JPH0648546B2 - 情報記録担体の製造法 - Google Patents

情報記録担体の製造法

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JPH0648546B2
JPH0648546B2 JP59145272A JP14527284A JPH0648546B2 JP H0648546 B2 JPH0648546 B2 JP H0648546B2 JP 59145272 A JP59145272 A JP 59145272A JP 14527284 A JP14527284 A JP 14527284A JP H0648546 B2 JPH0648546 B2 JP H0648546B2
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俊郎 安部
敬 村田
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    • G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
    • G11B23/0064—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture mediums or carriers characterised by the selection of the material
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    • G—PHYSICS
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    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は情報記録担体の製造法に係り、特に例えばオー
デイオ用又はビデオ用のデイスクといつた情報信号記録
媒体を大量に成型する際に用いる原盤の製造法に関する
ものである。
〔従来技術とその問題点〕
例えばビデオデイスク用原盤の製造法として、ガラス基
板上に蒸着、スパツタリング若しくはＣＶＤ等により金
属又はその酸化物若しくは窒化物の薄膜を形成し、該薄
膜上にレーザービームで情報信号を記録し、該薄膜をマ
スクとして該ガラス基板にイオンミリング又はガスプラ
ズマによる第１のエツチングをすることにより所定の段
差を形成し、マスクとして使用した該薄膜を第２のエツ
チングにより除去するといつた方法（特開昭54−77105
号）、あるいは基体上に金属薄膜層を被着形成する工程
と、前記金属薄膜層の記録トラツク上に記録用レーザ光
を照射することによりその領域を熔融蒸発させて前記記
録トラツク上に予め記録すべき情報に対応した第１凹凸
パターンを記録する工程と、予め情報が記録された前記
金属薄膜をマスクとして露出された前記基体をイオンエ
ツチングにより選択除去することにより該基体上に前記
第１凹凸パターンに対応した第２凹凸パターンを形成す
る工程とを含むといつた方法（特開昭54−134603号）が
提案されている。
しかし、これら提案による方法で基体に形成された凹凸
パターン（ピツト）１は、その断面形状を第２図に示す
如く矩形であり、従つてこのようなものから作成する原
盤の型離れ性は悪い。
〔問題点を解決する為の手段〕
基体を研磨する工程と、前記基体上にビームの照射に感
応するレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜に
所定の情報により変調されたビームを照射する工程と、
前記ビーム照射を受けたレジスト膜を現像して選択的に
レジスト膜を除去し所定パターンのものとする工程と、
前記所定パターンのレジスト膜をマスクとして前記基体
をドライエッチングし、前記レジスト膜を徐々にエッチ
ング作用で断面台形状とすると同時に前記基体に断面逆
台形状の凹凸の所定パターンを形成する工程と、マスク
として用いたレジスト膜を除去する工程とを含む。
〔実施例〕
第１図ａ〜ｅは、本発明に係る情報記録担体の製造工程
説明図である。
まず、例えば外径240 mm、内径15mm、肉厚10mmの光学研
磨された青板ガラス製基体10を用意し、この基体10面上
にレーザービームの照射に感応するフオトレジスト、例
えば商品名ＡＺ1350（シツプレー社）のフオトレジスト
をスピンコート法によつて塗布し、約３０００Å厚のフ
オトレジスト膜11を形成する（第１図ａ）。尚、この際
レジスト密着剤としてヘキサメチルジシラザンを用い
る。
次に、基体10を回転させ、コンパクトデイスク仕様のＰ
ＣＭオーデイオ信号により変調したＡｒレーザービーム
を照射し、フオトレジスト膜11を感光させ、その後現像
して選択的にフオトレジスト膜11を除去する。つまり、
第１図ｂに示す如く、フオトレジスト膜11を所定のパタ
ーンに形成する。
その後、これを例えば平行平板型ドライエッチング装置
内に置き、導入ガスCF4、真空度1×10-1Torr以下例えば
２×10-2Torr、高周波パワー200 Ｗ、エツチング時間40
分の条件で、前記所定パターンのフオトレジスト膜11を
マスクとしてドライエツチングを行なう。
そうすると、第１図ｃ,ｄに示す如く、マスクであるフ
オトレジスト膜11も反応ガスによつて徐々に多少エツチ
ングを受け、断面矩形状のフオトレジスト膜11が断面台
形状のものとなると共に、基体10もエツチングによつて
断面矩形状から傾斜角θが45゜の断面逆台形状の深さ0.
1μｍのピツト12が形成される。尚、第１図ｃ中、点線
で示すものはドライエツチング前のフオトレジスト膜で
ある。
そして、ドライエツチング終了後、マスクとして使用し
た所定パターンのフオトレジスト膜11を酸素プラズマの
アツシングにより除去する（第１図ｅ）。
上記のような工程によれば、基体10にエツチングによつ
て所定パターンのピットを形成するに際して、マスクで
あるレジスト膜も同時に徐々にエツチングを受けるよう
にするので、基体10に形成されるピツトは断面逆台形状
のものといつたようにテーパーがついたものとなり、従
つてこれに対して銀の無電解メツキ、ニツケル電鋳、ニ
ツケル原盤の剥離といつた工程により、離型性の良い原
盤を多数得ることができる。
特に、コンパクトデイスクの信号では変調度及びマグニ
チユードの良好な原盤が作製できる。そして、コンパク
トデイスクの場合にあつては、信号のピット形状が断面
矩形でなくテーパーのついたものとなるので、再生特性
に優れたものが得られる。
尚、ドライエツチングしたガラス製期待そのものをプラ
スチツク成形の金型に用いるようにすることも考えられ
る。
〔効果〕
離型性の良い高品質の原盤が得られる。
【図面の簡単な説明】
第１図ａ〜ｅは本発明に係る情報記録担体の製造法の工
程説明図、第２図は従来の方法によつて形成されたピツ
トの形状説明図である。 10……基体、11……フオトレジスト膜、12……ピツト。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審判の合議体 審判長 藤田 孝司 審判官 犬飼 宏 審判官 山田 洋一 (56)参考文献 特開 昭55−101144（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−155550（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−147946（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】基体を研磨する工程と、前記基体上にビー
    ムの照射に感応するレジスト膜を形成する工程と、前記
    レジスト膜に所定の情報により変調されたビームを照射
    する工程と、前記ビーム照射を受けたレジスト膜を現像
    して選択的にレジスト膜を除去し所定パターンのものと
    する工程と、前記所定パターンのレジスト膜をマスクと
    して前記基体をドライエッチングし、前記レジスト膜を
    徐々にエッチング作用で断面台形状とすると同時に前記
    基体に断面逆台形状の凹凸の所定パターンを形成する工
    程と、マスクとして用いたレジスト膜を除去する工程と
    を含むことを特徴とする情報記録担体の製造法。
JP59145272A 1984-07-14 1984-07-14 情報記録担体の製造法 Expired - Lifetime JPH0648546B2 (ja)

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US06/753,755 US4655876A (en) 1984-07-14 1985-07-11 Method for fabricating a master recording disc

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