグ
ネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナト
リウムリシノレート及びカリウムパルミテート、アンチ
モンピロカテコレート、または亜鉛ピロカテコレート。

【００９０】10. 核剤 例えば、4-第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニ
ル酢酸。

【００９１】11．充填剤および強化剤 例えば、炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベ
スト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸
化物および金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。

【００９２】12. その他の添加物 例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃
剤、静電防止剤、および発泡剤。

【００９３】特に興味あるフェノール性酸化防止剤は以
下の群からなる基より選ばれる、ｎ−オクタデシル3,5-
ジ第三ブチル-4- ヒドロキシヒドロシナメート、ネオペ
ンタンテトラリルテトラキス(3,5- ジ- 第三ブチル-4-
ヒドロキシヒドロシナメート) 、ジ- ｎ−オクタデシル
3,5-ジ第三ブチル-4- ヒドロキシベンジルホスホネー
ト、1,3,5 −トリス( 3,5-ジ第三ブチル-4- ヒドロキシ
ベンジル) イソシアヌレート、チオジエチレンビス( 3,
5-ジ第三ブチル-4- ヒドロキシヒドロシナメート、1,3,
5 −トリメチル-2,4,6- トリス( 3,5-ジ第三ブチル-4-
ヒドロキシベンジル) ベンゼン、3,6-ジオキサオクタメ
チレンビス( 3-メチル-5- ジ第三ブチル-4- ヒドロキシ
ヒドロシナメート) 、2,6-ジ第三ブチル-p- クレゾー
ル、2,2'-エチリデン- ビス( 4,6-ジ第三ブチルフェノ
ール) 、1,3,5-トリス( 2,6-ジメチル-4- 第三ブチル-3
- ヒドロキシベンジル) イソシアヌレート、1,1,3-トリ
ス(2-メチル-4- ヒドロキシ-5- 第三ブチルフェニル)
ブタン、1,3,5-トリス[ 2-(3,5- ジ- 第三ブチル-4- ヒ
ドロキシヒドロシナモイルオキシ) エチル] イソシアヌ
レート、3,5-ジ-(3,5-ジ- 第三ブチル-4- ヒドロキシベ
ンジル) メジトール、ヘキサメチレンビス(3,5- ジ- 第
三ブチル-4- ヒドロキシヒドロシナメート) 、1-( 3,5-
ジ第三ブチル-4- ヒドロキシアニリノ)-3,5-ジ( オクチ
ルチオ)-s-トリアジン、Ｎ, Ｎ' −ヘキサメチレン- ビ
ス( 3,5-ジ第三ブチル-4- ヒドロキシヒドロシナマイ
ド) 、カルシウムビス( エチル 3,5- ジ第三ブチル-4-
ヒドロキシベンジルホスホネート) 、エチレンビス[3,3
- ジ( 3-ジ第三ブチル-4- ヒドロキシフェニル) ブチレ
ート] 、オクチル 3,5- ジ第三ブチル-4- ヒドロキシベ
ンジルメルカプトアセテート、ビス( 3,5-ジ第三ブチル
-4- ヒドロキシヒドロキシシナモイル) ヒドラジド、及
びＮ, Ｎ' −[2- ( 3,5-ジ第三ブチル-4- ヒドロキシヒ
ドロシナモイロキシ) - エチル]-オキサミド。

【００９４】最も興味のあるフェノール性酸化防止剤は
ネオペンタンンテトラリルテトラキス（3,5-ジ第三ブチ
ル-4- ヒドロキシヒドロシナメート）、ｎ−オクタデシ
ル3,5-ジ- 第三ブチル-4- ヒドロキシヒドロシナメー
ト、1,3,5 −トリメチル-2,4,6- トリス( 3,5-ジ第三ブ
チル-4- ヒドロキシベンジル) ベンゼン、1,3,5 −トリ
( 3,5-ジ第三ブチル-4- ヒドロキシベンジル) イソシア
ヌレート、2,6-ジ第三ブチル-p- クレゾールもしくは2,
2'-4エチレン- ビス(4,6- ジ第三- ブチルフェノール)
である。

【００９５】特に興味ある立体障害アミン化合物は以下
の群からなる基より選ばれる、ビス（2,2,6,6-テトラメ
チルピペリジン-4- イル) セバケート、ビス（1,2,2,6,
6-ペンタメチルピペリジン-4- イル) セバケート、ジ
（1,2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-4- イル) （3,5-
ジ第三ブチル-4- ヒドロキシベンジル) ブチルマロネー
ト、4-ベンゾイル-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン、
4-ステアリロキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン、
3-n-オクチル-7,7,9,9- テトラメチル-1,3,8- トリアザ
- スピロ[4.5]6デカン-2,4-,ジオン、トリス（2,2,6,6-
テトラメチルピペリジン-4- イル) ニトリロトリアセテ
ート、1,2-ビス（2,2,6,6-テトラメチル-3- オキソピペ
リラジン-4- イル) エタン、2,2,4,4-テトラメチル-7-
オキサ-3,20-ジアザ-21-オキソジピロ[5.1.11.2]ヘネイ
コサン、2,4-ジクロロ-6-,第三オクチルアミノ-s- トリ
アジン及び4,4'- ヘキサメチレンビス( アミノ-2,2,6,6
- テトラメチルピペリジン) の重縮合物、1-(2- ヒドロ
キシエチル)-2,2,6,6-テトラメチル-4- ヒドロキシピペ
リジン及び琥珀酸の重縮合物、4,4'- ヘキサメチレンビ
ス( アミノ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン) 及び1,
2-ジブロモエタンの重縮合物、テトラキス（2,2,6,6-テ
トラメチルピペリジン-4- イル) 1,2,3,4-ブタンテトラ
カルボキシレート、テトラキス（1,2,2,6,6-ペンタメチ
ルピペリジン-4- イル) 1,2,3,4-ブタンテトラカルボキ
シレート、2,4-ジクロロ-6- モルフォリノ-s- トリアジ
ン及び4,4'- ヘキサメチレンビス( アミノ-2,2,6,6- テ
トラメチルピペリジン) の重縮合物、N,N',N'',N''' テ
トラキス[(4,6-ビス( ブチル- 2,2,6,6-テトラメチルピ
ペリジン-4- イル)-アミノ-s- トリアジン-2- イル]-1,
10- ジアミノ-4,7- ジアザデカン、[2,2,6,6- テトラメ
チルピペリジン-4- イル/ β, β, β',β'-テトラメチ
ル-3,9-(2,4,8,10- テトラオキサスピロ-[5.5]- ウンデ
カン) ジエチル]1,2,3,4- ブタンテトラカルボキシレー
トの混合物、[1,2,2,6,6- ペンタメチルピペリジン-4-
イル/ β, β, β',β'-テトラメチル-3,9-(2,4,8,10-
テトラオキサスピロ-[5.5]- ウンデカン) ジエチル]1,
2,3,4- ブタンテトラカルボキシレートの混合物、オク
タメチレンビス（2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-4-
カルボキシレート) 、4,4'- エチレンビス（2,2,6,6-テ
トラメチルピペリジン-3- オン) 、及び(1- オクチロキ
シ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン-4- イル) セバケ
ート。

【００９６】最も好ましいは立体障害アミン化合物は、
ビス（2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-4- イル) セバ
ケート、1-(2- ヒドロキシエチル)-2,2,6,6-テトラメチ
ル-4- ヒドロキシ- ピペリジン)及び琥珀酸の重縮合
物、2,4-ジクロロ-6- 第三- オクチル- アミノ-s- トリ
アジン及び4,4'- ヘキサメチレンビス( アミノ-2,2,6,6
- テトラメチルピペリジン)の重縮合物、N,N',N'',N'''
テトラキス[(4,6-ビス( ブチル- 2,2,6,6-テトラメチ
ル- ピペリジン-4- イル) アミノ-s- トリアジン-2- イ
ル]-1,10- ジアミノ-4,7- ジアザデカンもしくはビス(1
- オクチロキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジン-4-
イル) セバケートである。

【００９７】以下の実施例は説明の目的だけを与えるの
であって、いかなる制限も意味しない。

【００９８】実施例1: 3-クロロ- 2,4,8,10−テトラ−
第三ブチル−ジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔1,3,2 〕ジオキサホ
スフェピン

【化３】 2,2'- ビス（4,6-ジ−第三ブチルフェノール）20g(49mm
ol) 及びトルエン200ml中の1-メチル-2- ピロリジノン
0.48g(4.8mmol)の溶液にホスホラストリクロライド10g
(73mmol) を周囲温度において滴下する。添加が完了し
た後に、反応混合物を95℃において17時間加熱する。窒
素をゆっくり流して塩化水素を取り除く。反応混合物を
ろ過し、そしてろ過物を真空で濃縮し、白色の固体23.1
4g（99% 収量）を得る。^{3 1} P NMR (200MHz)(Benzene-d ₆ )(ppm):173.3PPM

【００９９】実施例2: 1-O-（2,4,8,10−テトラ−第三
ブチル−ジベンゾ〔d,f 〕〔1,3,2 〕ジオキサホスフェ
ピン-6- イル）-2,2'-エチリデンビス（4,6-ジ第三- ブ
チルフェノール)

【化４】 2,2'- エチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）27.6g(63mmol) 及びトルエン200ml 中のトリエチル
アミン8.8ml(63mmol) の溶液にトルエン100ml 中の 3-
クロロ- 2,4,8,10−テトラ−第三ブチル−ジベンゾ[ d,
f][ 1,3,2 ] ジオキサホスフェピン30g(63mmol) を周囲
温度において滴下する。周囲温度において20時間攪拌し
た後に、トリエチルアミンヒドロクロライドを取り除く
ために反応混合物をろ過し、そしてろ過物を真空で濃縮
してオイル50g を得る。粗油とアセトニトリル200ml と
のトリチュレーション（Trituration)により白色の固体
40.9g(74% 収量) を得る。 融点:273-277℃^{3 1} P NMR (200MHz)(Benzene-d ₆ )(ppm):144.3PPM 分析： 計算値、Ｃ_{5 8} Ｈ_{8 5} Ｏ₄ Ｐ（Ｃ，７９．４％；Ｈ，
９．８％） 実験値、Ｃ_{5 8} Ｈ_{8 5} Ｏ₄ Ｐ（Ｃ，７９．１％；Ｈ，１
０．２％）

【０１００】実施例3: 2-（2,4,8,10−テトラ−第三ブ
チル−ジベンゾ〔d,f 〕〔1,3,2 〕ジオキサホスフェピ
ン-6- イル-6- オキシ）-3,3',5,5'−テトラ−第三ブチ
ル−2'- ヒドロキシ-1,1'-ビスフェニル

【化５】 3,3',5,5'-テトラ−第三ブチル-2,2'-ジヒドロキシ-1,
1'-ビフェニル120g(252mmol) 及びトルエン300ml 中の
トリエチルアミン81.6ml(431mmol) の溶液にトルエン10
ml中のホスホラストリクロライド19.2ml(220mmol) を周
囲温度において滴下する。周囲温度において24時間攪拌
した後に、トリエチルアミンヒドロクロライドを取り除
くために反応混合物をろ過し、そしてろ過物を真空で濃
縮して白色物質を得る。粗生成物とアセトニトリル500m
l とのトリチュレーション（Trituration) より白色の
固体31.69g(26%収量) を得る。 融点:245-250℃ 分析： 計算値、Ｃ_{5 6} Ｈ_{8 1} Ｏ₄ Ｐ（Ｃ，７９．２％；Ｈ，
９．６％） 実験値、Ｃ_{5 6} Ｈ_{8 1} Ｏ₄ Ｐ（Ｃ，７９．３％；Ｈ，１
０．０％）

【０１０１】実施例4: 1-O-（2,4,8,10−テトラ−第三
ブチル−ジベンゾ〔d,f 〕〔1,3,2 〕ジオキサホスフェ
ピン-6- イル）-2,2'-メチレンビス（4,6-ジ第三- ブチ
ルフェノール)

【化６】 2,2'- メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）21.23g(50mmol)及びトルエン200ml 中のトリエチル
アミン7ml(50mmol) の溶液にトルエン100ml 中の3- ク
ロロ- 2,4,8,10−テトラ−第三ブチル−ジベンゾ[ d,f]
[ 1,3,2 ] ジオキサホスフェピン23.84g(50mmol)を周囲
温度において滴下する。周囲温度において20時間攪拌し
た後に、トリエチルアミンヒドロクロライドを取り除く
ために反応混合物をろ過し、そしてろ過物を真空で濃縮
して褐色がかった油を得る。粗油とアセトニトリル200m
l とのトリチュレーション（Trituration)より白色の固
体36.65g(85%収量) を得る。 融点:195-205℃ 分析： 計算値、Ｃ_{5 7} Ｈ_{8 3} Ｏ₄ Ｐ（Ｃ，７９．３％；Ｈ，
９．７％） 実験値、Ｃ_{5 7} Ｈ_{8 3} Ｏ₄ Ｐ（Ｃ，７８．８％；Ｈ，１
０．２％）

【０１０２】実施例5: 1-O-（2,4,8,10−テトラ−第三
ブチル−12- メチル-12H- ジベンゾ〔d,g 〕〔1,3,2 〕
ジオキサホスホシン-6- イル）-2,2'-エチレンビス（4,
6-ジ第三- ブチルフェノール)

【化７】 2,2'- エチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）87.7g(200mmol)及びトルエン300ml 中のトリエチル
アミン41.8ml(300mmol) 、並びにトルエン50ml中のホス
ホラストリクロライド8.7ml(100mmol)を使用して実施例
3 の操作を繰り返し黄色がかったオイルを得る。オイル
とアセトニトリル300ml とのトリチュレーション（Trit
uration)より白色の固体79.4g(86% 収量) を得る。 融点:219-221℃ 分析： 計算値、Ｃ_{6 0} Ｈ_{8 9} Ｏ₄ Ｐ（Ｃ，７９．６％；Ｈ，
９．９％） 実験値、Ｃ_{6 0} Ｈ_{8 9} Ｏ₄ Ｐ（Ｃ，７９．１％；Ｈ，１
０．２％）

【０１０３】実施例6: 1-O-（2,4,8,10−テトラ−第三
ブチル-12H- ジベンゾ〔d,g 〕〔1,3,2 〕ジオキサホス
ホシン-6- イル）-2,2'-エチレンビス（4,6-ジ第三- ブ
チルフェノール)

【化８】 2,2'- メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）84.9g(200mmol)及びトルエン200ml 中のトリエチル
アミン41.8ml(300mmol) 、並びにトルエン100ml中のホ
スホラストリクロライド8.7ml(100mmol)を使用して実施
例3 の操作を繰り返しオフホワイト色の固体を得る。オ
フホワイト色の固体とアセトニトリル200ml とのトリチ
ュレーション（Trituration)より白色の固体80.4g(92%
収量) を得る。 融点:243-246℃ 分析： 計算値、Ｃ_{5 8} Ｈ_{8 5} Ｏ₄ Ｐ（Ｃ，７９．４％；Ｈ，
９．８％） 実験値、Ｃ_{5 8} Ｈ_{8 5} Ｏ₄ Ｐ（Ｃ，７９．２％；Ｈ，１
０．０％）

【０１０４】実施例7: 1-O-（2,4,8,10−テトラ−第三
ブチル−ジベンゾ〔d,f 〕〔1,3,2 〕ジオキサホスフェ
ピン-6- イル）-l'-O'-(ジクロロホスフィノ)-2,2'- エ
チリデンビス（4,6-ジ第三- ブチルフェノール)

【化９】 実施例2 の化合物30g(34.2mmol) 及びキシレン250ml 中
のホスホラストリクロライド12ml(85.5mmol)の溶液にキ
シレン40ml中のホスホラストリクロライド7.5ml(85.5mm
ol) を加える。添加が完了した後に、反応混合物を還流
下で96時間加熱する。オフホワイト色の固体を取り除く
ために反応混合物をろ過し、そしてろ過物を真空で濃縮
する。オフホワイト色の固体とアセトニトリル200ml と
のトリチュレーション（Trituration)より白色の固体30
g(90% 収量) を得る。^{3 1} P NMR (200MHz)(Benzene-d ₆ )(ppm):202.4PPM 及び
140.4ppm;⁸ J _pp=136Hz

【０１０５】実施例8: 1-O-（2,4,8,10−テトラ−第三
ブチル- ジベンゾ〔d,f 〕〔1,3,2 〕ジオキサホスフェ
ピン-6- イル）-l'-O'-(ジフェノキシホスフィノ) -2,
2'-エチレンビス（4,6-ジ第三- ブチルフェノール)

【化１０】 トルエン300ml 中の実施例7 の化合物28g(28.6mmol) の
溶液にフェノール5.4g(57.2mmol)及びトルエン20ml中の
トリエチルアミン8ml(57.2mmol) の溶液を周囲温度にお
いて滴下する。周囲温度において18時間攪拌した後に、
トリエチルアミンヒドロクロライドを取り除くために反
応混合物をろ過し、そしてろ過物を真空で濃縮してオフ
ホワイト色の固体30g を得る。粗生成物とアセトニトリ
ル100ml とのトリチュレーション（Trituration)より白
色の固体10.4g(32% 収量) を得る。 融点:164-167℃ 分析： 計算値、Ｃ_{7 0} Ｈ_{9 4} Ｏ₆ Ｐ₂ （Ｃ，７６．９％；Ｈ，
８．７％） 実験値、Ｃ_{7 0} Ｈ_{9 4} Ｏ₆ Ｐ₂ （Ｃ，７６．９％；Ｈ，
９．０％）

【０１０６】実施例9: 1-（2,4,8,10−テトラ−第三ブ
チル−ジベンゾ〔d,f 〕〔1,3,2 〕ジオキサホスフェピ
ン-6- イル-6- オキシ）-l'-[(ジクロロホスフィノ) オ
キシ]-3,3',5,5'- テトラ -第三- ブチル-2'-ヒドロキ
シ-1,1'-ビフェニル

【化１１】 実施例3 の化合物26.7g(31.5mmol) 、並びにトルエン20
0ml 中のトリエチルアミン8.8ml(63mmol) 及びトルエン
20ml中のホスホラストリクロライド5.5ml(63mmol) を使
用して実施例7 の操作を行なう。粗残渣とアセトニトリ
ル200ml とのトリチュレーション（Trituration)よりオ
フホワイト色の固体25.3g(85% 収量) を得る。 融点:220-231℃^{3 1} P NMR (200MHz)(Benzene-d ₆ )(ppm):203.85,及び14
2.24ppm;⁷ J _pp=4.8Hz

【０１０７】実施例10 :1-（2,4,8,10−テトラ−第三ブ
チル- ジベンゾ〔d,f 〕〔1,3,2 〕ジオキサホスフェピ
ン-6- イル-6- オキシ）-l'-[(ジフェノキシ- ホスフィ
ノ) オキシ] -3,3',5,5'- テトラ- 第三- ブチル-2'-ヒ
ドロキシ-1,1'-ビフェニル

【化１２】 トルエン150ml 中の実施例9 の化合物20g(21mmol) 並び
にフェノール4g(42mmol)及びトルエン200ml 中のトリエ
チルアミン5.85ml(42mmol)を使用して実施例8 の操作を
繰り返し黄色がかった固体28g を得る。粗生成物をフラ
ッシュクロマトグラフィー( シリカゲル,0.5% エチルア
セテート/99.5%ヘキサン) により生成し白色の固体15.9
g(71% 収量) を得る。 融点:141-145℃ 分析： 計算値、Ｃ_{6 8} Ｈ_{9 0} Ｏ₆ Ｐ₂ （Ｃ，７６．７％；Ｈ，
８．５％） 実験値、Ｃ_{6 8} Ｈ_{9 0} Ｏ₆ Ｐ₂ （Ｃ，７７．３％；Ｈ，
９．０％）

【０１０８】実施例1 1: 1-O-（2,4,8,10−テトラ−第
三ブチル−12- メチル- 12H-ジベンゾ〔d,g 〕〔1,3,2
〕ジオキサホスホシン-6- イル）-l'-O'-(ジクロロホ
スフィノ)-2,2'- エチリデンビス（4,6-ジ第三- ブチル
フェノール)

【化１３】 実施例5 の化合物50g(55mmol) 及びトルエン200ml 中の
トリエチルアミン16ml(114mmol) 並びにトルエン50ml中
のホスホラストリクロライド9.9ml(114mmol)を使用して
実施例7 の操作を繰り返しオイル62g を得る。粗油とア
セトニトリル200ml とのトリチュレーション（Triturat
ion)より白色の固体48.6g(87% 収量) を得る。 融点:195-200℃^{3 1} P NMR (200MHz)(Benzene-d ₆ )(ppm):203.86,139.07
PPM;⁸ J _pp=18Hz

【０１０９】実施例1 2: 1-O-（2,4,8,10−テトラ−第
三ブチル−12- メチル- 12H-ジベンゾ〔d,g 〕〔1,3,2
〕ジオキサホスホシン-6- イル）-l'-O'-(ジフェノキ
シホスフィノ)-2,2'- エチリデンビス（4,6-ジ第三- ブ
チルフェノール)

【化１４】 トルエン250ml 中の実施例11の化合物35g(35mmol) 並び
にフェノール6.6g(70mmol)及びトルエン50ml中のトリエ
チルアミン9.8ml(70mmol) を使用して実施例8 の操作を
繰り返し黄色がかったオイルを得る。粗油とアセトニト
リル200ml とのトリチュレーション（Trituration)より
白色の固体33.8g(86% 収量) を得る。 融点:152-156℃ 分析： 計算値、Ｃ_{7 2} Ｈ_{9 8} Ｏ₆ Ｐ₂ （Ｃ，７7 ．１％；Ｈ，
８．８％） 実験値、Ｃ_{7 2} Ｈ_{9 8} Ｏ₆ Ｐ₂ （Ｃ，７７．５％；Ｈ，
９．１％）

【０１１０】実施例1 3: 1-O-（2,4,8,10−テトラ−第
三ブチル -ジベンゾ〔d,f 〕〔1,3,2〕ジオキサホスフ
ェピン-6- イル）-l'-O'-(ジクロロホスフィノ)-2,2'-
メチレンビス（4,6-ジ第三- ブチルフェノール)

【化１５】 実施例4 の化合物30g(35mmol) 及びキシレン200ml 中の
トリエチルアミン12.3ml(88mmol)並びにキシレン40ml中
のホスホラストリクロライド7.7ml(88mmol) を使用して
実施例7 の操作を繰り返し黄色がかったガム38g を得
る。^{3 1} P NMR (200MHz)(Benzene-d ₆ )(ppm):202.7,142.8PP
M

【０１１１】実施例1 4: 1-O-（2,4,8,10−テトラ−第
三ブチル−ジベンゾ〔d,f 〕〔1,3,2〕ジオキサホスフ
ェピン-6- イル）-l'-O'-(ジフェノキシホスフィノ)-2,
2'- メチレンビス（4,6-ジ第三- ブチルフェノール)

【化１６】 トルエン200ml 中の実施例13の化合物33.7g(35mmol) 並
びにフェノール6.85g(35mmol) 及びトルエン20ml中のト
リエチルアミン9.8ml(70mmol) を使用して実施例8 の操
作を繰り返しオフホワイト色の気泡体36.98gを得る。素
生成物はフラッシュクロマトグラフィー( シリカゲル,1
% エチルアセテート/99%ヘキサン) により生成し白色の
結晶状気泡体3g(15%収量) を得る。 融点:70-75℃ 分析： 計算値、Ｃ_{6 9} Ｈ_{9 2} Ｏ₆ Ｐ₂ （Ｃ，７６．８％；Ｈ，
８．６％） 実験値、Ｃ_{6 9} Ｈ_{9 0} Ｏ₆ Ｐ₂ （Ｃ，７６．５％；Ｈ，
８．９％）

【０１１２】実施例1 5: 1-O-（2,4,8,10−テトラ−第
三ブチル -12H-ジベンゾ〔d,g 〕〔1,3,2 〕ジオキサホ
スホシン-6- イル）-l'-O'-(ジクロロホスフィノ)-2,2'
- メチレンビス（4,6-ジ第三- ブチルフェノール)

【化１７】 実施例6 の化合物40g(45.6mmol) 及びトルエン200ml 中
のトリエチルアミン6.79ml(57mmol)並びにトルエン10ml
中のホスホラストリクロライド5ml(57mmol) を使用して
実施例7 の操作を繰り返しオフホワイト色の固体33.2g
(75% 収量) を得る。^{3 1} P NMR (200MHz)(Benzene-d ₆ )(ppm):202.63,137.30
ppm

【０１１３】実施例1 6: 1-O-（2'',4'',8'',10''−テ
トラ−第三ブチル -12H-ジベンゾ〔d,g 〕〔1,3,2 〕ジ
オキサホスホシン-6- イル）-l'-O'-(ジフェノキシホス
フィノ)-2,2'- メチレンビス（4,6-ジ第三- ブチルフェ
ノール)

【化１８】 トルエン50ml中の実施例15の化合物9.77g(10mmol) 及び
フェノール1.88g(20mmol) 及びトルエン50ml中のトリエ
チルアミン2.8ml(20mmol) を使用して実施例8 の操作を
繰り返し固体8.7gを得る。生成物はマススペクトロスコ
ピーにより:m/z=1094 と確認された。

【０１１４】実施例1 7: 1-O-（2,4,8,10−テトラ−第
三ブチル -ジベンゾ〔d,g 〕〔1,3,2〕ジオキサホスヘ
ピン-6- イル）-l'-O'-(ジフェノキシホスフィノ)-2,2'
- メチレンビス（4,6-ジ第三- ブチルフェノール)

【化１９】 トルエン25ml中の実施例7 の化合物3.6g(4mmol) にフェ
ニルリチウム4.4ml(8mmol)の1.8M溶液を周囲温度におい
て滴下する。添加が完了した後に、還元下で16時間加熱
する。反応生成物をろ過し、そしてろ過物を真空で濃縮
し暗色オイル5gを得る。生成物はマススペクトロスコピ
ーにより:m/z=1061 と確認された。

【０１１５】実施例1 8: 1-O-（2'',4'',8'',10''−テ
トラ−第三ブチル -12- メチル- 12H-ジベンゾ〔d,g 〕
〔1,3,2 〕ジオキサホスホシン-6- イル）-l'-O'-(ジフ
ェノキシホスフィノ)-2,2'- メチレンビス（4,6-ジ第三
- ブチルフェノール)

【化２０】 トルエン50ml中の実施例11の化合物5g(5mmol) 及びフェ
ニルリチウムの1.8M溶液5.5ml(10mmol) を使用して実施
例18の操作を繰り返すことで暗色オイル8gを得る。生成
物はマススペクトロスコピーにより:m/z=1089 と確認さ
れた。

【０１１６】実施例1 9: 1-O-（2,4,8,10−テトラ−第
三ブチル -12- メチル-12H- ジベンゾ〔d,g 〕〔1,3,2
〕ジオキサホスホシン-6- イル）-l'-O'-(クロロ- ジ
エチルアミノホスフィノ)-2,2'- エチレンビス（4,6-ジ
第三- ブチルフェノール)

【化２１】 トルエン50ml中の実施例11の化合物2.53g(2.8mmol)にジ
エチルアミン0.58ml(5.6mmol)及びトルエン5ml 中のト
リエチルアミン0.78ml(5.6mmol) 溶液を周囲温度におい
て加える。添加が完了した後に、反応混合物を70℃にお
いて5 時間加熱する。生成物はマススペクトロスコピー
により:m/z=1042 と確認された。

【０１１７】実施例2 0: 274 ℃におけるポリプロピレ
ンの安定化方法 ベースの組成物は、カルシウムステアレートの0.075 重
量％を含む非安定化新技術ポリプロピレン（商標名PROF
AX 6501,Hilmont)からなる。試験添加物はポリプロピレ
ンにドライブレンドによりポリプロピレンに混合され
る、もしくは添加物が液体の場合は最低量のメチレンク
ロライド溶媒が使用される。溶媒は還減圧下で蒸発によ
り取り除かれる。安定化樹脂組成物を90rpm において2.
54cm直径の押出機から( 押出スクリューのウォールクリ
アランスを通常よりも高い位置にし、通常の加工状態よ
りも厳しく調整する。)274℃において滞留時間90秒で押
し出す。最初と三回目の押出の後で、メルトフローレー
ト( グラム/10 分) を押出機から得られたペレット(pel
lets) についてASTM方法D1238 により決定される。メル
トフローの大きな増加は連鎖分解、即ち貧弱な安定化を
意味する。結果を次の表1 に示す。

【表1 】 ──────────────────────────────────── 添加物 濃度( 重量％) 押し出し後の溶融 最初 三回目 ──────────────────────────────────── なし 13.2 65.9 ──────────────────────────────────── 実施例 8の化合物 0.075 7.0 31.5 ──────────────────────────────────── 実施例14の化合物 0.075 6.1 32.9 ──────────────────────────────────── この結果により本発明の安定化組成物がポリプロピレン
に対して溶融安定化を与えることがいえる。

【０１１８】実施例2 1: ポリプロピレンの長期熱安定 実施例20により製造された押し出されたペレットを最初
の押出後、232 ℃において3.2mm プラークに成形し、そ
して150 ℃において強制通風炉内でオーブン老化させ
る。50単位の黄色度指数（ＹＩ）に達する時間（日数）
が破損を示すとみなされる。時間の増加はより良好な安
定化を意味する。結果を次の表2 に示す。

【表2 】 ──────────────────────────────────── 添加物＊ 濃度( 重量％) 破損までの日数 ──────────────────────────────────── AO A 0.075 8 ──────────────────────────────────── AO A及び 0.075 実施例14の化合物 0.075 15 ──────────────────────────────────── ＊AO Aはネオペンタンテトライル テトラキス(3,5- ジ
第三- ブチル-4- ヒドロキシヒドロシナメート) を意味
する。 本発明の化合物とフェノール性酸化防止剤の組合せはフ
ェノール性酸化防止剤のみを用いたものより約2 倍の長
期熱安定性を示す。

【０１１９】実施例2 2: 274 ℃におけるポリプロピレ
ンの安定化方法 フェノール性酸化防止剤と本発明の化合物の組合せを含
んだポリプロピレンを押出しそしてメルトフローレート
( グラム/10 分) を第１回及び第３回の押出後、押出機
からえられたペレット(pellets) についてASTM方法D123
8 により決定する。メルトフローの大きな増加は顕著な
連鎖分解、即ち貧弱な安定化を意味する。結果を次の表
3 に示す。

【表3 】 ──────────────────────────────────── 添加物＊ 濃度( 重量％) 破損までの日数 最初 三回目 ──────────────────────────────────── AO A 0.075 9.1 28.8 ──────────────────────────────────── AO A及び 0.075 実施例8 の化合物 0.075 5.4 18.3 ──────────────────────────────────── AO A 及び 0.075 実施例10の化合物 0.075 4.2 16.0 ──────────────────────────────────── AO A 及び 0.075 実施例12の化合物 0.075 6.9 22.1 ──────────────────────────────────── AO A 及び 0.075 実施例14の化合物 0.075 4.9 17.5 ──────────────────────────────────── ＊AO Aはネオペンタンテトライル テトラキス(3,5- ジ
第三- ブチル-4- ヒドロキシヒドロシナメート) を意味
する。 本発明の化合物とフェノール性酸化防止剤の混合物はフ
ェノール性酸化防止剤のみ用いたものよりも優れたメル
トフロー安定化、即ちより良好な安定化を示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 サイ ピー シャム アメリカ合衆国 10572 ニューヨーク プレザントビーユ ホリーストリート 72

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（ａ）酸化、熱及び／または光により誘発
   される分解に対して敏感な有機物質、及び（ｂ）少なく
   とも１種の次式Ｉまたは／及びIIで表される化合物 【化１】 〔式中 Ｑは直接結合もしくは−ＣＲ₁ Ｒ₂ −基（式中
   それぞれＲ₁ 及びＲ₂は独立して水素原子、炭素原子
   数１ないし１８の直鎖アルキル基、炭素原子数１ないし
   １２の枝別れ鎖アルキル基、フェニル基、トリル基もし
   くはアニシル基を表す。）を表し；それぞれＹ₁ 、
   Ｙ₂ 、Ｙ₃ 、Ｙ₄ 、Ｚ₂ 、Ｚ₃ 、Ｚ₄ 及びＺ₅ は独立し
   て水素原子、炭素原子数１ないし１８の直鎖もしくは枝
   別れ鎖アルキル基、炭素原子数７ないし１０のビシクロ
   アルキル基、フェニル基、ベンジル基、１−フェニルエ
   チル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル
   基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、トリフルオロ
   メチル基、ヒドロキシ基、アミノ基、炭素原子数２ない
   し１８のアルカノイル基、炭素原子数１ないし１８のア
   ルコキシ基もしくはＥ₁ Ｅ₂ Ｅ₃ Ｓｉ−基（式中
   Ｅ₁ 、Ｅ₂ 及びＥ₃ は独立して水素原子、炭素原子数１
   ないし４のアルキル基もしくはフェニル基を表す。）を
   表し；それぞれＺは独立して炭素原子数１ないし１８の
   アルキル基、フェニル基もしくは炭素原子数１ないし８
   のアルキル基もしくは１−フェニルエチル基によって；
   又はシアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、トリフルオロ
   メチル基、ヒドロキシ基、アミノ基、炭素原子数２ない
   し１８のアルカノイル基、炭素原子数１ないし１８のア
   ルコキシ基もしくはＥ₁ Ｅ₂ Ｅ₃ Ｓｉ−基（式中
   Ｅ₁ 、Ｅ₂ 及びＥ₃ は独立して水素原子、炭素原子数１
   ないし４のアルキル基もしくはフェニル基を表す。）に
   よってモノ−もしくはジ−置換された該フェニル基を表
   し；及びＺ₆ 及びＺ₇ は独立して水素原子、炭素原子数
   １ないし１８の直鎖もしくは枝別れ鎖アルキル基、フェ
   ニル基、炭素原子数１ないし８のアルキル基によって置
   換された該フェニル基；もしくは独立してベンジル基、
   １−フェニルエチル基、シクロヘキシル基、１−メチル
   シクロヘキシル基、シアノ基、ハロゲン原子、−ＮＲ₃
   Ｒ₄ 基もしくは−ＳＲ₅ 基（式中 Ｒ₃ 、Ｒ₄ 及びＲ₅
   は独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８の直鎖も
   しくは枝別れ鎖アルキル基、フェニル基、ベンジル基、
   シクロヘキシル基もしくは１−メチルシクロヘキシル基
   を表す。）を表す。〕からなる安定化組成物。
2. 【請求項２】 Ｑが直接結合もしくは−ＣＲ₁ Ｒ₂ −基
   （式中 それぞれＲ₁ 及びＲ₂ が独立して水素原子、炭
   素原子数１ないし１２の直鎖アルキル基、炭素原子数１
   ないし６の枝別れ鎖アルキル基、フェニル基もしくはト
   リル基を表す。）を表し；それぞれＹ₁ 、Ｙ₂ 、Ｙ₃ 、
   Ｙ₄ 、Ｚ₂ 、Ｚ₃ 、Ｚ₄ 及びＺ₅ が独立して水素原子、
   炭素原子数１ないし１２の直鎖もしくは枝別れ鎖アルキ
   ル基、フェニル基、ベンジル基、１−フェニルエチル
   基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、
   トリフルオロメチル基、炭素原子数２ないし１２のアル
   カノイル基もしくは炭素原子数１ないし１２のアルコキ
   シ基を表し；それぞれＺが独立して炭素原子数１ないし
   １２のアルキル基、フェニル基もしくは炭素原子数１な
   いし４のアルキル基によってモノ−もしくはジ−置換さ
   れた該フェニル基を表し、及び；Ｚ₆ 及びＺ₇ が独立し
   て水素原子、炭素原子数１ないし１２の直鎖もしくは枝
   別れ鎖アルキル基、フェニル基、炭素原子数１ないし８
   のアルキル基によって置換された該フェニル基；もしく
   は独立してベンジル基、ハロゲン原子もしくは−ＮＲ₃
   Ｒ₄ 基（式中 Ｒ₃ 及びＲ₄ は独立して水素原子、炭素
   原子数１ ないし１２の直鎖もしくは枝別れ鎖アルキル
   基、ベンジル基、シクロヘキシル基もしくは１−メチル
   シクロヘキシル基を表す。）を表す請求項１記載の組成
   物。
3. 【請求項３】 Ｙ₁ 、Ｙ₂ 、Ｙ₃ 、Ｙ₄ 、Ｚ₂ 、Ｚ₃ 、
   Ｚ₄ 及びＺ₅ が第三ブチル基である請求項１記載の組成
   物。
4. 【請求項４】 Ｚ、Ｚ₆ 及びＺ₇ がフェニル基である請
   求項１記載の組成物。
5. 【請求項５】 Ｑが直接結合もしくは−ＣＲ₁ Ｒ₂ −基
   （式中 それぞれＲ₁ 及びＲ₂ が独立して水素原子、炭
   素原子数１ないし８の直鎖アルキル基を表し；それぞれ
   Ｙ₁ 、Ｙ₂ 、Ｙ₃ 、Ｙ₄ 、Ｚ₂ 、Ｚ₃ 、Ｚ₄ 及びＺ₅ が
   独立して水素原子、炭素原子数１ないし８の直鎖もしく
   は枝別れ鎖アルキル基、フェニル基、シクロヘキシル
   基、もしくは１−メチルシクロヘキシル基を表し；それ
   ぞれＺが独立してフェニル基もしくは炭素原子数１ない
   し４のアルキル基によってモノ−もしくはジ−置換され
   た該フェニル基を表し、及びＺ₆ 及びＺ₇ が独立して水
   素原子、フェニル基、炭素原子数１ないし４のアルキル
   基によって置換された該フェニル基；もしくは独立し
   て、ハロゲン原子、もしくは−ＮＲ₃ Ｒ₄ 基（式中 Ｒ
   ₃ 及びＲ₄ は独立して水素原子、もしくは炭素原子数１
   ないし８の直鎖もしくは枝別れ鎖アルキル基を表す。）
   を表す請求項１記載の組成物。
6. 【請求項６】 Ｑが直接結合もしくは−ＣＲ₁ Ｒ₂ −基
   （式中 それぞれＲ₁ 及びＲ₂ が独立して水素原子、炭
   素原子数１ないし４の直鎖アルキル基を表す。）を表
   し；それぞれＹ₁ 、Ｙ₂ 、Ｙ₃ 、Ｙ₄ 、Ｚ₂ 、Ｚ₃ 、Ｚ
   ₄ 及びＺ₅ が独立して水素原子、炭素原子数１ないし４
   の直鎖もしくは枝別れ鎖アルキル基を表し；Ｚがフェニ
   ル基を表し；及びＺ₆ 及びＺ₇ が独立して水素原子、フ
   ェニル基、塩素原子、もしくは−ＮＲ₃ Ｒ₄ 基（式中
   Ｒ₃ 及びＲ₄ は独立して水素原子、炭素原子数１ないし
   ４の直鎖アルキル基を表す。）を表す請求項１記載の組
   成物。
7. 【請求項７】 有機物質が合成ポリマーである請求項１
   記載の組成物。
8. 【請求項８】 有機物質がポリオレフィンである請求項
   １記載の組成物。
9. 【請求項９】 有機物質がポリプロピレンである請求項
   １記載の組成物。
10. 【請求項１０】 成分（ａ）及び（ｂ）に加え、フェノ
    ール酸化防止剤および／または立体障害アミン光安定剤
    からなる請求項１記載の組成物。