JPH0643266B2 - 高密度ｂｚｎｔ系強誘電体セラミツクの製造方法 - Google Patents
高密度ｂｚｎｔ系強誘電体セラミツクの製造方法Info
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- JPH0643266B2 JPH0643266B2 JP61168793A JP16879386A JPH0643266B2 JP H0643266 B2 JPH0643266 B2 JP H0643266B2 JP 61168793 A JP61168793 A JP 61168793A JP 16879386 A JP16879386 A JP 16879386A JP H0643266 B2 JPH0643266 B2 JP H0643266B2
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- niobium
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は誘電体共振器用の機能性セラミック、マイクロ
波集積回路などに使用される媒体用セラミック等多くの
用途に利用し得る高密度ＢＺＮＴ系強誘電体セラミック
の製造方法に関する。
波集積回路などに使用される媒体用セラミック等多くの
用途に利用し得る高密度ＢＺＮＴ系強誘電体セラミック
の製造方法に関する。
従来、ＢＺＮＴ系強誘電体セラミックの原料粉末は、乾
式法又は湿式共沈法で製造されていた。
式法又は湿式共沈法で製造されていた。
乾式法は構成成分の化合物粉末を混合し、これを仮焼す
る方法である。しかし、この方法では均一な組成の原料
粉末が得難く、またＢＺＮＴの生成反応を完逐させるた
めに仮焼温度を高くすることが必要であるので、これに
より粒子が粗大化して易焼結性になりにくい欠点があっ
た。
る方法である。しかし、この方法では均一な組成の原料
粉末が得難く、またＢＺＮＴの生成反応を完逐させるた
めに仮焼温度を高くすることが必要であるので、これに
より粒子が粗大化して易焼結性になりにくい欠点があっ
た。
湿式共沈法はＢＺＮＴの構成成分のすべての混合液を作
り、これにアルカリ等の沈殿形成液を添加して共沈さ
せ、乾燥、仮焼する方法である。しかし、この方法は均
一性の優れた粉末が得やすいが、その均一性なるが故に
沈殿形成時、乾燥時、また仮焼時に凝結して二次粒子を
形成し、易焼結性となりにくい欠点がある。
り、これにアルカリ等の沈殿形成液を添加して共沈さ
せ、乾燥、仮焼する方法である。しかし、この方法は均
一性の優れた粉末が得やすいが、その均一性なるが故に
沈殿形成時、乾燥時、また仮焼時に凝結して二次粒子を
形成し、易焼結性となりにくい欠点がある。
更にまた、ＢＺＮＴはバリウムとニオブ及びタンタルを
含有しているので、これを共沈させる場合、ニオブ及び
タンタル原料として工業的に利用可能なフッ化ニオブ、
フッ化タンタルの水溶液を使用すると、フッ化ニオブ、
フッ化タンタルのフッ素イオンがバリウムと反応してフ
ッ化バリウムの白色沈殿を生成するため、フッ化ニオ
ブ、フッ化タンタルを使用し得ない。このため、特性の
優れた湿式共沈法によるＢＺＮＴ系強誘電体セラミック
が製造できないという問題があった。
含有しているので、これを共沈させる場合、ニオブ及び
タンタル原料として工業的に利用可能なフッ化ニオブ、
フッ化タンタルの水溶液を使用すると、フッ化ニオブ、
フッ化タンタルのフッ素イオンがバリウムと反応してフ
ッ化バリウムの白色沈殿を生成するため、フッ化ニオ
ブ、フッ化タンタルを使用し得ない。このため、特性の
優れた湿式共沈法によるＢＺＮＴ系強誘電体セラミック
が製造できないという問題があった。
本発明は、上記のような従来の諸問題を解決し、ニオブ
及びタンタル原料として工業的に利用可能なフッ化ニオ
ブ、フッ化タンタルを使用し、高密度でしかも特性の優
れたＢＺＮＴ系強誘電体セラミックを製造し得る方法を
提供することにある。
及びタンタル原料として工業的に利用可能なフッ化ニオ
ブ、フッ化タンタルを使用し、高密度でしかも特性の優
れたＢＺＮＴ系強誘電体セラミックを製造し得る方法を
提供することにある。
即ち、本発明の高密度ＢＺＮＴ系強誘電体セラミックの
製造方法は、組成式 ３ＢａＯ・ｘＺｎＯ・（１−ｙ）Ｎｂ2Ｏ5・ｙＴａ2Ｏ5 （但し、0.6≦ｘ≦2.0、０＜ｙ＜１の範囲である。） におけるＢａ／（Ｚｎ＋Ｎｂ＋Ｔａ）のモル比が1.0近
傍の組成を有するＢＺＮＴ系強誘電体を製造するに際
し、バリウム化合物水溶液、亜鉛化合物水溶液，フッ化
ニオブ水溶液及びフッ化タンタル水溶液を調製し、これ
ら４種の水溶液とするかあるいは亜鉛化合物水溶液をバ
リウム化合物水溶液、フッ化ニオブ水溶液、フッ化タン
タル水溶液またはフッ化ニオブとフッ化タンタルの混合
水溶液のいずれかに混合して３種または２種の水溶液と
し、それらの水溶液と過剰の沈殿形成液とを均一に混合
することによりニオブ化合物及びタンタル化合物を逐次
沈殿させるかまたは共沈させ、その後フッ素イオンを除
去し、更にその後、ニオブ化合物及びタンタル化合物沈
殿物の存在下でバリウム化合物を含む水溶液と過剰の沈
殿形成液とを均一に混合して沈殿物を形成させ、亜鉛化
合物を含む水溶液と過剰の沈殿形成液との均一混合をニ
オブ化合物沈殿物またはタンタル化合物沈殿物の形成
前、ニオブ化合物沈殿物またはタンタル化合物沈殿物の
形成と同時、フッ素イオンの除去前、バリウム化合物沈
殿物の形成前、バリウム化合物沈殿物の形成と同時又は
バリウム化合物沈殿物の形成後の任意の段階で実施して
全成分の均密沈殿物を形成し、該沈殿物を５００〜１２
００℃で仮焼した後、成形物を空気中又は酸素雰囲気
中、１０００〜１６００℃で焼結させるか、又は不活性
雰囲気で熱間静水圧加圧により高密度化し、更に大気中
で焼結させることを特徴とする。
製造方法は、組成式 ３ＢａＯ・ｘＺｎＯ・（１−ｙ）Ｎｂ2Ｏ5・ｙＴａ2Ｏ5 （但し、0.6≦ｘ≦2.0、０＜ｙ＜１の範囲である。） におけるＢａ／（Ｚｎ＋Ｎｂ＋Ｔａ）のモル比が1.0近
傍の組成を有するＢＺＮＴ系強誘電体を製造するに際
し、バリウム化合物水溶液、亜鉛化合物水溶液，フッ化
ニオブ水溶液及びフッ化タンタル水溶液を調製し、これ
ら４種の水溶液とするかあるいは亜鉛化合物水溶液をバ
リウム化合物水溶液、フッ化ニオブ水溶液、フッ化タン
タル水溶液またはフッ化ニオブとフッ化タンタルの混合
水溶液のいずれかに混合して３種または２種の水溶液と
し、それらの水溶液と過剰の沈殿形成液とを均一に混合
することによりニオブ化合物及びタンタル化合物を逐次
沈殿させるかまたは共沈させ、その後フッ素イオンを除
去し、更にその後、ニオブ化合物及びタンタル化合物沈
殿物の存在下でバリウム化合物を含む水溶液と過剰の沈
殿形成液とを均一に混合して沈殿物を形成させ、亜鉛化
合物を含む水溶液と過剰の沈殿形成液との均一混合をニ
オブ化合物沈殿物またはタンタル化合物沈殿物の形成
前、ニオブ化合物沈殿物またはタンタル化合物沈殿物の
形成と同時、フッ素イオンの除去前、バリウム化合物沈
殿物の形成前、バリウム化合物沈殿物の形成と同時又は
バリウム化合物沈殿物の形成後の任意の段階で実施して
全成分の均密沈殿物を形成し、該沈殿物を５００〜１２
００℃で仮焼した後、成形物を空気中又は酸素雰囲気
中、１０００〜１６００℃で焼結させるか、又は不活性
雰囲気で熱間静水圧加圧により高密度化し、更に大気中
で焼結させることを特徴とする。
本発明においては、フッ化バリウムの白色沈殿の生成を
防止するためには、ニオブ化合物及びタンタル化合物を
先に沈殿せしめ、沈殿分散液に存在するフッ素イオンを
除去してからバリウム化合物の沈殿を形成せしめること
が必須である。しかし、亜鉛化合物の沈殿を形成させる
段階は任意である。本発明においては、具体的には、例
えば、第１図（Ａ）〜（Ｄ）に示した沈殿形成の順序で
均密沈殿を作ることができる。
防止するためには、ニオブ化合物及びタンタル化合物を
先に沈殿せしめ、沈殿分散液に存在するフッ素イオンを
除去してからバリウム化合物の沈殿を形成せしめること
が必須である。しかし、亜鉛化合物の沈殿を形成させる
段階は任意である。本発明においては、具体的には、例
えば、第１図（Ａ）〜（Ｄ）に示した沈殿形成の順序で
均密沈殿を作ることができる。
本発明においては、高密度ＢＺＮＴ系強誘電体セラミッ
クの焼結性や特性を制御するために、微量成分、例え
ば、Ｃａ、Ｓｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｇ
ｅ、Ｖ、Ｂｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｎａ、
Ｉｎ、Ｋ、Ｇａ、Ｔｌ、Ｗ、Ｔｈ、希土類などの化合物
を添加してもよい。この場合、水溶液中に共存させても
よく、ＢＺＮＴ系粉末の作製後、乾式または湿式により
添加してもよい。
クの焼結性や特性を制御するために、微量成分、例え
ば、Ｃａ、Ｓｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｇ
ｅ、Ｖ、Ｂｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｎａ、
Ｉｎ、Ｋ、Ｇａ、Ｔｌ、Ｗ、Ｔｈ、希土類などの化合物
を添加してもよい。この場合、水溶液中に共存させても
よく、ＢＺＮＴ系粉末の作製後、乾式または湿式により
添加してもよい。
ＢＺＮＴ系の構成成分の水溶液を作るのに用いる成分化
合物としては、それら成分の水酸化物、オキシ塩化物、
炭酸塩、オキシ硝酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩、フッ
化物、ギ酸塩、シュウ酸塩、塩化物、酸化物等が挙げら
れる。これらが水に可溶でない場合は、鉱酸等を添加し
て可溶とすることができる。
合物としては、それら成分の水酸化物、オキシ塩化物、
炭酸塩、オキシ硝酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩、フッ
化物、ギ酸塩、シュウ酸塩、塩化物、酸化物等が挙げら
れる。これらが水に可溶でない場合は、鉱酸等を添加し
て可溶とすることができる。
沈殿形成剤としては、アンモニア、炭酸アンモニウム、
苛性ソーダ、苛性カリ、炭酸ソーダ、シュウ酸、シュウ
酸アンモニウム及びオキシンやアミン等の有機試薬等の
水溶液が挙げられる。アンモニアガスを用いてもよい。
苛性ソーダ、苛性カリ、炭酸ソーダ、シュウ酸、シュウ
酸アンモニウム及びオキシンやアミン等の有機試薬等の
水溶液が挙げられる。アンモニアガスを用いてもよい。
構成成分の沈殿を形成するには、液を攪拌しながら行な
うことが望ましい。また、フッ素イオンを除去するため
に、沈殿物の生成後にロ液を分離し、沈殿物を洗浄した
後、この沈殿物を再分散させ、残りの成分を沈殿させ
る。
うことが望ましい。また、フッ素イオンを除去するため
に、沈殿物の生成後にロ液を分離し、沈殿物を洗浄した
後、この沈殿物を再分散させ、残りの成分を沈殿させ
る。
沈殿物の洗浄に関しては、エタノール等のアルコール類
を用いると、以後の乾燥、仮焼工程で沈殿物の凝結が抑
制されて好結果が得られる。
を用いると、以後の乾燥、仮焼工程で沈殿物の凝結が抑
制されて好結果が得られる。
得られた沈殿物を乾燥し、５００〜１２００℃で仮焼す
る。仮焼温度が５００℃未満の場合にはＢＺＮＴの生成
範囲や脱ガスが完結せず、また、得られるＢＺＮＴ粉末
の嵩密度が低くなる。仮焼温度が１２００℃を越えると
ＢＺＮＴ粉末粒子が粗大化して焼結性が悪くなる。
る。仮焼温度が５００℃未満の場合にはＢＺＮＴの生成
範囲や脱ガスが完結せず、また、得られるＢＺＮＴ粉末
の嵩密度が低くなる。仮焼温度が１２００℃を越えると
ＢＺＮＴ粉末粒子が粗大化して焼結性が悪くなる。
次に、成形・焼結する。焼結は空気中か酸素雰囲気中
で、ホット・プレスか常圧で焼結する。焼結温度が１０
００℃より低いと焼結が不十分であり、１６００℃を越
えるとＺｎＯなどの飛散が顕著になるので、１０００〜
１６００℃で行なうのが望ましい。尚、焼結は、不活性
雰囲気で熱間静水圧加圧により高密度化した後、大気中
で焼成することにより行なうこともできる。
で、ホット・プレスか常圧で焼結する。焼結温度が１０
００℃より低いと焼結が不十分であり、１６００℃を越
えるとＺｎＯなどの飛散が顕著になるので、１０００〜
１６００℃で行なうのが望ましい。尚、焼結は、不活性
雰囲気で熱間静水圧加圧により高密度化した後、大気中
で焼成することにより行なうこともできる。
以下実施例を示して、本発明を更に詳しく説明する。
実施例１ Ｎｂ53.8ｇ及びＴａＦ522.5ｇを含有する水溶液１
に、重炭酸アンモニウム５ｇを含有する５Ｎアンモニア
水0.2を加えてタンタル化合物の沈殿物を生成させ、
これらを濾過し、更にその沈殿物を水洗して沈殿物から
フッ素イオンを除去した。Ｂａ（ＮＯ3）239.9ｇ、Ｚｎ
（ＮＯ3）210.6ｇ（Ｚｎは以下の沈殿操作により１０％
が損失することが分かっている。このため理論量の1.1
倍量を用いた。）を含有する水溶液１調製し、この水
溶液に上記のフッ素イオンを除去した沈殿物を分散させ
た。この分散液と、重炭酸アンモニウム２５ｇを含有す
る５Ｎアンモニア0.1とを均一に混合してバリウム、
亜鉛、ニオブ、タンタルの炭酸塩、水酸化物の均密沈殿
物を得た。ロ過、水洗、乾燥後、１１００℃で２時間仮
焼して、Ｂａ（Ｚｎ0.33Ｎｂ0.14Ｔａ0.53）Ｏ3の組成
のＢＺＮＴ原料粉末を得た。得られた仮焼粉末を電子顕
微鏡で観察したところ、平均0.2μｍの均一微粒子であ
ることが認められた。該粉末を１ｔ／cm2の圧力下で直
径３０mm、厚み３mmに成形し、空気中で常圧下、１４０
０℃で２時間焼結した。
に、重炭酸アンモニウム５ｇを含有する５Ｎアンモニア
水0.2を加えてタンタル化合物の沈殿物を生成させ、
これらを濾過し、更にその沈殿物を水洗して沈殿物から
フッ素イオンを除去した。Ｂａ（ＮＯ3）239.9ｇ、Ｚｎ
（ＮＯ3）210.6ｇ（Ｚｎは以下の沈殿操作により１０％
が損失することが分かっている。このため理論量の1.1
倍量を用いた。）を含有する水溶液１調製し、この水
溶液に上記のフッ素イオンを除去した沈殿物を分散させ
た。この分散液と、重炭酸アンモニウム２５ｇを含有す
る５Ｎアンモニア0.1とを均一に混合してバリウム、
亜鉛、ニオブ、タンタルの炭酸塩、水酸化物の均密沈殿
物を得た。ロ過、水洗、乾燥後、１１００℃で２時間仮
焼して、Ｂａ（Ｚｎ0.33Ｎｂ0.14Ｔａ0.53）Ｏ3の組成
のＢＺＮＴ原料粉末を得た。得られた仮焼粉末を電子顕
微鏡で観察したところ、平均0.2μｍの均一微粒子であ
ることが認められた。該粉末を１ｔ／cm2の圧力下で直
径３０mm、厚み３mmに成形し、空気中で常圧下、１４０
０℃で２時間焼結した。
比較例１ 市販のＢａＣＯ3、ＺｎＯ、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5の各粉
末をＢａ（Ｚｎ0.33Ｎｂ0.14Ｔａ0.53）Ｏ3の組成にな
るように配合し、ボールミルで混合後、１１００℃で２
時間仮焼後、再びボールミルで粉砕した。この粉末を電
子顕微鏡で観察したところ、二次粒子を含んだ平均粒径
約1.8μｍの不揃いの粒子から構成されていた。該粉末
を１ｔ／cm2の圧力下で直径３０mm、厚み３mmに成形
し、空気中で常圧下、１４００℃で２時間焼結した。
末をＢａ（Ｚｎ0.33Ｎｂ0.14Ｔａ0.53）Ｏ3の組成にな
るように配合し、ボールミルで混合後、１１００℃で２
時間仮焼後、再びボールミルで粉砕した。この粉末を電
子顕微鏡で観察したところ、二次粒子を含んだ平均粒径
約1.8μｍの不揃いの粒子から構成されていた。該粉末
を１ｔ／cm2の圧力下で直径３０mm、厚み３mmに成形
し、空気中で常圧下、１４００℃で２時間焼結した。
上記実施例１、比較例１について、焼結体の焼結密度、
誘電率及び誘電損失を測定した結果を第１表に示す。
誘電率及び誘電損失を測定した結果を第１表に示す。
上記のデータから明らかなように、本発明の製造方法に
より調製した粉末を用いた焼結体は、従来法により得ら
れた焼結体よりＱ値、εr及び焼結密度の点で優れてい
ることは明らかである。
より調製した粉末を用いた焼結体は、従来法により得ら
れた焼結体よりＱ値、εr及び焼結密度の点で優れてい
ることは明らかである。
また、Ｘ線回析法により上記実施例１、比較例１の仮焼
粉末の組成変動を測定した結果、本発明の製造方法によ
る粉末は組成変動が少なく、均密な粉体であるこが分っ
た。
粉末の組成変動を測定した結果、本発明の製造方法によ
る粉末は組成変動が少なく、均密な粉体であるこが分っ
た。
本発明の製造方法によれば、ＢＺＮＴの原料成分のうち
バリウムとニオブ及びタンタルとを共沈させることがな
いので、ニオブ及びタンタル原料として、工業的に安価
なフッ化ニオブ水溶液及びフッ化タンタル水溶液が使用
でき、従って、安価な工業的生産の実用化を達成するこ
とができる。また、ＢＺＮＴの構成成分の全部を共沈さ
せることなく、多重沈殿を生成させるため、これらの沈
殿は相互分散された状態となり、高嵩密度の易焼結性の
ものが得られる。更に、多重沈殿生成を行なうため、各
成分に適した沈殿剤の種類及び濃度を選択でき、目的組
成のＢＺＮＴが容易に得られる。そして、従来の乾式法
におけるような組成成分の不均一性のない、高密度で均
一なＢＺＮＴが容易に得られる。
バリウムとニオブ及びタンタルとを共沈させることがな
いので、ニオブ及びタンタル原料として、工業的に安価
なフッ化ニオブ水溶液及びフッ化タンタル水溶液が使用
でき、従って、安価な工業的生産の実用化を達成するこ
とができる。また、ＢＺＮＴの構成成分の全部を共沈さ
せることなく、多重沈殿を生成させるため、これらの沈
殿は相互分散された状態となり、高嵩密度の易焼結性の
ものが得られる。更に、多重沈殿生成を行なうため、各
成分に適した沈殿剤の種類及び濃度を選択でき、目的組
成のＢＺＮＴが容易に得られる。そして、従来の乾式法
におけるような組成成分の不均一性のない、高密度で均
一なＢＺＮＴが容易に得られる。
第１図（Ａ）〜（Ｄ）は、それぞれ本発明の製造方法を
実施する場合の具体的な沈殿形成の順序を示した説明図
である。
実施する場合の具体的な沈殿形成の順序を示した説明図
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 古澤 孝幸 福岡県大牟田市歴木1626 平野寮 (72)発明者 多木 宏光 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−143859（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−3004（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−3005（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】組成式 ３ＢａＯ・ｘＺｎＯ・（１−ｙ）Ｎｂ２Ｏ５・ｙＴａ２
Ｏ５ （但し、0.6≦ｘ≦2.0、０＜ｙ＜１の範囲である。） におけるＢａ／（Ｚｎ＋Ｎｂ＋Ｔａ）のモル比が1.0近
傍の組成を有するＢＺＮＴ系強誘電体を製造するに際
し、バリウム化合物水溶液、亜鉛化合物水溶液，フッ化
ニオブ水溶液及びフッ化タンタル水溶液を調製し、これ
ら４種の水溶液とするかあるいは亜鉛化合物水溶液をバ
リウム化合物水溶液、フッ化ニオブ水溶液、フッ化タン
タル水溶液またはフッ化ニオブとフッ化タンタルの混合
水溶液のいずれかに混合して３種または２種の水溶液と
し、それらの水溶液と過剰の沈殿形成液とを均一に混合
することによりニオブ化合物及びタンタル化合物を逐次
沈殿させるかまたは共沈させ、その後フッ素イオンを除
去し、更にその後、ニオブ化合物及びタンタル化合物沈
殿物の存在下でバリウム化合物を含む水溶液と過剰の沈
殿形成液とを均一に混合して沈殿物を形成させ、亜鉛化
合物を含む水溶液と過剰の沈殿形成液との均一混合をニ
オブ化合物沈殿物またはタンタル化合物沈殿物の形成
前、ニオブ化合物沈殿物またはタンタル化合物沈殿物の
形成と同時、フッ素イオンの除去前、バリウム化合物沈
殿物の形成前、バリウム化合物沈殿物の形成と同時又は
バリウム化合物沈殿物の形成後の任意の段階で実施して
全成分の均密沈殿物を形成し、該沈殿物を５００〜１２
００℃で仮焼した後、成形物を空気中又は酸素雰囲気
中、１０００〜１６００℃で焼結させるか、又は不活性
雰囲気で熱間静水圧加圧により高密度化し、更に大気中
で焼結させることを特徴とする高密度ＢＺＮＴ系強誘電
体セラミックの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61168793A JPH0643266B2 (ja) | 1986-07-17 | 1986-07-17 | 高密度ｂｚｎｔ系強誘電体セラミツクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61168793A JPH0643266B2 (ja) | 1986-07-17 | 1986-07-17 | 高密度ｂｚｎｔ系強誘電体セラミツクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6325265A JPS6325265A (ja) | 1988-02-02 |
| JPH0643266B2 true JPH0643266B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=15874576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61168793A Expired - Lifetime JPH0643266B2 (ja) | 1986-07-17 | 1986-07-17 | 高密度ｂｚｎｔ系強誘電体セラミツクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0643266B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5722299A (en) * | 1994-06-30 | 1998-03-03 | Fuji Kiko Co., Ltd. | Adjustable steering column assembly for a vehicle |
| DE102011010346B4 (de) | 2011-02-04 | 2014-11-20 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines homogenen Mehrstoffsystems, Keramikwerkstoff auf Basis des homogenen Mehrstoffsystems und dessen Verwendung |
| CN120887707B (zh) * | 2025-08-04 | 2026-02-13 | 醴陵市东方电瓷电器有限公司 | 一种高强度陶瓷绝缘子的制备方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS623005A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-09 | Ube Ind Ltd | 粉末分散湿式法による易焼結性ペロブスカイト原料粉末の製造法 |
| JPS623004A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-09 | Ube Ind Ltd | 湿式法による易焼結性ペロブスカイト原料粉末の製造方法 |
| JPS62143859A (ja) * | 1985-12-17 | 1987-06-27 | 科学技術庁無機材質研究所長 | 高密度Ｂａ〔Ｚｎ▲１／３▼（Ｔａ及び又はＮｂ）▲２／３▼〕Ｏ↓３ペロブスカイトセラミツクスの製造方法 |
-
1986
- 1986-07-17 JP JP61168793A patent/JPH0643266B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6325265A (ja) | 1988-02-02 |
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