JPH0689407A - 磁気ヘッドと製造法 - Google Patents

磁気ヘッドと製造法

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JPH0689407A
JPH0689407A JP4240318A JP24031892A JPH0689407A JP H0689407 A JPH0689407 A JP H0689407A JP 4240318 A JP4240318 A JP 4240318A JP 24031892 A JP24031892 A JP 24031892A JP H0689407 A JPH0689407 A JP H0689407A
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耕一 香川
Suekazu Kugioka
末和 釘岡
Mitsuaki Ono
充明 小野
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 VTRなどの磁気記録再生装置に使用される
磁気ヘッドにおいて、狭トラック幅にあっても再生効率
の低下が少なく、高周波帯域でも再生出力が高く優れた
特性を持つメタル系の積層型磁気ヘッドを得ることを目
的とする。 【構成】 補助基板間に磁性合金薄膜と絶縁膜を交互に
多層化して、トラック幅より広め磁性合金膜を形成す
る。磁気ギャップの片側から所定のトラック幅だけを残
すための切り欠けを設けた積層コアの半体をギャップ材
を挟んでヘッド化した構成であるため、加工工程におい
ても加工歪を受け難く、トラック幅が狭いヘッドにおい
て磁束の絞り込み効果が期待でき再生効率の高い高再生
出力ヘッドが得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は高周波信号の記録再生に
適したメタル系の積層型磁気ヘッド及び製造法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】近年、VTR等の高周波信号を記録再生
する磁気記録再生装置において、高密度化が進んでい
る。その手段としては記録信号の高周波帯域への移行
と、または、トラック幅を狭くする方法がある。高周波
帯域での性能を向上するために、高抗磁力媒体が使用さ
れる結果、磁気ヘッドのコアにアモルファス,センダス
ト等の高磁束密度特性を有するメタル系の磁性材が使用
されている。一般にメタル系の磁性材は固有抵抗が低い
ため、高周波帯域では渦電流損失が発生し磁気特性が低
下する欠点がある。
【0003】対策として、バルク材を使わずスパッタや
蒸着等の工法により金属磁性材を薄膜化して、絶縁層を
介して積層し、所定のトラックにする積層構造が広く使
われている。
【0004】以下に従来の積層型磁気ヘッドについて説
明する。図9は磁気ヘッドの一例を示すものである。補
助基板1a,1bの間に磁性合金薄膜2と電気的、及
び、磁気的絶縁薄膜3を交互に所定のトラック幅になる
まで積層し積層コアの半体4とし、同様な積層コア5を
ギャップ材6を挟んで磁気ヘッドを構成する。7は積層
コア4,5を接合するためのガラスである。また、図1
0は最近のVTRによく使われるコンビタイプの磁気ヘ
ッドで、トラック幅とギャップ傾斜角度の異なる2個の
ヘッドコアを一定のギャップ間隔8でベース9上に接着
されている。普通、ギャップ間隔8はNTSC方式の場
合740μm、PAL方式の場合620μmと狭いた
め、図9に示したヘッドコアをそのまま貼り付けること
は不可能であり、図9に示すようにヘッドコア4を
1,a2の切断線で切り取ったコアを使用する必要があ
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このように上記の従来
の構成では、コアの磁路全体の厚みがトラック幅と同じ
積層幅であるため、高密度記録のためにトラック幅を狭
くすると、磁路である積層幅も狭くなりコアの磁気抵抗
が増加し再生効率が低下するという問題を有していた。
更に図10の如くコンビタイプのヘッドにするため図9
のようにコア4を切断線a1,a2で切断することにより
コア4の断面積10は断面積11と小さくなる。狭トラ
ック幅化により磁性合金膜の厚みが薄くなると断面積1
1も小さくなりコア4の磁気抵抗も更に増加し、ヘッド
の再生効率を大幅に低下させている原因となっている。
これは狭トラック幅においてより高再生出力を必要とす
る回路上の要求に対して積層タイプの磁気ヘッドの重要
課題の一つである。
【0006】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、トラック幅が狭くなってもコアの磁気回路の磁気抵
抗を低下させることなく、有効にコイルに磁束を鎖交さ
せ、再生効率を低下させず高出力ヘッドを提供すること
を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は補助基板間に磁性合金薄膜と絶縁膜を交互
に多層化した磁性合金膜の積層コアの半体を一対、その
磁気ギャップ面で突き合わせ、その突き合わせ幅をトラ
ック幅とする磁気ヘッドにおいて、一層当たりの膜厚を
1とする前記磁性合金薄膜と絶縁膜とを交互に積み重
ねトラック幅T3より幅広の厚みT2にした磁性合金膜を
補助基板間に挟んで積層コア半体となす第1工程と、前
記積層コアの磁性合金膜の少なくとも一方のギャップ面
の端面に切り欠けを入れ、そのギャップ面の残りの長さ
がトラック幅とほぼ等しくなるように加工後、ギャップ
面を平滑に研磨する第2工程と、前記積層コアのギャッ
プ面に酸化物等の非磁性材のギャップ材を形成して互い
に突き合わせ、その突き合わせ長さをトラック幅とする
と共に前記磁性合金膜の切り欠け部にガラス融着せしめ
る第3工程からなる構成を有している。
【0008】
【作用】この構成によって、トラックより幅広の磁性合
金膜を磁路にすることにより、狭トラック幅ヘッドにお
いても再生効率の低下を極力少なくさせることができ
る。
【0009】
【実施例】
(実施例1)以下本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。
【0010】図1はヘッドをテープ接触面側から見た斜
視図である。図において、セラミックやガラスの非磁性
材である補助基板1a,1bの間に、アモルファスやセ
ンダスト等の磁性合金薄膜2と絶縁薄膜3と交互にスパ
ッタ技術または蒸着技術等により積層して、膜厚T2
磁性合金膜12を形成し積層コアの半体13aを形成す
る。磁性合金膜12の片側の端面にはトラック幅14に
ほぼ等しいギャップ面長さを残して切り欠け溝15が施
されている。同様の積層コア13bをギャップ材6を介
して前記磁性合金膜12のギャップ面を突き合わせトラ
ック幅14とするヘッドである。巻線16は積層コア1
3a、または、積層コア13bのどちらか片方または両
方の中央に設けられた巻線窓17に巻かれている。18
はこれらのヘッドをVTR本体に取り付けるためのベー
スである。本発明の磁気ヘッドの製造法の一実施例を図
2に基づいて説明する。図2は補助基板1a上にアモル
ファスやセンダスト等の磁性合金薄膜2とSiO2等の
絶縁薄膜3をスパッタ技術または蒸着技術等の薄膜形成
法で交互に積層させトラック幅より広い厚みの磁性合金
膜12を形成し積層コアを作る。一般に磁性合金薄膜2
の厚みは使用する周波数で渦電流が発生したとき磁束が
流れる表皮深さより決定される。積層膜2の一層当たり
の膜厚の目安は表皮深さの2倍の厚さに考えるとよく周
波数帯域の上限を10MHz、透磁率2000の場合表
皮深さは約4μmとなり、一層当たりの膜厚としては8
μm程度以下にするとよいことになる。SVHSヘッド
の場合、NTSCの標準モードのヘッドではトラック幅
は50μm、3倍モードでは25〜30μm付近である
が、各層の膜厚を均等にするため一層当たり膜厚の整数
倍がトラック幅になるように決めて積層している。スパ
ッタ技術等により所定の厚みまで積層された磁性合金膜
12には接合材19により補助基板1bと接合される。
磁性合金薄膜2がアモルファスの場合、接合材19はア
モルファスの結晶化温度より低い融点である低融点ガラ
スが使用される。図3は生産上の効率を考慮して補助基
板1a,1bと磁性合金膜12を複数個並べた積層ブロ
ック20である。図4はギャップ面21と摺動面22と
磁性合金膜12の少なくとも片側の一部を補助基板とと
もに切り欠け溝15の加工を行いトラック幅規制する。
図5はギャップ面21の一部だけに切り欠け溝加工をし
た場合で図4とは同じ効果が得られる。その後、切り欠
け溝の中にガラス等の非磁性材を充填しギャップ面を平
滑に仕上げる。図6はボンディング状態を示したもので
ある。図5で示した積層ブロック20に巻線溝10を加
工して積層ブロク20aとし、積層ブロック20aと同
じ加工を施した積層ブロック20bをギャップ長に相当
する厚みのギャップ材6を介して重ね合わせ、加熱する
ことにより切り欠け溝15内の低融点ガラスの一部を再
度溶融して両ブロックを接合してヘッドを形成する。図
7はギャップ面で接合した積層ブロックをテープ接触面
22から見た場合である。
【0011】磁性合金膜12はギャップ面の垂線23に
対し角度αだけ傾斜させてある。またトラック幅規制す
るための切り欠け溝の加工は加工面24が疑似ギャップ
として作用しないようにギャップ面25に対し角度βで
加工することにより隣接または隣接するトラックからの
信号を再生することが少なくなる。このときαとβは以
下の関係式を持つ。b1とb2は切断線であり、各コアに
切断した後、ベース18に図1のように接着した後、テ
ープ摺動面を研磨してヘッド化する。
【0012】図11は図1で説明した本実施例による再
生効率の改善効果を従来例と比較して示している。ヘッ
ドはトラック幅を20μmとして磁性合金膜の膜厚を2
0〜80μmまで変えた時の再生効率を求めている。変
化量は磁性合金膜膜厚を20μm、すなわち、従来例を
基準にしてdB表示したものである。図11から明らか
なようにトラック幅よりも幅広の磁性合金膜にてコアを
形成することにより、コアの磁気抵抗が低下し再生効率
がよくなる。本実施例によれば磁性合金膜の膜厚を標準
モードのトラック幅並の50μmにすることで約4dB
改善できる。
【0013】
【数2】
【0014】(実施例2)以下本発明の第2の実施例に
ついて図面を参照しながら説明する。図8は本発明の第
2の実施例で積層ブロック20のテープ摺動面22から
見たものである。
【0015】図7の構成との相違点は積層ブロック20
bに従来と同じタイプの磁性合金膜の膜厚をトラック幅
と同じ厚みにした積層ブロック20cを使用した点であ
る。
【0016】先に説明した図10のようにコンビヘッド
を作る場合、図9のコア4側に本発明のコア20aを使
えば、切断線a1,a2で切断してコア断面積が狭くなっ
ても、磁性合金膜が厚いため磁気抵抗の増加は従来品よ
り少ない。
【0017】
【発明の効果】以上のように本発明は、磁性合金薄膜と
絶縁薄膜とを積層して磁性合金膜の積層コアを構成する
ため高周波帯域でも渦電流損失の少ないヘッドが得られ
る。また、積層コアを幅広にとり切り欠け加工を入れ、
トラック部での磁束を絞り込んだ構成にしたため狭トラ
ック幅の時でも磁路の磁気抵抗が少ない効果がある。更
に、切り欠けを前記積層コアの磁性合金膜の片側だけに
加工するため、他方は補助基板で保持されており、加工
歪を受けやすい磁性合金膜でも無理な歪を受けることな
く加工でき、量産性に優れた高性能のヘッドを実現でき
るものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例における磁気ヘッドの斜
視図
【図2】第1の実施例における磁性合金膜構成図
【図3】第1の実施例における積層ブロックの斜視図
【図4】第1の実施例における積層ブロックの切り欠け
斜視図
【図5】第1の実施例における積層ブロックの切り欠け
斜視図その2
【図6】第1の実施例における積層ブロックの斜視図
【図7】第1の実施例における積層ブロック正面図
【図8】第2の実施例における積層ブロック正面図
【図9】従来の積層タイプの磁気ヘッドのコアの正面図
と側面図
【図10】従来のコンビタイプの磁気ヘッドの平面図
【図11】第1の実施例による再生効率の改善効果を示
すグラフ
【符号の説明】
1a,1b 補助基板 2 磁性合金薄膜 3 絶縁薄膜 6 ギャップ材 12 磁性合金膜 13a,13b 積層コア 14 トラック幅 15 切り欠け溝 16 巻線 17 巻線窓 18 ベース 19 結合材

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】補助基板間に磁性合金薄膜と絶縁薄膜を交
    互に多層化した磁性合金膜の積層コア一対を非磁性材で
    あるギャップを挟んで重ね合わせ、その重ね合わせ幅を
    トラック幅とする磁気ヘッドにおいて、前記磁性合金薄
    膜の一層あたりの膜厚をT1、多層化した場合の総膜厚
    をT2、前記トラック幅をT3とする時、以下の一般式を
    持つ多層化した幅広の磁性合金膜により積層コアを形成
    後、磁気ギャップ端の片面のみをトラック幅を残して切
    り欠け加工した一対の積層コアをギャップ材を介して前
    記トラック幅部で重ね、所定のトラック幅を成すことを
    特徴とする磁気ヘッド。 【数1】
  2. 【請求項2】前記磁性膜の磁気ギャップの少なくとも一
    方をトラック幅を残して切り欠け加工しトラック幅規制
    する時、加工面の角度をギャップ面に対してテープパタ
    ーン上のギャップ傾き角度の少なくとも2倍以上になる
    ことを特徴とする請求項1の磁気ヘッド。
  3. 【請求項3】トラック幅の切り欠けを磁気ギャップの端
    に一方にのみ加工した前記積層コアの半対を一対、ギャ
    ップ材を介して結合する磁気ヘッドにおいて、前記切り
    欠け部がトラックの中心線に対して互いに反対側に位置
    するように配置したことを特徴とする磁気ヘッド。
  4. 【請求項4】補助基板間に絶縁膜を介して積層する磁性
    合金膜を所定のトラック幅より厚いコア厚の積層コア半
    体を成す第1工程と、前記積層コア半体の少なくとも一
    方についてその積層コア半体のギャップ面長さがトラッ
    ク幅にほぼ等しくなるように切り欠け加工し、ギャップ
    形成面を平滑研磨する第2工程と、前記ギャップ形成面
    に酸化物の非磁性材を介し両積層コア半体をギャップ面
    で突き合わせ所定のトラック幅を形成すると共に、前記
    磁性合金膜の切り欠け加工部にガラス融着せしめる第3
    工程からなることを特徴とする磁気ヘッドの製造法。
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