JPH064544B2 - 光学活性アルコ−ルの製造方法 - Google Patents

光学活性アルコ−ルの製造方法

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JPH064544B2
JPH064544B2 JP62152483A JP15248387A JPH064544B2 JP H064544 B2 JPH064544 B2 JP H064544B2 JP 62152483 A JP62152483 A JP 62152483A JP 15248387 A JP15248387 A JP 15248387A JP H064544 B2 JPH064544 B2 JP H064544B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、カルボニル化合物を、ルテニウム−光学活性
ホスフイン錯体を触媒として用いて不斉水素化し、光学
活性アルコールを製造する方法に関するものであつて、
本方法で製造される光学活性アルコールは、例えば、天
然物合成の中間体として、また強誘電性液晶のキラル部
として、あるいは医薬品中間体として利用できるもので
ある。
〔従来の技術〕
従来、カルボニル化合物を不斉水素化して、光学活性ア
ルコールを得る方法が報告されており、例えば、Y. OHG
O；CHEMISTRY LETTERS，（1974）ｐ．709−712には、ビ
ス（ジメチルグリオキシマト）コバルト(II)−キニンを
触媒とする不斉水素化法がある。この方法によれば得ら
れるアルコール体の不斉収率は2.5〜７３％ee、基質／
触媒のモル比は１０〜２０と低い。
また、ロジウム−光学活性ホスフインを触媒とする方法
として、I.OJIMAら；J.C.S. Chemical Communication，
（1977）ｐ．428−430、T.Hayashiら；Tetrahedron Let
ters，No.48，（1976）ｐ．4351−4354等がある。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記方法による光学活性アルコールの製法は、例えばコ
バルト−光学活性アミンによる方法に於ては、得られる
アルコールの光学純度は低く、かつ触媒活性も充分でな
い。また、ロジウム−光学活性ホスフィンによる方法
は、使用するロジウム金属は生産地および生産量が限ら
れており、この価格も高価なものであるため、これを触
媒とする場合にはその製品価格中に占めるロジウム価格
の割合が大きくなり、商品の製造原価に影響を与えると
いう欠点があった。
〔問題点を解決するための手段〕
斯かる実状において、本発明者らは上記問題点を解決せ
んと鋭意研究を行った結果、触媒として比較的安価なル
テニウム−光学活性ホスフイン錯体を使用して不斉水素
化を行えば、高い光学純度のアルコールが効率よく得ら
れることを見いだし、本発明を完成した。
すなわち、本発明は次の一般式(Ｉ) （式中、Ａは低級アルキル基、ハロゲン化低級アルキル
基、置換基を有してもよいフェニル基または置換基を有
してもよいベンジル基を示し、Ｂは炭素数１〜４のアシ
ル基、低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン化アルキ
ル基、ヒドロキシカルボニル基、低級アルコキシアルキ
ル基、ヒドロキシメチル基、置換基を有してもよいベン
ゾイル基、置換基を有してもよいベンジルカルボニル基
または低級アルキル置換アミノメチル基を示し、ＡとＢ
が隣接する炭素原子と一緒になって、他の異種原子を含
んでも良く、また置換基を有しても良い５員環または６
員環の1,2-ジケトン類を形成してもよい） で表わされるカルボニル化合物を、一般式(III)、(Ｖ)
または(VI) RuxHyClz(R-BINAP)2(S)p (III) 〔RuHl(R-BINAP)v〕Yw (Ｖ) （式中、R-BINAPは式(IV) で表わされる三級ホスフィンを示し、Ｒは水素原子、メ
チル基またはt-ブチル基を示し、Ｓは三級アミンを示
し、ｙが０のときｘは２、ｚは４、ｐは１を示し、ｙが
１のときｘは１、ｚは１、ｐは０を示し、ＹはClO4、BF
4またはPF6を示し、ｌが０のときｖは１、ｗは２を示
し、ｌが１のときｖは２、ｗは１を示し、Ｒ1及びＲ2は
低級アルキル基またはトリフロロメチル基を示す） で表わされるルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を触
媒として不斉水素化して、次の一般式(II) 〔式中、Ａは上記と同じ意義を有し、Ｂ′は一般式 （ただし、Ｒは水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、
置換基を有してもよいフェニル基または置換基を有して
もよいベンジル基を示す）で表わされる基、低級アルコ
キシカルボニル基、ハロゲン化アルキル基、ヒドロキシ
カルボニル基、低級アルコキシアルキル基、ヒドロキシ
メチル基または低級アルキル置換アミノメチル基を示
し、ＡとＢ′が隣接する炭素原子と一緒になって、他の
異種原子を含んでも良く、また置換基を有しても良い５
員環または６員環を形成してもよい〕 で表わされる光学活性アルコールを得ることを特徴とす
る光学活性アルコールの製造方法である。
本発明の原料であるカルボニル化合物(I)としては、た
とえば、ジアセチル、ジベンゾイル、シクロペンタン−
１，２−ジオン、シクロヘキサン−１，２−ジオン、１
−フエニル−１，２−ジオキソプロパン、１−フエニル
−２，３−ジオキソブタン、フエニルグリオキシル酸、
６−メチル−２−オキソブタン酸、３−メチル−２−オ
キソブタン酸エチル、ケトパントラクトン、フエニルグ
リオキシル酸エチル、フエニルピルビン酸、フエニルピ
ルビン酸メチル、フエニルピルビン酸エチル、ピルビン
酸、ピルビン酸メチル、α−クロロアセトン、α−ブロ
ムアセトン、α−クロルアセトフエノン、１−クロロ−
３−フエニルアセトン、α−ジクロロアセトン、α−ト
リクロロアセトン、１−クロロ−３−ジクロロアセト
ン、１−クロロ−３−メチル−２−ブタノン、α−メチ
ルアミノアセトン、α−ジメチルアミノアセトン、α−
ヒドロキシアセトン、１−ヒドロキシ−３−メチル−２
−ブタノン、α−ヒドロキシアセトフエノン、１−ヒド
ロキシ−３−フエニルアセトン、α−メトキシアセト
ン、α−メトキシアセトフエノン、α−エトキシアセト
ン、α−ブトキシアセトフエノン、ｐ−メトキシフエニ
ルピルビン酸、３，４−ジメトキシフエニルピルビン
酸、２−オキソブタン酸、３，４−ジオキソヘキサン、
４，５−ジオキソオクタン、１−クロロ−２−オキソブ
タン、１，１−ジフロロ−２−オキソブタン、α−ジブ
ロモアセトン、１−ヒドロキシ−２−オキソブタン、１
−ジメチルアミノ−２−オキソブタン、１−ジメチルア
ミノ−２−オキソペンタン、１−ヒドロキシ−２−オギ
ソペンタン、１−ヒドロキシ−２−オキソヘキサン、α
−クロロ−ｐ−メトキシアセトフエノン、ｐ−メトキシ
ジベンゾイル、１−ヒドロキシ−２−オキソ−３−メチ
ルブタン、１−エトキシ−２−オキソブタン、１−ブト
キシ−２−オキソブタン、１−メチルアミノ−２−オキ
ソブタン、１−ブチルアミノ−２−オキソプロパン、１
−ジブチルアミノ−２−オキソプロパン等が使用できる
が、これらに限られるものではない。
本発明に用いられる触媒である一般式(III)で表わされ
るルテニウム−光学活性ホスフィン錯体は、T.Ikariya
ら；J.Chem.Soc.,Chem.Commun.，（1985）p.922−924及
び特開昭61−63690号で開示されている方法により得る
ことができる。すなわち、ｙ＝０の場合の式(III)の錯
体は、ルテニウムクロライドとシクロオクタ−１，５−
ジエン（以下、CODと略す）をエタノール溶液中で反応
させることにより得られる〔RuCl2(COD)〕n１モルと、
２，２′−ビス（ジ−ｐ−Ｒ−フエニルホスフイノ）−
１，１′−ビナフチル（R-BINAP）1.2モルをトリエチル
アミンのごとき三級アミン４モルの存在下、トルエンま
たはエタノール等の溶媒中で加熱反応させることにより
得られる。ｙ＝１の場合の化合物は、〔RuCl2(COD)〕n
１モル、R-BINAP2.25モル及び三級アミン4.5モルを反応
させることにより得られる。
式(V)のルテニウム−光学活性ホスフイン錯体のうち、
ｌが０、ｖが１、ｗが２の場合の錯体は、上記の方法に
より得られたRu2Cl4(R-BINAP)2(NEt3)（Etはエチル基を
示す）を原料として製造することができる。すなわち、
このものと次式(VII) MY (VII) （式中、ＭはNa、Ｋ、Li、Mg、Agの金属を示し、Ｙは前
記と同様の意義を有する） で表わされる塩とを、溶媒として水と塩化メチレンを用
いて、次式(VIII) Ｒ3Ｒ4Ｒ5Ｒ6A′B′ (VIII) （式中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は炭素数１〜１６のアル
キル基、フエニル基またはベンジル基を意味し、Ａ′は
窒素原子またはリン原子を意味し、Ｂ′はハロゲン原子
を意味する） で表わされる四級アンモニウム塩または四級ホスホニウ
ム塩を相間移動触媒として使用し、反応せしめてルテニ
ウム−ホスフイン錯体を得る。Ru2Cl4(R-BINAP)2(NEt3)
と塩(VII)との反応は、水と塩化メチレンの混合溶媒中
に両者と相間移動触媒(VIII)を加えて撹拌して行わしめ
る。塩(VII)及び相間移動触媒(VIII)の量は、ルテニウ
ムに対してそれぞれ２〜１０倍モル（好ましくは５倍モ
ル）、１／１００〜１／１０倍モルである。反応は５〜
３０℃の温度で６〜１８時間、通常は１２時間の撹拌で
充分である。相間移動触媒(VIII)としては、文献〔例え
ば、W.P.Weber、G.W.Gokel共著、田伏岩夫、西谷孝子共
訳「相間移動触媒」（株）化学同人（１９７８−９−
５）第１版〕に記載されているものが用いられる。反応
終了後、反応物を静置し、分液操作を行い、水層を除
き、塩化メチレン溶液を水洗した後、減圧下、塩化メチ
レンを留去し目的物を得る。
式(V)の錯体のうち、ｌが１、ｖが２、ｗが１に相当す
る錯体を製造する場合は、RuHCl2(R-BINAP)2（このもの
は特開昭６１−63690号に開示された製造法により得る
ことができる）を原料として、これと塩(VII)とを相間
移動触媒(VIII)の存在下に塩化メチレン等と水の混合溶
媒中で反応せしめればよい。塩(VII)と相間移動触媒(VI
II)の量は、ルテニウムに対してそれぞれ２〜１０倍モ
ル（好ましくは５倍モル）、１／１００〜１／１０倍モ
ルである。反応は、５〜３０℃の温度で６〜１８時間、
通常は１２時間の撹拌で充分である。
式(VI)のルテニウム−光学活性ホスフィン錯体はさきに
本発明者らが出願した特願昭６１−108888号の方法に従
って、Ru2Cl4(R-BINAP)2(NEt3)を原料とし、これとカル
ボン酸塩をメタノール、エタノール、ｔ−ブタノール等
のアルコール溶媒中で、約２０〜１１０℃の温度で３〜
１５時間反応させた後、溶媒を留去して、エーテル、エ
タノール等の溶媒で目的の錯体を抽出した後、乾固すれ
ば粗製の錯体が得られる。更に酢酸エチル等で再結晶し
て精製品を得ることができる。アシルオキシ基は、用い
るカルボン酸の種類を変えることにより所望のものを得
ることが出来る。上記の錯体を原料とし、酢酸ソーダを
用いた場合は、Ru(R-BINAP)(OCOCH3)2を得る。また、ト
リフロロ酢酸基を有する錯体を製造する場合は、上記の
如くして得たジアセテート錯体にトリフロロ酢酸を塩化
メチレンを溶媒として約２５℃で約１２時間反応せしめ
て得ることが出来る。
以上の製造法において、光学活性なR-BINAPを使用する
ことにより、これに対応する光学活性な性質を有するル
テニウム−ホスフィン錯体を得ることが出来る。
以上のルテニウム−光学活性ホスフイン錯体の例として
次のものが挙げられる。
Ru2Cl4(BINAP)2(NEt3) 〔BINAPは、２，２′−ビス（ジフエニルホスフイノ）
−１，１′−ビナフチルをいう〕 Ru2Cl4(T-BINAP)2(NEt3) 〔T-BINAPは、２，２′−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフ
イノ）−１，１′−ビナフチルをいう〕 Ru2Cl4(t-Bu-BINAP)2(NEt3) 〔t-Bu-BINAPは、２，２′−ビス（ジ−ｐ−ターシヤリ
ーブチルフエニルホスフイノ）−１，１′−ビナフチル
をいう〕 RuHCl(BINAP)2 RuHCl(T-BINAP)2 RuHCl(t-Bu-BINAP)2 〔Ru(BINAP)〕(ClO4)2 〔Ru(T-BINAP)〕(ClO4)2 〔Ru(t-Bu-BINAP)〕(ClO4)2 〔Ru(BINAP)〕(BF4)2 〔Ru(T-BINAP)〕(BF4)2 〔Ru(t-Bu-BINAP)〕(BF4)2 〔Ru(BINAP)〕(PF6)2 〔Ru(T-BINAP)〕(PF6)2 〔RuH(BINAP)2〕ClO4 〔RuH(T-BINAP)2〕ClO4 〔RuH(BINAP)2〕BF4 〔RuH(T-BINAP)2〕BF4 〔RuH(BINAP)2〕PF6 〔RuH(T-BINAP)2〕PF6 Ru(BINAP)(OCOCH3)2 Ru(BINAP)(OCOCF3)2 Ru(T-BINAP)(OCOCH3)2 Ru(BINAP)(OCO-t-BU)2 （t-Buは、メーシヤリーブチルをいう） Ru(T-BINAP)(OCOCH3)2 Ru(T-BINAP)(OCOCF3)2 Ru(t-Bu-BINAP)(OCOCH3)2 本発明を実施するには、カルボニル化合物(I)を、メタ
ノール、エタノール、メチルセロソルブ等のプロテツク
溶媒の単独、あるいはこれらとテトラヒドロフラン、ト
ルエン、ベンゼン、塩化メチレン等との混合溶媒に溶か
し、オートクレーブに仕込み、これにルテニウム−光学
活性ホスフイン錯体を上記の基質に対して１／１００〜
１／50000倍モル加えて、水素圧５〜４０kg／cm2、水素
化温度５〜５０℃、好ましくは２５〜３５℃で、１時間
から４８時間撹拌して水素化を行う。反応後、溶媒を留
去して残留物を減圧下で蒸留するか、またはシリカゲル
カラムクロマトグラフイーで生成物を単離すれば目的と
する光学活性アルコール(II)がほぼ定量的収率で得られ
る。
〔実施例〕
次に参考例及び実施例を挙げて説明する。尚、実施例中
の分析は次の分析機器を用いて行った。
ガスクロマトグラフイー：島津GC−9A （株式会社島津製作所製） カラム：PEG20M シリカキヤピラリー φ0.25mm×25ｍ（ガスクロ工業株式会社製） 測定温度100〜250℃で３℃／分で昇温 高速液体クロマトグラフイー：日立液体クロマトグラフ
イー665A-11 （株式会社日立製作所製） カラム：YMC−Pack003−３ SIL （株式会社山村化学研究所製） 002−３ SIL （株式会社 山村化学研究所製） 展開溶媒：エーテル：ヘキサン＝１：９ １ml／分 検出器：UV検出器６５５Ａ（UV−254） （株式会社日立製作所製）1 Ｈ核磁気共鳴スペクトル（以下1HNMRと称す）： JNM−GX−400型（400MHz） （日本電子株式会社製） 内部標準：テトラメチルケイ素 旋光度計：旋光度計DIP-4 （日本分光工業株式会社製）31 P核磁気共鳴スペクトル（以下31骼PNMRと略す）： JNM−GX400型（161MHz）を用いて測定し、化学シフトは
85％リン酸を外部標準として測定 参考例１ Ru2Cl4（(+)−BINAP）2（NEt3）（ジ〔２，２′−ビス
（ジフエニルホスフイノ）−１，１′−ビナフチル〕テ
トラクロロ−ジルテニウムトリエチルアミン）の合成： 〔RuCl2(COD)〕n１ｇ（３．５６ミリモル）、(+)−BINA
P2.66ｇ （4.27ミリモル）及びトリエチルアミン1.5ｇ
を１００mlのトルエン中に窒素雰囲気下に加える。１０
時間加熱還流させた後、溶媒を減圧下留去した。結晶を
塩化メチレンを加えて溶解した後、セライト上でろ過
し、ろ液を濃縮乾固したところ3.7ｇの濃褐色の固体を
得た。
元素分析値：C94H79Cl4NP4Ru2として 1HNMR(CDCl3)δppm： 1.30−1.50（ｔ，6H，NCH2CH3） 3.05−3.30（ｑ，4H，NCH2CH3） 6.40−8.60（ｍ，32H，Ar−Ｈ） 参考例２ 〔Ru（(-)−Ｔ−BINAP）／（ClO4）2（〔２，２′−ビ
ス（ジ−ｐ−トリルホスフイノ）−１，１′−ビナフチ
ル〕ルテニウム過塩素酸塩）の合成： Ru2Cl4（(-)−Ｔ−BINAP）2(NEt3)0.54ｇ（0.30ミリモ
ル）を、２５０mlのシユレンク管に入れ、充分窒素置換
を行ってから、塩化メチレン６０mlを加え、続いて過塩
素酸ソーダ0.73ｇ（6.0ミリモル）を６０mlの水に溶解
したものと、トリエチルベンジルアンモニウムブロマイ
ド１６mg（0.06ミリモル）を３mlの水に溶かしたものを
加えた後、室温にて１２時間撹拌して反応させた。反応
終了後、静置し、分液操作を行い水層を取り除き、塩化
メチレンを減圧下にて留去し、減圧下で乾燥を行い、濃
褐色の固体〔Ru((-)−Ｔ−BINAP）〕（ClO4）20.59ｇを
得た。収率99.6％ 元素分析値：C43H40Cl2O8P2Ruとして 31PNMR(CDCl3)δppm： 12.920（ｄ，Ｊ＝41.1Hz） 61.402（ｄ，Ｊ＝41.1Hz） 参考例３ Ru（(-)−BINAP）（OCOCH3）2（〔２，２′−ビス（ジ
フエニルホスフイノ）−１，１′−ビナフチル〕ルテニ
ウム−ジアセテート）の合成： Ru2Cl4（(-)−BINAP）2（NEt3）錯体1.43ｇ（0.85ミリ
モル）と酢酸ソーダ3.06ｇ（３７ミリモル）を、２５０
mlのシユレンク管に入れ、充分窒素置換を行ってから、
ｔ−ブタノール１００mlを加え、１２時間加熱還流して
反応させた。反応終了後、２０mmHgの減圧下で、ｔ−ブ
タノールを留去して乾固した後、エチルエーテル１０ml
で２回抽出した。エチルエーテルを留去して乾固し、得
られた固体を更にエタノール１０mlで２回抽出した。抽
出液を濃縮して乾固し、粗製のRu−（(-)−BINAP）（OC
OCH3）21.50ｇを得た。このものを更に酢酸エチルエス
テルから再結晶を行い、黄褐色の固体0.79ｇを得た。収
率５２％。
融点：１８０〜１８１℃（分解）。
元素分析値：C48H38O4P2Ruとして 31PNMR(CDCl3)δppm： 65.00(s)1 HNMR(CDCl3)δppm： 1.75 6.5〜7.8（ｍ，32H，ナフチル環とフエニルプロトン） 実施例１ あらかじめ、窒素置換を行つた２００mlのステンレスオ
ートクレーブに、ジアセチル0.87ml（１０ミリモル）と
メタノール５０mlを加え、参考例１で合成したRu2Cl
4（(+)-BINAP）2(NEt3)４２mg（0.025ミリモル）を入
れ、水素圧４０kg／cm2、３０℃の反応温度で１５時間
水素化を行い、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフイー（溶離液酢酸エチル）により触媒を
除き、２，３−ブタンジオールを0.84ｇ得た。このアル
コールはdl体３８％、メソ体６２％の混合物であった。
収率９５％、dl体の旋光度は〔α〕▲25 D▼−13.2゜（n
eat）であった。（２Ｒ，３Ｒ）体である。
得られたアルコール３０mgと(+)−α−メトキシ−α−
トリフロロメチルフエニル酢酸クロリドとからエステル
を合成し、HPLCによりジアステレオマー比を算出した結
果、もとのアルコールの光学純度は９９％eeであった。
実施例２ あらかじめ、窒素置換を行った２００mlのオートクレー
ブに、α−ヒドロキシアセトン7.7ｇ（１００ミリモ
ル）とメタノール６０mlを加え、更に参考例１で合成し
たRu2Cl4（(+)−BINAP）2(NEt3）１６８mg（0.099ミリ
モル）を加えて、水素圧３０kg／cm2、温度３０℃で２
０時間反応させた。
反応後、溶媒を留去し、１，２−プロパンジオールを得
た （b.p.１２１〜１２２℃／５mmHg）。このものの旋
光度は〔α〕▲25 D▼−15.3゜（neat）であった。光学
純度は１と同様に(+)−α−メトキシ−α−トリフロロ
メチルフエニル酢酸クロリドとからジアステレオマーに
導き、HPLCより算出した。９９％ee。
実施例３ あらかじめ、窒素置換を行った２００mlのオートクレー
ブに、３−メチル−２−オキソブタン酸11.5ｇ（0.1モ
ル）とトルエン１００mlを加え、更に参考例２で合成し
た〔Ru（(-)−Ｔ−BINAP）〕（ClO4）2８８mg（0.090ミ
リモル）を加えて、水素圧５０kg／cm2、温度６０℃で
２０時間反応させた。反応後、溶媒を留去し、アルカリ
抽出した後水層を中和し、エーテルで抽出し、濃縮、乾
燥して、m.p.６３〜６５℃の(R)−３−メチル−２−ヒ
ドロキシブタン酸８ｇを得た。このものの旋光度は
〔α〕▲25 D▼＋10.65゜（CHCl3）であった。文献値
〔α〕▲20 D▼＋16.9゜（CHCl3）より、光学純度は６３
％eeである。
実施例４ あらかじめ、窒素置換を行った２００mlのオートクレー
ブに、α−（Ｎ，Ｎ−ジメチル）アミノアセトン１０ｇ
（0.1モル）とメタノール５０ml、塩化メチレン１０ml
を加え、参考例３で合成したRu（(+)−BINAP）（OCOC
H3）2８４mg（0.10ミリモル）を加えて水素圧６０kg／c
m2、温度３０℃で２０時間反応させた。反応後、溶媒を
留去し、Ｄ−(-)−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−
２−プロパノール９ｇを得た。このものの旋光度は、
〔α〕▲25 D▼−20.7゜（ｃ 0.83、CH3OH）であった。
これを(+)−α−メトキシ−α−トリフロロメチルフエ
ニル酢酸クロリドによりエステルに誘導し、HPLCにより
そのジアステレオマー比を算出した結果、アルコールの
光学純度は９１％eeであった。
実施例４〜３４ 基質、触媒、反応条件を変えたほかは、実施例１〜４に
準じて操作を行つた結果を次の第１表に示す。
〔発明の効果〕 本発明は、安価なルテニウム−光学活性ホスフイン錯体
を用いて、カルボニル化合物を不斉水素化することによ
り、天然物合成の中間体、強誘電性液晶のキラル部とし
て、あるいは医薬品中間体等の有用な化合物である光学
活性アルコールを、効率よく製造することのできる工業
的にすぐれた方法である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 31/36 6958−4Ｈ 33/26 8827−4Ｈ 35/06 8827−4Ｈ 35/08 8827−4Ｈ 43/13 Ｂ 8619−4Ｈ 43/178 Ｂ 8619−4Ｈ 51/367 7306−4Ｈ 59/01 8827−4Ｈ 59/50 8827−4Ｈ 67/31 215/08 7457−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 307/33 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (56)参考文献 特開 昭49−1505（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】次の一般式(Ｉ) （式中、Ａは低級アルキル基、ハロゲン化低級アルキル
    基、置換基を有してもよいフェニル基または置換基を有
    してもよいベンジル基を示し、Ｂは炭素数１〜４のアシ
    ル基、低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン化アルキ
    ル基、ヒドロキシカルボニル基、低級アルコキシアルキ
    ル基、ヒドロキシメチル基、置換基を有してもよいベン
    ゾイル基、置換基を有してもよいベンジルカルボニル基
    または低級アルキル置換アミノメチル基を示し、ＡとＢ
    が隣接する炭素原子と一緒になって、他の異種原子を含
    んでも良く、また置換基を有しても良い５員環または６
    員環の1,2-ジケトン類を形成してもよい） で表わされるカルボニル化合物を、一般式(III)、(V)ま
    たは(VI) RuxHyClz(R-BINAP)2(S)p (III) 〔RuHl(R-BINAP)v〕Yw (V) （式中、R-BINAPは式(IV) で表わされる三級ホスフィンを示し、Ｒは水素原子、メ
    チル基またはt-ブチル基を示し、Ｓは三級アミンを示
    し、ｙが０のときｘは２、ｚは４、ｐは１を示し、ｙが
    １のときｘは１、ｚは１、ｐは０を示し、ＹはClO4、BF
    4またはPF6を示し、ｌが０のときｖは１、ｗは２を示
    し、ｌが１のときｖは２、ｗは１を示し、Ｒ1及びＲ2は
    低級アルキル基またはトリフロロメチル基を示す） で表わされるルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を触
    媒として不斉水素化して、次の一般式(II) 〔式中、Ａは上記と同じ意義を有し、Ｂ′は一般式 （ただし、Ｒは水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、
    置換基を有してもよいフェニル基または置換基を有して
    もよいベンジル基を示す）で表わされる基、低級アルコ
    キシカルボニル基、ハロゲン化アルキル基、ヒドロキシ
    カルボニル基、低級アルコキシアルキル基、ヒドロキシ
    メチル基または低級アルキル置換アミノメチル基を示
    し、ＡとＢ′が隣接する炭素原子と一緒になって、他の
    異種原子を含んでも良く、また置換基を有しても良い５
    員環または６員環を形成してもよい〕 で表わされる光学活性アルコールを得ることを特徴とす
    る光学活性アルコールの製造方法。
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