JPH0647511B2 - 窯業製品の装飾表面の形成方法 - Google Patents
窯業製品の装飾表面の形成方法Info
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- JPH0647511B2 JPH0647511B2 JP2095256A JP9525690A JPH0647511B2 JP H0647511 B2 JPH0647511 B2 JP H0647511B2 JP 2095256 A JP2095256 A JP 2095256A JP 9525690 A JP9525690 A JP 9525690A JP H0647511 B2 JPH0647511 B2 JP H0647511B2
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Landscapes
- Finishing Walls (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、各種衛生陶器、タイル、陶板等の窯業製品表
面に装飾を施すための方法に関する。
面に装飾を施すための方法に関する。
従来から装飾陶磁器として、装飾、防汚、防水、平滑化
のために、表面に釉薬を施した施釉品が多く、更に金属
光沢、真珠光沢等の光彩を与えるために、金属又は金属
酸化物粒子を含むラスター釉を１次焼成をした釉薬の上
に施し焼成するラスター加工を施したものがある。
のために、表面に釉薬を施した施釉品が多く、更に金属
光沢、真珠光沢等の光彩を与えるために、金属又は金属
酸化物粒子を含むラスター釉を１次焼成をした釉薬の上
に施し焼成するラスター加工を施したものがある。
これに使用するラスター釉は、貴金属類、チタン、銅、
ニッケル、錫、コバルト、カドミウム、ウラン、鉄、シ
リコン、燐、砒素、塩化アンチモン、硝酸ビスマス等を
適宜組み合わせたものを油又はアルコール等の希釈剤で
溶いた稀油溶液或はエーテル希釈であり、ラスター加工
とはこのラスター釉を釉薬面にスプレー等の方法で施
し、700〜900℃で熱処理（二次焼成）することによっ
て、希釈剤を焼失させ、釉薬の表面に薄い金属酸化物の
膜を形成したものである。また、上記金属の気化しやす
い化合物、例えばハロゲン化合物を化学蒸着により形成
する方法もある。
ニッケル、錫、コバルト、カドミウム、ウラン、鉄、シ
リコン、燐、砒素、塩化アンチモン、硝酸ビスマス等を
適宜組み合わせたものを油又はアルコール等の希釈剤で
溶いた稀油溶液或はエーテル希釈であり、ラスター加工
とはこのラスター釉を釉薬面にスプレー等の方法で施
し、700〜900℃で熱処理（二次焼成）することによっ
て、希釈剤を焼失させ、釉薬の表面に薄い金属酸化物の
膜を形成したものである。また、上記金属の気化しやす
い化合物、例えばハロゲン化合物を化学蒸着により形成
する方法もある。
このラスター加工によって得られた窯業製品表面は単一
色調を有し、装飾面から見てそれなりの美しさはある
が、このラスター光沢をさらに展開して従来にない光彩
変化を有するデザインパターンを得たいとするニーズが
ある。
色調を有し、装飾面から見てそれなりの美しさはある
が、このラスター光沢をさらに展開して従来にない光彩
変化を有するデザインパターンを得たいとするニーズが
ある。
このニーズに対応するための方法の一つとして例えば特
開昭60-221376号公報には、上絵付ラスターに上絵焼き
温度で灰化する物質の微粉を混合した色釉をもって焼成
してガラス質絵付けを行うことが開示されている。
開昭60-221376号公報には、上絵付ラスターに上絵焼き
温度で灰化する物質の微粉を混合した色釉をもって焼成
してガラス質絵付けを行うことが開示されている。
この方法は、基本的にラスターを残存させてそれに灰化
物を混合させるものであって、金属光沢を消失させるこ
とができるものではあるが、光沢を多段階に調整するこ
とができないので、窯業製品の表面模様のニーズの多様
化に充分対応できるものではなかった。
物を混合させるものであって、金属光沢を消失させるこ
とができるものではあるが、光沢を多段階に調整するこ
とができないので、窯業製品の表面模様のニーズの多様
化に充分対応できるものではなかった。
本発明において解決すべき課題は、窯業製品表面へのラ
スター加工を施すものではあっても、金属光沢を多段階
に調整することにより、本来のラスターとは全く異なっ
た従来にない特異な光沢を窯業製品表面に形成する方法
を提供するものである。
スター加工を施すものではあっても、金属光沢を多段階
に調整することにより、本来のラスターとは全く異なっ
た従来にない特異な光沢を窯業製品表面に形成する方法
を提供するものである。
本発明は、表面にベース釉を有する窯業製品表面上に、
ラスター釉と、該ラスター釉内の金属等成分の定着温度
より低融点の釉薬、または高融点の釉薬とを重ねて施す
と共に、該ラスター釉及び／又は前記釉薬の組成の異な
るものを部分的に選択して施し焼成することで、前記ラ
スター釉内の金属等成分と前記釉薬との拡散度合いによ
り多段階的に光沢を調整することを特徴とする。
ラスター釉と、該ラスター釉内の金属等成分の定着温度
より低融点の釉薬、または高融点の釉薬とを重ねて施す
と共に、該ラスター釉及び／又は前記釉薬の組成の異な
るものを部分的に選択して施し焼成することで、前記ラ
スター釉内の金属等成分と前記釉薬との拡散度合いによ
り多段階的に光沢を調整することを特徴とする。
本発明のラスター釉としては従来の貴金属類、チタン、
銅、ニッケル、錫、コバルト、カドミウム、ウラン、
鉄、シリコン、燐、砒素、塩化アンチモン、硝酸ビスマ
ス等を適宜組み合わせた有機化合物の稀油溶液或はエー
テル希釈液を使用することができる。
銅、ニッケル、錫、コバルト、カドミウム、ウラン、
鉄、シリコン、燐、砒素、塩化アンチモン、硝酸ビスマ
ス等を適宜組み合わせた有機化合物の稀油溶液或はエー
テル希釈液を使用することができる。
該ラスター釉と反応して金属光沢を調整させる釉薬とし
ては、基礎釉として、SiO2、Al2O3、K2O、Na2O、CaO、MgO、Zr
O2、PbO、LiO、ZnO、B2O3、Fe2O3、TiO2等の組合わせよりなる
長石、陶石類、及び、これらを組み合わせて焼成して砕
いたフリット、又、色を出すための、Ｖ、Zn、Sn、Mo、W、M
n、Ti等の金属酸化物、金属塩類、または、これらの組み
合わせよりなる無機顔料等を混合したものを任意の濃度
にして使用する。
ては、基礎釉として、SiO2、Al2O3、K2O、Na2O、CaO、MgO、Zr
O2、PbO、LiO、ZnO、B2O3、Fe2O3、TiO2等の組合わせよりなる
長石、陶石類、及び、これらを組み合わせて焼成して砕
いたフリット、又、色を出すための、Ｖ、Zn、Sn、Mo、W、M
n、Ti等の金属酸化物、金属塩類、または、これらの組み
合わせよりなる無機顔料等を混合したものを任意の濃度
にして使用する。
本発明は、ベース釉上にラスター加工時の温度７００〜
９００℃よりも融点の低い釉薬を施した場合、ラスター
釉に含まれる上記貴金属等の粒子を先に溶解したこの低
い釉薬内に吸収させることにより、金属光沢を消失させ
ることができる。
９００℃よりも融点の低い釉薬を施した場合、ラスター
釉に含まれる上記貴金属等の粒子を先に溶解したこの低
い釉薬内に吸収させることにより、金属光沢を消失させ
ることができる。
逆に、ベース釉上にラスター加工時の温度よりも融点の
高い釉薬を施した場合、ラスター液に含まれる上記貴金
属等が釉薬内に吸収されずに表面に残り、下地釉の表面
状態とあいまった金属光沢を現出させることができる。
高い釉薬を施した場合、ラスター液に含まれる上記貴金
属等が釉薬内に吸収されずに表面に残り、下地釉の表面
状態とあいまった金属光沢を現出させることができる。
このように、スクリーン等の印刷によるこの原理を組合
わせたデザインパターン形成により、二次焼成温度（ラ
スター釉金属成分の定着温度）における各釉の粘性（融
点）の差により金属等成分（ＴｉＯ２等）の釉中拡散を
利用し、光沢の度合いを自由にコントロールし、多段階
な光沢が現出可能となり、任意の微妙なデザインパター
ン部分の光彩変化を得ることができる。
わせたデザインパターン形成により、二次焼成温度（ラ
スター釉金属成分の定着温度）における各釉の粘性（融
点）の差により金属等成分（ＴｉＯ２等）の釉中拡散を
利用し、光沢の度合いを自由にコントロールし、多段階
な光沢が現出可能となり、任意の微妙なデザインパター
ン部分の光彩変化を得ることができる。
また、施釉すべきラスター釉の組成を部分的に変化させ
たり、あるいは、ラスター釉の金属成分を釉薬中に拡散
させ金属光沢を消失させる釉薬組成の配合を変えること
により、釉薬の融点に変化をつけたものを部分的に使用
したりすることによって、表面に形成される模様の濃
淡、色彩、色調、模様の配置等を任意に調整することが
可能となる。
たり、あるいは、ラスター釉の金属成分を釉薬中に拡散
させ金属光沢を消失させる釉薬組成の配合を変えること
により、釉薬の融点に変化をつけたものを部分的に使用
したりすることによって、表面に形成される模様の濃
淡、色彩、色調、模様の配置等を任意に調整することが
可能となる。
さらに、これらを施釉した表面の焼成温度あるいは焼成
時間を変化させることによって、金属微粒子の分布の状
態を任意に変化させることができる。
時間を変化させることによって、金属微粒子の分布の状
態を任意に変化させることができる。
本発明を通常の正方形タイル素地上に適用した。
第１図は正方形タイル１の素地上表面への施釉状態を示
す。
す。
同図を参照して、タイル１の表面を縦方向にａ〜ｃ、横
方向にＡ〜Ｃのそれぞれに区画した。
方向にＡ〜Ｃのそれぞれに区画した。
先ず、タイル１の素地表面にベース釉２としてセミマッ
ト釉を施し、次に第１表に示す金属光沢を調整するため
それぞれの釉薬をベース釉２上に上記ａ〜ｃとＡ〜Ｃの
区画に直接スクリーン印刷し、ローラーハースキルンで
1200℃で37分間焼成した。その後ラスター釉として稀油
溶液のチタニウムの樹脂酸溶液をタイル全面に均一にス
プレー塗布し、800℃で60分間焼成を行った。
ト釉を施し、次に第１表に示す金属光沢を調整するため
それぞれの釉薬をベース釉２上に上記ａ〜ｃとＡ〜Ｃの
区画に直接スクリーン印刷し、ローラーハースキルンで
1200℃で37分間焼成した。その後ラスター釉として稀油
溶液のチタニウムの樹脂酸溶液をタイル全面に均一にス
プレー塗布し、800℃で60分間焼成を行った。
ａ〜ｃとＡ〜Ｃの各区画外の部分、すなわち、チタニウ
ムの樹脂酸溶液をタイル全面に均一にスプレー塗布して
焼成した部分は、従来のラスター加工で得られるような
一様な光彩しか得られないのに対して、本発明の実施例
に相当する重ねて用いた部分の特徴は多様な光彩が得ら
れた。
ムの樹脂酸溶液をタイル全面に均一にスプレー塗布して
焼成した部分は、従来のラスター加工で得られるような
一様な光彩しか得られないのに対して、本発明の実施例
に相当する重ねて用いた部分の特徴は多様な光彩が得ら
れた。
１．光彩の強さ 光彩の強さを目視により観察した。
各釉薬の内容及び光彩の強さを第１表に示す。
第１表に示す通り、タイル表面のラスター釉と釉薬を重
ねた任意の位置だけに光彩変化の有るラスター装飾品を
得ることができた。
ねた任意の位置だけに光彩変化の有るラスター装飾品を
得ることができた。
本発明により、以下のような効果を奏する。
(1)ラスター釉及び／又は釉薬の組成を部分的に変えて
施すことで、光沢の度合いを自由にコントロールでき、
多段階的な光沢が現出可能となり、従来のラスター施釉
とは全く異質の光沢を有する特異な装飾面を、簡単な方
法で得ることができる。
施すことで、光沢の度合いを自由にコントロールでき、
多段階的な光沢が現出可能となり、従来のラスター施釉
とは全く異質の光沢を有する特異な装飾面を、簡単な方
法で得ることができる。
(2)窯業製品表面の任意の箇所に用いることにより、任
意の光彩の模様を有する窯業製品表面を得ることができ
る。
意の光彩の模様を有する窯業製品表面を得ることができ
る。
(3)素地、形状に関係なく、任意の窯業製品に適用する
ことができる。
ことができる。
第１図は、本実施例におけるタイル上への各釉薬の塗布
位置をあらわす。 １：タイル ２：ベース釉 Ａ，Ｂ，Ｃ，ａ，ｂ，ｃ：区画化された各釉薬の施釉位
置
位置をあらわす。 １：タイル ２：ベース釉 Ａ，Ｂ，Ｃ，ａ，ｂ，ｃ：区画化された各釉薬の施釉位
置
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−160386（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−97141（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】表面にベース釉を有する窯業製品表面上
に、ラスター釉と、該ラスター釉内の金属等成分の定着
温度より低融点の釉薬、または高融点の釉薬とを重ねて
施すと共に、該ラスター釉及び／又は前記釉薬の組成の
異なるものを部分的に選択して施し焼成することで、前
記ラスター釉内の金属等成分と前記釉薬との拡散度合い
により多段階的に光沢を調整することを特徴とする窯業
製品の装飾表面の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2095256A JPH0647511B2 (ja) | 1990-04-10 | 1990-04-10 | 窯業製品の装飾表面の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2095256A JPH0647511B2 (ja) | 1990-04-10 | 1990-04-10 | 窯業製品の装飾表面の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03293465A JPH03293465A (ja) | 1991-12-25 |
| JPH0647511B2 true JPH0647511B2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=14132683
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2095256A Expired - Fee Related JPH0647511B2 (ja) | 1990-04-10 | 1990-04-10 | 窯業製品の装飾表面の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0647511B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0782057A (ja) * | 1993-09-07 | 1995-03-28 | Inax Corp | ラスター窯業製品及びその加飾方法 |
| CN113582544B (zh) * | 2021-09-06 | 2022-11-18 | 江西新明珠建材有限公司 | 珍珠釉墨水、珍珠釉陶瓷砖及其制备方法 |
| CN117447238B (zh) * | 2022-07-18 | 2025-06-17 | 福建省德化县鑫洋陶瓷有限公司 | 一种具有金属光泽的陶瓷制品及其制备方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56160386A (en) * | 1980-05-14 | 1981-12-10 | Tanto Kk | Ceramic product lustering method |
| JPS6297141U (ja) * | 1985-12-10 | 1987-06-20 |
-
1990
- 1990-04-10 JP JP2095256A patent/JPH0647511B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
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| JPH03293465A (ja) | 1991-12-25 |
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