JPH064813A

JPH064813A - 磁気ヘッドの製造方法

Info

Publication number: JPH064813A
Application number: JP15984692A
Authority: JP
Inventors: Akihiko Terasawa; 曄彦寺沢; Seiichi Ogata; 誠一小形; Tadashi Saito; 正斎藤; Takashi Sugano; 丘菅野; Shinji Takahashi; 伸司高橋; Tomio Kobayashi; 富夫小林
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1992-06-18
Filing date: 1992-06-18
Publication date: 1994-01-14

Abstract

(57)【要約】【目的】十分な耐摩耗性を有し、且つ磁気ギャップ近
傍における偏摩耗が少ない高出力な磁気ヘッドを効率的
に製造可能とする。【構成】先ず、基板に斜めにガラス充填溝を形成し、
このガラス充填溝にガラスを溶融充填する。次に、ヘッ
ト形状に応じた形状の金属磁性膜を一端部がガラス充填
溝上に位置するように成膜する。金属磁性膜を成膜した
基板を複数枚重ね合わせ、ガラスを流し込んで一体化す
る。一体化した基板を金属磁性膜の配列に応じて切断
し、コアブロックを切り出す。巻線溝を形成した後、一
対のコアブロックをギャップ接合し、各ヘッドチップに
スライシングする。得られる磁気ヘッドは、金属磁性膜
によってのみフロントギャップが構成され、その近傍は
ガラスによって当たり幅が確保される。また、磁気テー
プ摺動面の大部分は、高耐摩耗性を有する基板によって
構成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、金属磁性膜を一対のヘ
ッドコアで挟み込んでなる磁気ヘッドの製造方法に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】各種金属磁性材料からなる金属磁性膜を
耐摩耗性のガード材基板により挟持した磁気ヘッドにお
いては、ガード材基板の耐摩耗性を増せば増すほどスペ
ーシングロスが増大するという問題がある。

【０００３】例えば、図１５に示すように、アルチック
（Ａｌ−Ｔｉ−Ｃ）等の高硬度耐摩耗ガード材１０１で
センダスト、アモルファス合金等の金属磁性膜１０２を
挟持したものをギャップ接合して作成した磁気ヘッドで
は、磁気テープの摺動により表面段差を生ずる。すなわ
ち、金属からなる金属磁性膜１０２が耐摩耗性ガード材
１０１に比べて５００〜６００Å程度窪み、偏摩耗の状
態となってスペーシングロスにより重大なヘッド出力の
低下を招来する。

【０００４】そこで、従来、耐摩耗性ガード材として、
耐摩耗性に関しては不満が残るものの、磁気ギャップ近
傍での偏摩耗段差を抑制することを優先して、結晶化ガ
ラスやセラミック基板が用いられている。しかしなが
ら、前述のようにヘッド出力を確保するために段差の抑
制を優先すると、当然のことながら耐摩耗性はフェライ
トヘッド等と比べて不十分なものとなる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述のように、金属磁
性膜をガード材基板により挟持した磁気ヘッドにおいて
は、ヘッド出力の確保と十分な耐摩耗性の確保を両立す
ることは難しく、何れか一方を犠牲にせざるを得ないの
が実情である。

【０００６】そこで本発明は、かかる従来の実情に鑑み
て提案されたものであって、十分な耐摩耗性を有し、且
つ磁気ギャップ近傍における偏摩耗が少なく高出力な磁
気ヘッドを効率的に製造することが可能な製造方法を提
供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の製造方法は、基板に斜めにガラス充填溝
を形成し、該ガラス充填溝にガラスを充填する工程と、
ヘッド形状に応じた形状の金属磁性膜を一端部が前記ガ
ラス充填溝上に位置するように基板上に積層配列する工
程と、前記金属磁性膜が積層配列された基板を複数重ね
合わせ、これら基板間の間隙にガラスを流し込んで一体
化する工程と、前記一体化した基板を金属磁性膜列に対
応して切断し、複数のコアブロックを切り出す工程と、
少なくとも一方に巻線溝加工を施した一対のコアブロッ
クを接合一体化する工程と、接合一体化したコアブロッ
クを各ヘッドチップにスライシングする工程とを有する
ことを特徴とするものである。

【０００８】

【作用】本発明の製造方法により製造される磁気ヘッド
においては、フロントギャップ近傍においてヘッドコア
が切削され、それによって形成された空間内にガラスが
充填されているので、金属磁性膜とその両側に配置され
るガラスとで摩耗の進行が同程度となり、偏摩耗による
段差が発生することはない。

【０００９】また、ヘッドコアの材料は、耐摩耗性を優
先して選択することができ、十分な耐摩耗性が確保され
る。

【００１０】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて、図面を参照しながら詳細に説明する。

【００１１】先ず、本実施例の製造方法により作成され
る磁気ヘッドの構造について説明すると、この磁気ヘッ
ドは、図１及び図２に示すように、センダスト等からな
る金属磁性膜１、２をそれぞれフェライトコア３、４あ
るいはフェライトコア５、６で挟持してなる磁気コア半
体Ｉ、IIを接合一体化してなるものである。なお、本例
ではヘッドコアとしてフェライトコアを用いているが、
アルチック（Ａｌ−Ｔｉ−Ｃ）やＺｒＯ₂等、任意の高
耐摩耗性材料を使用することが可能である。

【００１２】前記磁気コア半体Ｉ、IIにはそれぞれ巻線
溝７、８が切削加工されており、これにより決まる所定
のデプスをもって金属磁性膜１、２の突き合わせ面１
ａ、２ａ間にフロントギャップ（作動ギャップ）ｇが構
成されている。そして、前記フェライトコア３、４、あ
るいはフェライトコア５、６においては、フロントギャ
ップｇ近傍部分が切削除去されており、これによって形
成された空間内にはガラス９、１０が充填されており、
フロントギャップｇ近傍における当たり幅が確保されて
いる。

【００１３】ここで、上記フロントギャップｇ近傍部分
が切削除去されたフェライトコア３、４及びフェライト
コア５、６の端面３ａ、４ａ、５ａ、６ａは、フロント
ギャップｇのデプス方向に対して傾斜する斜面とされて
おり、バックギャップにまでガラスが充填されることの
ないような構造とされている。

【００１４】また、前記フェライトコア３、４及びフェ
ライトコア５、６のフロントギャップ側両側部は、フロ
ントギャップｇのデプス零位置よりも若干下方位置まで
切削されており、段差部１１、１２あるいは段差部１
３、１４が形成されている。この結果、磁気ヘッドの磁
気テープに対する当たり幅が規定され、同時にバックギ
ャップ側における突き合わせ面積が確保されている。

【００１５】すなわち、本例の磁気ヘッドにおいては、
フロントギャップｇにおいては、金属磁性膜１、２の突
き合わせ面１ａ、２ａ同志が突き合わされており、一方
バックギャップにおいては、金属磁性膜１、２の突き合
わせ面１ｂ、２ｂのみならずフェライトコア３、４、
５、６の端面３ｂ、４ｂ、５ｂ、６ｂ同志も突き合わさ
れている。したがって、バックギャップにおいては、フ
ェライトコア３、４、５、６同志も金属磁性膜１、２に
並んで突き合わされ、しかも突き合わせ幅もある程度確
保されているので、磁気抵抗が低減される。

【００１６】例えば、トラック幅１０μｍの磁気ヘッド
を作成する場合には、フロントギャップにおいては幅１
０μｍの磁気コア（左）と幅１０μｍの磁気コア（右）
とが突き合わせられる必要があるが、バックギャップに
おいては必ずしも突き合わせ幅が１０μｍである必要は
ない。フロントギャップは、トラック幅を規定するため
突き合わせ幅が１０μｍでなければならないが、バック
ギャップにおいては１０μｍ以上の磁気コア幅で突き合
わされる方が磁気抵抗が小さくなり、再生効率は向上す
る。

【００１７】また、図３に示すように、磁気テープ摺動
面から見た時に、前記フェライトコア３、４、５、６の
端面３ａ、４ａ、５ａ、６ａがフロントギャップｇに対
して傾斜していることが好ましい。このように端面３
ａ、４ａ、５ａ、６ａを傾斜させることで、フェライト
コア３、４、５、６のエッジ効果によるクロストークを
防止することができる。

【００１８】上述の構造を有する磁気ヘットにおいて
は、フロントギャップｇ近傍にのみガラスが充填され、
磁気テープ摺動面の他の部分は高耐摩耗性を有するフェ
ライトコア３、４、５、６によって構成されているの
で、表面段差が発生することはなく、また十分な耐摩耗
性が確保される。例えば、磁気テープ摺動面において、
金属磁性膜１、２がフェライトコア３、４、５、６に挟
持されている部分では、金属磁性膜１、２が摩耗して約
４００Åの段差が発生したが、フェライトの代わりにガ
ラス９、１０が充填されるフロントギャップｇ部では段
差の発生は皆無であった。

【００１９】波長λ＝０．５μｍの記録再生を行う場
合、スペーシングロスＬｓはおよそ５４．６ｄ／λであ
り、前記４００Åの段差によるロスは約４．４ｄＢとな
るが、本例の磁気ヘッドではフロントギャップｇで段差
の発生が皆無であることから、この約４．４ｄＢのスペ
ーシングロスを低減できることになる。

【００２０】次に、上記磁気ヘッドの製造方法について
説明する。上述の構造の磁気ヘッドを製造するには、先
ず、図４に示すように、所定の大きさのフェライト基板
２１を用意し、その両主面に斜めのガラス充填溝２２を
切削形成する。次いで、このガラス充填溝２２内に比較
的高融点を有するガラス２３を溶融充填する。

【００２１】しかる後、前記フェライト基板２１上に、
センダスト等からなる金属磁性膜２４をスパッタ法等の
真空薄膜形成技術により成膜する。このとき、成膜され
る金属磁性膜２４の膜厚は、作成される磁気ヘッドのフ
ロントギャップｇにおけるトラック幅に相当する。

【００２２】なお、前記金属磁性膜２４は、センダスト
（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ）に限られるものではなく、Ｆｅ−
Ｇａ−Ｓｉ−Ｒｕ、各種アモルファス合金、Ｆｅ−Ｔａ
−Ｎ、Ｆｅ−Ｚｒ−Ｎ等、任意の材料を使用することが
でき、さらには微結晶強磁性材料等も使用可能である。
また、金属磁性膜２４は絶縁層を介した多層膜であって
もよい。さらに、金属磁性膜２４の成膜方法も、スパッ
タ法、蒸着法を問わない。

【００２３】前記金属磁性膜２４は、フェライト基板２
１の全面に連続膜として成膜してもよいが、この場合に
はヒビ割れの虞れがある。したがって、各磁気ヘッドの
形状に対応した形状（本例においては各磁気ヘッドチッ
プより若干大きめの矩形状）に成膜することが好まし
い。前述のような形状に成膜するには、成膜の際に例え
ばマスクスパッタ法等を採用すればよい。

【００２４】ただし、金属磁性膜２４を各磁気ヘッドの
形状に対応した形状に成膜する場合には、その一端部
（矩形状の金属磁性膜２４の４隅のうちいずれか１箇
所）が前記ガラス充填溝２２上に位置していることが必
要である。本例においては、ガラス充填溝２２を複数形
成するとともに、これらガラス充填溝２２に沿って複数
の金属磁性膜２４を成膜し、複数の磁気ヘッドを一括し
て製造し得るような構成とした。

【００２５】図５は、金属磁性膜２４が成膜されたフェ
ライト基板２１を側面から見た図であり、このように金
属磁性膜２４を成膜した後に、図６に示すようにこれら
フェライト基板２１を複数重ねて配置する。次いで、図
７に示すように、比較的低融点のガラス２５を載せ、こ
れを溶融してフェライト基板２１とフェライト基板２１
の間の空隙に流し込み、接合一体化する。

【００２６】各フェライト基板２１の接合に際しては、
金属磁性膜２４の表面に予めガラススパッタ膜を形成し
ておき、前記ガラス２５の溶融、流入、軟化と協同して
接合を完成するようにしてもよい。図８は、ガラス２５
の充填状態を示すもので、前記ガラス２５の流入、接
合、固着後、周囲を平面研削して形状を直方体に仕上げ
た状態を斜視したものである。

【００２７】次に、図９に示すように、図８に示す直方
体ブロックを金属磁性膜２４の配列に応じて切断し、切
断面を平面研削して複数のコアブロック３０に切り出
す。各コアブロック３０の端面には、各基板２１に成膜
した金属磁性膜２４の端面が露呈しており、この金属磁
性膜２４が露呈するコアブロック３０の端面が突き合わ
せ面となる。

【００２８】そして、図１０及び図１１に示すように、
各コアブロック３０の突き合わせ面に巻線溝２６を切削
形成する。なお、巻線溝２６は、各金属磁性膜２４のう
ち、ガラス充填溝２２上に位置する部分を所定のデプス
で残し、各金属磁性膜２４を横切るかたちで切削する。

【００２９】このようにして得られたコアブロック３０
同志を、図１２に示すように、ギャップスペーサを介し
て突き合わせ、接合一体化する。このギャップ接合に
は、金や銀膜を用いた低温金属接合や、ガラス２５より
も低融点のガラスによる接合を採用することができる。

【００３０】最後に、図１３に示すように、磁気テープ
摺動面に対して円筒研磨を施し、さらに周囲に研削を施
した後、図１４に示すように各磁気ヘッドチップにスラ
イシングする。さらに、磁気テープ摺動面の当たり幅を
狭くするかたちで段加工を施すと、図１に示す磁気ヘッ
ドが完成する。

【００３１】このようにして作成された磁気ヘッドにお
いては、１０μｍ以下の狭トラックとしたときに、従来
の磁気ヘッドに比べてスヘーシングロスが解消され、約
６ｄＢの出力の向上が見られた。

【００３２】以上、本発明を適用した実施例について説
明したが、本発明がこの実施例に限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能
であることは言うまでもない。

【００３３】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明によれば、十分な耐摩耗性を有し、且つ磁気ギャップ
近傍における偏摩耗が少なく高出力な磁気ヘッドを、効
率的に製造することが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の製造方法により作成される磁気ヘッド
の一構成例を示す概略斜視図である。

【図２】図１に示す磁気ヘッドを分割して示す概略斜視
図である。

【図３】ヘッドコアの端面を傾斜させた磁気ヘッドの磁
気テープ摺動面を示す概略平面図である。

【図４】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法の一例
を工程順に示すもので、ガラス充填溝切削工程及び金属
磁性膜成膜工程を示す概略正面図である。

【図５】金属磁性膜を成膜したフェライト基板の側面図
である。

【図６】金属磁性膜を成膜したフェライト基板を複数枚
積層配置した状態を示す概略平面図である。

【図７】ガラスの溶融充填工程を示す正面図である。

【図８】ガラスの溶融充填状態を示す概略斜視図であ
る。

【図９】コアブロックへの切断工程を示す側面図であ
る。

【図１０】巻線溝形成工程を示す側面図である。

【図１１】巻線溝形成工程を示す正面図である。

【図１２】コアブロックの接合一体化工程を示す概略斜
視図である。

【図１３】円筒研磨工程を示す概略斜視図である。

【図１４】磁気ヘッドチップのスライシング工程を示す
概略斜視図である。

【図１５】従来の磁気ヘッドの磁気テープ摺動面を示す
概略平面図である。

【符号の説明】

２１・・・フェライト基板２２・・・ガラス充填溝２３・・・ガラス２４・・・金属磁性膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者菅野丘東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内 (72)発明者高橋伸司東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内 (72)発明者小林富夫東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板に斜めにガラス充填溝を形成し、該
ガラス充填溝にガラスを充填する工程と、ヘッド形状に応じた形状の金属磁性膜を一端部が前記ガ
ラス充填溝上に位置するように基板上に積層配列する工
程と、前記金属磁性膜が積層配列された基板を複数重ね合わ
せ、これら基板間の間隙にガラスを流し込んで一体化す
る工程と、前記一体化した基板を金属磁性膜列に対応して切断し、
複数のコアブロックを切り出す工程と、少なくとも一方に巻線溝加工を施した一対のコアブロッ
クを接合一体化する工程と、接合一体化したコアブロックを各ヘッドチップにスライ
シングする工程とを有してなる磁気ヘッドの製造方法。
【請求項２】基板がフェライト基板であることを特徴
とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項３】金属磁性膜が真空薄膜形成技術により基
板上に積層配列されることを特徴とする請求項１記載の
磁気ヘッドの製造方法。