JPH064614B2 - ４−オキソ−４ｈ−ピラン−３−カルボキサミド化合物の製造法 - Google Patents
４−オキソ−４ｈ−ピラン−３−カルボキサミド化合物の製造法Info
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- JPH064614B2 JPH064614B2 JP60297497A JP29749785A JPH064614B2 JP H064614 B2 JPH064614 B2 JP H064614B2 JP 60297497 A JP60297497 A JP 60297497A JP 29749785 A JP29749785 A JP 29749785A JP H064614 B2 JPH064614 B2 JP H064614B2
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
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- C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
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- C07D417/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサ
ミド化合物の新規な製造法に関するものである。この発
明によって得られる化合物は医薬、農薬あるいはそれら
の合成中間体として有用である。
ミド化合物の新規な製造法に関するものである。この発
明によって得られる化合物は医薬、農薬あるいはそれら
の合成中間体として有用である。
（従来技術） この発明に係る４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボ
キサミド化合物を製造する方法としては、従来いくつか
の方法が報告されている。エイ．マラムス（Ａ．Mallam
s）等はアセトアセトアニリド誘導体のあるものが、ポ
リリン酸と加熱下に処理することによって、対応する
２，６−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カ
ルボキサミド化合物を与えることを見いだしている〔ジ
ャーナル オブ オルガニック ケミストリー（Ｊ．Or
g．Chem.），29,3548および3555(1964)参照〕。アー
ル．ガーナー（Ｒ．Garner）等〔ジャーナル オブ ケ
ミカル ソサエティ（Ｊ．Chem．Soc．）（Ｃ）、186(1
966)参照〕はマラムス等の報告が電子吸引性の置換基を
有するアセトアセトアニリド誘導体に特徴的な反応性で
あることを支持している。しかし、この方法によると、
アセトアセトアニリドそのものを用いると、２−ヒドロ
キシキノリン誘導体を与え、ピロン化合物は生成すら認
められていない。
キサミド化合物を製造する方法としては、従来いくつか
の方法が報告されている。エイ．マラムス（Ａ．Mallam
s）等はアセトアセトアニリド誘導体のあるものが、ポ
リリン酸と加熱下に処理することによって、対応する
２，６−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カ
ルボキサミド化合物を与えることを見いだしている〔ジ
ャーナル オブ オルガニック ケミストリー（Ｊ．Or
g．Chem.），29,3548および3555(1964)参照〕。アー
ル．ガーナー（Ｒ．Garner）等〔ジャーナル オブ ケ
ミカル ソサエティ（Ｊ．Chem．Soc．）（Ｃ）、186(1
966)参照〕はマラムス等の報告が電子吸引性の置換基を
有するアセトアセトアニリド誘導体に特徴的な反応性で
あることを支持している。しかし、この方法によると、
アセトアセトアニリドそのものを用いると、２−ヒドロ
キシキノリン誘導体を与え、ピロン化合物は生成すら認
められていない。
特公昭45-31663号公報は、イソシアナート類とジケテン
とを酸性触媒の存在下反応させることを特徴とする、
３，４−ジハイドロ−２，４−ジオキソ−６−メチル−
２Ｈ−１，３−オキサジン類および（または）２，６−
ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサ
ミド類（上記公報には３−カルバミル−２，６−ジメチ
ル−４−ピロン類としている）の製造法を記載してお
り、この併発反応においてｏ−クロロフェニルイソシア
ナート、ｏ−ニトロフェニルイソシアナート等のオルト
置換体、ｍ−ニトロフェニルイソシアナート等のメタ置
換体は後者の２，６−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ピ
ラン−３−カルボキサミド類への反応が優勢であると観
測している。この方法は、原料のイソシアナートが容易
に入手出来る場合には有効であるが、イソシアナートの
構造が反応選択性に重大な影響を有している結果、一般
的に応用できる方法であるとは言い難い。
とを酸性触媒の存在下反応させることを特徴とする、
３，４−ジハイドロ−２，４−ジオキソ−６−メチル−
２Ｈ−１，３−オキサジン類および（または）２，６−
ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサ
ミド類（上記公報には３−カルバミル−２，６−ジメチ
ル−４−ピロン類としている）の製造法を記載してお
り、この併発反応においてｏ−クロロフェニルイソシア
ナート、ｏ−ニトロフェニルイソシアナート等のオルト
置換体、ｍ−ニトロフェニルイソシアナート等のメタ置
換体は後者の２，６−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ピ
ラン−３−カルボキサミド類への反応が優勢であると観
測している。この方法は、原料のイソシアナートが容易
に入手出来る場合には有効であるが、イソシアナートの
構造が反応選択性に重大な影響を有している結果、一般
的に応用できる方法であるとは言い難い。
また、ジケテンと第１級アリールアミン類との反応成績
体として、２，６−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ピラ
ン−３−カルボキサミド化合物が得られることは知られ
ており、次記のごとくアニリン誘導体、アミノトロポン
類、アミノピリジン類についてその反応が詳細に報告さ
れている。
体として、２，６−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ピラ
ン−３−カルボキサミド化合物が得られることは知られ
ており、次記のごとくアニリン誘導体、アミノトロポン
類、アミノピリジン類についてその反応が詳細に報告さ
れている。
加藤等〔薬学雑誌、87、1212(1967)参照〕はジケテンと
アニリン誘導体との反応を検討し、塩基性触媒の存在下
ではピリドン型閉環体が得られることを報告しており、
例外として、ｐ−ニトロアニリンは２，６−ジメチル−
Ｎ−（４−ニトロフェニル）−４−オキソ−４Ｈ−ピラ
ン−３−カルボキサミドを与えることを明らかにしてい
る。
アニリン誘導体との反応を検討し、塩基性触媒の存在下
ではピリドン型閉環体が得られることを報告しており、
例外として、ｐ−ニトロアニリンは２，６−ジメチル−
Ｎ−（４−ニトロフェニル）−４−オキソ−４Ｈ−ピラ
ン−３−カルボキサミドを与えることを明らかにしてい
る。
エイチ．トダ（Ｈ．Toda）等〔ケミカル アンド ファ
ーマシューティカル ブリティン（Chem.Pharm.Bull.),
19、1477(1971)参照〕はアミノトロポン類のジケテンと
の反応を報告しているが、４−アミノトロポロンおよび
２−アミノトロポンを用いた場合には４−ピロン体が得
られ、５−アミノトロポロンを用いた場合にはピリドン
閉環体が得られている。アミノピリジン類の反応の検討
の結果〔ティ．カトー（Ｔ．Kato）等、Chem.Pharm.Bul
l.,20、133(1972)参照〕、２−アミノおよび４−アミノ
ピリジン誘導体は主として４−ピロン体を生成し、３−
アミノピリジン誘導体では主としてピリドン型閉環体を
生成することが明らかにされた。また、異項環アミンの
反応性についての知見はアール．エフ．ローエル．
（Ｒ．Ｆ．Lauer）等〔ジャーナル オブ ヘテロサイ
クリック ケミストリー（Ｊ．Heterocyclic Chem.),1
3、291(1976)参照〕の報告にも見いだすことができ、２
−アミノ−１，３，４−チアジアゾールが収率は不明な
がら４−ピロン体を与える。以上のことから明らかなよ
うに、ジケテンと第１級アリールアミン類との反応は、
アリールアミンの構造が反応の選択性に重要な影響を及
ぼし、原料として１級のアリールアミン類を用いる限
り、この選択性を４−ピロン体生成に有利となるように
変化させることは従来不可能であった。
ーマシューティカル ブリティン（Chem.Pharm.Bull.),
19、1477(1971)参照〕はアミノトロポン類のジケテンと
の反応を報告しているが、４−アミノトロポロンおよび
２−アミノトロポンを用いた場合には４−ピロン体が得
られ、５−アミノトロポロンを用いた場合にはピリドン
閉環体が得られている。アミノピリジン類の反応の検討
の結果〔ティ．カトー（Ｔ．Kato）等、Chem.Pharm.Bul
l.,20、133(1972)参照〕、２−アミノおよび４−アミノ
ピリジン誘導体は主として４−ピロン体を生成し、３−
アミノピリジン誘導体では主としてピリドン型閉環体を
生成することが明らかにされた。また、異項環アミンの
反応性についての知見はアール．エフ．ローエル．
（Ｒ．Ｆ．Lauer）等〔ジャーナル オブ ヘテロサイ
クリック ケミストリー（Ｊ．Heterocyclic Chem.),1
3、291(1976)参照〕の報告にも見いだすことができ、２
−アミノ−１，３，４−チアジアゾールが収率は不明な
がら４−ピロン体を与える。以上のことから明らかなよ
うに、ジケテンと第１級アリールアミン類との反応は、
アリールアミンの構造が反応の選択性に重要な影響を及
ぼし、原料として１級のアリールアミン類を用いる限
り、この選択性を４−ピロン体生成に有利となるように
変化させることは従来不可能であった。
同様にして、前記の方法で反応中間体と考えられるアリ
ールアミン類のアセトアセチル誘導体をジケテンと処理
した場合もアリールアミンの構造によってピリドン閉環
体が得られる場合および４−ピロン体が得られる場合が
報告されている。特筆すべきは、ピリドン閉環体の生成
が不可能である第２級アリールアミンであるＮ−メチル
アニリンの場合は、４級アンモニウムクロライドを触媒
としてほぼ定量的に４−ピロン体が得られる事実である
〔エー．ファウ．デームロウ（Ｅ．Ｖ．Dehmlow）、ア
ー．エル．シェモウト（Ａ．Ｒ．Shamout）、リービッ
ヒス アンナーレン デアヒエミー（Liebigs Ann.Che
m.),2062(1982)参照〕。
ールアミン類のアセトアセチル誘導体をジケテンと処理
した場合もアリールアミンの構造によってピリドン閉環
体が得られる場合および４−ピロン体が得られる場合が
報告されている。特筆すべきは、ピリドン閉環体の生成
が不可能である第２級アリールアミンであるＮ−メチル
アニリンの場合は、４級アンモニウムクロライドを触媒
としてほぼ定量的に４−ピロン体が得られる事実である
〔エー．ファウ．デームロウ（Ｅ．Ｖ．Dehmlow）、ア
ー．エル．シェモウト（Ａ．Ｒ．Shamout）、リービッ
ヒス アンナーレン デアヒエミー（Liebigs Ann.Che
m.),2062(1982)参照〕。
また２，２，６−トリメチル−１，３−ジオキシン−４
−オンを用いて４−ピロン体を得る反応は知られてい
る。ティ．カトー等〔Chem.Pharm.Bull.,30,1315(1982)
参照〕は、アミド類ならびにそのアセトアセチル体と、
２，２，６−トリメチル−１，３−ジオキシン−４−オ
ンとの反応を検討しており、その中でＮ−ホルミルアセ
トアセトアミドはＮ，Ｎ−ジメチルアニリン存在下、
２，２，６−トリメチル−１，３−ジオキシン−４−オ
ンと反応し、主生成物としてピリドン型閉環体を、副生
成物として４−ピロン体を与えることを報告している。
−オンを用いて４−ピロン体を得る反応は知られてい
る。ティ．カトー等〔Chem.Pharm.Bull.,30,1315(1982)
参照〕は、アミド類ならびにそのアセトアセチル体と、
２，２，６−トリメチル−１，３−ジオキシン−４−オ
ンとの反応を検討しており、その中でＮ−ホルミルアセ
トアセトアミドはＮ，Ｎ−ジメチルアニリン存在下、
２，２，６−トリメチル−１，３−ジオキシン−４−オ
ンと反応し、主生成物としてピリドン型閉環体を、副生
成物として４−ピロン体を与えることを報告している。
上述した範囲の４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボ
キサミド化合物を製造する従来法は、出発物質の構造に
よって選択率が影響をうける点で共通した特徴を有して
おり、一般的に応用しうる方法ではない。この困難さを
回避する方法も従来知られており、加藤等〔薬学雑誌、
101、40(1981)参照〕は３−モルホリノクロトンアニリド
誘導体とジケテンとを加熱反応すると、対応する４−ピ
ロン体が得られることを報告しており、３−モルホリノ
クロトンアニリド誘導体の構造の変化は、収率に重大な
影響を与えないように推測される。この方法は、しかし
ながら、３−ベンジルアミノクロトンアニリド誘導体を
用いた場合には、ピリドン閉環体の混合物を生成してし
まう。
キサミド化合物を製造する従来法は、出発物質の構造に
よって選択率が影響をうける点で共通した特徴を有して
おり、一般的に応用しうる方法ではない。この困難さを
回避する方法も従来知られており、加藤等〔薬学雑誌、
101、40(1981)参照〕は３−モルホリノクロトンアニリド
誘導体とジケテンとを加熱反応すると、対応する４−ピ
ロン体が得られることを報告しており、３−モルホリノ
クロトンアニリド誘導体の構造の変化は、収率に重大な
影響を与えないように推測される。この方法は、しかし
ながら、３−ベンジルアミノクロトンアニリド誘導体を
用いた場合には、ピリドン閉環体の混合物を生成してし
まう。
（発明の目的） この発明は、４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキ
サミド化合物を製造するために、一般的に応用可能な方
法を示すものであり、従来の知見から予想される結果と
は相異なる観察に基いて完成したものである。
サミド化合物を製造するために、一般的に応用可能な方
法を示すものであり、従来の知見から予想される結果と
は相異なる観察に基いて完成したものである。
（発明の構成） この発明は一般式（Ｉ）または（Ｉ）′ 〔式（Ｉ）および（Ｉ）′中Ｒ１は置換基を有していて
もよいアリール基または異項環基であり、Ｒ２は、Ｃ１
〜Ｃ11のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
ル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、
任意に置換されてもよいフェニル基、核がハロゲン原
子、低級アルキル及び低級アルコキシ基の１〜２個で置
換されてもよいアラルキル基、ハロゲン化アルキル基又
は５もしくは６員の異項環基であり、Ｒ３はジアルキル
アミノ基であり、ｎは０〜６の整数を表わす。〕 で表わされる化合物と 一般式（II）： （式中Ｒ４、Ｒ５は水素原子、アルキル基あるいはフェ
ニル基またはＲ４およびＲ５が共にアルキル基のときシ
クロアルキル基を形成してもよい。） で表わされる化合物またはジケテンとを反応させるか、
又は、 一般式（III）： 〔Ｒ１、Ｒ２は式（Ｉ）、（Ｉ）′の定義と同じ、Ｒ６
はアルキル基、アラルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基または異項環基を表わす〕 の化合物と、ジケテンまたは一般式（II）の化合物とを
第３級有機塩基の存在下反応させて、 一般式（IV）： （式中Ｒ１、Ｒ２は上記と同じ） の化合物を得ることを特徴とする４−オキソ−４Ｈ−ピ
ラン−３−カルボキサミド化合物の製造法を要旨とす
る。
もよいアリール基または異項環基であり、Ｒ２は、Ｃ１
〜Ｃ11のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
ル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、
任意に置換されてもよいフェニル基、核がハロゲン原
子、低級アルキル及び低級アルコキシ基の１〜２個で置
換されてもよいアラルキル基、ハロゲン化アルキル基又
は５もしくは６員の異項環基であり、Ｒ３はジアルキル
アミノ基であり、ｎは０〜６の整数を表わす。〕 で表わされる化合物と 一般式（II）： （式中Ｒ４、Ｒ５は水素原子、アルキル基あるいはフェ
ニル基またはＲ４およびＲ５が共にアルキル基のときシ
クロアルキル基を形成してもよい。） で表わされる化合物またはジケテンとを反応させるか、
又は、 一般式（III）： 〔Ｒ１、Ｒ２は式（Ｉ）、（Ｉ）′の定義と同じ、Ｒ６
はアルキル基、アラルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基または異項環基を表わす〕 の化合物と、ジケテンまたは一般式（II）の化合物とを
第３級有機塩基の存在下反応させて、 一般式（IV）： （式中Ｒ１、Ｒ２は上記と同じ） の化合物を得ることを特徴とする４−オキソ−４Ｈ−ピ
ラン−３−カルボキサミド化合物の製造法を要旨とす
る。
一般式（Ｉ）、（Ｉ）′ないし（III）によって表わさ
れる化合物は、次式（Ｖ）で表わされるβ−ケトアミド
誘導体と、 Ｒ２−ＣＯＣＨ２ＣＯＮＨＲ１ (V) 〔式中Ｒ１、Ｒ２は式（Ｉ）、（Ｉ）′、（III）中の
定義に同じ〕 式（VI）又は（VII）で表わされる第１級アミンとの脱
水縮合反応 Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）ｎＲ３ （VI） Ｈ２ＮＲ６ （VII） 〔式中Ｒ３、Ｒ６とｎは式（Ｉ）、（Ｉ）′、（III）
中の定義に同じ〕 によって得られる生成物を意味しており、一般式（Ｉ）
ないし（Ｉ）′の表現は、一つの化合物のプロトトロピ
ーによって相互に変換しうる異性体を意味するもので、
式中のｎおよびＲ１によってその存在比率が異なる。
れる化合物は、次式（Ｖ）で表わされるβ−ケトアミド
誘導体と、 Ｒ２−ＣＯＣＨ２ＣＯＮＨＲ１ (V) 〔式中Ｒ１、Ｒ２は式（Ｉ）、（Ｉ）′、（III）中の
定義に同じ〕 式（VI）又は（VII）で表わされる第１級アミンとの脱
水縮合反応 Ｈ２Ｎ（ＣＨ２）ｎＲ３ （VI） Ｈ２ＮＲ６ （VII） 〔式中Ｒ３、Ｒ６とｎは式（Ｉ）、（Ｉ）′、（III）
中の定義に同じ〕 によって得られる生成物を意味しており、一般式（Ｉ）
ないし（Ｉ）′の表現は、一つの化合物のプロトトロピ
ーによって相互に変換しうる異性体を意味するもので、
式中のｎおよびＲ１によってその存在比率が異なる。
一般式（Ｉ）、（Ｉ）′、（III）および（IV）中のＲ
１は、置換基を有していてもよいアリール基または異項
換基を表わす。アリール基としてはフェニル基またはナ
フチル基が含まれる。異項環基としては、窒素原子、硫
黄原子、酸素原子から選ばれた１〜３個の異原子を含有
する５員環または６員環の異項環基が含まれ、ことにフ
リル、テトラヒドロフリル、チエニル、チアゾリル、イ
ソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ピラ
ゾリルのような５員環の基、ピリジル、ピリミジニル、
ピラジニル、ピリダジニルのような６員環の基が挙げら
れる。
１は、置換基を有していてもよいアリール基または異項
換基を表わす。アリール基としてはフェニル基またはナ
フチル基が含まれる。異項環基としては、窒素原子、硫
黄原子、酸素原子から選ばれた１〜３個の異原子を含有
する５員環または６員環の異項環基が含まれ、ことにフ
リル、テトラヒドロフリル、チエニル、チアゾリル、イ
ソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ピラ
ゾリルのような５員環の基、ピリジル、ピリミジニル、
ピラジニル、ピリダジニルのような６員環の基が挙げら
れる。
置換基は、この発明の反応に不活性な基であれば特に限
定されない。置換基の具体例としては、塩素原子、臭素
原子、フッ素原子のようなハロゲン原子；メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチルのようなアルキル
基；メトキシ、エトキシ、プロポキシのようなアルコキ
シ基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニルのよう
なアルコキシカルボニル基；シアノ基、ニトロ基、トリ
フルオロメチル基などが挙げられる。上記のアリール基
または異項環基は、これらの置換基が１〜３個、好まし
くは１または２個置換されてもよい。
定されない。置換基の具体例としては、塩素原子、臭素
原子、フッ素原子のようなハロゲン原子；メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチルのようなアルキル
基；メトキシ、エトキシ、プロポキシのようなアルコキ
シ基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニルのよう
なアルコキシカルボニル基；シアノ基、ニトロ基、トリ
フルオロメチル基などが挙げられる。上記のアリール基
または異項環基は、これらの置換基が１〜３個、好まし
くは１または２個置換されてもよい。
この発明は、前述のように反応自体に特徴を有するもの
であるが、Ｒ１は最終目的物（たとえば植物の成長抑制
作用を示す農薬、または抗炎症作用を示す医薬）として
有用な観点から選択するのが望ましい。
であるが、Ｒ１は最終目的物（たとえば植物の成長抑制
作用を示す農薬、または抗炎症作用を示す医薬）として
有用な観点から選択するのが望ましい。
式（Ｉ）、（Ｉ）′、（III）および（IV）中のＲ
２は、Ｃ１〜Ｃ11のアルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、シクロアルキル基、低級アルコキシア
ルキル基、任意に置換されてもよいフェニル基、核がハ
ロゲン原子、低級アルキル及び低級アルコキシ基の１〜
２個で置換されてもよいアラルキル基、ハロゲン化アル
キル基、５もしくは６員の異項環基を表わす。
２は、Ｃ１〜Ｃ11のアルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、シクロアルキル基、低級アルコキシア
ルキル基、任意に置換されてもよいフェニル基、核がハ
ロゲン原子、低級アルキル及び低級アルコキシ基の１〜
２個で置換されてもよいアラルキル基、ハロゲン化アル
キル基、５もしくは６員の異項環基を表わす。
低級アルケニル基及び低級アルキニル基には、ビニル、
アリル、イソプロペニル、２−ブテニル、１，３−ブタ
ジエニル、２−ペンテニル、１，４−ペンタジエニル、
１，６−ヘプタジエニル、１−ヘキセニル、エチニル、
２−プロピニルなとが含まれる。
アリル、イソプロペニル、２−ブテニル、１，３−ブタ
ジエニル、２−ペンテニル、１，４−ペンタジエニル、
１，６−ヘプタジエニル、１−ヘキセニル、エチニル、
２−プロピニルなとが含まれる。
シクロアルキル基には、シクロプロピル、シクロペンチ
ル又はシクロヘキシル基などが含まれる。
ル又はシクロヘキシル基などが含まれる。
ハロゲン化アルキル基には、トリフルオロメチル、クロ
ルメチル基などが含まれる。
ルメチル基などが含まれる。
低級アルコキシアルキル基には、メトキシメチル、エト
キシメチル、プロポキシメチル、ブトキシメチル基など
が含まれる。
キシメチル、プロポキシメチル、ブトキシメチル基など
が含まれる。
ハロゲン原子には塩素、臭素、ヨウ素又はフッ素原子が
挙げられる。
挙げられる。
低級アルキル基には、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチ
ル基が挙げられる。
プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチ
ル基が挙げられる。
低級アルコキシ基には、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ基が挙げられる。
シ、イソプロポキシ、ブトキシ基が挙げられる。
アラルキル基には、ベンジル、３−フェニルプロピル、
４−フェニルブチル基などが含まれる。
４−フェニルブチル基などが含まれる。
５もしくは６員の異項環基には、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子から選択されたヘテロ原子を１〜３個含有する
５もしくは６員の異項環基が含まれる。たとえば、フリ
ル、テトラヒドロフリル、チエニル、チアゾリル、イソ
チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ピラゾ
リルなどの５員環の基；ピリジル、ピリミジニル、ピラ
ジニル、ピリダジニルなどの６員環の基が挙げられる。
これらの基は、メチル又はエチルのようなアルキル基、
ハロゲン原子又は、フェニル基で置換されてもよい。フ
ェニル基で置換された場合、環内の２つの炭素原子と結
合して縮合環を形成してもよい。縮合環を形成した場合
の例としては、ベンゾチアゾリル、ベンゾフリル、キナ
ゾリニル、キノキサリニル基などが挙げられる。
硫黄原子から選択されたヘテロ原子を１〜３個含有する
５もしくは６員の異項環基が含まれる。たとえば、フリ
ル、テトラヒドロフリル、チエニル、チアゾリル、イソ
チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ピラゾ
リルなどの５員環の基；ピリジル、ピリミジニル、ピラ
ジニル、ピリダジニルなどの６員環の基が挙げられる。
これらの基は、メチル又はエチルのようなアルキル基、
ハロゲン原子又は、フェニル基で置換されてもよい。フ
ェニル基で置換された場合、環内の２つの炭素原子と結
合して縮合環を形成してもよい。縮合環を形成した場合
の例としては、ベンゾチアゾリル、ベンゾフリル、キナ
ゾリニル、キノキサリニル基などが挙げられる。
Ｒ３は、ジアルキルアミノ基を表わす。アルキル基は、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチルなど
のアルキル基を意味する。２つのアルキル基は、共に結
合して、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキ
シルのようなシクロアルキル基を形成してもよい。ま
た、２つのアルキル基は、それらが結合するアミノ基の
窒素原子および場合により他の異原子と共に、異項環基
を形成してもよい。このような異項環基の具体例として
は、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モル
ホリン環などが挙げられる。
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチルなど
のアルキル基を意味する。２つのアルキル基は、共に結
合して、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキ
シルのようなシクロアルキル基を形成してもよい。ま
た、２つのアルキル基は、それらが結合するアミノ基の
窒素原子および場合により他の異原子と共に、異項環基
を形成してもよい。このような異項環基の具体例として
は、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モル
ホリン環などが挙げられる。
一般式（Ｉ）または（Ｉ）′の中のｎは、０〜６の整数
を表わし、０の場合は（Ｉ）または（Ｉ）′の化合物の
分子内にヒドラジノ結合を形成する。
を表わし、０の場合は（Ｉ）または（Ｉ）′の化合物の
分子内にヒドラジノ結合を形成する。
一般式（Ｉ）または（Ｉ）′の化合物を形成するのに用
いる式（VI）の第１級アミン原料としては、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルヒドラジン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドラジン、Ｎ−
アミノピロリジン、Ｎ−アミノピペリジン、Ｎ−アミノ
モルホリン、１−アミノ−４−メチルピペラジン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエチ
レンジアミン、Ｎ−（２−アミノエチル）ピロリジン、
Ｎ−（２−アミノエチル）ピペリジン、Ｎ−（２−アミ
ノエチル）モルホリン、Ｎ−（３−アミノプロピル）モ
ルホリン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）モルホリンなど
が挙げられる。
いる式（VI）の第１級アミン原料としては、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルヒドラジン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドラジン、Ｎ−
アミノピロリジン、Ｎ−アミノピペリジン、Ｎ−アミノ
モルホリン、１−アミノ−４−メチルピペラジン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエチ
レンジアミン、Ｎ−（２−アミノエチル）ピロリジン、
Ｎ−（２−アミノエチル）ピペリジン、Ｎ−（２−アミ
ノエチル）モルホリン、Ｎ−（３−アミノプロピル）モ
ルホリン、Ｎ−（６−アミノヘキシル）モルホリンなど
が挙げられる。
一方、一般式（Ｉ）、（Ｉ）′ないし（III）で表わさ
れる化合物の反応相手としては、ジケテンあるいは一般
式（II）で表わされる６−メチル−４Ｈ−１，３−ジオ
キシン−４−オン化合物であり、後者はジケテンとケト
ンあるいはアルデヒドとの付加物で、従来既知の方法で
製造することができる〔エム．エフ．キャロル（Ｍ．
Ｆ．Carrol）、エイ．アール．バッダー（Ａ．Ｒ．Bade
r）、ジャーナル オブ アメリカン ケミカル ソサ
イアティ（Ｊ．Amer.Chem.Soc.),74、6305(1952);ibid.,
75、5400(1953);Ｅ．Ｖ．Dehmlow、Ａ．Ｒ．Shamout、Lieb
igs Ann.Chem.,1753(1982)参照〕。
れる化合物の反応相手としては、ジケテンあるいは一般
式（II）で表わされる６−メチル−４Ｈ−１，３−ジオ
キシン−４−オン化合物であり、後者はジケテンとケト
ンあるいはアルデヒドとの付加物で、従来既知の方法で
製造することができる〔エム．エフ．キャロル（Ｍ．
Ｆ．Carrol）、エイ．アール．バッダー（Ａ．Ｒ．Bade
r）、ジャーナル オブ アメリカン ケミカル ソサ
イアティ（Ｊ．Amer.Chem.Soc.),74、6305(1952);ibid.,
75、5400(1953);Ｅ．Ｖ．Dehmlow、Ａ．Ｒ．Shamout、Lieb
igs Ann.Chem.,1753(1982)参照〕。
一般式（II）におけるＲ４とＲ５は水素原子、アルキル
基あるいはフェニル基を意味し、またはＲ４とＲ５が共
にアルキル基のとき両者が結合してシクロアルキル基を
形成していてもよい。これらのＲ４とＲ５は、目的物に
導入されない基であり、入手容易で安価なものを選択利
用するのが望ましい。一般式（II）の好ましい化合物と
しては、２，２，６−トリメチル−４Ｈ−１，３−ジオ
キシン−４−オンが挙げられる。
基あるいはフェニル基を意味し、またはＲ４とＲ５が共
にアルキル基のとき両者が結合してシクロアルキル基を
形成していてもよい。これらのＲ４とＲ５は、目的物に
導入されない基であり、入手容易で安価なものを選択利
用するのが望ましい。一般式（II）の好ましい化合物と
しては、２，２，６−トリメチル−４Ｈ−１，３−ジオ
キシン−４−オンが挙げられる。
一般式（III）におけるＲ６のアルキル基としては、炭
素数１〜１１のアルキル基、アラルキル基としては、ベ
ンジル基、２−フェニルエチル基など、シクロアルキル
基としては炭素数３〜７のシクロアルキル基が含まれ、
また任意に置換されたアリールまたは異項環基はＲ１に
おける例示と同じものが含まれる。
素数１〜１１のアルキル基、アラルキル基としては、ベ
ンジル基、２−フェニルエチル基など、シクロアルキル
基としては炭素数３〜７のシクロアルキル基が含まれ、
また任意に置換されたアリールまたは異項環基はＲ１に
おける例示と同じものが含まれる。
第３級有機塩基としては、脂肪族もしくは芳香族第３級
アミンおよび窒素含有複素環塩基が含まれる。脂肪族第
３級アミンとしては、トリエチルアミン、トリプロピル
アミン、トリイソブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベン
ジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−１，３−プロパン
ジアミンなど、芳香族第３級アミンとしては、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ
−ジメチル−ｏ−トルイジンなど、窒素含有複素環塩基
としては、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルピペリジ
ン、Ｎ，Ｎ′−ジメチルピペラジン、Ｎ−メチルモルホ
リン、１，４−ジアザシクロ〔２．２．２〕オクタンな
どが挙げられる。
アミンおよび窒素含有複素環塩基が含まれる。脂肪族第
３級アミンとしては、トリエチルアミン、トリプロピル
アミン、トリイソブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベン
ジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−１，３−プロパン
ジアミンなど、芳香族第３級アミンとしては、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ
−ジメチル−ｏ−トルイジンなど、窒素含有複素環塩基
としては、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルピペリジ
ン、Ｎ，Ｎ′−ジメチルピペラジン、Ｎ−メチルモルホ
リン、１，４−ジアザシクロ〔２．２．２〕オクタンな
どが挙げられる。
この発明において一般式（II）で表わされる化合物を用
いて反応させる場合、無溶媒下に行なうことが可能であ
るが、より好ましくは例えばベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素系の溶媒中均一系として反応
を行なうことが推奨される。また反応温度の設定は、一
般式（II）で表わされる化合物の熱分解温度を目安とし
て、約100℃から、150℃の範囲で行なう。反応速度の点
からこの温度は110℃乃至140℃が特に望ましい範囲であ
る。
いて反応させる場合、無溶媒下に行なうことが可能であ
るが、より好ましくは例えばベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素系の溶媒中均一系として反応
を行なうことが推奨される。また反応温度の設定は、一
般式（II）で表わされる化合物の熱分解温度を目安とし
て、約100℃から、150℃の範囲で行なう。反応速度の点
からこの温度は110℃乃至140℃が特に望ましい範囲であ
る。
また一般式（II）で表わされる化合物の使用量は、一般
式（Ｉ）、（Ｉ）′あるいは（III）で表わされる化合
物に対して１当量以上用いることは当然であるが、好ま
しくは1.5〜3.0当量の範囲で好結果が得られる。一般式
（II）で表わされる化合物を用いる場合には、熱分解生
成物として式（VIII）で表わされるカルボニル化合物が
反応系中に発生する。この化合物の沸点が反応設定温度
より低い場合には、 反応中使用溶媒の一部と共に系外に留去しながら反応を
行なうことが有利である。従って反応は一般に使用溶媒
の還流温度で行なうことが好ましいといえる。
式（Ｉ）、（Ｉ）′あるいは（III）で表わされる化合
物に対して１当量以上用いることは当然であるが、好ま
しくは1.5〜3.0当量の範囲で好結果が得られる。一般式
（II）で表わされる化合物を用いる場合には、熱分解生
成物として式（VIII）で表わされるカルボニル化合物が
反応系中に発生する。この化合物の沸点が反応設定温度
より低い場合には、 反応中使用溶媒の一部と共に系外に留去しながら反応を
行なうことが有利である。従って反応は一般に使用溶媒
の還流温度で行なうことが好ましいといえる。
一方、この発明においてジケテンを用いて反応する場合
は、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素系の溶媒中均一系として反応を行なうことが好
ましく、反応温度は、約−20℃から130℃の範囲で行な
うことができる。この反応の上限温度はジケテンの沸点
によって制限を受けるものであり、加圧下に反応を行な
う場合にはこの限りではない。またジケテンは一般式
（Ｉ）（Ｉ）′あるいは（III）で表わされる化合物に
対して、１当量以上、好ましくは1.5〜3.0当量用いた場
合好結果が得られる。
は、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素系の溶媒中均一系として反応を行なうことが好
ましく、反応温度は、約−20℃から130℃の範囲で行な
うことができる。この反応の上限温度はジケテンの沸点
によって制限を受けるものであり、加圧下に反応を行な
う場合にはこの限りではない。またジケテンは一般式
（Ｉ）（Ｉ）′あるいは（III）で表わされる化合物に
対して、１当量以上、好ましくは1.5〜3.0当量用いた場
合好結果が得られる。
一般式（III）で表わされる化合物と、ジケテン又は、
（II）との反応の際使用する第３級有機塩基の使用量
は、一般式（III）の化合物に対して、0.5当量以上、好
ましくは１当量以上用いた場合に好結果が得られる。10
当量以上用いてもより大きな効果は得られない。第３級
有機塩基は上記に例示したものから適宜選択利用すれば
よいが、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テト
ラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリ
ン、Ｎ−メチルピペリジンなどの使用が望ましい。
（II）との反応の際使用する第３級有機塩基の使用量
は、一般式（III）の化合物に対して、0.5当量以上、好
ましくは１当量以上用いた場合に好結果が得られる。10
当量以上用いてもより大きな効果は得られない。第３級
有機塩基は上記に例示したものから適宜選択利用すれば
よいが、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テト
ラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリ
ン、Ｎ−メチルピペリジンなどの使用が望ましい。
（発明の効果） この発明の方法によると、従来選択的な合成が不可能で
あった４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド
化合物が、入手しやすい原料を用い、簡単な操作によっ
て、収率よく得ることができるようになった。
あった４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド
化合物が、入手しやすい原料を用い、簡単な操作によっ
て、収率よく得ることができるようになった。
以下実施例によって、この発明をさらに具体的に説明す
る。
る。
実施例１． Ｎ−（２，６−ジエチルフェニル）−２，６−ジメチル
−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ２，６−ジエチルアセトアセトアニリド23.3g(100mmo
l)、Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラジン12.0g(200mmol）およ
びトルエン125ｍの混合物を60℃で８時間加熱攪拌し
た後、反応混合物を昇温して未反応のＮ，Ｎ−ジメチル
ヒドラジンおよび生成した水を常圧にて約20ｍのトル
エンと共に系外に留去し、さらに反応混合物を減圧下ロ
ータリーエバポレーターを用いて乾固まで溶媒を除去し
た。得られた固体残渣をヘキサンを用いて常法に従って
晶析するとＮ−（２，６−ジチエルフェニル）−３−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラゾノ）酪酸アミドが融点107
〜108.5℃の無色結晶として得られた。収量25.6g、収率
93％であった。
−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ２，６−ジエチルアセトアセトアニリド23.3g(100mmo
l)、Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラジン12.0g(200mmol）およ
びトルエン125ｍの混合物を60℃で８時間加熱攪拌し
た後、反応混合物を昇温して未反応のＮ，Ｎ−ジメチル
ヒドラジンおよび生成した水を常圧にて約20ｍのトル
エンと共に系外に留去し、さらに反応混合物を減圧下ロ
ータリーエバポレーターを用いて乾固まで溶媒を除去し
た。得られた固体残渣をヘキサンを用いて常法に従って
晶析するとＮ−（２，６−ジチエルフェニル）−３−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラゾノ）酪酸アミドが融点107
〜108.5℃の無色結晶として得られた。収量25.6g、収率
93％であった。
ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1642cm-1、ＮＭＲ
（ＣＤＣ３）δ値：1.16（ｔ，６Ｈ）、2.10（ｓ，３
Ｈ）、2.48（ｓ，６Ｈ）、2.55（ｑ，４Ｈ）、3.33
（ｓ）および3.52（ｓ）、積分比約１：１（計２Ｈ）、
6.85−7.35（ｍ，３Ｈ）、8.20−9.10（１Ｈ）。
（ＣＤＣ３）δ値：1.16（ｔ，６Ｈ）、2.10（ｓ，３
Ｈ）、2.48（ｓ，６Ｈ）、2.55（ｑ，４Ｈ）、3.33
（ｓ）および3.52（ｓ）、積分比約１：１（計２Ｈ）、
6.85−7.35（ｍ，３Ｈ）、8.20−9.10（１Ｈ）。
Ｎ−（２，６−ジエチルフェニル）−３−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルヒドラゾノ）酪酸アミド25.0g(90.8mmol）とトル
エン130ｍとの混合物を加熱還流させながら、２，
２，６−トリメチル−４Ｈ−１，３−ジオキシン−４−
オン28.4g(200mmol)のトルエン（70ｍ）溶液を30分間
かけて滴下し、さらに２時間加熱還流を続けた。溶媒を
留去した残渣にエーテル200ｍを加え、よく攪拌した
後不溶の残渣を濾別した。濾液を濃縮した残渣をシルカ
ゲルを用いたカラムクロマトグラフィーによって処理
し、極性不純物を除いた後ヘキサンから再結晶操作を行
なうと、題記化合物20.2g（収率74％）を得た。
メチルヒドラゾノ）酪酸アミド25.0g(90.8mmol）とトル
エン130ｍとの混合物を加熱還流させながら、２，
２，６−トリメチル−４Ｈ−１，３−ジオキシン−４−
オン28.4g(200mmol)のトルエン（70ｍ）溶液を30分間
かけて滴下し、さらに２時間加熱還流を続けた。溶媒を
留去した残渣にエーテル200ｍを加え、よく攪拌した
後不溶の残渣を濾別した。濾液を濃縮した残渣をシルカ
ゲルを用いたカラムクロマトグラフィーによって処理
し、極性不純物を除いた後ヘキサンから再結晶操作を行
なうと、題記化合物20.2g（収率74％）を得た。
融点：83.5〜84.5℃ ＩＲ：（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1655、1675cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣ３）δ値：1.17（ｔ，６Ｈ）、2.29
（ｓ，３Ｈ）、2.61（ｑ，４Ｈ）、2.80（ｓ，３Ｈ）、
6.24（ｓ，１Ｈ）、7.08（ｓ，３Ｈ）、11.0(br.，１
Ｈ）。
（ｓ，３Ｈ）、2.61（ｑ，４Ｈ）、2.80（ｓ，３Ｈ）、
6.24（ｓ，１Ｈ）、7.08（ｓ，３Ｈ）、11.0(br.，１
Ｈ）。
実施例２． ２，６−ジメチル−Ｎ−（２，３−ジメチルフェニル）
−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド Ｎ−（２，３−ジメチルフェニル）−３−オキソ−酪酸
アミド10.3g(50mmol)、Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラジン4.5
0g(75mmol)およびトルエン60ｍの混合物を60℃で８時
間攪拌下に加熱した。その後加熱昇温し、未反応のＮ，
Ｎ−ジメチルヒドラジンおよび生成した水をトルエン約
10ｍと共に系外に留去し、引き続き残渣液を還流下に
保ちながら、ジケテン10.5g(125mmol)を５分間かけて滴
下した。さらに２時間加熱還流を続けた後、反応混合物
を室温まで放冷し、生成した結晶を常法に従って瀘過、
洗浄、乾燥すると、題記化合物8.63g（収率64％）が得
られた。
−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド Ｎ−（２，３−ジメチルフェニル）−３−オキソ−酪酸
アミド10.3g(50mmol)、Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラジン4.5
0g(75mmol)およびトルエン60ｍの混合物を60℃で８時
間攪拌下に加熱した。その後加熱昇温し、未反応のＮ，
Ｎ−ジメチルヒドラジンおよび生成した水をトルエン約
10ｍと共に系外に留去し、引き続き残渣液を還流下に
保ちながら、ジケテン10.5g(125mmol)を５分間かけて滴
下した。さらに２時間加熱還流を続けた後、反応混合物
を室温まで放冷し、生成した結晶を常法に従って瀘過、
洗浄、乾燥すると、題記化合物8.63g（収率64％）が得
られた。
融点：174.5〜175.5℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1645、1675cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：2.28（ｓ，９Ｈ）、2.83
（ｓ，３Ｈ）、6.23（ｓ，１Ｈ）、6.70〜8.00（ｍ，３
Ｈ）、11.66(br.,１Ｈ）。
（ｓ，３Ｈ）、6.23（ｓ，１Ｈ）、6.70〜8.00（ｍ，３
Ｈ）、11.66(br.,１Ｈ）。
実施例３． Ｎ−（２，６−ジメトキシピリミジン−４−イル）−
２，６−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カ
ルボキサミド Ｎ−（２，６−ジメトキシピリミジン−４−イル）−３
−オキソ−酪酸アミド(m.p.107〜109℃）4.78g(20mmo
l)、Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラジン1.20g(20mmol)および
トルエン30ｍの混合物に酢酸１滴を加え、80℃で２時
間加熱攪拌した後、昇温し未反応のＮ，Ｎ−ジメチルヒ
ドラジンおよび生成した水をトルエン約10ｍと共に系
外に留出した。反応混合物を還流下に保ちながら、ジケ
テン3.40g(40mmol)を添加し、さらに２時間還流を続け
た後、室温に放置した。生成した結晶を常法に従って瀘
過、洗浄、乾燥すると、題記化合物5.87g（収率96％）
が得られた。
２，６−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カ
ルボキサミド Ｎ−（２，６−ジメトキシピリミジン−４−イル）−３
−オキソ−酪酸アミド(m.p.107〜109℃）4.78g(20mmo
l)、Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラジン1.20g(20mmol)および
トルエン30ｍの混合物に酢酸１滴を加え、80℃で２時
間加熱攪拌した後、昇温し未反応のＮ，Ｎ−ジメチルヒ
ドラジンおよび生成した水をトルエン約10ｍと共に系
外に留出した。反応混合物を還流下に保ちながら、ジケ
テン3.40g(40mmol)を添加し、さらに２時間還流を続け
た後、室温に放置した。生成した結晶を常法に従って瀘
過、洗浄、乾燥すると、題記化合物5.87g（収率96％）
が得られた。
融点：202〜203.5℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1653、1700cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：2.28（ｓ，３Ｈ）、2.78
（ｓ，３Ｈ）、3.91（ｓ，６Ｈ）、6.20（ｓ，１Ｈ）、
7.17（ｓ，１Ｈ）、12.25(br.,１Ｈ）。
（ｓ，３Ｈ）、3.91（ｓ，６Ｈ）、6.20（ｓ，１Ｈ）、
7.17（ｓ，１Ｈ）、12.25(br.,１Ｈ）。
実施例４． ２，６−ジメチル−Ｎ−（５−メチル−１，３，４−チ
アジアゾール−２−イル）−４−オキソ−４Ｈ−ピラン
−３−カルボキサミド 出発原料としてＮ−（５−メチル−１，３，４−チアジ
アゾール−２−イル）−３−オキソ−酪酸アミド（m.p.
181〜182℃）を用い、実施例３と同様の操作に従って反
応を行ない、題記化合物を58％の収率で得た。
アジアゾール−２−イル）−４−オキソ−４Ｈ−ピラン
−３−カルボキサミド 出発原料としてＮ−（５−メチル−１，３，４−チアジ
アゾール−２−イル）−３−オキソ−酪酸アミド（m.p.
181〜182℃）を用い、実施例３と同様の操作に従って反
応を行ない、題記化合物を58％の収率で得た。
融点：203〜204℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1655、1690cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：2.33（ｓ，３Ｈ）、2.68
（ｓ，３Ｈ）、2.85（ｓ，３Ｈ）、6.27（ｓ，１Ｈ）、
12.50〜14.50（br.,１Ｈ） 実施例５． Ｎ−（２−クロロフェニル）−２，６−ジメチル−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ｏ−クロロアセトアセトアニリド4.23g(20mmol)１−
（２−アミノエチル）ピロリジン2.28g(20mmol)および
トルエン20ｍの混合物に酢酸１滴を加え、80℃で１時
間加熱攪拌した後、１時間還流下に保ち、その間に生成
した水をトルエン約10ｍと共に留去した。この反応混
合物に、引き続き２−エチル−２，６−ジメチル−４Ｈ
−１，３−ジオキシン−４−オン7.81g(50mmol)のトル
エン（25m）溶液を15分間かけて滴下し、さらに2.5時
間加熱還流を続け、その間にトルエン約12ｍを留出さ
せた。反応混合物を室温まで放冷し、生じた結晶を濾別
洗浄し減圧下に乾燥すると題記化合物4.53g（収率82
％）が得られた。融点：206〜207℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1650、1695cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：2.28（ｓ，３Ｈ）、2.83
（ｓ，３Ｈ）、6.24（ｓ，１Ｈ）、6.70〜8.60（ｍ，４
Ｈ）、12.42（br.,１Ｈ）。
（ｓ，３Ｈ）、2.85（ｓ，３Ｈ）、6.27（ｓ，１Ｈ）、
12.50〜14.50（br.,１Ｈ） 実施例５． Ｎ−（２−クロロフェニル）−２，６−ジメチル−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ｏ−クロロアセトアセトアニリド4.23g(20mmol)１−
（２−アミノエチル）ピロリジン2.28g(20mmol)および
トルエン20ｍの混合物に酢酸１滴を加え、80℃で１時
間加熱攪拌した後、１時間還流下に保ち、その間に生成
した水をトルエン約10ｍと共に留去した。この反応混
合物に、引き続き２−エチル−２，６−ジメチル−４Ｈ
−１，３−ジオキシン−４−オン7.81g(50mmol)のトル
エン（25m）溶液を15分間かけて滴下し、さらに2.5時
間加熱還流を続け、その間にトルエン約12ｍを留出さ
せた。反応混合物を室温まで放冷し、生じた結晶を濾別
洗浄し減圧下に乾燥すると題記化合物4.53g（収率82
％）が得られた。融点：206〜207℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1650、1695cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：2.28（ｓ，３Ｈ）、2.83
（ｓ，３Ｈ）、6.24（ｓ，１Ｈ）、6.70〜8.60（ｍ，４
Ｈ）、12.42（br.,１Ｈ）。
実施例６． ２，６−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−４Ｈ−
ピラン−３−カルボキサミド アセトアセトアニリド3.54g(20mmol)、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルエチレンジアミン1.76g(20mmol)およびトルエン20ｍ
の混合物に酢酸１滴を加え、80℃で１時間攪拌した
後、１時間加熱還流し、その間に生成した水をトルエン
約12ｍと共に留出させた。２，２，６−トリメチル−
４Ｈ−１，３−ジオキサン−４−オン7.10g(50mmol)の
トルエン（25ｍ）溶液を30分間かけて滴下し、さらに
１時間加熱還流を続け、トルエン約12ｍを留出させ
た。反応混合物を室温で放置し、生じた結晶を濾別洗浄
し、減圧下に乾燥すると題記化合物2.51g（収率52％）
が得られた。
ピラン−３−カルボキサミド アセトアセトアニリド3.54g(20mmol)、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルエチレンジアミン1.76g(20mmol)およびトルエン20ｍ
の混合物に酢酸１滴を加え、80℃で１時間攪拌した
後、１時間加熱還流し、その間に生成した水をトルエン
約12ｍと共に留出させた。２，２，６−トリメチル−
４Ｈ−１，３−ジオキサン−４−オン7.10g(50mmol)の
トルエン（25ｍ）溶液を30分間かけて滴下し、さらに
１時間加熱還流を続け、トルエン約12ｍを留出させ
た。反応混合物を室温で放置し、生じた結晶を濾別洗浄
し、減圧下に乾燥すると題記化合物2.51g（収率52％）
が得られた。
融点：148.5〜149℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1652、1682cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：2.24（ｓ，３Ｈ）、2.82
（ｓ，３Ｈ）、6.20（ｓ，１Ｈ）、6.80〜7.80（ｍ，５
Ｈ）、11.97（br.,１Ｈ）。
（ｓ，３Ｈ）、6.20（ｓ，１Ｈ）、6.80〜7.80（ｍ，５
Ｈ）、11.97（br.,１Ｈ）。
実施例７〜１３． 実施例２の反応例にならって、各々対応するβ−ケトア
ミド誘導体を出発物質として反応することによって、次
の化合物を得た。
ミド誘導体を出発物質として反応することによって、次
の化合物を得た。
Ｎ−（４−クロロフェニル）−２，６−ジメチル−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（実施例
７）、 Ｎ−（２，６−ジクロロフェニル）−２，６−ジメチル
−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（実
施例８）、 Ｎ−（２−クロロ−６−メチルフェニル）−２，６−ジ
メチル−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミ
ド（実施例９）、 ２，６−ジメチル−Ｎ−（２−メチルフェニル）−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（実施例1
0）、 ２，６−ジメチル−Ｎ−（２，６−ジメチルフェニル）
−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（実
施例11）、 Ｎ−（２−エチル−６−メチルフェニル）−２，６−ジ
メチル−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミ
ド（実施例12）、 ２−エチル−６−メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−
４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（実施例13）、 以上の実施例化合物の物性値は表１にまとめて記した。
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（実施例
７）、 Ｎ−（２，６−ジクロロフェニル）−２，６−ジメチル
−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（実
施例８）、 Ｎ−（２−クロロ−６−メチルフェニル）−２，６−ジ
メチル−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミ
ド（実施例９）、 ２，６−ジメチル−Ｎ−（２−メチルフェニル）−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（実施例1
0）、 ２，６−ジメチル−Ｎ−（２，６−ジメチルフェニル）
−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（実
施例11）、 Ｎ−（２−エチル−６−メチルフェニル）−２，６−ジ
メチル−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミ
ド（実施例12）、 ２−エチル−６−メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−
４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（実施例13）、 以上の実施例化合物の物性値は表１にまとめて記した。
実施例１４． ６−メチル−４−オキソ−Ｎ，２−ジフェニル−４Ｈ−
ピラン−３−カルボキサミド 出発原料としてα−ベンゾイルアセトアニリドを用い
て、実施例６と同様の操作に従って、反応を行ない、題
記化合物を43％の収率で得た。
ピラン−３−カルボキサミド 出発原料としてα−ベンゾイルアセトアニリドを用い
て、実施例６と同様の操作に従って、反応を行ない、題
記化合物を43％の収率で得た。
融点：222〜226℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：1607,1655,1675cm-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ値：2.36(s,３Ｈ）、6.28
(s,１Ｈ）、6.80−7.80(m,10Ｈ）、10.23（１Ｈ,br） 実施例１５． ６−メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−２−プロピル
−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ３−オキソ−Ｎ−フェニルヘキサン酸アミド（融点77.0
〜78.5℃）2.05g(10mmol)、Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラジ
ン0.9g(15mmol)およびトルエン15ｍの混合物を60℃で
８時間攪拌下に加熱した。その後加熱昇温し、未反応の
Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラジンおよび生成した水をトルエ
ン約２ｍと共に系外に留去し、引き続き残渣液を還流
下に保ちながら、２−エチル−２，６−ジメチル−４Ｈ
−１，３−ジオキシン−４−オン3.90g(25mmol)のトル
エン（８ｍ）溶液を30分間かけて滴下し、さらに2.5
時間加熱還流を続け、その間にトルエンを約３ｍ留去
させた。反応混合物を室温まで放冷し、生じた結晶を濾
別洗浄し減圧下に乾燥すると題記化合物1.32g（収率49
％）が得られた。
(s,１Ｈ）、6.80−7.80(m,10Ｈ）、10.23（１Ｈ,br） 実施例１５． ６−メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−２−プロピル
−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ３−オキソ−Ｎ−フェニルヘキサン酸アミド（融点77.0
〜78.5℃）2.05g(10mmol)、Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラジ
ン0.9g(15mmol)およびトルエン15ｍの混合物を60℃で
８時間攪拌下に加熱した。その後加熱昇温し、未反応の
Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラジンおよび生成した水をトルエ
ン約２ｍと共に系外に留去し、引き続き残渣液を還流
下に保ちながら、２−エチル−２，６−ジメチル−４Ｈ
−１，３−ジオキシン−４−オン3.90g(25mmol)のトル
エン（８ｍ）溶液を30分間かけて滴下し、さらに2.5
時間加熱還流を続け、その間にトルエンを約３ｍ留去
させた。反応混合物を室温まで放冷し、生じた結晶を濾
別洗浄し減圧下に乾燥すると題記化合物1.32g（収率49
％）が得られた。
融点：133.0〜134.0℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1657,1697cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣ３）δ値：1.02(t,３Ｈ）、1.75(six,
２Ｈ）、2.38（ｓ，３Ｈ）、6.18（ｓ，１Ｈ）、6.90−
7.70（ｍ，５Ｈ）、11.92（br,１Ｈ） 実施例１６． ２−エチル−６−メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−
４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 出発原料として３−オキソ−Ｎ−フェニル吉草酸アミド
（融点84.0〜85.5℃）を用いて２−エチル−２，６−ジ
メチル−４Ｈ−１，３−ジオキシ−４−オンのかわりに
２，２，６−トリメチル−４Ｈ−１，３−ジオキシン−
４−オンを用いること以外は実施例１５に従って反応を
行ない題記化合物を49％の収率で得た。
２Ｈ）、2.38（ｓ，３Ｈ）、6.18（ｓ，１Ｈ）、6.90−
7.70（ｍ，５Ｈ）、11.92（br,１Ｈ） 実施例１６． ２−エチル−６−メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−
４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 出発原料として３−オキソ−Ｎ−フェニル吉草酸アミド
（融点84.0〜85.5℃）を用いて２−エチル−２，６−ジ
メチル−４Ｈ−１，３−ジオキシ−４−オンのかわりに
２，２，６−トリメチル−４Ｈ−１，３−ジオキシン−
４−オンを用いること以外は実施例１５に従って反応を
行ない題記化合物を49％の収率で得た。
融点：154.5〜156℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1650,1700cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣ３）δ値：1.31（ｔ，３Ｈ）、2.27
（ｓ，３Ｈ）、3.28（ｑ，２Ｈ）、6.18（ｓ，１Ｈ）、
6.90−7.70（ｍ，５Ｈ）、11.90（br.,１Ｈ） 実施例１７． ６−メチル−Ｎ−（２，３−ジメチルフェニル）−４−
オキソ−２−プロピル−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサ
ミド 出発原料としてＮ−（２，３−ジメチルフェニル）−３
−オキソ−ヘキサン酸アミド（融点59.5〜60.5℃）を用
いて実施例１５と同様の操作に従って反応を行ない題記
化合物を51％の収率で得た。
（ｓ，３Ｈ）、3.28（ｑ，２Ｈ）、6.18（ｓ，１Ｈ）、
6.90−7.70（ｍ，５Ｈ）、11.90（br.,１Ｈ） 実施例１７． ６−メチル−Ｎ−（２，３−ジメチルフェニル）−４−
オキソ−２−プロピル−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサ
ミド 出発原料としてＮ−（２，３−ジメチルフェニル）−３
−オキソ−ヘキサン酸アミド（融点59.5〜60.5℃）を用
いて実施例１５と同様の操作に従って反応を行ない題記
化合物を51％の収率で得た。
融点：133〜135℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：1620,1660,1695cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣ３）δ値：1.02（ｔ，３Ｈ）、1.68
（six，２Ｈ）、2.25（ｓ，３Ｈ）、2.29（ｓ，６
Ｈ）、3.26（ｔ，２Ｈ）、6.21（ｓ，１Ｈ）、6.85−7.
80（ｍ，３Ｈ）、11.60（br.,１Ｈ） 実施例１８〜２１． 各々に対応するβ−ケトアミド誘導体を出発原料とし、
２−エチル−２，６−ジメチル−４Ｈ−１，３−ジオキ
シン−４−オンの代わりに、２，２，６−トリメチル−
４Ｈ−１，３−ジオキシン−４−オンを用いること以外
は、実施例５に従って反応を行ない次の化合物を得た。
（six，２Ｈ）、2.25（ｓ，３Ｈ）、2.29（ｓ，６
Ｈ）、3.26（ｔ，２Ｈ）、6.21（ｓ，１Ｈ）、6.85−7.
80（ｍ，３Ｈ）、11.60（br.,１Ｈ） 実施例１８〜２１． 各々に対応するβ−ケトアミド誘導体を出発原料とし、
２−エチル−２，６−ジメチル−４Ｈ−１，３−ジオキ
シン−４−オンの代わりに、２，２，６−トリメチル−
４Ｈ−１，３−ジオキシン−４−オンを用いること以外
は、実施例５に従って反応を行ない次の化合物を得た。
２−エチル−６−メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−
４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（実施例18）収率73
％ Ｎ−（２−クロロフェニル）−６−メチル−４−オキソ
−２−フェニル−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド
（実施例19）収率27％ 融点：168〜170℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1655,1700cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣ３）δ値：2.34（ｓ，３Ｈ）、6.31
（ｓ，１Ｈ）、6.80−8.32（ｍ，９Ｈ）、10.23（br.,
１Ｈ） ６−メチル−Ｎ−（２，３−ジメチルフェニル）−４−
オキソ−２−フェニル−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサ
ミド（実施例20）収率40％ 融点：164〜166℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1655,1697cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣ３）δ値：2.24（ｓ，６Ｈ）、2.31
（ｓ，３Ｈ）、6.23（ｓ，１Ｈ）、6.70−7.65（ｍ，８
Ｈ）、10.47（br.,１Ｈ） ６−メチル−４−オキソ−Ｎ，２−ジフェニル−４Ｈ−
ピラン−３−カルボキサミド（実施例21）収率68％ 実施例２２． Ｎ−（２，６−ジエチルフェニル）−６−メチル−４−
オキソ−２−フェニル−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサ
ミド 出発原料としてＮ−（２，６−ジエチルフェニル）−３
−オキソ−３−フェニルプロピオン酸アミドを用いて実
施例１８〜２１の方法に従い反応を行ない、反応終了
後、反応液を濃縮し、得られた残渣をカラムクロマトグ
ラフィーに付して、題記化合物を41％の収率で得た。
４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（実施例18）収率73
％ Ｎ−（２−クロロフェニル）−６−メチル−４−オキソ
−２−フェニル−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド
（実施例19）収率27％ 融点：168〜170℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1655,1700cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣ３）δ値：2.34（ｓ，３Ｈ）、6.31
（ｓ，１Ｈ）、6.80−8.32（ｍ，９Ｈ）、10.23（br.,
１Ｈ） ６−メチル−Ｎ−（２，３−ジメチルフェニル）−４−
オキソ−２−フェニル−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサ
ミド（実施例20）収率40％ 融点：164〜166℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1655,1697cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣ３）δ値：2.24（ｓ，６Ｈ）、2.31
（ｓ，３Ｈ）、6.23（ｓ，１Ｈ）、6.70−7.65（ｍ，８
Ｈ）、10.47（br.,１Ｈ） ６−メチル−４−オキソ−Ｎ，２−ジフェニル−４Ｈ−
ピラン−３−カルボキサミド（実施例21）収率68％ 実施例２２． Ｎ−（２，６−ジエチルフェニル）−６−メチル−４−
オキソ−２−フェニル−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサ
ミド 出発原料としてＮ−（２，６−ジエチルフェニル）−３
−オキソ−３−フェニルプロピオン酸アミドを用いて実
施例１８〜２１の方法に従い反応を行ない、反応終了
後、反応液を濃縮し、得られた残渣をカラムクロマトグ
ラフィーに付して、題記化合物を41％の収率で得た。
融点：186〜189℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：1603,1623,1647,1663cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣ３）δ値：1.16（ｔ，６Ｈ）、2.32
（ｓ，３Ｈ）、2.58（ｑ，４Ｈ）、6.27（ｓ，１Ｈ）、
7.00−7.50（ｍ，８Ｈ）、9.87（br.,１Ｈ） 実施例２３． ６−メチル−４−オキソ−２−ペンチル−Ｎ−フェニル
−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 出発原料として、３−オキソ−Ｎ−フェニルオクタン酸
アミド（融点83.0〜84.0℃）を用いて、実施例１５に従
って反応を行ない、反応終了後反応液を分液ロートに移
し、６Ｎ塩酸で洗浄し次いで水洗し、常法に従って有機
層を乾燥濃縮し、得られた結晶性残渣を、酢酸エチル、
ヘキサンの混液から再結晶して題記化合物を収率50％で
得た。
（ｓ，３Ｈ）、2.58（ｑ，４Ｈ）、6.27（ｓ，１Ｈ）、
7.00−7.50（ｍ，８Ｈ）、9.87（br.,１Ｈ） 実施例２３． ６−メチル−４−オキソ−２−ペンチル−Ｎ−フェニル
−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 出発原料として、３−オキソ−Ｎ−フェニルオクタン酸
アミド（融点83.0〜84.0℃）を用いて、実施例１５に従
って反応を行ない、反応終了後反応液を分液ロートに移
し、６Ｎ塩酸で洗浄し次いで水洗し、常法に従って有機
層を乾燥濃縮し、得られた結晶性残渣を、酢酸エチル、
ヘキサンの混液から再結晶して題記化合物を収率50％で
得た。
融点：93.5〜94.5℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1655,1705cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣ３）δ値：0.70-2.00（ｍ，９Ｈ）、
2.24（ｓ，３Ｈ）、3.20（ｔ，２Ｈ）、6.16（ｓ，１
Ｈ）、6.90-7.70（ｍ，５Ｈ）、11.86（br.,１Ｈ） 実施例２４〜２５． 実施例２３の反応例にならって各々対応するβ−ケトア
ミド誘導体を出発原料として反応することによって次の
化合物を得た。
2.24（ｓ，３Ｈ）、3.20（ｔ，２Ｈ）、6.16（ｓ，１
Ｈ）、6.90-7.70（ｍ，５Ｈ）、11.86（br.,１Ｈ） 実施例２４〜２５． 実施例２３の反応例にならって各々対応するβ−ケトア
ミド誘導体を出発原料として反応することによって次の
化合物を得た。
２−ブチル−６−メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−
４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（実施例24）収率43
％ 融点：99.5〜101.0℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1657,1707cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣ３）δ値：0.70-2.00（ｍ，７Ｈ）、
2.28（ｓ，３Ｈ）、3.27（ｔ，２Ｈ）、6.19（ｓ，１
Ｈ）、6.90-7.70（ｍ，５Ｈ）、11.90（br.,１Ｈ） ６−メチル−Ｎ−（２−メチルフェニル）−４−オキソ
−２−プロピル−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド
（実施例25） 収率45％ 融点：118.5〜120.5℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：1620,1657,1697cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣ３）δ値：1.00（ｔ，３Ｈ）、1.75
（six,２Ｈ）、2.28（ｓ，３Ｈ）、2.36（ｓ，３Ｈ）、
3.23（ｔ，２Ｈ）、6.16（ｓ，１Ｈ）、6.80-8.10
（ｍ，４Ｈ）、11.76（br.,１Ｈ） 実施例２６． Ｎ−（２−クロロフェニル）−２，６−ジメチル−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ｏ−クロロアセトアセトアニリド4.23g(20mmol)、ブチ
ルアミン1.46g(20mmol)およびトルエン20ｍの混合物
に酢酸１滴を加え、60℃で1.5時間加熱攪拌した後、30
分間還流下に保ち、その間に生成した水をトルエン約10
ｍと共に留去した。この反応混合物に、Ｎ，Ｎ，
Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン4.65g(40mm
ol)を加えた後、還流下に２，２，６−トリメチル−４
Ｈ−１，３−ジオキシン−４−オン7.10g(50mmol)のト
ルエン（18ｍ）溶液を30分間かけて滴下し、さらに1.
5時間加熱還流を続けた。反応混合物から、溶媒を約12
ｍ留去した後、室温まで放冷し、生じた結晶を濾別、
洗浄し減圧下に乾燥すると題記化合物4.05g（収率73
％）が得られた。
４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（実施例24）収率43
％ 融点：99.5〜101.0℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：νｃ＝ｏ1657,1707cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣ３）δ値：0.70-2.00（ｍ，７Ｈ）、
2.28（ｓ，３Ｈ）、3.27（ｔ，２Ｈ）、6.19（ｓ，１
Ｈ）、6.90-7.70（ｍ，５Ｈ）、11.90（br.,１Ｈ） ６−メチル−Ｎ−（２−メチルフェニル）−４−オキソ
−２−プロピル−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド
（実施例25） 収率45％ 融点：118.5〜120.5℃ ＩＲ（ＫＢｒディスク）：1620,1657,1697cm-1 ＮＭＲ（ＣＤＣ３）δ値：1.00（ｔ，３Ｈ）、1.75
（six,２Ｈ）、2.28（ｓ，３Ｈ）、2.36（ｓ，３Ｈ）、
3.23（ｔ，２Ｈ）、6.16（ｓ，１Ｈ）、6.80-8.10
（ｍ，４Ｈ）、11.76（br.,１Ｈ） 実施例２６． Ｎ−（２−クロロフェニル）−２，６−ジメチル−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ｏ−クロロアセトアセトアニリド4.23g(20mmol)、ブチ
ルアミン1.46g(20mmol)およびトルエン20ｍの混合物
に酢酸１滴を加え、60℃で1.5時間加熱攪拌した後、30
分間還流下に保ち、その間に生成した水をトルエン約10
ｍと共に留去した。この反応混合物に、Ｎ，Ｎ，
Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン4.65g(40mm
ol)を加えた後、還流下に２，２，６−トリメチル−４
Ｈ−１，３−ジオキシン−４−オン7.10g(50mmol)のト
ルエン（18ｍ）溶液を30分間かけて滴下し、さらに1.
5時間加熱還流を続けた。反応混合物から、溶媒を約12
ｍ留去した後、室温まで放冷し、生じた結晶を濾別、
洗浄し減圧下に乾燥すると題記化合物4.05g（収率73
％）が得られた。
融点：206−207℃（＊文献値201−204℃） ＩＲ(KBrディスク）：νｃ＝ｏ1650,1695cm-1 ＮＭＲ(CDCl3)δ値：2.28(S,3H),2.83(S,3H),6.24(S,1
H),6.70-8.60(m,4H),12.42(br,1H)。
H),6.70-8.60(m,4H),12.42(br,1H)。
＊ J.Org.Chem.,29,3555(1964)。
実施例２７． ２，６−ジメチル−Ｎ−（２−メチルフェニル）−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ｏ−メチルアセトアセトアニリド3.82g(20mmol)、ブチ
ルアミン1.46g(20mmol)およびトルエン20mの混合物に
酢酸１滴を加え、60℃で1.5時間加熱攪拌した後、30分
間還流下に保ち、その間に、生成した水をトルエン約10
mと共に留去した。この反応混合物に、Ｎ，Ｎ，
Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン9.30g(80mm
ol)を加えた後、還流下に２，２，６−トリメチル−４
Ｈ−１，３−ジオキシン−４−オン7.10g(50mmol)のト
ルエン（18ｍ）溶液を30分間かけて滴下し、さらに1.
5時間加熱還流を続けた。反応混合物から溶媒を約12ｍ
留去した後、室温まで放冷し、生じた結晶を濾別洗浄
し減圧下に乾燥すると、題記化合物2.63g（収率51％）
が得られた。
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ｏ−メチルアセトアセトアニリド3.82g(20mmol)、ブチ
ルアミン1.46g(20mmol)およびトルエン20mの混合物に
酢酸１滴を加え、60℃で1.5時間加熱攪拌した後、30分
間還流下に保ち、その間に、生成した水をトルエン約10
mと共に留去した。この反応混合物に、Ｎ，Ｎ，
Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン9.30g(80mm
ol)を加えた後、還流下に２，２，６−トリメチル−４
Ｈ−１，３−ジオキシン−４−オン7.10g(50mmol)のト
ルエン（18ｍ）溶液を30分間かけて滴下し、さらに1.
5時間加熱還流を続けた。反応混合物から溶媒を約12ｍ
留去した後、室温まで放冷し、生じた結晶を濾別洗浄
し減圧下に乾燥すると、題記化合物2.63g（収率51％）
が得られた。
融点：165−166℃（＊文献値159℃） ＩＲ(KBrディスク）：νｃ＝ｏ1652,1690cm-1 ＮＭＲ(CDCl3)δ値：2.26(S,3H),2.37(S,3H),2.84(S,3
H),6.20(S,1H),6.75-8.25(m,4H),11.80(br,1H)。
H),6.20(S,1H),6.75-8.25(m,4H),11.80(br,1H)。
＊ 特公昭４５−３１６６３。
実施例２８． ２，６−ジメチル−Ｎ−（４−ニトロフェニル）−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 出発原料としてｐ−ニトロアセトアセトアニリドを用
い、実施例２と同様の操作に従って反応を行い、題記化
合物を4.95g（収率86％）得た。
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 出発原料としてｐ−ニトロアセトアセトアニリドを用
い、実施例２と同様の操作に従って反応を行い、題記化
合物を4.95g（収率86％）得た。
融点：229−231℃（＊文献値223-225℃） ＩＲ(KBrディスク）：νｃ＝ｏ1652,1698cm-1 ＮＭＲ(CDCl3)δ値：2.33(S,3H),2.86(S,3H),6.28(S,1
H),7.60-8.30(m,4H)。
H),7.60-8.30(m,4H)。
＊ 薬学雑誌,87,1212(1967)。
実施例２９． ２，６−ジメチル−Ｎ−（２，３−ジメチルフェニル）
−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 出発原料としてＮ−（２，３−ジメチルフェニル）−３
−オキソ−酪酸アミドを用い、実施例１と同様の操作に
従って反応を行い、題記化合物を1.94g（収率36％）得
た。
−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 出発原料としてＮ−（２，３−ジメチルフェニル）−３
−オキソ−酪酸アミドを用い、実施例１と同様の操作に
従って反応を行い、題記化合物を1.94g（収率36％）得
た。
融点：174.5−175.5℃ ＩＲ(KBrディスク）：νｃ＝ｏ1645,1675cm-1 ＮＭＲ(CDCl3)δ値：2.28(S,9H),2.83(S,3H),6.23(S,1
H),6.70-8.00(m,3H),11.66(br,1H)。
H),6.70-8.00(m,3H),11.66(br,1H)。
実施例３０． ２，６−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−４Ｈ−
ピラン−３−カルボキサミド アセトアセトアニリド3.54g(20mmol)、ブチルアミン1.4
6g(20mmol)およびトルエン20ｍの混合物に酢酸１滴を
加え、60℃で1.5時間加熱攪拌した後、30分間還流下に
保ち、その間に生成した水をトルエン約10ｍと共に留
去した。この反応混合物にトリエチルアミン12.14g(120
mmol)を加えた後、還流下に２，２，６−トリメチル−
４Ｈ−１，３−ジオキシン−４−オン7.10g(50mmol)の
トルエン（18ｍ）溶液を30分間にかけて滴下し、さら
に20分間加熱還流を続けた。反応混合物から、溶媒を約
12ｍ留去した後、室温まで放冷し、生じた結晶を濾別
洗浄し、減圧下に乾燥すると、題記化合物1.58g（収率3
3％）が得られた。
ピラン−３−カルボキサミド アセトアセトアニリド3.54g(20mmol)、ブチルアミン1.4
6g(20mmol)およびトルエン20ｍの混合物に酢酸１滴を
加え、60℃で1.5時間加熱攪拌した後、30分間還流下に
保ち、その間に生成した水をトルエン約10ｍと共に留
去した。この反応混合物にトリエチルアミン12.14g(120
mmol)を加えた後、還流下に２，２，６−トリメチル−
４Ｈ−１，３−ジオキシン−４−オン7.10g(50mmol)の
トルエン（18ｍ）溶液を30分間にかけて滴下し、さら
に20分間加熱還流を続けた。反応混合物から、溶媒を約
12ｍ留去した後、室温まで放冷し、生じた結晶を濾別
洗浄し、減圧下に乾燥すると、題記化合物1.58g（収率3
3％）が得られた。
融点：148−149℃（＊文献値143℃） ＩＲ(KBrディスク）：νc=o１６５２，１６８２ｃｍ
−１ ＮＭＲ(CDCl3)δ値：2.24(S,3H),2.82(S,3H),6.20(S,1
H),6.80-7.80(m,5H),11.97(br,1H)。
−１ ＮＭＲ(CDCl3)δ値：2.24(S,3H),2.82(S,3H),6.20(S,1
H),6.80-7.80(m,5H),11.97(br,1H)。
＊ 特公昭４５−３１６６３。
実施例３１． Ｎ−（２，６−ジメトキシピリミジン−４−イル）−
２，６−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カ
ルボキサミド 出発原料としてＮ−（２，６−ジメトキシピリミジン−
４−イル）−３−オキソ−酪酸アミド（m.p.107-109
℃）を用い、実施例２と同様の操作に従って反応を行
い、題記化合物を4.52g（収率74％）得た。
２，６−ジメチル−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カ
ルボキサミド 出発原料としてＮ−（２，６−ジメトキシピリミジン−
４−イル）−３−オキソ−酪酸アミド（m.p.107-109
℃）を用い、実施例２と同様の操作に従って反応を行
い、題記化合物を4.52g（収率74％）得た。
融点：202−203.5℃ ＩＲ(KBrディスク）：νｃ＝ｏ1653,1700cm-1 ＮＭＲ(CDCl3)δ値：2.28(S,3H),2.78(S,3H),3.91(S,6
H),6.20(S,1H),7.17(S,1H),12.25(br,1H)。
H),6.20(S,1H),7.17(S,1H),12.25(br,1H)。
実施例３２． Ｎ−（２−クロロフェニル）−２，６−ジメチル−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 第３級アミンとしてＮ−メチルピペリジンを用い、実施
例１と同様の操作に従って反応を行い、題記化合物を65
％の収率で得た。
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 第３級アミンとしてＮ−メチルピペリジンを用い、実施
例１と同様の操作に従って反応を行い、題記化合物を65
％の収率で得た。
融点：206−207℃ 実施例３３． Ｎ−（２−クロロフェニル）−２，６−ジメチル−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 第３級アミンとしてＮ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルア
ミンを用い、実施例１と同様の操作に従って反応を行
い、題記化合物を61％の収率で得た。
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 第３級アミンとしてＮ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルア
ミンを用い、実施例１と同様の操作に従って反応を行
い、題記化合物を61％の収率で得た。
融点：206−207℃ 実施例３４． Ｎ−（２−クロロフェニル）−２，６−ジメチル−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 第３級アミンとしてＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル
−１，３−プロパンジアミンを用い実施例１と同様の操
作に従って反応を行い、題記化合物を71％の収率で得
た。
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 第３級アミンとしてＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル
−１，３−プロパンジアミンを用い実施例１と同様の操
作に従って反応を行い、題記化合物を71％の収率で得
た。
融点：206−207℃ 実施例３５． Ｎ−（２−クロロフェニル）−２，６−ジメチル−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ｏ−クロロアセトアセトアニリド4.23g(20mmol)、40％
メチルアミン水溶液3.11g(40mmol)およびトルエン20ｍ
の混合物に酢酸１滴を加え、室温で８時間攪拌した
後、反応混合物を加熱して、未反応のメチルアミンおよ
び水をトルエン約10ｍと共に留去した。この反応混合
物に、トリエチルアミン8.10g(80mmol)を加えた後、還
流下に、２，２，６−トリメチル−４Ｈ−１，３−ジオ
キシン−４−オン7.10g(50mmol)のトルエン（18ｍ）
溶液を40分間かけて滴下し、さらに３時間加熱還流を続
けた。反応混合物から溶媒を約12ｍ留去した後、室温
まで放冷し、生じた結晶を濾別洗浄し、減圧下に乾燥す
ると題記化合物3.39g（収率61％）が得られた。
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ｏ−クロロアセトアセトアニリド4.23g(20mmol)、40％
メチルアミン水溶液3.11g(40mmol)およびトルエン20ｍ
の混合物に酢酸１滴を加え、室温で８時間攪拌した
後、反応混合物を加熱して、未反応のメチルアミンおよ
び水をトルエン約10ｍと共に留去した。この反応混合
物に、トリエチルアミン8.10g(80mmol)を加えた後、還
流下に、２，２，６−トリメチル−４Ｈ−１，３−ジオ
キシン−４−オン7.10g(50mmol)のトルエン（18ｍ）
溶液を40分間かけて滴下し、さらに３時間加熱還流を続
けた。反応混合物から溶媒を約12ｍ留去した後、室温
まで放冷し、生じた結晶を濾別洗浄し、減圧下に乾燥す
ると題記化合物3.39g（収率61％）が得られた。
融点：206−207℃ 実施例３６． Ｎ−（２−クロロフェニル）−２，６−ジメチル−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ｏ−クロロアセトアセトアニリド4.23g(20mmol)、ｏ−
クロロアニリン2.55g(20mmol)およびトルエン20ｍの
混合物に濃塩酸１滴を加え、２時間還流下に保ち、その
間に生成した水をトルエン約10ｍと共に留去した。こ
の反応混合物に、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエ
チレンジアミン9.30g(80mmol)を加えた後、還流下に、
２，２，６−トリメチル−４Ｈ−１，３−ジオキシン−
４−オン9.94g(70mmol)のトルエン（25ｍ）溶液を15
分間かけて滴下し、さらに２時間加熱還流を続けた。反
応混合物を室温まで放冷し、生じた結晶を濾別洗浄し減
圧下に乾燥すると、題記化合物3.43g（収率62％）が得
られた。
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ｏ−クロロアセトアセトアニリド4.23g(20mmol)、ｏ−
クロロアニリン2.55g(20mmol)およびトルエン20ｍの
混合物に濃塩酸１滴を加え、２時間還流下に保ち、その
間に生成した水をトルエン約10ｍと共に留去した。こ
の反応混合物に、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエ
チレンジアミン9.30g(80mmol)を加えた後、還流下に、
２，２，６−トリメチル−４Ｈ−１，３−ジオキシン−
４−オン9.94g(70mmol)のトルエン（25ｍ）溶液を15
分間かけて滴下し、さらに２時間加熱還流を続けた。反
応混合物を室温まで放冷し、生じた結晶を濾別洗浄し減
圧下に乾燥すると、題記化合物3.43g（収率62％）が得
られた。
融点：206−207℃ 実施例３７． Ｎ−（２−クロロフェニル）−２，６−ジメチル−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ｏ−クロロアセトアセトアニリド4.23g(20mmol)、ｎ−
ブチルアミン1.46g(20mmol)およびトルエン20ｍの混
合物に酢酸１滴を加え、60℃で1.5時間加熱攪拌した
後、30分間還流下に保ち、その間に生成した水をトルエ
ン約10ｍと共に留去した。この反応混合物にトリエチ
ルアミン8.10g(80mmol)を加えた後、還流下にジケテン
4.20g(50mmol)のトルエン（20ｍ）溶液を40分間かけ
て滴下し、さらに２時間加熱還流を続けた。反応混合物
から溶媒を約12ｍ留去した後、室温まで放冷し、生じ
た結晶を濾別洗浄し減圧下に乾燥すると題記化合物1.59
g（収率29％）が得られた。
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド ｏ−クロロアセトアセトアニリド4.23g(20mmol)、ｎ−
ブチルアミン1.46g(20mmol)およびトルエン20ｍの混
合物に酢酸１滴を加え、60℃で1.5時間加熱攪拌した
後、30分間還流下に保ち、その間に生成した水をトルエ
ン約10ｍと共に留去した。この反応混合物にトリエチ
ルアミン8.10g(80mmol)を加えた後、還流下にジケテン
4.20g(50mmol)のトルエン（20ｍ）溶液を40分間かけ
て滴下し、さらに２時間加熱還流を続けた。反応混合物
から溶媒を約12ｍ留去した後、室温まで放冷し、生じ
た結晶を濾別洗浄し減圧下に乾燥すると題記化合物1.59
g（収率29％）が得られた。
融点：206−207℃ 実施例３８． ２−エチル−６−メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−
４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 出発原料として、３−オキソ−Ｎ−フェニル吉草酸アミ
ド（融点84.0〜85.5℃）を用い、実施例２７と同様の操
作に従って反応を行ない、題記化合物を59％の収率で得
た。
４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド 出発原料として、３−オキソ−Ｎ−フェニル吉草酸アミ
ド（融点84.0〜85.5℃）を用い、実施例２７と同様の操
作に従って反応を行ない、題記化合物を59％の収率で得
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森島 靖雄 兵庫県神戸市垂水区つつじが丘３丁目６番 11号 (72)発明者 長部 広和 兵庫県姫路市網干区新在家940番地
Claims (14)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）または（Ｉ）′ 〔式（Ｉ）および（Ｉ）′中Ｒ１は置換基を有していて
もよいアリール基または異項環基であり、Ｒ２は、Ｃ１
〜Ｃ11のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
ル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、
任意に置換されてもよいフェニル基、核がハロゲン原
子、低級アルキル及び低級アルコキシ基の１〜２個で置
換されてもよいアラルキル基、ハロゲン化アルキル基又
は５もしくは６員の異項環基であり、Ｒ３はジアルキル
アミノ基であり、ｎは０〜６の整数を表わす。〕 で表わされる化合物と 一般式（II）： 〔式中Ｒ４、Ｒ５は水素原子、アルキル基あるいはフェ
ニル基またはＲ４およびＲ５が共にアルキル基のときシ
クロアルキル基を形成してもよい。〕 で表わされる化合物またはジケテンとを反応させて、 一般式（IV）： （式中Ｒ１、Ｒ２は上記と同じ。） の化合物を得ることを特徴とする４−オキソ−４Ｈ−ピ
ラン−３−カルボキサミド化合物の製造法。 - 【請求項２】式（Ｉ）または式（Ｉ）′中におけるＲ３
（ＣＨ２）ｎ〜がジメチルアミノ基である特許請求の範
囲第１項記載の製造法。 - 【請求項３】式（Ｉ）または式（Ｉ）′中におけるＲ３
（ＣＨ２）ｎ〜が２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチ
ル）基又は２−（１−ピロリジニルエチル）基である特
許請求の範囲第１項記載の製造法。 - 【請求項４】一般式（II）の化合物が、ジケテンとアセ
トン、メチルエチルケトンもしくはメチルイソブチルケ
トンとの付加物である特許請求の範囲第１〜３項の何れ
か１つに記載の製造法。 - 【請求項５】一般式（II）の化合物が、一般式（Ｉ）又
は（Ｉ）′の化合物に対し、1.5〜3.0当量用いられる特
許請求の範囲第１〜４項の何れか１つに記載の製造法。 - 【請求項６】反応が、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素の溶媒中で行われる特許請求の範
囲第１〜５項の何れか１つに記載の製造法。 - 【請求項７】反応が、使用溶媒の一部を系外に留去しつ
つ行われる特許請求の範囲第１〜６項の何れか１つに記
載の製造法。 - 【請求項８】一般式（III）： （式中Ｒ１は置換基を有していてもよいアリール基また
は異項環基であり、Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ11のアルキル基、
低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル
基、低級アルコキシアルキル基、任意に置換されてもよ
いフェニル基、核がハロゲン原子、低級アルキル及び低
級アルコキシ基の１〜２個で置換されてもよいアラルキ
ル基、ハロゲン化アルキル基又は５もしくは６員の異項
環基であり、Ｒ６はアルキル基、アラルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基または異項環基を表わす） の化合物と、一般式（II）： （式中Ｒ４、Ｒ５は水素原子、アルキル基あるいはフェ
ニル基またはＲ４およびＲ５が共にアルキル基のときシ
クロアルキル基を形成してもよい。） で表わされる化合物またはジケテンとを第３級有機塩基
の存在下反応させて、一般式（IV）： （式中Ｒ１、Ｒ２は上記と同じ） の化合物を得ることを特徴とする４−オキソ−４Ｈ−ピ
ラン−３−カルボキサミド化合物の製造法。 - 【請求項９】一般式（II）の化合物が、ジケテンとアセ
トン、メチルエチルケトンもしくはメチルイソブチルケ
トンとの付加物である特許請求の範囲第８項に記載の製
造法。 - 【請求項１０】一般式（II）の化合物が、一般式（II
I）の化合物に対し、1.5〜3.0当量用いられる特許請求
の範囲第８項又は第９項に記載の製造法。 - 【請求項１１】第３級有機塩基が、トリエチルアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−１，３−プロパン
ジアミンである特許請求の範囲第８〜第１０項のいずれ
か１つに記載の製造法。 - 【請求項１２】第３級有機塩基が、一般式（III）の化
合物に対し、0.5当量以上用いられる特許請求の範囲第
８〜１１項の何れか１つに記載の製造法。 - 【請求項１３】反応が、ベンゼン、トルエン、キシレン
のような芳香族炭化水素の溶媒中で行われる特許請求の
範囲第８〜１２項の何れか１つに記載の製造法。 - 【請求項１４】反応が、使用溶媒の一部を系外に留去し
つつ行われる特許請求の範囲第８〜１３項の何れか１つ
に記載の製造法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP272085 | 1985-01-10 | ||
| JP60-2720 | 1985-01-10 | ||
| JP60-15212 | 1985-01-29 | ||
| JP1521285 | 1985-01-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61267569A JPS61267569A (ja) | 1986-11-27 |
| JPH064614B2 true JPH064614B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=26336179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60297497A Expired - Lifetime JPH064614B2 (ja) | 1985-01-10 | 1985-12-30 | ４−オキソ−４ｈ−ピラン−３−カルボキサミド化合物の製造法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4739083A (ja) |
| JP (1) | JPH064614B2 (ja) |
| DE (1) | DE3600332C2 (ja) |
| FR (1) | FR2575749B1 (ja) |
| GB (1) | GB2171096B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JPS61158977A (ja) * | 1984-12-29 | 1986-07-18 | Daicel Chem Ind Ltd | ピロン−３−カルボキサミド化合物 |
| JPH0778059B2 (ja) * | 1986-03-11 | 1995-08-23 | ダイセル化学工業株式会社 | ピロン−３−カルボキサミド誘導体及び除草剤 |
| GB9910544D0 (en) * | 1999-05-08 | 1999-07-07 | Sorex Limited | The treatment of pests using certain ethylenically-unsaturated carbonyl compounds |
| CN117164544A (zh) * | 2023-08-10 | 2023-12-05 | 浙江理工大学 | 一种含有甲酰胺结构的吡喃酮衍生物的制备方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4060533A (en) * | 1976-06-25 | 1977-11-29 | Sandoz, Inc. | Pyranone carboxamides |
| JPS61158977A (ja) * | 1984-12-29 | 1986-07-18 | Daicel Chem Ind Ltd | ピロン−３−カルボキサミド化合物 |
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1985
- 1985-12-30 JP JP60297497A patent/JPH064614B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1986
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