JPS623004A - 湿式法による易焼結性ペロブスカイト原料粉末の製造方法 - Google Patents
湿式法による易焼結性ペロブスカイト原料粉末の製造方法Info
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- JPS623004A JPS623004A JP60140478A JP14047885A JPS623004A JP S623004 A JPS623004 A JP S623004A JP 60140478 A JP60140478 A JP 60140478A JP 14047885 A JP14047885 A JP 14047885A JP S623004 A JPS623004 A JP S623004A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
ペロブスカイト型構造の化合物（以下、ペロブスカイト
という）及びその固溶体は、圧電体、オプトエレクトロ
ニクス材、誘電体、半導体、センサー等の機能性セラミ
ックとして広範囲に利用されている。最近はこの機能性
セラミックスの高度化が進展し、その要請に対応できる
易焼結性、均一性、高嵩密度で、且つ低コストのペロブ
スカイト及びその固溶体の原料粉末が多量に効率的に製
造できる技術の開発が要望されている。
という）及びその固溶体は、圧電体、オプトエレクトロ
ニクス材、誘電体、半導体、センサー等の機能性セラミ
ックとして広範囲に利用されている。最近はこの機能性
セラミックスの高度化が進展し、その要請に対応できる
易焼結性、均一性、高嵩密度で、且つ低コストのペロブ
スカイト及びその固溶体の原料粉末が多量に効率的に製
造できる技術の開発が要望されている。
従来、ペロブスカイト及びその固溶体の原料粉末の製造
方法としては、乾式法と湿式法が知られている。
方法としては、乾式法と湿式法が知られている。
乾式法は構成原料成分の化合物を乾式で混合し。
これを仮焼する方法である。しかし、この方法では、均
一組成の原料粉末が得難いだめ、優れた機能性を持つペ
ロブスカイト及びその固溶体を得難いし、また焼結性も
十分ではない。
一組成の原料粉末が得難いだめ、優れた機能性を持つペ
ロブスカイト及びその固溶体を得難いし、また焼結性も
十分ではない。
湿式法はその構成成分のすべての混合溶液を作り、これ
にアルカリ等の沈殿形成液を添加して共沈させ、この共
沈物を乾燥、仮焼させる方法（以下共沈法と言う）であ
る。
にアルカリ等の沈殿形成液を添加して共沈させ、この共
沈物を乾燥、仮焼させる方法（以下共沈法と言う）であ
る。
この共沈法によると、均一性の優れた粉末が得易いが、
沈殿生成時または乾燥時に粒子が凝結して二次粒子を形
成し、易焼結性になりにくい欠点があった。
沈殿生成時または乾燥時に粒子が凝結して二次粒子を形
成し、易焼結性になりにくい欠点があった。
また、共沈法では各成分の沈殿形成能が一定でなく１例
えば酸成分は１００％沈殿を生成するが。
えば酸成分は１００％沈殿を生成するが。
他の成分は全部沈殿を生成し得ない場合等があり。
所望組成となし難いことがある。
更にペロブスカイト及びその固溶体には、鉛とチタンを
同時に含むものが極めて多い。このようなものを工業的
に製造する場合、チタン原料として安価な四塩化チタン
を使用することが望ましい。
同時に含むものが極めて多い。このようなものを工業的
に製造する場合、チタン原料として安価な四塩化チタン
を使用することが望ましい。
しかし、これを共沈法に使用すると、四塩化チタン中の
塩素イオンが鉛イオンと反応して白色沈殿を生成するた
め、使用し難い。この場合、四塩化チタンに代え、オキ
シ硝酸チタン［Ｔｉ０（、Ｎ０３）２ ］を使用すれば
この白色沈殿の生成を防ぐことができるが、オキシ硝酸
チタンは高価であるため、工業的生産としては実用的で
はない。
塩素イオンが鉛イオンと反応して白色沈殿を生成するた
め、使用し難い。この場合、四塩化チタンに代え、オキ
シ硝酸チタン［Ｔｉ０（、Ｎ０３）２ ］を使用すれば
この白色沈殿の生成を防ぐことができるが、オキシ硝酸
チタンは高価であるため、工業的生産としては実用的で
はない。
また共沈法においては、沈殿物（共沈物）の粒子が微小
であシ、洗浄４口過等によって沈殿物から不純物を除去
する操作において長時間を要していた。また自然沈降法
によると沈殿物と液の分離において、沈殿物内の組成お
よび形状が不均一になるなどの問題点があった。
であシ、洗浄４口過等によって沈殿物から不純物を除去
する操作において長時間を要していた。また自然沈降法
によると沈殿物と液の分離において、沈殿物内の組成お
よび形状が不均一になるなどの問題点があった。
本発明は従来の共沈法における欠点をなくすことができ
る方法、さらには、湿式法によって、易焼結性、均一性
、低コスト、高嵩密度の四つの要件を満足したペロブス
カイト及びその固溶体の原料粉末を効率よく製造するこ
とができる方法を提供するにある。
る方法、さらには、湿式法によって、易焼結性、均一性
、低コスト、高嵩密度の四つの要件を満足したペロブス
カイト及びその固溶体の原料粉末を効率よく製造するこ
とができる方法を提供するにある。
本発明者らは前記目的を達成すべく鋭意研究の結果、一
般式ＡＢＯ３（ただし、Ａは酸素１２配位金属元素の１
種または２ｓ以上を、Ｂは酸素６配位金属元素の１種ま
たは２種以上を表わす。）で示されるペロブスカイト及
びその固溶体の原料粉末の製造に際し、Ａ成分化合物の
水溶液と沈殿形成液とによりＡ成分の沈殿を生成し２次
いでＢ成分化合物の水溶液を添加してＢ成分の沈殿を生
成させるか、あるいは、Ａ成分とＢ成分の沈殿の生成を
前記と順序を代えて沈殿を生成させ、得られた沈殿物を
母液から分離して乾燥後、４００℃以上の温度で仮焼す
ることにより原料粉末を製造すると、従来法の共沈法に
おける欠点を＃１ぼ解消できることが分った。また前記
沈殿物を母液から分離して乾燥するに際して、沈殿物を
ロータリーフィルタープレスにて洗浄、ロ過した後、乳
化処理。
般式ＡＢＯ３（ただし、Ａは酸素１２配位金属元素の１
種または２ｓ以上を、Ｂは酸素６配位金属元素の１種ま
たは２種以上を表わす。）で示されるペロブスカイト及
びその固溶体の原料粉末の製造に際し、Ａ成分化合物の
水溶液と沈殿形成液とによりＡ成分の沈殿を生成し２次
いでＢ成分化合物の水溶液を添加してＢ成分の沈殿を生
成させるか、あるいは、Ａ成分とＢ成分の沈殿の生成を
前記と順序を代えて沈殿を生成させ、得られた沈殿物を
母液から分離して乾燥後、４００℃以上の温度で仮焼す
ることにより原料粉末を製造すると、従来法の共沈法に
おける欠点を＃１ぼ解消できることが分った。また前記
沈殿物を母液から分離して乾燥するに際して、沈殿物を
ロータリーフィルタープレスにて洗浄、ロ過した後、乳
化処理。
して乾燥後、４００℃以上の温度で仮焼すると。
さらに沈殿物の口過、洗浄に要する時間を短縮でき、得
られる原料粉末は粒度が揃っておシ、シかも組成が均一
であシ、極めて工業的に有利に易焼結性ペロブスカイト
及びその固溶体の原料粉末を製造できることを知見し２
本発明に到達した。
られる原料粉末は粒度が揃っておシ、シかも組成が均一
であシ、極めて工業的に有利に易焼結性ペロブスカイト
及びその固溶体の原料粉末を製造できることを知見し２
本発明に到達した。
本発明は。
（１）一般式ＡＢＯ３（ただし、Ａは酸素１２配位金属
元素の１種または２種以上゛を、Ｂは酸素６配位金属元
素の１種または２種以上を表わす。）で示されるペロブ
スカイト型構造及びその固溶体の原料粉末の製造に際し
、Ａ成分化合物の水溶液と沈殿形成液とによ＃）Ａ成分
の沈殿を生成し１次いでＢ成分化合物の水溶液を添加し
てＢ成分の沈殿を生成させるか、あるいは、Ａ成分とＢ
成分の沈殿の生成を前記と順序を代えて沈殿を生成させ
る第１工程。
元素の１種または２種以上゛を、Ｂは酸素６配位金属元
素の１種または２種以上を表わす。）で示されるペロブ
スカイト型構造及びその固溶体の原料粉末の製造に際し
、Ａ成分化合物の水溶液と沈殿形成液とによ＃）Ａ成分
の沈殿を生成し１次いでＢ成分化合物の水溶液を添加し
てＢ成分の沈殿を生成させるか、あるいは、Ａ成分とＢ
成分の沈殿の生成を前記と順序を代えて沈殿を生成させ
る第１工程。
（２）第１工程により得られた沈殿物をロータリーフィ
ルタープレスにて洗浄１口過する第２工程。
ルタープレスにて洗浄１口過する第２工程。
（３）第２工程における沈殿物を乳化処理した後。
乾燥する第６エ程。
（４）第３工程により得られた乾燥物を４００〜１００
０’Ｃで仮焼する第４工程。
０’Ｃで仮焼する第４工程。
の各工程からなることを特徴とする易焼結性ペロブスカ
イト型構造及びその固溶体の原料粉末の製造方法に関す
るものである。
イト型構造及びその固溶体の原料粉末の製造方法に関す
るものである。
次に２本発明の各工程について説明する。
第１工程： 前記一般式のＡ成分の酸素１２配位金属と
しては１例えばｓ Ｐｂ、Ｂａ、Ｃａ、Ｓｒ及びＬａ等
の希土類元素が挙げられる。またＢ成分の酸素６配位金
属元素としては９例えば＋ Ｔｉ、Ｚｒ、Ｍ７゜Ｓｃ、
Ｈｆ、Ｔｈ、Ｗ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃ！ｒ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｐ
ｅ、（！Ｏ，Ｎｉ。
しては１例えばｓ Ｐｂ、Ｂａ、Ｃａ、Ｓｒ及びＬａ等
の希土類元素が挙げられる。またＢ成分の酸素６配位金
属元素としては９例えば＋ Ｔｉ、Ｚｒ、Ｍ７゜Ｓｃ、
Ｈｆ、Ｔｈ、Ｗ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃ！ｒ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｐ
ｅ、（！Ｏ，Ｎｉ。
Ｚｎ 、 Ｃ！ｄ 、 Ａｔｌ ａｎ、 Ａｓ 、 Ｂ
ｉ等が挙げられる。
ｉ等が挙げられる。
ペロブスカイト及びその固溶体におけるＢ成分の２種以
上の元素の組合せは・Ｔ１ とＺｒ の組合せのよ
うに等原子価数のものの組合せ、また任意にその割合を
変えたもの（Ａ成分の場合も同様）。
上の元素の組合せは・Ｔ１ とＺｒ の組合せのよ
うに等原子価数のものの組合せ、また任意にその割合を
変えたもの（Ａ成分の場合も同様）。
またＢ位置全体で電気的中性条件を満足するような１例
えば＋Ｆｅ”、： −） Ｎ”” ｒ ＋ ”３＋と＋
Ｗ６＋。
えば＋Ｆｅ”、： −） Ｎ”” ｒ ＋ ”３＋と＋
Ｗ６＋。
＋Ｍ１ と十】ｂのようなものでもよく、更にＡ成分
の位置またはＢ成分の位置において、過剰または不足の
電荷を有し、これらの電荷を陽イオン欠陥、陰イオン欠
陥の生成によって補償するような。
の位置またはＢ成分の位置において、過剰または不足の
電荷を有し、これらの電荷を陽イオン欠陥、陰イオン欠
陥の生成によって補償するような。
例えばＢ成分のＴ１ とＷ との組合せ（陽イオン欠陥
補償）、Ｔ１ とＡｔ との組合せ（陰イオン欠陥
補償）、あるいはＡ成分のＬａ とＢａ との組合せ（
陽イオン欠陥補償）等であってもよい。また本発明にお
けるペロブスカイト及びその固溶体としては、Ａ成分と
Ｂ成分のモル比を１．０よシ高い値もしくは低い値にず
らして、Ｂ位置またはＡ位置に空孔を導入した不定比性
ペロブスカイトも含む。
補償）、Ｔ１ とＡｔ との組合せ（陰イオン欠陥
補償）、あるいはＡ成分のＬａ とＢａ との組合せ（
陽イオン欠陥補償）等であってもよい。また本発明にお
けるペロブスカイト及びその固溶体としては、Ａ成分と
Ｂ成分のモル比を１．０よシ高い値もしくは低い値にず
らして、Ｂ位置またはＡ位置に空孔を導入した不定比性
ペロブスカイトも含む。
ペロブスカイト及びその固溶体の構成成分であるＡ成分
とＢ成分の各化合物の水溶液を調製するための成分化合
物としては、特に限定されないがそれらの水酸化物、炭
酸塩、オキシ塩、硫酸塩。
とＢ成分の各化合物の水溶液を調製するための成分化合
物としては、特に限定されないがそれらの水酸化物、炭
酸塩、オキシ塩、硫酸塩。
硝酸塩、塩酸塩等の無機酸塩、酢酸塩、ぎ酸塩。
しゅう酸塩等の有機酸塩、酸化物、金属等を挙げること
ができる。これらが水に可溶でない場合は塩酸の如き鉱
酸等を添加して可溶してもよい。
ができる。これらが水に可溶でない場合は塩酸の如き鉱
酸等を添加して可溶してもよい。
沈殿形成液としてはアンモニア、炭酸アンモニウム、苛
性アルカリ、しゅう酸等が挙げられ、これらより選べば
よい。構成成分の沈殿を生成するには、沈殿形成液を攪
拌しながら、沈殿形成液に各構成成分の水溶液を添加し
てもよく、その反対に添加してもよい。添加に際しては
液を攪拌しながら行うことが好ましい。
性アルカリ、しゅう酸等が挙げられ、これらより選べば
よい。構成成分の沈殿を生成するには、沈殿形成液を攪
拌しながら、沈殿形成液に各構成成分の水溶液を添加し
てもよく、その反対に添加してもよい。添加に際しては
液を攪拌しながら行うことが好ましい。
また沈殿の生成に際も９例えばＡ成分の沈殿を生成した
後、以後の工程を妨害する陰イオンを除去した後Ｂ成分
の水溶液を添加して沈殿を生成させてもよい。
後、以後の工程を妨害する陰イオンを除去した後Ｂ成分
の水溶液を添加して沈殿を生成させてもよい。
更にまた。Ａ成分の沈殿を生成後、沈殿形成液の種類と
濃度を適宜選択調節してＢ成分の沈殿を生成するのに適
するようにしてもよい。
濃度を適宜選択調節してＢ成分の沈殿を生成するのに適
するようにしてもよい。
またＡ成分、Ｂ成分のほか、ペロブスカイトの焼結性や
特性を制御するだめの微量成分を添加させてもよい。ま
た、前記したようにＡ成分およびＢ成分の沈殿の生成を
必要に応じ、多段にしてもよく、更に交互に沈殿させて
もよい。このように沈殿を形成させることによって、全
成分を含んだ均密な沈殿が得られる。
特性を制御するだめの微量成分を添加させてもよい。ま
た、前記したようにＡ成分およびＢ成分の沈殿の生成を
必要に応じ、多段にしてもよく、更に交互に沈殿させて
もよい。このように沈殿を形成させることによって、全
成分を含んだ均密な沈殿が得られる。
該工程により得られる沈殿物は、従来法であるペロブス
カイト及びその固溶体の構成成分であるＡ成分およびＢ
成分の化合物すべてを一緒に混合した混合溶液を作シ、
これにアルカリ等の沈殿形成液を添加して共沈させると
いう共沈法に較べて。
カイト及びその固溶体の構成成分であるＡ成分およびＢ
成分の化合物すべてを一緒に混合した混合溶液を作シ、
これにアルカリ等の沈殿形成液を添加して共沈させると
いう共沈法に較べて。
均密な沈殿が得られるという特徴を有する。
第２工程： 第１工程により得られた沈殿物をロータリ
ーフィルタープレスにて口過、洗浄する。
ーフィルタープレスにて口過、洗浄する。
この口過、洗浄はロータリーフィルタープレスで同時に
行ってもよいが、よシ洗浄効果を高めるために、別に洗
浄槽を設け、ロータリーフィルタープレスと組合せて行
うこともできる。
行ってもよいが、よシ洗浄効果を高めるために、別に洗
浄槽を設け、ロータリーフィルタープレスと組合せて行
うこともできる。
ロータリーフィルタープレスによる口過、洗浄は１口液
に含まれる硝酸イオンおよび塩素イオン濃度が１００
ｐｐｍ以下、好ましくは１０ ｐｐｍ以下になるように
行うのが好適である。
に含まれる硝酸イオンおよび塩素イオン濃度が１００
ｐｐｍ以下、好ましくは１０ ｐｐｍ以下になるように
行うのが好適である。
ロータリーフィルタープレスの炉布としては。
通気量０．０１〜２ ｃｃ ／ ｓｅａ −ｃｒＡ ＋
特に０．０２〜１ｃｃ／５ｅｃ−ｉが好適である。
特に０．０２〜１ｃｃ／５ｅｃ−ｉが好適である。
ロータリーの回転数は３００〜１５００ｒｐｍ＋特に８
００〜１ろＯＯｒｐｍが好適である。
００〜１ろＯＯｒｐｍが好適である。
口過圧は１ＫｇＺ−以上、特に１〜５に９／ｃＡが好適
である。
である。
口過、洗浄に要する時間は、ロータリーフィルタープレ
スの濾過面積、沈殿物量、洗浄水量によって異なる。口
液に含まれる硝酸イオン、塩素イオン濃度の定量は１通
常の分析化学的方法１例えば滴定法、イオンクロマト法
等により行われる。
スの濾過面積、沈殿物量、洗浄水量によって異なる。口
液に含まれる硝酸イオン、塩素イオン濃度の定量は１通
常の分析化学的方法１例えば滴定法、イオンクロマト法
等により行われる。
該工程で得られる沈殿物のスラリー濃度が極端に高い場
合や低い場合には１次工程（第３工程）において好適な
乳化物が得られない場合もあるので、スラリー濃度（固
形物換算）としては１〜１５重量％、好ましくは５〜１
６重量％となるようにするのがよい。
合や低い場合には１次工程（第３工程）において好適な
乳化物が得られない場合もあるので、スラリー濃度（固
形物換算）としては１〜１５重量％、好ましくは５〜１
６重量％となるようにするのがよい。
第６エ程： 第２工程における沈殿物を乳化処理した後
、乾燥する。
、乾燥する。
乳化処理は、粘度が２０℃（換算）において。
５〜５０センチボイズ、特に１０〜３０センチポイズに
なるようにするのが好適である。
なるようにするのが好適である。
乳化する方法としては、特に限定されないが。
例えばホモジナイザー、アトライター、サンドミル、ボ
ールミル、ラインミル等を挙げることができる。
ールミル、ラインミル等を挙げることができる。
乳化処理の温度としては、特に限定されないが。
１０〜５０℃１特に２０〜４０゛Ｃが好適である。
乾燥は、乳化した沈殿物を沈殿物スラリーのまま、瞬時
に乾燥するのが、ペロブスカイト原料粉末の粒子および
組成を均一にすることができるので好適である。乾燥方
法としては、特に限定されないが２例えばドラム乾燥法
、スプレー乾燥法等を好適に挙げることができる。乾燥
温度は１通常５０〜３００℃の温度範囲が好適である。
に乾燥するのが、ペロブスカイト原料粉末の粒子および
組成を均一にすることができるので好適である。乾燥方
法としては、特に限定されないが２例えばドラム乾燥法
、スプレー乾燥法等を好適に挙げることができる。乾燥
温度は１通常５０〜３００℃の温度範囲が好適である。
第４工程： 第３工程における乾燥粉末を仮焼する。仮
焼温度は、過度に低いと沈殿物の脱水。
焼温度は、過度に低いと沈殿物の脱水。
熱分解が不十分となシ、過度に高いと粉末が粗大化する
ので、特に４００〜１０００℃の範囲の温度から選ばれ
るのが好適である。
ので、特に４００〜１０００℃の範囲の温度から選ばれ
るのが好適である。
以下に実施例および参考例を示し、さらに詳しく本発明
について説明する。
について説明する。
実施例１
四塩化チタン（Ｂ成分） Ｌ８９７Ｋｆ、オキシ塩化ジ
ルコニウム（Ｂ成分） ３．２２３に９を、水１００を
中に溶解して、 Ｔｉ とＺｒ の等モルの混合水
溶液を作った。この溶液を攪拌した６Ｎアンモニア水ｊ
００を中に徐々に滴下して白色のＺｒとＴ１の水酸化物
共沈物を生成させた。この共沈体の分散液に、攪拌を続
行しながら、硝酸鉛６，６２４に９を３０ｔの水に溶解
した溶液を添加して、 Ｚｒ、Ｔｉ及びｐｂの水酸化物
の均密な沈殿を作った。この沈殿物ネラリーをロータリ
ーフィルタープレス（コトブキ技研工業製）によって吸
着している塩素イオン、硝酸イオンを洗浄し口過した。
ルコニウム（Ｂ成分） ３．２２３に９を、水１００を
中に溶解して、 Ｔｉ とＺｒ の等モルの混合水
溶液を作った。この溶液を攪拌した６Ｎアンモニア水ｊ
００を中に徐々に滴下して白色のＺｒとＴ１の水酸化物
共沈物を生成させた。この共沈体の分散液に、攪拌を続
行しながら、硝酸鉛６，６２４に９を３０ｔの水に溶解
した溶液を添加して、 Ｚｒ、Ｔｉ及びｐｂの水酸化物
の均密な沈殿を作った。この沈殿物ネラリーをロータリ
ーフィルタープレス（コトブキ技研工業製）によって吸
着している塩素イオン、硝酸イオンを洗浄し口過した。
洗浄は２．５７／ｈｒの水を用い、４時間行った。その
時点での口液の塩素イオン、硝酸イオン濃度はそれぞれ
１０ 、ｐｐｍ以下であった。
時点での口液の塩素イオン、硝酸イオン濃度はそれぞれ
１０ 、ｐｐｍ以下であった。
洗浄した沈殿物スラリーをホモジナイザーにより、
１００００ｒｐｍ、 ０．５時間攪拌し乳化した。
１００００ｒｐｍ、 ０．５時間攪拌し乳化した。
乳化物の粘度は２０℃で２１センチボイズであった。こ
の乳化物をスプレードライヤーによって。
の乳化物をスプレードライヤーによって。
設定温度ｔ、ｏｏ”ｃ、（乾燥温度１５０’ｃ）″ｃ′
乾燥し粉末を得た。
乾燥し粉末を得た。
この乾燥粉末を６５０℃で約２時間仮焼してｐｂ（Ｚ
ｒｏ、ｓ・Ｔ ｉｏ、ｓ ） ０３ 粉末が得られた
。この粉末をボールミルで粉砕した。粉砕した粉末の一
部分を取シ走査型電子顕微鏡により粒子を観察したとこ
ろ、平均粒子径は０．２５μｍと小さく、５０個の粒子
分布は０．１０〜０．４５μ鏑であり粒度の揃った均一
な粉末が得られていた。またＸ線回折法によるβＣＯ８
θ〜ｓｉｎθ（ただし、βは回折線の半価幅、θはフラ
ッグ角を表わす。）の関係をプロットした結果、横軸（
５ｉｎｅ軸）に平行で組成変動を含まない均一組成のも
のであることが確認された。
ｒｏ、ｓ・Ｔ ｉｏ、ｓ ） ０３ 粉末が得られた
。この粉末をボールミルで粉砕した。粉砕した粉末の一
部分を取シ走査型電子顕微鏡により粒子を観察したとこ
ろ、平均粒子径は０．２５μｍと小さく、５０個の粒子
分布は０．１０〜０．４５μ鏑であり粒度の揃った均一
な粉末が得られていた。またＸ線回折法によるβＣＯ８
θ〜ｓｉｎθ（ただし、βは回折線の半価幅、θはフラ
ッグ角を表わす。）の関係をプロットした結果、横軸（
５ｉｎｅ軸）に平行で組成変動を含まない均一組成のも
のであることが確認された。
また、この粉末にポリビニルアルコール（以下。
ＰＶＡと略記）を０．８重量％添加して、１ｔ／ｃｒＡ
で成型し、１１５０℃で鉛雰囲気下約２時間焼結した結
果、その密度は７．９９であった。なお、成型時での実
密度は４．８５で、理論密度の約６０％であった。
で成型し、１１５０℃で鉛雰囲気下約２時間焼結した結
果、その密度は７．９９であった。なお、成型時での実
密度は４．８５で、理論密度の約６０％であった。
参考例１
実施例１と同様にしてペロブスカイト前駆体の沈殿を生
成した後、５００．！の容器に移し、３００ｔの水で５
回洗浄し２通常の口過器（ヌッチェ）にて口過した。参
考までに、これまでの所要期間は７日間であった。この
ケーキを箱型乾燥器で。
成した後、５００．！の容器に移し、３００ｔの水で５
回洗浄し２通常の口過器（ヌッチェ）にて口過した。参
考までに、これまでの所要期間は７日間であった。この
ケーキを箱型乾燥器で。
１００℃の乾燥温度で、１２時間乾燥した後、粉砕し、
６５０℃の仮焼温度で約２時間仮焼し。
６５０℃の仮焼温度で約２時間仮焼し。
Ｐｂ（Ｚｒ＠、５ Ｔｉｏ、５ ） ０３ 粉末を得た
。
。
この粉末を走査型電子顕微鏡により粒子を観察したとこ
ろ、平均粒子径が０．３４μｍで、５０個の粒子範囲は
０．０３〜０．６５μｍであった。
ろ、平均粒子径が０．３４μｍで、５０個の粒子範囲は
０．０３〜０．６５μｍであった。
また、この粉末にＰＶＡを０．８重量％添加して。
１１／−で成型し、１１５０℃で鉛雰囲気下で約２時間
焼結した結果、その密度は７．４５であった。
焼結した結果、その密度は７．４５であった。
なお、成型時での嵩密度は、４．６２で理論密度の約５
７％であった。
７％であった。
本発明の方法によると、従来法における全成分を共沈さ
せず、逐次に沈殿を生成させるため、二相以上の相が高
度に相互分散した状態の沈殿物が得られ、しかも沈殿物
スラリーをロータリーフィルタープレスにて洗浄１口過
した後、沈殿物を乳化処理後、乾燥し、仮焼するので、
沈殿生成時。
せず、逐次に沈殿を生成させるため、二相以上の相が高
度に相互分散した状態の沈殿物が得られ、しかも沈殿物
スラリーをロータリーフィルタープレスにて洗浄１口過
した後、沈殿物を乳化処理後、乾燥し、仮焼するので、
沈殿生成時。
乾燥時または仮焼時に凝結を起しに＜〈、得られた粉末
は９粒度および組成が均一であり、易焼結性、高嵩密度
のペロブスカイト及びその固溶体の原料粉末が効率的に
製造できる。
は９粒度および組成が均一であり、易焼結性、高嵩密度
のペロブスカイト及びその固溶体の原料粉末が効率的に
製造できる。
さらに安価な四塩化チタンの如き塩化物を原料として使
用しても塩素をはとんど含有することがない均一微粒子
を得ることができ、また沈殿物の洗浄、ロ過も短時間に
大量に処理でき、乳化処理するため迅速乾燥できるため
、低コストで大量に再現性よくペロブスカイト及びその
固溶体の原料粉末を製造できる。
用しても塩素をはとんど含有することがない均一微粒子
を得ることができ、また沈殿物の洗浄、ロ過も短時間に
大量に処理でき、乳化処理するため迅速乾燥できるため
、低コストで大量に再現性よくペロブスカイト及びその
固溶体の原料粉末を製造できる。
Claims (4)
- （１）一般式ＡＢＯ＿３（ただし、Ａは酸素１２配位金
属元素の１種または２種以上を、Ｂは酸素６配位金属元
素の１種または２種以上を表わす。）で示されるペロブ
スカイト型構造及びその固溶体の原料粉末の製造に際し
、Ａ成分化合物の水溶液と沈殿形成液とによりＡ成分の
沈殿を生成し、次いでＢ成分化合物の水溶液を添加して
Ｂ成分の沈殿を生成させるか、あるいは、Ａ成分とＢ成
分の沈殿の生成を前記と順序を代えて沈殿を生成させる
第１工程、 - （２）第１工程により得られた沈殿物をロータリーフィ
ルタープレスにて洗浄、ロ過する第２工程、 - （３）第２工程における沈殿物を乳化処理した後、乾燥
する第３工程、 - （４）第３工程により得られた乾燥物を４００〜１００
０℃で仮焼する第４工程、 の各工程からなることを特徴とする易焼結性ペロブスカ
イト型構造及びその固溶体の原料粉末の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60140478A JPS623004A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 湿式法による易焼結性ペロブスカイト原料粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60140478A JPS623004A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 湿式法による易焼結性ペロブスカイト原料粉末の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS623004A true JPS623004A (ja) | 1987-01-09 |
| JPH0367963B2 JPH0367963B2 (ja) | 1991-10-24 |
Family
ID=15269539
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60140478A Granted JPS623004A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | 湿式法による易焼結性ペロブスカイト原料粉末の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS623004A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6278107A (ja) * | 1985-10-02 | 1987-04-10 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | ペロブスカイト及びその固溶体の原料粉末の製造方法 |
| JPS62148322A (ja) * | 1985-12-23 | 1987-07-02 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | ペロブスカイト及びその固溶体原料粉末の製造方法 |
| JPS6325264A (ja) * | 1986-07-17 | 1988-02-02 | 科学技術庁無機材質研究所長 | 高密度ｂｚｎ系強誘電体セラミツクの製造方法 |
| JPS6325263A (ja) * | 1986-07-17 | 1988-02-02 | 科学技術庁無機材質研究所長 | 高密度ｂｚｔ系強誘電体セラミツクの製造方法 |
| JPS6325265A (ja) * | 1986-07-17 | 1988-02-02 | 科学技術庁無機材質研究所長 | 高密度ｂｚｎｔ系強誘電体セラミツクの製造方法 |
| EP0735116A1 (fr) * | 1995-03-28 | 1996-10-02 | Rhone-Poulenc Chimie S.A. | Utilisation comme pigment colorant de composés à base de terbium |
| JP2008308385A (ja) * | 2007-06-18 | 2008-12-25 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化インジウム系スパッタリングターゲットの製造方法 |
-
1985
- 1985-06-28 JP JP60140478A patent/JPS623004A/ja active Granted
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6278107A (ja) * | 1985-10-02 | 1987-04-10 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | ペロブスカイト及びその固溶体の原料粉末の製造方法 |
| JPS62148322A (ja) * | 1985-12-23 | 1987-07-02 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | ペロブスカイト及びその固溶体原料粉末の製造方法 |
| JPS6325264A (ja) * | 1986-07-17 | 1988-02-02 | 科学技術庁無機材質研究所長 | 高密度ｂｚｎ系強誘電体セラミツクの製造方法 |
| JPS6325263A (ja) * | 1986-07-17 | 1988-02-02 | 科学技術庁無機材質研究所長 | 高密度ｂｚｔ系強誘電体セラミツクの製造方法 |
| JPS6325265A (ja) * | 1986-07-17 | 1988-02-02 | 科学技術庁無機材質研究所長 | 高密度ｂｚｎｔ系強誘電体セラミツクの製造方法 |
| EP0735116A1 (fr) * | 1995-03-28 | 1996-10-02 | Rhone-Poulenc Chimie S.A. | Utilisation comme pigment colorant de composés à base de terbium |
| FR2732352A1 (fr) * | 1995-03-28 | 1996-10-04 | Rhone Poulenc Chimie | Utilisation comme pigment colorant de composes a base de terbium |
| JP2008308385A (ja) * | 2007-06-18 | 2008-12-25 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化インジウム系スパッタリングターゲットの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0367963B2 (ja) | 1991-10-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |