JPH0653210B2 - 脱硝反応装置 - Google Patents
脱硝反応装置Info
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- JPH0653210B2 JPH0653210B2 JP61177660A JP17766086A JPH0653210B2 JP H0653210 B2 JPH0653210 B2 JP H0653210B2 JP 61177660 A JP61177660 A JP 61177660A JP 17766086 A JP17766086 A JP 17766086A JP H0653210 B2 JPH0653210 B2 JP H0653210B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/008—Details of the reactor or of the particulate material; Processes to increase or to retard the rate of reaction
-
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- B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
- B01J2208/00796—Details of the reactor or of the particulate material
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- B01J2208/00814—Details of the particulate material the particulate material being provides in prefilled containers
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、排ガス中の窒素酸化物を除去するのに使用さ
れる脱硝反応装置に係り、特にその構造体の改良に関す
る。
れる脱硝反応装置に係り、特にその構造体の改良に関す
る。
従来の技術 排ガス中の窒素酸化物を除去する乾式脱硝法を採用する
場合、アンモニア等の還元剤と窒素酸化物との反応を促
進するために、触媒層を配置した反応装置が用いられ
る。
場合、アンモニア等の還元剤と窒素酸化物との反応を促
進するために、触媒層を配置した反応装置が用いられ
る。
第４図および第５図は従来の脱硝反応装置の要部を示し
たもので、第４図は側断面図、第５図は、第４図のＶ−
Ｖ線に沿った拡大断面図である。第４図において、１は
反応装置本体であり、その内部壁面に耐火性保温材２を
配設し、内部にパック化された触媒層３が配置されてい
る。４は入口ダクト、５は出口ダクトであり、この反応
装置本体１は基礎にしっかり支持されている。
たもので、第４図は側断面図、第５図は、第４図のＶ−
Ｖ線に沿った拡大断面図である。第４図において、１は
反応装置本体であり、その内部壁面に耐火性保温材２を
配設し、内部にパック化された触媒層３が配置されてい
る。４は入口ダクト、５は出口ダクトであり、この反応
装置本体１は基礎にしっかり支持されている。
第５図は触媒層３部分を拡大して示したもので、パック
化された触媒層３は、ケーシング補強柱６，７、このケ
ーシング補強柱６，７を夫々上部および下部で連結した
上面梁８、底面梁９から成るケーシング10で支持されて
いる。なお、ケーシング補強柱６，７は夫々基礎11に支
持され、更に、底面梁９の要所も支柱12で基礎11に支持
されている。
化された触媒層３は、ケーシング補強柱６，７、このケ
ーシング補強柱６，７を夫々上部および下部で連結した
上面梁８、底面梁９から成るケーシング10で支持されて
いる。なお、ケーシング補強柱６，７は夫々基礎11に支
持され、更に、底面梁９の要所も支柱12で基礎11に支持
されている。
さて、排ガスは入口ダクト４から反応装置本体１内へ導
入され、排ガス中の窒素酸化物とアンモニア等の還元剤
との反応が触媒層３において促進される。そして、脱硝
反応の終了した排ガスは、出口ダクト５から排出され
る。
入され、排ガス中の窒素酸化物とアンモニア等の還元剤
との反応が触媒層３において促進される。そして、脱硝
反応の終了した排ガスは、出口ダクト５から排出され
る。
発明が解決しようとする問題点 ところで、脱硝反応装置は内部に高温の排ガスが導入さ
れるもので、かつ、内壁に保温材を配設して保温してあ
るので、反応装置本体１の内外面に大きな温度差が生じ
る。そのため、反応装置本体の内面に垂直ブレース等の
補強材を設置することができず、地震等の水平力が反応
装置本体に加わったときの安全対策として、ケーシング
補強柱６，７の断面を大きくしておかなければならなか
った。
れるもので、かつ、内壁に保温材を配設して保温してあ
るので、反応装置本体１の内外面に大きな温度差が生じ
る。そのため、反応装置本体の内面に垂直ブレース等の
補強材を設置することができず、地震等の水平力が反応
装置本体に加わったときの安全対策として、ケーシング
補強柱６，７の断面を大きくしておかなければならなか
った。
すなわち、触媒層３の水平力は第５図に矢印13で示すよ
うにケーシング補強柱６に伝わり、これが上面梁８、底
面梁９をとおり基礎11へ伝達される。このとき、ケーシ
ング補強柱６，７は大きな曲げモーメントを受けて、天
端部に大きなたわみが発生することになる。これを防止
するためには、ケーシング補強柱６，７の断面を大きく
することが必要となり、そのため装置が大形化し基礎を
強化しなければならなくなる等の問題が生ずるものであ
った。
うにケーシング補強柱６に伝わり、これが上面梁８、底
面梁９をとおり基礎11へ伝達される。このとき、ケーシ
ング補強柱６，７は大きな曲げモーメントを受けて、天
端部に大きなたわみが発生することになる。これを防止
するためには、ケーシング補強柱６，７の断面を大きく
することが必要となり、そのため装置が大形化し基礎を
強化しなければならなくなる等の問題が生ずるものであ
った。
問題点を解決するための手段 このような問題点を解決するために、本発明では、基礎
に設置されたケーシング補強柱に上面梁と底面梁とが連
結され、内側に保温材が施工され、保温材内側に多段に
積み重ねられた触媒が複数列配置された脱硝反応装置に
おいて、前記触媒の少なくとも１列を挟むように設けた
上下に伸びるガイドフレームと、このガイドフレームの
上下端部を夫々連結するように設けたガイドフレーム用
上部梁およびガイドフレーム用下部梁と、前記底面梁と
前記ガイドフレームの下端とを連結するとともにこの連
結位置で底面梁を基礎に支持させる支持手段と、前記ガ
イドフレーム用下部梁の略中央部を前記底面梁に連結す
る支持柱と、この支持柱の連結位置の底面梁を前記基礎
に対して半固定する第１のストッパ手段と、前記ガイド
フレーム用上部梁の略中央部を前記上面梁に対して半固
定する第２のストッパ手段とを備えている。
に設置されたケーシング補強柱に上面梁と底面梁とが連
結され、内側に保温材が施工され、保温材内側に多段に
積み重ねられた触媒が複数列配置された脱硝反応装置に
おいて、前記触媒の少なくとも１列を挟むように設けた
上下に伸びるガイドフレームと、このガイドフレームの
上下端部を夫々連結するように設けたガイドフレーム用
上部梁およびガイドフレーム用下部梁と、前記底面梁と
前記ガイドフレームの下端とを連結するとともにこの連
結位置で底面梁を基礎に支持させる支持手段と、前記ガ
イドフレーム用下部梁の略中央部を前記底面梁に連結す
る支持柱と、この支持柱の連結位置の底面梁を前記基礎
に対して半固定する第１のストッパ手段と、前記ガイド
フレーム用上部梁の略中央部を前記上面梁に対して半固
定する第２のストッパ手段とを備えている。
作用 上記のように、本発明では、反応装置本体内部に温度差
に影響されないガイドフレームによるトラス構造を配設
することにより、柱に集中して働く水平力を分散させ
て、曲げモーメントを軸力に変化させて支持することが
でき、補強柱の大形化を防止できる。
に影響されないガイドフレームによるトラス構造を配設
することにより、柱に集中して働く水平力を分散させ
て、曲げモーメントを軸力に変化させて支持することが
でき、補強柱の大形化を防止できる。
実施例 以下本発明に係る脱硝反応装置の一実施例を第１図ない
し第３図を参照して詳細に説明する。これらの図におい
て、第４図、第５図と同一部分には同一符号を付してそ
の部分の説明は省略する。
し第３図を参照して詳細に説明する。これらの図におい
て、第４図、第５図と同一部分には同一符号を付してそ
の部分の説明は省略する。
第１図は、従来の第５図に対応する部分の概略的な図
で、ケーシング補強柱６，７とこれに連結された上面梁
８、底面梁９から成るケーシング10にパック化された触
媒層３が多数列配置されている。ケーシング10の内部に
は、第２図および第３図を参照すると明らかなように、
触媒層３の少なくとも１列を挟むように上下に伸びたガ
イドフレーム20，21が設けられており、その上端部をガ
イドフレーム用上部梁23で連結し、下端部をガイドフレ
ーム用下部梁24で連結している。そして、ガイドフレー
ム20，21は補強梁25で連結されてトラス構造を形成して
いる。
で、ケーシング補強柱６，７とこれに連結された上面梁
８、底面梁９から成るケーシング10にパック化された触
媒層３が多数列配置されている。ケーシング10の内部に
は、第２図および第３図を参照すると明らかなように、
触媒層３の少なくとも１列を挟むように上下に伸びたガ
イドフレーム20，21が設けられており、その上端部をガ
イドフレーム用上部梁23で連結し、下端部をガイドフレ
ーム用下部梁24で連結している。そして、ガイドフレー
ム20，21は補強梁25で連結されてトラス構造を形成して
いる。
ガイドフレーム20，21の下端は、支持部材26によって夫
々底面梁９に連結されているとともに、この連結位置で
底面梁９を基礎11に支持している。このガイドフレーム
20，21と支持部材26との連結部（第３図Ａ部、Ｂ部参
照）の連結手段は、上下（縦）方向には固定されるが左
右（横）方向には自由なようにされるものである。
々底面梁９に連結されているとともに、この連結位置で
底面梁９を基礎11に支持している。このガイドフレーム
20，21と支持部材26との連結部（第３図Ａ部、Ｂ部参
照）の連結手段は、上下（縦）方向には固定されるが左
右（横）方向には自由なようにされるものである。
また、ガイドフレーム用下部梁24の略中間部は、支持部
材27によって底面梁９に固定されている。この部分（第
３図Ｃ部参照）は上下左右に対して共に固定されてい
る。そして、この支持部材27は底面梁９から基礎11側へ
突出しており、その先端部の横方向の移動を拘束するよ
うストッパ部材28が基礎11側から突出して設けられてい
る。従って、支持部材27の連結位置において、底面梁９
は基礎11に対して半固定的に保持されることになる。
材27によって底面梁９に固定されている。この部分（第
３図Ｃ部参照）は上下左右に対して共に固定されてい
る。そして、この支持部材27は底面梁９から基礎11側へ
突出しており、その先端部の横方向の移動を拘束するよ
うストッパ部材28が基礎11側から突出して設けられてい
る。従って、支持部材27の連結位置において、底面梁９
は基礎11に対して半固定的に保持されることになる。
一方、ガイドフレーム用上部梁23の略中央部へ向けて、
上面梁８から突出部材29が突出するようにして設けられ
ており、その先端部の横方向の移動を拘束するようにス
トッパ部材30がガイドフレーム用上部梁23側から突出し
て設けられている。従って、ガイドフレーム用上部梁23
の中央部は、上面梁８に対して半固定的に保持されるこ
とになる。
上面梁８から突出部材29が突出するようにして設けられ
ており、その先端部の横方向の移動を拘束するようにス
トッパ部材30がガイドフレーム用上部梁23側から突出し
て設けられている。従って、ガイドフレーム用上部梁23
の中央部は、上面梁８に対して半固定的に保持されるこ
とになる。
本発明に係る脱硝反応装置は、上述のように構成された
もので、従来ケーシング補強柱６に集中していた水平力
を、ガイドフレーム20、21に３分割して作用させること
ができる。また、水平力による荷重でケーシング補強柱
６に作用した力の一部は、第２図にＤ部として示してあ
るストッパ部を通じて、ガイドフレーム20，21、補強梁
25等から成るトラス構造体に伝達され、ガイドフレーム
20，21に作用した荷重と一緒になって第３図のＡ部では
圧縮力、Ｂ部では引張力として基礎11へ伝達される。更
に、触媒層３を挟持すトラス構造体は、低温の上面梁８
および底面梁９に連結されているが、Ａ部およびＢ部で
は上下固定・左右自由、Ｃ部では上下左右固定、Ｄ部で
は上下自由・左右固定となっているで、熱伸びによって
拘束される恐れはない。
もので、従来ケーシング補強柱６に集中していた水平力
を、ガイドフレーム20、21に３分割して作用させること
ができる。また、水平力による荷重でケーシング補強柱
６に作用した力の一部は、第２図にＤ部として示してあ
るストッパ部を通じて、ガイドフレーム20，21、補強梁
25等から成るトラス構造体に伝達され、ガイドフレーム
20，21に作用した荷重と一緒になって第３図のＡ部では
圧縮力、Ｂ部では引張力として基礎11へ伝達される。更
に、触媒層３を挟持すトラス構造体は、低温の上面梁８
および底面梁９に連結されているが、Ａ部およびＢ部で
は上下固定・左右自由、Ｃ部では上下左右固定、Ｄ部で
は上下自由・左右固定となっているで、熱伸びによって
拘束される恐れはない。
発明の効果 以上詳述したように、本発明によれば、ケーシング補強
柱に集中して作用する水平力を、ガイドフレームに分散
させることによって、曲げモーメントを軸力に変化させ
て支持するので、補強柱の断面を大きくすることなく地
震等の水平力に対して十分な強度を得ることのできる脱
硝反応装置が提供される。また、本発明の脱硝反応装置
は熱伸びの影響も受け難いという効果もある。
柱に集中して作用する水平力を、ガイドフレームに分散
させることによって、曲げモーメントを軸力に変化させ
て支持するので、補強柱の断面を大きくすることなく地
震等の水平力に対して十分な強度を得ることのできる脱
硝反応装置が提供される。また、本発明の脱硝反応装置
は熱伸びの影響も受け難いという効果もある。
第１図は本発明に係る脱硝反応装置の一実施例を示した
要部の概略断面図、第２図は第１図のII部を拡大した部
分拡大図、第３図は第１図のIII部を拡大した部分拡大
図、第４図は従来の脱硝反応装置の側断面図、第５図は
第４図のＶ−Ｖ線に沿う断面の拡大図である。 １……脱硝反応装置本体、２……耐火性保温材、３……
触媒層、６，７……ケーシング補強柱、８……上面梁、
９……底面梁、10……ケーシング、11……基礎、20，21
……ガイドフレーム、23……ガイドフレーム用上部梁、
24……ガイドフレーム用下部梁、25……補強梁、26，27
……支持部材、28，30……ストッパ部材、29……突出部
材。
要部の概略断面図、第２図は第１図のII部を拡大した部
分拡大図、第３図は第１図のIII部を拡大した部分拡大
図、第４図は従来の脱硝反応装置の側断面図、第５図は
第４図のＶ−Ｖ線に沿う断面の拡大図である。 １……脱硝反応装置本体、２……耐火性保温材、３……
触媒層、６，７……ケーシング補強柱、８……上面梁、
９……底面梁、10……ケーシング、11……基礎、20，21
……ガイドフレーム、23……ガイドフレーム用上部梁、
24……ガイドフレーム用下部梁、25……補強梁、26，27
……支持部材、28，30……ストッパ部材、29……突出部
材。
Claims (1)
- 【請求項１】基礎に設置されたケーシング補強柱に上面
梁と底面梁とが連結され、内側に保温材が施工され、保
温材内側に多段に積み重ねられた触媒が複数列配置され
た脱硝反応装置において、前記触媒の少なくとも１列を
挟むように設けた上下に伸びるガイドフレームと、この
ガイドフレームの上下端部を夫々連結するように設けた
ガイドフレーム用上部梁およびガイドフレーム用下部梁
と、前記底面梁と前記ガイドフレームの下端とを連結す
るとともにこの連結位置で底面梁を基礎に支持させる支
持手段と、前記ガイドフレーム用下部梁の略中央部を前
記底面梁に連結する支持柱と、この支持柱の連結位置の
底面梁を前記基礎に対して半固定する第１のストッパ手
段と、前記ガイドフレーム用上部梁の略中央部を前記上
面梁に対して半固定する第２のストッパ手段とを備えた
脱硝反応装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61177660A JPH0653210B2 (ja) | 1986-07-30 | 1986-07-30 | 脱硝反応装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61177660A JPH0653210B2 (ja) | 1986-07-30 | 1986-07-30 | 脱硝反応装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6336820A JPS6336820A (ja) | 1988-02-17 |
| JPH0653210B2 true JPH0653210B2 (ja) | 1994-07-20 |
Family
ID=16034874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61177660A Expired - Fee Related JPH0653210B2 (ja) | 1986-07-30 | 1986-07-30 | 脱硝反応装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0653210B2 (ja) |
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| USD975665S1 (en) | 2019-05-17 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
| USD979506S1 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Insulator |
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-
1986
- 1986-07-30 JP JP61177660A patent/JPH0653210B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6336820A (ja) | 1988-02-17 |
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