JPH0653754B2 - ケトースのグリコシド系化合物の製造法 - Google Patents
ケトースのグリコシド系化合物の製造法Info
- Publication number
- JPH0653754B2 JPH0653754B2 JP6015089A JP6015089A JPH0653754B2 JP H0653754 B2 JPH0653754 B2 JP H0653754B2 JP 6015089 A JP6015089 A JP 6015089A JP 6015089 A JP6015089 A JP 6015089A JP H0653754 B2 JPH0653754 B2 JP H0653754B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ketose
- mmol
- trityl
- alcohol
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
- Steroid Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明はケトースのアノメリック位チオホスフィン酸エ
ステル誘導体とアルコールを反応させ、グリコシド系化
合物を製造する方法に関するものである。ケトースのグ
リコシド系化合物は制ガン剤、毒素中和剤、神経細胞生
長剤、甘味料等として医薬、農薬などの用途に注目をあ
びているが、その合成には不安定な中間体を使用し、工
業的に優れた方法は未だ知られていない。
ステル誘導体とアルコールを反応させ、グリコシド系化
合物を製造する方法に関するものである。ケトースのグ
リコシド系化合物は制ガン剤、毒素中和剤、神経細胞生
長剤、甘味料等として医薬、農薬などの用途に注目をあ
びているが、その合成には不安定な中間体を使用し、工
業的に優れた方法は未だ知られていない。
従来知られている方法はハロゲンケトースとアルコール
を反応させるが、原料のハロゲノケトースの安定性が乏
しいこと、高度に脱水した反応条件が必要なこと等欠点
が多く工業化は困難である。
を反応させるが、原料のハロゲノケトースの安定性が乏
しいこと、高度に脱水した反応条件が必要なこと等欠点
が多く工業化は困難である。
本発明者は上記の事情に鑑み鋭意研究した結果、ケトー
スのアノメリック位チオホスフィン酸エステル誘導体を
用い、トリチル塩を活性化剤として使用することで目的
を達成しうることを知り本発明に到達した。
スのアノメリック位チオホスフィン酸エステル誘導体を
用い、トリチル塩を活性化剤として使用することで目的
を達成しうることを知り本発明に到達した。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の原料の１つ、ケトースのアノメリック位チオホ
スフィン酸エステル誘導体は、アノメリック位の水酸基
が遊離のケトースとハロゲン化ホスフィノチオイルと塩
基存在下合成できる。
スフィン酸エステル誘導体は、アノメリック位の水酸基
が遊離のケトースとハロゲン化ホスフィノチオイルと塩
基存在下合成できる。
ケトースは周知のものを使用できる。具体的にはN-アセ
チルノイラミン酸、３−デオキシ−２−オクツロソン
酸、フルクトース等天然型のもの、あるいは、合成によ
りC-1位の水素をアルキル基、アリール基、カルボキシ
ル基、ニトリル基等で置換された非天然型ケトースなど
を挙げることができる。
チルノイラミン酸、３−デオキシ−２−オクツロソン
酸、フルクトース等天然型のもの、あるいは、合成によ
りC-1位の水素をアルキル基、アリール基、カルボキシ
ル基、ニトリル基等で置換された非天然型ケトースなど
を挙げることができる。
ハロゲン化ホスフィノチオイルとしては周知のものを使
用できる。例えば塩化ジメチルホスフィノチオイル、臭
化ジメチルホスフィノチオイル、塩化ジフェニルホスフ
ィノチオイル等が挙げられる。
用できる。例えば塩化ジメチルホスフィノチオイル、臭
化ジメチルホスフィノチオイル、塩化ジフェニルホスフ
ィノチオイル等が挙げられる。
塩基としては周知のものを使用できる。例えば水酸化ナ
トリウム、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ
［5.4.0］ウンデカ−７−エン、ｎ−ブチルリチウム等
を挙げることができる。本発明の他の原料の１つとして
使用されるアルコールは周知のものを使用できる。例え
ば脂肪族アルコール、芳香族アルコール、ステロイドア
ルコール、グリセロール誘導体、糖誘導体、アミノ酸誘
導体が挙げられる。具体的にはメタノール、エタノー
ル、オクチルアルコール、フェノール、ベンジルアルコ
ール、１、２、３、４−ジイソプロピリデンガラクトー
ス、３β−コレスタノール、イソプロピリデングリセロ
ール、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−セリンメチ
ルエステルなどの一例が挙げられる。
トリウム、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ
［5.4.0］ウンデカ−７−エン、ｎ−ブチルリチウム等
を挙げることができる。本発明の他の原料の１つとして
使用されるアルコールは周知のものを使用できる。例え
ば脂肪族アルコール、芳香族アルコール、ステロイドア
ルコール、グリセロール誘導体、糖誘導体、アミノ酸誘
導体が挙げられる。具体的にはメタノール、エタノー
ル、オクチルアルコール、フェノール、ベンジルアルコ
ール、１、２、３、４−ジイソプロピリデンガラクトー
ス、３β−コレスタノール、イソプロピリデングリセロ
ール、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−セリンメチ
ルエステルなどの一例が挙げられる。
続いてケトースのアノメリック位チオホスフィン酸エス
テルと前述したアルコールとの反応について説明する。
この方法ではこれらのモル比は特に制限はなくアルコー
ルを大過剰に用いてもよいが、通常は１〜数倍モル等量
である。
テルと前述したアルコールとの反応について説明する。
この方法ではこれらのモル比は特に制限はなくアルコー
ルを大過剰に用いてもよいが、通常は１〜数倍モル等量
である。
溶媒はアルコールを除く周知の有機溶媒を使用できる。
例えばエーテル、ベンゼン、トルエン、ジクロロメタン
等を挙げることができる。
例えばエーテル、ベンゼン、トルエン、ジクロロメタン
等を挙げることができる。
反応温度は特に制限はないが、−４０℃〜６０℃好まし
くは−２０℃〜４０℃である。反応時間は反応温度、原
料の種類等によってことなるが、数分〜数十時間の範囲
である。
くは−２０℃〜４０℃である。反応時間は反応温度、原
料の種類等によってことなるが、数分〜数十時間の範囲
である。
反応を行うにあたってはケトースのアノメリック位チオ
ホスフィン酸エステル誘導体に対し、周知のトリチル塩
の共存下で行う。トリチル塩は３〜２００モル％で行う
こともできるが、好ましくは５〜５０モル％で使用す
る。周知のトリチル塩としては過塩素酸トリチル、過塩
素酸ｐ−メトシキフェニルジフェニルメチル、ペンタク
ロルスズ酸トリチル、ヘキサクロロアンチモン酸トリチ
ル、テトラフルオロホウ酸トリチル等を挙げることがで
きる。これらの活性剤となる塩は特に無水状態にするこ
ともなく反応系にモレキュラーシーブス等の脱水剤を共
存させるだけで十分である。
ホスフィン酸エステル誘導体に対し、周知のトリチル塩
の共存下で行う。トリチル塩は３〜２００モル％で行う
こともできるが、好ましくは５〜５０モル％で使用す
る。周知のトリチル塩としては過塩素酸トリチル、過塩
素酸ｐ−メトシキフェニルジフェニルメチル、ペンタク
ロルスズ酸トリチル、ヘキサクロロアンチモン酸トリチ
ル、テトラフルオロホウ酸トリチル等を挙げることがで
きる。これらの活性剤となる塩は特に無水状態にするこ
ともなく反応系にモレキュラーシーブス等の脱水剤を共
存させるだけで十分である。
本発明はこのように有用な化合物を収率良く、緩和な条
件下で製造でき、副生成物も少なく、その工業的価値は
大である。
件下で製造でき、副生成物も少なく、その工業的価値は
大である。
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが本発
明はその要旨を越えない限り、以下の実施例により何等
の制限もうけるものではない。
明はその要旨を越えない限り、以下の実施例により何等
の制限もうけるものではない。
参考例１ １，３，４，５−テトラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−アラビノ
−２−ヘキツロピラノース２２０mmg（０．４１mmol）
をＴＨＦ２mlに溶解し、氷冷下１．５Ｍのヘキサン溶液
としたブチルリチウム０．３ml（０．４５mmol）を加
え、１５分攪はんし塩化ジメチルホスフィノチオイル６
３mg（０．４９mmol）をＴＨＦ１mlに溶解して加える。
２時間０℃で攪はんし、水を加えてジクロロメタンで抽
出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒
を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロマト（展開剤；
ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して１，３，
４，５−テトラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−アラビノ−２−ヘ
キツロピラノシルジメチルホスフィノチオエート２０４
mg（７９％）が得られた。１ Ｈ−ＮＭＲ； １．６〜２．０（ｄ，６Ｈ）， ３．２〜５．１（ｍ，１５Ｈ）， ７．０〜７．４
（ｓ，２０Ｈ） 参考例２ 参考例１の１，３，４，５−テトラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ
−アラビノ−２−ヘキツロピラノースの代わりにグルコ
ースのＣ−１位の水素がメチル基で置換された３，４，
５，７−テトラ−Ｏ−ベンジル−１−デオキシ−Ｄ−グ
ルコ−２−ヘプツロピラノース４１２mg（０．７４mmo
l）を用い同様の反応を行い３，４，５，７−テトラ−
Ｏ−ベンジル−１−デオキシ−Ｄ−グルコ−２−ヘプツ
ロピラノシルジメチルホスフィノチオエート２００mg
（４２％）を得る。１ Ｈ−ＮＭＲ； １．７〜２．１（ｔ，９Ｈ）， ３．５〜５．１（ｍ，１４Ｈ）， ７．０〜７．５
（ｍ，２０Ｈ） 参考例３ 参考例１の１，３，４，５−テトラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ
−アラビノ−２−ヘキツロピラノースの代わりにグルコ
ースのＣ−１位の水素がエチル基で置換された４，５，
６，８−テトラ−Ｏ−ベンジル−１，２−ジデオキシ−
Ｄ−エリスロ−Ｄ−グルコ−３−オクツロピラノース２
９５mg（０．５２mmol）を用い同様の反応を行い４，
５，６，８−テトラ−Ｏ−ベンジル−１，２−ジデオキ
シ−Ｄ−エリスロ−Ｄ−グルコ−３−オクツロピラノシ
ルジメチルホスフィノチオエート９３mg（２７％）を得
る。１ Ｈ−ＮＭＲ； ０．７〜１．１（ｔ，３Ｈ）， １．６〜２．１（ｍ，６Ｈ）， ２．２〜２．７（ｍ，
２Ｈ）， ３．３〜５．２（ｍ，１４Ｈ）， ７．１〜
７．５（ｍ，２０Ｈ） 実施例１ 参考例１で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物２０４mg（０．３２mmol）、３β−コレスタノール１
２６mg（０．３２mmol）、過塩素酸トリチル１１mg
（０．０３２mmol）、モレキュラーシーブス粉末をベン
ゼン１mlに懸濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素
水素ナトリウム水溶液５mlを加え反応を停止する。反応
混合物をろ過後ジクロロメタンで油出し、有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シ
リカゲル薄層クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル
＝４：１）で精製したところ目的のグリコシル化合物が
１６７mg（５７％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲ； ０．２〜２．２（ｍ，４６Ｈ），３．
３〜５．１（ｍ，１６Ｈ）， ７．０〜７．６（ｍ，２
０Ｈ） 実施例２ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物９７mg（０．１５mmol）、３β−コレスタノール５８
mg（０．１５mmol）、過塩素酸トリチル５mg（０．０１
５mmol）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１mlに
懸濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素水素ナトリ
ウム水溶液５mlを加え反応を停止する。反応混合物をろ
過後ジクロロメタンで油出し、有機層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄
層クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）
で精製したところ目的のグリコシル化合物が１１１mg
（８０％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲ； ０．２〜２．２（ｍ，４９Ｈ），３．
１〜５．２（ｍ，１５Ｈ）， ７．０〜７．５（ｍ，２
０Ｈ） 実施例３ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物７８mg（０．１２mmol）、３β−コレスタノール４７
mg（０．１２mmol）、過塩素酸トリチル２．３mg（０．
００６mmol）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１
mlに懸濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素水素ナ
トリウム水溶液５mlを加え反応を停止する。以後実施例
１と同様の処理を行いグリコシル化合物が７９mg（７１
％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲは実施例２に同じ。
−２−ヘキツロピラノース２２０mmg（０．４１mmol）
をＴＨＦ２mlに溶解し、氷冷下１．５Ｍのヘキサン溶液
としたブチルリチウム０．３ml（０．４５mmol）を加
え、１５分攪はんし塩化ジメチルホスフィノチオイル６
３mg（０．４９mmol）をＴＨＦ１mlに溶解して加える。
２時間０℃で攪はんし、水を加えてジクロロメタンで抽
出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒
を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロマト（展開剤；
ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して１，３，
４，５−テトラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−アラビノ−２−ヘ
キツロピラノシルジメチルホスフィノチオエート２０４
mg（７９％）が得られた。１ Ｈ−ＮＭＲ； １．６〜２．０（ｄ，６Ｈ）， ３．２〜５．１（ｍ，１５Ｈ）， ７．０〜７．４
（ｓ，２０Ｈ） 参考例２ 参考例１の１，３，４，５−テトラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ
−アラビノ−２−ヘキツロピラノースの代わりにグルコ
ースのＣ−１位の水素がメチル基で置換された３，４，
５，７−テトラ−Ｏ−ベンジル−１−デオキシ−Ｄ−グ
ルコ−２−ヘプツロピラノース４１２mg（０．７４mmo
l）を用い同様の反応を行い３，４，５，７−テトラ−
Ｏ−ベンジル−１−デオキシ−Ｄ−グルコ−２−ヘプツ
ロピラノシルジメチルホスフィノチオエート２００mg
（４２％）を得る。１ Ｈ−ＮＭＲ； １．７〜２．１（ｔ，９Ｈ）， ３．５〜５．１（ｍ，１４Ｈ）， ７．０〜７．５
（ｍ，２０Ｈ） 参考例３ 参考例１の１，３，４，５−テトラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ
−アラビノ−２−ヘキツロピラノースの代わりにグルコ
ースのＣ−１位の水素がエチル基で置換された４，５，
６，８−テトラ−Ｏ−ベンジル−１，２−ジデオキシ−
Ｄ−エリスロ−Ｄ−グルコ−３−オクツロピラノース２
９５mg（０．５２mmol）を用い同様の反応を行い４，
５，６，８−テトラ−Ｏ−ベンジル−１，２−ジデオキ
シ−Ｄ−エリスロ−Ｄ−グルコ−３−オクツロピラノシ
ルジメチルホスフィノチオエート９３mg（２７％）を得
る。１ Ｈ−ＮＭＲ； ０．７〜１．１（ｔ，３Ｈ）， １．６〜２．１（ｍ，６Ｈ）， ２．２〜２．７（ｍ，
２Ｈ）， ３．３〜５．２（ｍ，１４Ｈ）， ７．１〜
７．５（ｍ，２０Ｈ） 実施例１ 参考例１で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物２０４mg（０．３２mmol）、３β−コレスタノール１
２６mg（０．３２mmol）、過塩素酸トリチル１１mg
（０．０３２mmol）、モレキュラーシーブス粉末をベン
ゼン１mlに懸濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素
水素ナトリウム水溶液５mlを加え反応を停止する。反応
混合物をろ過後ジクロロメタンで油出し、有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シ
リカゲル薄層クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル
＝４：１）で精製したところ目的のグリコシル化合物が
１６７mg（５７％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲ； ０．２〜２．２（ｍ，４６Ｈ），３．
３〜５．１（ｍ，１６Ｈ）， ７．０〜７．６（ｍ，２
０Ｈ） 実施例２ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物９７mg（０．１５mmol）、３β−コレスタノール５８
mg（０．１５mmol）、過塩素酸トリチル５mg（０．０１
５mmol）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１mlに
懸濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素水素ナトリ
ウム水溶液５mlを加え反応を停止する。反応混合物をろ
過後ジクロロメタンで油出し、有機層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄
層クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）
で精製したところ目的のグリコシル化合物が１１１mg
（８０％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲ； ０．２〜２．２（ｍ，４９Ｈ），３．
１〜５．２（ｍ，１５Ｈ）， ７．０〜７．５（ｍ，２
０Ｈ） 実施例３ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物７８mg（０．１２mmol）、３β−コレスタノール４７
mg（０．１２mmol）、過塩素酸トリチル２．３mg（０．
００６mmol）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１
mlに懸濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素水素ナ
トリウム水溶液５mlを加え反応を停止する。以後実施例
１と同様の処理を行いグリコシル化合物が７９mg（７１
％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲは実施例２に同じ。
実施例４ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物７６mg（０．１２mmol）、３β−コレスタノール３８
mg（０．１mmol）、ヘキサクロロアンチモン酸トリチル
５mg（０．０１mmol）、モレキュラーシーブス粉末をベ
ンゼン１mlに懸濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭
素水素ナトリウム水溶液５mlを加え反応を停止する。反
応混合物をろ過後ジクロロメタンで油出し、有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用
シリカゲル薄層クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチ
ル＝４：１）で精製したところ目的のグリコシル化合物
が４６mg（４３％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲは実施例２に同じ。
物７６mg（０．１２mmol）、３β−コレスタノール３８
mg（０．１mmol）、ヘキサクロロアンチモン酸トリチル
５mg（０．０１mmol）、モレキュラーシーブス粉末をベ
ンゼン１mlに懸濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭
素水素ナトリウム水溶液５mlを加え反応を停止する。反
応混合物をろ過後ジクロロメタンで油出し、有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用
シリカゲル薄層クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチ
ル＝４：１）で精製したところ目的のグリコシル化合物
が４６mg（４３％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲは実施例２に同じ。
実施例５ 参考例１で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物６７mg（０．１mmol）、３β−コレスタノール３８mg
（０．１mmol），テトラフルオロホウ酸トリチル３mg
（０．０１mmol），モレキュラーシーブス粉末をベンゼ
ン１mlに懸濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素水
素ナトリウム水溶液５mlを加え反応を停止する。反応混
合物をろ過後塩化メチレンで油出し、有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカ
ゲル薄層クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝
４：１）で精製したところ目的のグリコシド化合物が３
３mg（３４％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲは実施例２に同じ。
物６７mg（０．１mmol）、３β−コレスタノール３８mg
（０．１mmol），テトラフルオロホウ酸トリチル３mg
（０．０１mmol），モレキュラーシーブス粉末をベンゼ
ン１mlに懸濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素水
素ナトリウム水溶液５mlを加え反応を停止する。反応混
合物をろ過後塩化メチレンで油出し、有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカ
ゲル薄層クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝
４：１）で精製したところ目的のグリコシド化合物が３
３mg（３４％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲは実施例２に同じ。
実施例６ 参考例１で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物６７mg（０．１mmol）、３β−コレスタノール３８mg
（０．１mmol）、５塩化スズトリチル５mg（０．０１mm
ol）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１mlに懸濁
させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素水素ナトリウム
水溶液５mlを加え反応を停止する。反応混合物をろ過後
ジクロロメタンで油出し、有機層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層ク
ロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精
製したところ目的のグリコシル化合物が４１mg（４３
％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲは実施例２に同じ。
物６７mg（０．１mmol）、３β−コレスタノール３８mg
（０．１mmol）、５塩化スズトリチル５mg（０．０１mm
ol）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１mlに懸濁
させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素水素ナトリウム
水溶液５mlを加え反応を停止する。反応混合物をろ過後
ジクロロメタンで油出し、有機層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層ク
ロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精
製したところ目的のグリコシル化合物が４１mg（４３
％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲは実施例２に同じ。
実施例７ 参考例３で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物８８mg（０．１３mmol）、３β−コレスタノール５１
mg（０．１３mmol）、過塩素酸トリチル４mg（０．０１
mmol）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１mlに懸
濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素水素ナトリウ
ム水溶液５mlを加え反応を停止する。反応混合物をろ過
後ジクロロメタンで油出し、有機層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層
クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で
精製したところ目的のグリコシル化合物が４９mg（３９
％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲ； ０．２〜２．２（ｍ，５１Ｈ），３．
３〜５．１（ｍ，１５Ｈ）， ７．０〜７．５（ｍ，２
０Ｈ） 実施例８ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物８４mg（０．１３mmol）、１）−メントール２０mg
（０．１３mmol）、過塩素酸トリチル４．５mg（０．０
１３mmol）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１ml
に懸濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素水素ナト
リウム水溶液５mlを加え反応を停止する。反応混合物を
ろ過後ジクロロメタンで油出し、有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル
薄層クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝４：
１）で精製したところ目的のグリコシル化合物が４８mg
（５３％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲ； ０．６〜１．８（ｍ，１８Ｈ），２．
０〜２．６（ｍ，３Ｈ），３．１〜５．１（ｍ，１５
Ｈ）， ６．９〜７．４（ｍ，２０Ｈ） 実施例９ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物８４mg（０．１３mmol）、１，２−３，４−ジ−Ｏ−
イソプロピリデン−Ｄ−ガラクトース３４mg（０．１３
mmol）、過塩素酸トリチル４mg（０．０１３mmol）、モ
レキュラーシーブス粉末をベンゼン１mlに懸濁させ、３
０分間室温で攪はんし飽和炭素水素ナトリウム水溶液５
mlを加え反応を停止する。反応混合物をろ過後ジクロロ
メタンで油出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
て、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロマト
（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製した
ところ目的のグリコシル化合物が８４mg（８１％）得ら
れた。１ Ｈ−ＮＭＲ； １．２〜１．６（ｍ，１５Ｈ），３．
１〜５．１（ｍ，２０Ｈ）， ５．４〜５．６（ｄ，１
Ｈ），７．０〜７．５（ｍ，２０Ｈ） 実施例１０ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物７８mg（０．１２mmol）、ｎ−オクタノール１６mg
（０．１２mmol）、過塩素酸トリチル４mg（０．０１３
mmol）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１mlに懸
濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素水素ナトリウ
ム水溶液５mlを加え反応を停止する。反応混合物をろ過
後ジクロロメタンで油出し、有機層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層
クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で
精製したところ目的のグリコシル化合物が６６mg（８２
％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲ； ０．６〜１．９（ｍ，１８Ｈ），３．
２〜５．１（ｍ，１６Ｈ）， ７．１〜７．４（ｍ，２
０Ｈ）
物８８mg（０．１３mmol）、３β−コレスタノール５１
mg（０．１３mmol）、過塩素酸トリチル４mg（０．０１
mmol）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１mlに懸
濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素水素ナトリウ
ム水溶液５mlを加え反応を停止する。反応混合物をろ過
後ジクロロメタンで油出し、有機層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層
クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で
精製したところ目的のグリコシル化合物が４９mg（３９
％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲ； ０．２〜２．２（ｍ，５１Ｈ），３．
３〜５．１（ｍ，１５Ｈ）， ７．０〜７．５（ｍ，２
０Ｈ） 実施例８ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物８４mg（０．１３mmol）、１）−メントール２０mg
（０．１３mmol）、過塩素酸トリチル４．５mg（０．０
１３mmol）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１ml
に懸濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素水素ナト
リウム水溶液５mlを加え反応を停止する。反応混合物を
ろ過後ジクロロメタンで油出し、有機層を無水硫酸ナト
リウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル
薄層クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝４：
１）で精製したところ目的のグリコシル化合物が４８mg
（５３％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲ； ０．６〜１．８（ｍ，１８Ｈ），２．
０〜２．６（ｍ，３Ｈ），３．１〜５．１（ｍ，１５
Ｈ）， ６．９〜７．４（ｍ，２０Ｈ） 実施例９ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物８４mg（０．１３mmol）、１，２−３，４−ジ−Ｏ−
イソプロピリデン−Ｄ−ガラクトース３４mg（０．１３
mmol）、過塩素酸トリチル４mg（０．０１３mmol）、モ
レキュラーシーブス粉末をベンゼン１mlに懸濁させ、３
０分間室温で攪はんし飽和炭素水素ナトリウム水溶液５
mlを加え反応を停止する。反応混合物をろ過後ジクロロ
メタンで油出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
て、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロマト
（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製した
ところ目的のグリコシル化合物が８４mg（８１％）得ら
れた。１ Ｈ−ＮＭＲ； １．２〜１．６（ｍ，１５Ｈ），３．
１〜５．１（ｍ，２０Ｈ）， ５．４〜５．６（ｄ，１
Ｈ），７．０〜７．５（ｍ，２０Ｈ） 実施例１０ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物７８mg（０．１２mmol）、ｎ−オクタノール１６mg
（０．１２mmol）、過塩素酸トリチル４mg（０．０１３
mmol）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１mlに懸
濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭素水素ナトリウ
ム水溶液５mlを加え反応を停止する。反応混合物をろ過
後ジクロロメタンで油出し、有機層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層
クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で
精製したところ目的のグリコシル化合物が６６mg（８２
％）得られた。１ Ｈ−ＮＭＲ； ０．６〜１．９（ｍ，１８Ｈ），３．
２〜５．１（ｍ，１６Ｈ）， ７．１〜７．４（ｍ，２
０Ｈ）
Claims (3)
- 【請求項１】ケトースのアノメリック位がケタール結合
している糖の水酸基の水素が一般式 （式中Ｒ１，Ｒ２は非置換または置換されたアルキル基
あるいはアリール基を示す。）で表されるホスフィノチ
オイル基で置換されたケトースのアノメリック位チオホ
スフィン酸エステル誘導体と、脂肪族アルコール、芳香
族アルコール、ステロイドアルコール、グリセロール誘
導体、糖誘導体、アミノ酸誘導体から選ばれるアルコー
ルとをトリチル塩を共存させ反応させることを特徴とす
るケトースのグリコシド系化合物の製造法。 - 【請求項２】ケトースのアノメリック位チオホスフィン
酸エステルとしてジメチルチオホスフィン酸エステル誘
導体を用いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の製造法。 - 【請求項３】トリチル塩として触媒量の過塩素酸トリチ
ルを用いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6015089A JPH0653754B2 (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | ケトースのグリコシド系化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6015089A JPH0653754B2 (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | ケトースのグリコシド系化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02240093A JPH02240093A (ja) | 1990-09-25 |
| JPH0653754B2 true JPH0653754B2 (ja) | 1994-07-20 |
Family
ID=13133838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6015089A Expired - Lifetime JPH0653754B2 (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | ケトースのグリコシド系化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0653754B2 (ja) |
-
1989
- 1989-03-13 JP JP6015089A patent/JPH0653754B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02240093A (ja) | 1990-09-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2751385B2 (ja) | エリスロマイシンａオキシム及びその塩の製造方法 | |
| EP0418925B1 (en) | Method of producing (S)-4-hydroxymethyl-gamma-lactone | |
| JPH0653754B2 (ja) | ケトースのグリコシド系化合物の製造法 | |
| JPH0768163B2 (ja) | シクロペンテノン誘導体の製法 | |
| CN108929227B (zh) | 一种苄卤氧化自偶联合成芳香苄酯的方法 | |
| US2543957A (en) | Organic nitro diol derivatives and metal salts thereof | |
| JPH0699460B2 (ja) | ２―デオキシーアルドースのグリコシド系化合物の製造法 | |
| JPS6053039B2 (ja) | Ｎ−アセチル／イラミン酸誘導体およびその製造方法 | |
| JP3015200B2 (ja) | プロペン誘導体の製造方法 | |
| EP0240338B1 (en) | Butenoic acid derivatives | |
| JP2571939B2 (ja) | シクロペンテノン誘導体及びその製造法 | |
| JP2832480B2 (ja) | １，３―ペンタジエン誘導体及びその製造法 | |
| JP3097281B2 (ja) | フロログルシン型フェノールのベンジルエーテルの合成法 | |
| JPS6054361A (ja) | インド−ル誘導体の製造方法 | |
| JPS6152839B2 (ja) | ||
| JPH0610164B2 (ja) | イソプレニル安息香酸エステル誘導体及びその製法 | |
| JP4099630B2 (ja) | パーフルオロアルキル化合物の製造方法 | |
| JP3058399B2 (ja) | ［［４−置換アセチル−ｏ−フェニレン］ジオキシ］ジ酢酸誘導体及びその製造方法 | |
| JPH04283599A (ja) | グルクロン酸誘導体のグリコシド系化合物の製造法 | |
| JPS6159637B2 (ja) | ||
| JP2001081097A (ja) | ヒノキチオールアセトグルコシドおよびその製造方法 | |
| SU411079A1 (ja) | ||
| JP2668435B2 (ja) | シクロペンテノン誘導体及びその製造法 | |
| JPH07116213B2 (ja) | 新規なｎ▲上６▼，２′―ｏ―ジ置換―アデノシン―３′，５′―環状リン酸及びその製法 | |
| JP2663295B2 (ja) | ヘキサジエン酸誘導体及びその製法 |