JPH0645846B2

JPH0645846B2 - 耐摩耗性高透磁率合金の製造法

Info

Publication number: JPH0645846B2
Application number: JP26269489A
Authority: JP
Inventors: 量増本; 雄悦村上
Original assignee: THE FOUDATION: THE RESEARCH INSTITUTE FOR ELECTRIC AND MAGNETIC MATERIALS
Current assignee: THE FOUDATION: THE RESEARCH INSTITUTE FOR ELECTRIC AND MAGNETIC MATERIALS
Priority date: 1985-01-30
Filing date: 1989-10-07
Publication date: 1994-06-15
Anticipated expiration: 2009-06-15
Also published as: JPH02138448A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、Ni,Nb,TaおよびFeを主成分とし、副成分とし
てCr,Mo,Ge,Au,Co,V,W,Cu,Mn,Aｌ，Si,Ti,Zr,Hf,Sn,Sb,
Ga,In,Tｌ,Zn,Cd，希土類元素、白金族元素、Be,Ag,Sr,
Ba,B の１種または２種以上を含有する耐摩耗性高透磁
率合金の製造法に関するもので、その目的とするところ
は、鍛造加工が容易で、実効透磁率が大きく、飽和磁束
密度が4000Ｇ以上で、｛110｝＜112＞+｛311｝＜112＞
の再結晶集合組織を有して耐摩耗性が良好な磁性合金を
得るにある。

（従来の技術）テープレコーダーなどの磁気記録再生ヘッドは交流磁界
において作動するものであるから、これに用いられる磁
性合金は高周波磁界における実効透磁率が大きいことが
必要とされ、また磁気テープが接触して摺動するため耐
摩耗性が良好であることが望まれている。現在、耐摩耗
性にすぐれた磁気ヘッド用磁性合金としてはセンダスト
（Fe−Si-Aｌ系合金）およびMn−Znフェライト(MnO-ZnO
-Fe₂O₃)があるが、これらは非常に硬く脆いため、鍛
造、圧延加工が不可能で、ヘッドコアの製造には研削、
研磨の方法が用いられており、従ってその成品は高価で
ある。またセンダストは飽和磁束密度は大きいが薄板に
できないので高周波磁界における実効透磁率が比較的小
さい。またフェライトは実効透磁率は大きいが、飽和磁
束密度が約4000Ｇで小さいのが欠点である。他方パーマ
ロイ（Ni−Fe系合金）は飽和磁束密度は大きいが、実効
透磁率は小さく、また鍛造、圧延加工および打抜きは容
易で量産性にすぐれているが、摩耗しやすいのが大きな
欠点であり、これを改善することが強く望まれている。

（発明が解決しようとする問題点）本発明者らは、先にNi−Fe−Nb系およびNi−Fe−Ta系合
金は鍛造加工が容易で硬度および透磁率が大きいことか
ら、磁気ヘッド用磁性合金として好適であることを見い
出し、これを特許出願した（特公昭47-29690号および特
公昭51-536号）。

その後本発明者らは、磁気ヘッド用磁性合金としてNi−
Fe−Nb系およびNi−Fe−Ta系合金の薄板を生産して来た
が、磁気テープの摺動による薄板の摩耗量は、薄板の製
造工程における加工法および熱処理法によって著しく増
減して耐摩耗性が損なわれる大きな問題であることか
ら、この原因を解明するためこれら合金の摩耗について
系統的な研究を行った。その結果、Ni−Fe−Nb系および
Ni−Fe−Ta系合金の摩耗は硬度によって一義的に決定さ
れるものでなく、薄板の製造方法に依存する再結晶集合
組織と緊密な関係があることが明らかとなった。

（問題点を解決するための手段）一般に摩耗現象は合金の結晶方位によって大きな差異が
あり、結晶異方性が存在することが知られているが、本
発明者らはNi−Fe−Nb系およびNi−Fe−Ta系合金におい
ては、｛100｝＜001＞結晶方位は摩耗し易しく、｛11
0｝＜112＞とこの＜112＞方向を軸として多少回転した
｛311｝＜112＞結晶方位が耐摩耗性にすぐれていること
を見い出した。すなわち、Ni−Fe−Nb系およびNi−Fe−
Ta系合金は｛110｝＜112＞＋｛311｝＜112＞の再結晶集
合組織を形成させることによって耐摩耗性が著しく向上
することを見い出したのである。

本発明者らはこの知見に基づいて、Ni−Fe−Nb系および
Ni−Fe−Ta系合金の｛110｝＜112＞＋｛311｝＜112＞再
結晶集合組織を形成させるための研究を幾多遂行した。
すなわち、Ni−Fe二元系合金は冷間圧延加工すると｛11
0｝＜112＞＋｛112｝＜111＞の加工集合組織を生じる
が、これを高温加熱すると｛100｝＜001＞再結晶集合組
織が発達することが知られている。

しかし、これにNbおよび／またはTaを添加すると積層欠
陥エネルギーが低下し、冷間加工率50％以上を施した
後、 900℃以上の高温度で加熱することによって｛11
0｝＜112＞＋｛311｝＜112＞再結晶集合組織を効果的に
形成させ、耐摩耗性を著しく向上できることを見い出し
た。

また、Ni−Fe系合金にNbおよび／またはTaを添加するこ
とによって比電気抵抗は増大し、結晶粒が微細になるの
で、交流磁界における渦電流損失が減少し、このため実
効透磁率は増大する。要するにNbおよび／またはTaの添
加効果により、｛110｝＜112＞＋｛311｝＜112＞再結晶
集合組織が発達するとともに実効透磁率が増大し、耐摩
耗性のすぐれた高透磁率合金が得られるのである。

（作用）本発明の合金を造るには、Ni60〜90％、NbおよびTaの合
計 0.5〜20％（但し、Ｎｂ 14 ％以下、ＮｂおよびＴａ
は０％を含まず）および残部Feを主成分とし、副成分と
してCr,Mo,Ge,Auの７％以下、Co,Vの10％以下、Ｗの15
％以下、Cu,Mnの25％以下、 Aｌ,Si,Ti,Zr,Hf,Sn,Sb,G
a,Ｉｎ，Ｔｌ，Zn,Cd,希土類元素、白金族元素の５％以
下、Be，Ag，Sr,Ba の３％以下、Ｂ１％以下の１種ある
いは２種以上の合計0.01〜30％の所定量を更に添加す
る。かくして得た混合物を充分に撹拌して組成的に均一
な溶融合金を造る。また、鍛造性及び加工性を改善する
ため、必要に応じて脱酸剤としてC，Ca,Mg等を小量（各
0.5 ％以下）添加する。

次にこれを適当な形および大きさの鋳型に注入して健全
な鋳塊を得、さらにこれに1000℃〜1200℃の高温におい
て鋳造あるいは熱間加工を施して適当な形状のもの、例
えば棒あるいは板となし、必要ならば焼鈍する。次いで
これに冷間圧延などの方法によって加工率50％以上の冷
間加工を施し、目的の形状のもの、例えば厚さ 0.1mmの
薄板を造る。次にその薄板から例えば45mm、内径33mmの
環状板を打抜き、これを水素中その他の適当な非酸化性
雰囲気（水素，アルゴン，窒素など）中あるいは真空中
で 900℃以上融点以下の温度で適当時間加熱し、ついで
規則−不規則格子変態点（約 600℃）以上の温度から 1
00℃／秒〜１℃／時の組成に対応した適当な速度で冷却
するかあるいはこれをさらに規則−不規則格子変態点
（約 600℃）以下の温度で適当時間再加熱し、冷却す
る。このようにして実効透磁率3000以上、飽和磁束密度
4000Ｇ以上を有し、且つ｛110｝＜112＞＋｛311｝＜112
＞の再結晶集合組織をもった耐摩耗性高透磁率合金が得
られる。

次に本発明を図面につき説明する。

第１図は79％Ni−Fe−Nb−Ta系合金（但し、Nb：Ta−
１：１）について加工率90％の冷間圧延し、1100℃で加
熱した後、 800℃／時の速度で冷却した場合の再結晶集
合組織および諸特性とNbおよびTa量との関係を示したも
のである。

Ni−Fe−Nb−Ta系合金は冷間圧延加工すると｛110｝＜1
12＞＋｛112｝＜111＞の加工集合組織が生じるが、これ
を高温加熱すると｛100｝＜001＞と｛110｝＜112＞＋
｛311｝＜112＞の再結晶集合組織が生成する。しかし、
これにNbおよびTaを添加すると｛100｝＜001＞再結晶集
合組織の生成が抑制され、｛110｝＜112＞＋｛311｝＜1
12＞の再結晶集合組織が発達し、それとともに摩耗量は
減少する。また実効透磁率はNbおよびTaの添加によって
増大するが、NbおよびTaの合計0.5 ％以下ではその効果
が少なく、また20％以上では鍛造加工が困難となり好ま
しくない。

第２図は79％Ni−Fe−５％Nb−５％Ta合金について、11
00℃で加熱した場合の再結晶集合組織および諸特性と冷
間加工率との関係を示したもので、冷間加工率の増加は
｛110｝＜112＞＋｛311｝＜112＞の再結晶集合組織の発
達をもたらし、耐摩耗性を向上させ、実効透磁率を高め
るが加工率50％以上において特に著しい。

第３図は79％Ni−Fe−５％Nb−５％Ta合金を冷間加工率
85％で圧延した後の加熱温度と再結晶集合組織および諸
特性との関係を示したもので、加熱温度の上昇とともに
｛112｝＜111＞成分が減少し｛110｝＜112＞＋｛311｝
＜112＞が発達して耐摩耗性が向上し、また実効透磁率
は増大するが、特に 900℃以上において著しい。

第４図は合金番号64(80.3 ％Ni−Fe−２％Nb−２％Ta-3
%Ge合金）、合金番号52(79.5 ％Ni−Fe−5 ％Nb−3 ％T
a−2 ％Mo合金）、合金番号21(79％Ni−Fe−5 ％Nb−5
％Ta合金）について実効透磁率と冷却速度との関係およ
びこれらをさらに再加熱処理を施した場合の実効透磁率
（×印）を示したものである。合金の組成に対応した最
適冷却速度、最適再加熱温度および再加熱時間が存在す
ることが判る。

第５図は79％Ni−Fe−５％Nb−５％Ta合金にCr,Mo,Ge,A
u あるいはCoを添加した場合の磁気ヘッドの摩耗量及び
実効透磁率の特性図で、Cr,Mo,Ge,Au あるいはCoを添加
すると、何れも実効透磁率は高くなり、摩耗量は減少す
るが、Cr,Mo,GeあるいはAuの7 ％以上では飽和磁束密度
が4000G 以下となり好ましくない。またCo10％以上では
残留磁気が大きくなり、帯磁ノイズが増大するので、好
ましくない。

第６図は同じく79％Ni−Fe−５％Nb−５％Ta合金にV,W,
CuあるいはMnを添加した場合の磁気ヘッドの摩耗量及び
実効透磁率の特性図で、V,W,Cu,TaあるいはMnを添加す
ると、何れも実効透磁率は高くなり、摩耗量は減少する
が、V を10％以上、Ｗを15％以上、CuあるいはMnを25％
以上添加すると飽和磁束密度が4000G 以下となり好まし
くない。

第７図は同じく79％Ni−Fe−５％Nb−５％Ta合金にAl,S
i,Ti,Zr,Hf,Sn,Sb,Ga,InあるいはTlを添加した場合の特
性図で、Al,Si,Ti,Zr,Hf,Sn,Sb,Ga,In あるいはTlを添
加すると、何れも実効透磁率は高くなり、摩耗量は減少
するが、Si，Ti,Zr,Hf,Ga,InあるいはT15 ％以上では飽
和磁束密度は4000G 以下となり、Al,Sn あるいはSbが５
％以上では鍛造加工が困難となり好ましくない。

第８図は同じく79％Ni−Fe−５％Nb−５％Ta合金にZn,C
d,La,Pt,Be,Ag,Sr,Ba あるいはＢを添加した場合の特性
図で、Zn,Cd,La,Pt,Be,Ag,Sr,Ba あるいはＢを添加する
と、何れも実効透磁率は高くなり、摩耗量は減少する
が、Zn,Cd,La,Pt を５％以上、Be,Sr,Baを３％以上添加
すると飽和磁束密度が4000Ｇ以下となり、Agを３％以上
あるいはＢを１％以上添加すると鍛造加工が困難となり
好ましくない。

本発明において、冷間加工は｛110｝＜112＞＋｛112｝
＜111＞の冷間加工集合組織を形成し、これを基として
｛110｝＜112＞＋｛311｝＜112＞の再結晶集合組織を発
達させるために必要で、第１図および第２図に見られる
ようにNbおよびTaの合計0.5%以上において、特に加工率
50％以上の冷間加工を施した場合に｛110｝＜112＞＋
｛311｝＜112＞の再結晶集合組織の発達が顕著で、耐摩
耗性は著るしく向上し、その実効透磁率も高い。また上
記の冷間加工に次いで行われる加熱は、組織の均一化、
加工歪の除去とともに、｛110｝＜112＞＋｛311｝＜112
＞の再結晶集合組織を発達させ、高い実効透磁率とすぐ
れた耐摩耗性を得るために必要であるが、第３図に見ら
れるように特に 900℃以上の加熱によって実効透磁率お
よび耐摩耗性は顕著に向上する。

尚、上記の冷間加工と、次いで行われる 900℃以上融点
以下の加熱を繰り返し行うことは、｛110｝＜112＞＋
｛311｝＜112＞の再結晶集合組織の集積度を高め、耐摩
耗性を向上させるために有効である。この場合は最終冷
間加工の加工率が50％以下でも｛110｝＜112＞＋｛31
1｝＜112＞再結晶集合組織が得られるが、本発明の技術
的思想に包含されるものである。したがって、本発明の
冷間加工率は、全製造工程における冷間加工を総計した
加工率を意味し、最終冷間加工率のみを意味するもので
はない。

上記の 900℃以上融点以下の温度から規則−不規則格子
変態点（約 600℃）以上の温度までの冷却は、急冷して
も除冷しても得られる磁性には大した変りはないが、第
４図に見られるようにこの変態点以下の冷却速度は磁性
に大きな影響を及ぼす。すなわちこの変態点以下の温度
より 100℃／秒〜１℃／時の組成に対応した適当な速度
で常温迄冷却することにより、地の規則度が適度に調整
され、すぐれた磁性が得られる。そして上記の冷却速度
の内 100℃／秒に近い速度で急冷すると、規則度が小さ
くなり、これ以上速く冷却すると規則化が進まず、規則
度はさらに小さくなり磁性は劣化する。しかし、その規
則度の小さい合金をその変態点以下の200 〜 600℃に組
成に対応して、１分間以上 100時間以下再加熱し冷却す
ると、規則化が進んで適度な規則度となり磁性は向上す
る。他方、上記の変態点以上の温度から、例えば１℃／
時以下の速度で除冷すると、規則化は進みすぎ、磁性は
低下する。

尚、上記の熱処理を水素が存在する雰囲気中で施すこと
は、実効透磁率を高めるのに特に効果があるので好まし
い。

（実施例）次に本発明を実施例につき説明する。

実施例１合金番号52（組成Ni＝79.5％，Nb＝５％，Ta＝３％，Mo
＝２％，Fe＝残部）の合金の製造原料は実施例１と同じ純度でニッケル，鉄，ニオブ，タ
ンタル99.8％純度のモリブデンおよびニオブ65％，タン
タル５％を含むフエロニオブ合金を用いた。試料を造る
には、原料を全重量800gでアルミナ坩堝に入れ、真空中
で高周波誘導電気炉によって溶かした後、よく撹拌して
均質な溶融合金とした。次にこれを直径25mm、高さ170m
m の孔をもつ鋳型に注入し、得られた鋳塊を約1100℃で
鍛造して厚さ７mmの板とした。さらに1000℃を超え1200
℃以下の温度で適当な厚さまで熱間圧延し、ついで常温
で種々な加工率で冷間圧延を施して 0.1mmの薄板とし、
それから外径45mm、内径33mmの環状板を打ち抜いた。試
料に種々の熱処理を施して磁気特性および磁気ヘツドの
コアとして使用した場合湿度80％、温度40℃においてCr
O₂磁気テープによる 200時間走行後の摩耗量の測定を行
い、第１表に示すような特性が得られた。

なお代表的な合金の特性は第２表に示すとおりである。

本発明において、50％以上の冷間加工の処理前に、1000
℃を超え1200℃以下の温度で熱間圧延すると、次いで施
される加工率50％以上の冷間加工ならびに 900℃以上の
温度における熱処理によりもたらされる｛110｝＜112＞
+｛311｝＜112＞の再結晶集合組織の生成および耐摩耗
性に強く影響する。

実施例２ 79％ Ni-Fe-5％Nb-5％Ta合金を本願実施例１に準じて製
造し、約1000℃で鍛造して厚さ７mmの板とした。さらに
種々な加熱温度で厚さ1.0 mmまで熱間圧延加工し、次い
で常温で冷間圧延加工を施して0.1 mmの薄板（冷間加工
率90％）とした。この薄板を1100℃の水素中で２時間加
熱後 800℃／hrの速度で常温まで冷却した場合の熱間圧
延加工の温度と再結晶集合組織および摩耗量との関係を
第９図に示した。熱間圧延加工の温度が1000℃以下では
｛112｝＜111＞が残留し摩耗量が大きいが、1000℃を超
え1200℃以下の温度では｛110｝＜112＞+｛311｝＜112
＞が発達し摩耗量が特に小さくなる。すなわち、本発明
では熱間圧延加工の温度によって、最終的に得られる合
金の耐摩耗性が大きく影響されるのである。

上記のように本発明合金は加工が容易で、耐摩耗性にす
ぐれ、4000Ｇ以上の飽和磁束密度、3000以上の高い実効
透磁率、低保磁力を有しているので、磁気記録再生ヘッ
ドのコアおよびケース用磁性合金として好適であるばか
りでなく、耐摩耗性および高透磁率を必要とする一般の
電磁器機の磁性材料としても好適である。

次に本発明において合金の組成を主成分としてNi60〜90
％、NbおよびTaの合計 0.5〜20％（但し、Ｎｂ14％以
下、ＮｂおよびＴａは０％を含まず）および残部Feと限
定し、これに副成分として添加する元素をCr,Mo,Ge,Au
を７％以下、Co,Vを10％以下、Ｗを15％以下、Cu，Mnを
25％以下、 Aｌ，Si,Ti,Zr,Hf,Sn,Sb,Ga,In,Tｌ,Zn,Cd,
希土類元素、白金族元素を５％以下、Be,Ag,Sr,Baを３
％以下、Ｂを１％以下の１種または２種以上の合計で0.
01〜30％と限定した理由は各実施例、第３表および図面
中第５図ないし第８図で明らかなように、この組成範囲
の実効透磁率は3000以上、飽和磁束密度4000Ｇ以上で、
且つ｛110｝＜112＞＋｛311｝＜112＞の再結晶集合組織
を有し、耐摩耗性がすぐれているが、この組成範囲をは
ずれると磁気特性あるいは耐摩耗性が劣化するからであ
る。

すなわち、NbおよびTaの合計 0.5％以下では｛110｝＜1
12＞＋｛311｝＜112＞の再結晶集合組織が充分発達しな
いので耐摩耗性が悪く、NbおよびTaの合計20％以上およ
びNb14％以上では鍛造加工が困難となり、また、飽和磁
束密度4000Ｇ以下になるからである。

そしてNi60〜90％、NbおよびTaの合計 0.5〜20％（但
し、Ｎｂ14％以下、ＮｂおよびＴａは０％を含まず）お
よび残部Feの組成範囲の合金は、実効透磁率3000以上、
飽和磁束密度4000Ｇ以上で、耐摩耗性がすぐれ、且つ加
工性が良好であるが、これにさらにCr,Mo,Ge,Au，W,V，
Cu,Mn,A ｌ,Zr,Si,Ti,Hf,Ga,In,Tｌ,Zn,Cd，希土類元
素、白金族元素、Be,Ag,Sr,Ba,Ｂ等を添加すると特に実
効透磁率を高める効果があり、Coを添加すると特に飽和
磁束密度を高める効果があり、Au,Mn,Ti，Co，希土類元
素、白金族元素、Be,Sr,Ba,Bを添加すると鍛造、加工を
良好にする効果があり、 Aｌ,Sn,Sb,Au,Ag,Ti,Zn,Cd,Be
およびＶの添加は｛110｝＜112＞＋｛311｝＜112＞の再
結晶集合組織を発達させ、耐摩耗性を向上する効果があ
る。

（発明の効果）要するに本発明合金は鍛造加工が容易で｛110｝＜112＞
＋｛311｝＜112＞の再結晶集合組織を形成させることに
よって耐摩耗性がすぐれ、飽和磁束密度が4000Ｇ以上
で、実効透磁率が高いので、磁気記録再生ヘッド用磁性
合金として好適であるばかりでなく、耐摩耗性および高
透磁率を必要とする一般の電磁器機の磁性材料としても
好適である。

【図面の簡単な説明】

第１図は79％Ni-Fe-Nb-Ta 系合金の諸特性とNbおよびTa
量（但し、Nb：Ta＝１：１）との関係を示す特性図、第２図は79％Ni-Fe-５％Nb-5％Ta合金の再結晶集合組織
および諸特性と冷間加工率との関係を示す特性図、第３図は79％Ni-Fe-５％Nb-5％Ta合金の再結晶集合組織
および諸特性と加熱温度との関係を示す特性図、第４図は80.3％Ni-Fe-２％Nb-2％Ta-3％Ge合金（合金番
号64）、79.5％Ni-Fe-５％Nb-3％Ta-2％Mo合金(52)、お
よび79％Ni-Fe-５％Nb-5％Ta合金(21)の実効透磁率と冷
却速度、再加熱温度および再加熱時間との関係を示す特
性図、第５図は79％Ni-Fe-５％Nb-5％Ta合金にCr,Mo,Ge,Au あ
るいはCoを添加した場合の諸特性と各元素の添加量との
関係を示す特性図、第６図は79％Ni-Fe-５％Nb-5％Ta合金にV,W,Cuあるいは
Mnを添加した場合の諸特性と各元素の添加量との関係を
示す特性図、第７図は79％Ni-Fe-５％Nb-5％Ta合金に Aｌ，Si,Ti,Z
r,Hf,Sn,Sb,In あるいは Tｌを添加した場合の諸特性と
各元素の添加量との関係を示す特性図、第８図は79％Ni-Fe-５％Nb-5％Ta合金にZn,Cd,La,Pt,B
e,Ag,Sr,Ba あるいは Bを添加した場合の諸特性と各元
素の添加量との関係を示す特性図、第９図は 79% Ni-Fe-5% Nb-5 % Ta 合金を実施例２によ
り製造した時の熱間圧延加工温度と再結晶集合組織の集
積度および摩耗量との関係を示す特性図である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】重量比にてNi 60 〜90％、NbおよびTaの合
計 0.5〜20％（但し、Nb 14 ％以下、NbおよびTaは０％
を含まず）および残部Feを主成分とし、副成分としてC
r，Mo，Ge，Auをそれぞれ７％以下、Co，Ｖをそれぞれ1
0％以下、Ｗを15％以下、Cu，Mnをそれぞれ25％以下、
Al，Si，Ti，Zr，Hf，Sn，Sb，Ga，In，Tl，Zn，Cd，希
土類元素、白金族元素をそれぞれ５％以下、Be，Ag，S
r，Baをそれぞれ３％以下、Ｂを１％以下の１種または
２種以上の合計0.01〜30％、少量の不純物とからなる合
金を1000℃を超え1200℃以下の温度で熱間加工した後冷
却し、次に加工率50％以上の冷間加工を施した後、900
℃以上の融点以下の温度で加熱し、ついで規則−不規則
格子変態点以上、融点以下の温度から100 ℃／秒〜１℃
／時の組成に対応した適当な速度で常温まで冷却するこ
とにより、１ KHzにおける実効透磁率3000以上、飽和磁
束密度4000Ｇ以上で、且つ｛110 ｝＜112＞+｛311 ｝＜
112＞の再結晶集合組織をもった合金を得ることを特徴
とする耐摩耗性高透磁率合金の製造法。
【請求項２】重量比にてNi 60 〜90％、NbおよびTaの合
計 0.5〜20％（但し、Nb 14 ％以下、NbおよびTaは０％
を含まず）および残部Feを主成分とし、副成分としてC
r，Mo，Ge，Auをそれぞれ７％以下、Co，Ｖをそれぞれ1
0％以下、Ｗを15％以下、Cu，Mnをそれぞれ25％以下、
Al，Si，Ti，Zr，Hf，Sn，Sb，Ga，In，Tl，Zn，Cd，希
土類元素、白金族元素をそれぞれ５％以下、Be，Ag，S
r，Baをそれぞれ３％以下、Ｂを１％以下の１種または
２種以上の合計0.01〜30％、少量の不純物とからなる合
金を1000℃を超え1200℃以下の温度で熱間加工した後冷
却し、次に加工率50％以上の冷間加工を施した後、900
℃以上融点以下の温度で加熱し、ついで規則−不規則格
子変態点以上、融点以下の温度から 100℃／秒〜１℃／
時の組成に対応した適当な速度で冷却し、これをさらに
規則−不規則格子変態点以下の温度で１分間以上100 時
間以下の組成に対応した適当時間加熱し冷却することに
より、１ KHzにおける実効透磁率3000以上、飽和磁束密
度4000Ｇ以上で、且つ｛110 ｝＜112＞+｛311 ｝＜112
＞の再結晶集合組織をもった合金を得ることを特徴とす
る耐摩耗性高透磁率合金の製造法。