JPH02240093A - ケトースのグリコシド系化合物の製造法 - Google Patents
ケトースのグリコシド系化合物の製造法Info
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- JPH02240093A JPH02240093A JP6015089A JP6015089A JPH02240093A JP H02240093 A JPH02240093 A JP H02240093A JP 6015089 A JP6015089 A JP 6015089A JP 6015089 A JP6015089 A JP 6015089A JP H02240093 A JPH02240093 A JP H02240093A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はケトースのアノメリック位チオホスフィン酸エ
ステル誘導体とアルコールを反応させ、グリコシド系化
合物を製造する方法に関するものである．ケトースのグ
リコシド系化合物は制ガン剤、毒素中和剤、神経細胞生
長剤、甘味科等として医薬、農薬などの用途に注目をあ
びているが、その合成には不安定な中間体を使用し、工
業的に優れた方法は未だ知られていない． 従来知られている方法はハロゲノケトースとアルコー・
ルな反応させるが、原料のハロゲノケ｝一スの安定性が
乏しいこと、高度に脱水しｋ反応条件が必要なこと等欠
点が多く工業化は困難である．本発明者は上記の事情に
鑑み鋭意研究した結果、ケトースのアノメリツク位チオ
ホスフィン酸エステル誘導体を用い、 トリチル塩を活
性化剤として使用することで目的を達しうることを知り
本発明に到達した． 以下、本発明について詳細に説明する．本発明の原料の
１つ、ケトースのアノメリツク位子オホスフィン酸エス
テル誘導体は、アノメリック位の水酸基が遊離のケトー
スとハロゲン化ホスフィノチオイルと塩基存在下合成で
きる．ケトースは周知のものを使用できる．具体的には
トアセチルノイラミン酸、３−デオキシ−２一オクツロ
ソン酸、フルクトース等天然型のもの、あるいは、合成
によりＣ−１位の水素をアルキル基、アリール基、カル
ボキシル基、二トリル基等で置換された非天然型ケトー
スなどを挙げることかでき る． ハロゲン化ホスフィノチオイルとしては周知のものを使
用できる．例えば塩化ジメチルホスフイノチオイル、臭
化ジメチルホスフィノチオイル、塩化ジフエニルホスフ
ィノチオイル等が挙げられる． 塩基としては周知のものを使用できる。例えば水酸化ナ
トリウム、 トリエチルアミン、 １，８ージアザビシ
クロ［５．４．０コウンデカ−７−エン、 ｎ −ブチ
ルリチウム等を挙げることができる。本発明の池の原料
の１つとして使用されるアルコールは周知のものを使用
できる，例えば脂肪族アルコール、芳香旅アルコール、
ステロイドアルコール、グリセロール誘導体、糖誘導体
、アミノ酸誘導体が挙げられる．具体的にはメタノール
、エタノール、オクチルアルコール、フェノール、ベン
ジルアルコール、 １、 ２、 ３、４−ジイソプロビ
リデンガラクトース、 ３β−コレスタノール、 イソ
ブロビリデングリセロール、Ｎ−ペンジルオキシカルポ
ニルーし−セリンメチルエステルなどの一例が挙げられ
る． 続いてケトースのアノメリック位チオホスフィン酸エス
テルと前述したアルコールとの反応について説明する，
この方法ではこれらのモル比は特に制限はなくアルコー
ルを大過剰に用いてもよいが、通常は１〜数倍モル等量
である． 溶媒はアルコールを除く周知の有機溶媒を使用で吉る．
例えばエーテル、ベンゼン、 トルエン、ジクロロメタ
ン等を挙げることができる．反応温度は特に制限はない
が、−４０℃〜６０℃好ましくは−２０℃〜４０℃であ
る．反応時間は反応温度、原料の種類等によってことな
るが、数分〜数十時閏の範囲である． 反応を行うにあたってはケトースのアノメリック位チオ
ホスフィン酸エステル誘導体に対し、周知のトリチル塩
の共存下で行う。 トリチル塩は３〜２００モル％で行
うこともできるが、好ましくは５〜５０モル％で使用す
る．周知のトリチル塩としては過塩素酸トリチル、過塩
素酸ｐ−メトシキフエニルジフエニルメチル、ペンタク
ロルスズ酸トリチル、ヘキサク口ａアンチモン酸トリチ
ル、テトラフルオ口ホウ酸トリテル等を挙げることがで
きる。これらの活性剤となる塩は特に無水状態にするこ
どもなく反応系にモＩノキュラーシーブス等の脱水剤を
共存させるだけで十分である。
ステル誘導体とアルコールを反応させ、グリコシド系化
合物を製造する方法に関するものである．ケトースのグ
リコシド系化合物は制ガン剤、毒素中和剤、神経細胞生
長剤、甘味科等として医薬、農薬などの用途に注目をあ
びているが、その合成には不安定な中間体を使用し、工
業的に優れた方法は未だ知られていない． 従来知られている方法はハロゲノケトースとアルコー・
ルな反応させるが、原料のハロゲノケ｝一スの安定性が
乏しいこと、高度に脱水しｋ反応条件が必要なこと等欠
点が多く工業化は困難である．本発明者は上記の事情に
鑑み鋭意研究した結果、ケトースのアノメリツク位チオ
ホスフィン酸エステル誘導体を用い、 トリチル塩を活
性化剤として使用することで目的を達しうることを知り
本発明に到達した． 以下、本発明について詳細に説明する．本発明の原料の
１つ、ケトースのアノメリツク位子オホスフィン酸エス
テル誘導体は、アノメリック位の水酸基が遊離のケトー
スとハロゲン化ホスフィノチオイルと塩基存在下合成で
きる．ケトースは周知のものを使用できる．具体的には
トアセチルノイラミン酸、３−デオキシ−２一オクツロ
ソン酸、フルクトース等天然型のもの、あるいは、合成
によりＣ−１位の水素をアルキル基、アリール基、カル
ボキシル基、二トリル基等で置換された非天然型ケトー
スなどを挙げることかでき る． ハロゲン化ホスフィノチオイルとしては周知のものを使
用できる．例えば塩化ジメチルホスフイノチオイル、臭
化ジメチルホスフィノチオイル、塩化ジフエニルホスフ
ィノチオイル等が挙げられる． 塩基としては周知のものを使用できる。例えば水酸化ナ
トリウム、 トリエチルアミン、 １，８ージアザビシ
クロ［５．４．０コウンデカ−７−エン、 ｎ −ブチ
ルリチウム等を挙げることができる。本発明の池の原料
の１つとして使用されるアルコールは周知のものを使用
できる，例えば脂肪族アルコール、芳香旅アルコール、
ステロイドアルコール、グリセロール誘導体、糖誘導体
、アミノ酸誘導体が挙げられる．具体的にはメタノール
、エタノール、オクチルアルコール、フェノール、ベン
ジルアルコール、 １、 ２、 ３、４−ジイソプロビ
リデンガラクトース、 ３β−コレスタノール、 イソ
ブロビリデングリセロール、Ｎ−ペンジルオキシカルポ
ニルーし−セリンメチルエステルなどの一例が挙げられ
る． 続いてケトースのアノメリック位チオホスフィン酸エス
テルと前述したアルコールとの反応について説明する，
この方法ではこれらのモル比は特に制限はなくアルコー
ルを大過剰に用いてもよいが、通常は１〜数倍モル等量
である． 溶媒はアルコールを除く周知の有機溶媒を使用で吉る．
例えばエーテル、ベンゼン、 トルエン、ジクロロメタ
ン等を挙げることができる．反応温度は特に制限はない
が、−４０℃〜６０℃好ましくは−２０℃〜４０℃であ
る．反応時間は反応温度、原料の種類等によってことな
るが、数分〜数十時閏の範囲である． 反応を行うにあたってはケトースのアノメリック位チオ
ホスフィン酸エステル誘導体に対し、周知のトリチル塩
の共存下で行う。 トリチル塩は３〜２００モル％で行
うこともできるが、好ましくは５〜５０モル％で使用す
る．周知のトリチル塩としては過塩素酸トリチル、過塩
素酸ｐ−メトシキフエニルジフエニルメチル、ペンタク
ロルスズ酸トリチル、ヘキサク口ａアンチモン酸トリチ
ル、テトラフルオ口ホウ酸トリテル等を挙げることがで
きる。これらの活性剤となる塩は特に無水状態にするこ
どもなく反応系にモＩノキュラーシーブス等の脱水剤を
共存させるだけで十分である。
本発明はこのように有用な化合物を収率良く、緩和な条
件下で製造でき、副生成物も少なく、その工業的価値は
大である． 以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが本発
明はその要旨を越えない限り、以下の実施例により何等
の制限もうけるものではない。
件下で製造でき、副生成物も少なく、その工業的価値は
大である． 以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが本発
明はその要旨を越えない限り、以下の実施例により何等
の制限もうけるものではない。
参考例１
３４ ２ 〜 ３．１（ｍ＋
１５Ｈ），
７．
０ 〜 ７。
４（ｓ．２０ 打）
１， ３， ４． ５−テトラーＯ−ベンジルー
Ｄ−アラビノー２−へキツロビラノース２２０ｍｍｇ（
０．４１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ２ｍｌに溶解し、水冷下１
．ｌ５Ｍのヘキサン溶液としたブチルリチウム０．３ｍ
ｌ （０．４５ｍｍｏ！）を加え、 １５分攪はんし塩
化ジメチルホスフイノチオイル６３ｍｇ（０． ４９
ｍｍｏｌ）をＴＨＦ １ｍ＋に溶解して加える．２時間
Ｏ℃で攪はんし、水を加えてジクロ口メタンで抽出し、
有機層を無水ｌｉｌｔ酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒
を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロマトく屓閏剤；
ヘキサン： 詐酸エチル＝４：１）で精製して１，
３， ４． ５−テトラー０−ベンジルーＤ−ア
ラビノー２−へキツロビラノシルジメチルホスフイノチ
オエート２０４ｍｇ （７９％）が得られた． Ｈ−ＮＭＲ； １．６〜２． ０ （ｄ， ６
｝！）．参考例２ 参考例１の １． ３， ４． ５−テトラー０
−ベンジルーＤ−アラビノー２−へキッロビラノースの
代わりにグルコースのＣ−１位の水素がメチル基で置換
された３， ４， ３． ７−テトラー０−ベン
ジルー１−デオキシーＤ−グルコー２−ヘブッロビラノ
ース４ｆ２ｍｇ（０．７４ｍｍｏｌ）を用い同様の反応
を行い３， ４． ５． ７−テトラーＯ−ベン
ジル−１−デオキシーＤ−グルコー２−ヘブツロビラノ
シルジメチルホスフィノチオエー｝２００ｍｇ （４
２ ％ ） を得 る．ＩＨ−ＮＭＲ； １．７
〜２． １ （ｔ， ９Ｈ）．３． ５ 〜５．
１（ｍ， １４Ｈ）， ７． ０ 〜７．
５（ｍ，２０Ｈ） 参考例３ 参考例１の１． ３， ４． ５−テトラー０−
ベンジルーＤ−アラビノー２−へキツロビラノースの代
わりにグルコースのＣ−１位の水素がエチル基で置換さ
れた４， ５， ６． ８−テトラー０−ベンジ
ルー１． ２−ジデオキシーＤ一エリスコーＤーグル
コー３−オクツロビラノース２９５ｍｇ（０．５２ｍｍ
ｏ＋）を用い同様の反応を行い４，５，６．８−テトラ
ーＯ−ベンジル−１，２−ジデオキシ−Ｄ一エリスロー
Ｄ−グルコー３−オクツロビラノシルジメチルホスフィ
ノチオエート９３ｍｇ（２７％）を得る． ’Ｈ−ＮＭＲ； ０．７〜１． １ （ｔ，
３Ｈ），１． ６ 〜２． １ （ｍ， ６Ｈ）
， ２． ２ 〜２． ７（ｍ， ２Ｈ），
３． 吐づ．２（ｍ， １４Ｈ），？．
ｓ 〜７． ５（ｍ． ２０Ｈ）′＃考例１で合成
したジメチルホスフィノチオエート化合物２０４ｍｇ
（０． ３２ｍｍｏ ｌ）、３Ｃ−コレスタノール１
２６ｍｇ （０．３２ｍｍｏ１〉、過塩業酸トリチル
ｌｌｍｇ（０．０３２ｍｍｏｌ）、モレキュラーシーブ
ス粉末をベンゼンｌｍｌに懸一濁させ、３０分間室温で
攪はんし飽和、炭酸水素ナトリウム水溶液５ ｍ ｌを
加え反応を俸止する．反応混合物をろ過後ジクロ口メタ
ンで抽出し、有機層を無水Ｆａｒｅ！Ｉナトリウムで乾
燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロマ
ト（Ｊｉｌｍ剤； ヘキサン： 酢酸エチル＝４：１）
で精製したところ目的のグリコシル化合物が１６７ｍｇ
（５７％）得られた． ’Ｈ−ＮＭＲ； ０． ２ 〜２． ２ （
ｍ， ４６Ｈ），３． ＣＬ〜５． １（ｍ．
１６Ｈ）， ７． ０ 〜７、６（ｍ，２０Ｈ
） 実施例２ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物９７ｍｇ （０． １ １５ｍｍｏ ｌ）、３Ｑ一
ニレスタノール５８ｍｇ（０． １５ｍｍｏｌ）、過
塩素酸トリチル５ｍｇ（０． ０１！５ｍｍｏｌ）、
モレキュラーシーブス粉末をベンゼンｌｍｌに懸濁させ
、３０分間室温で攪はんし飽和炭酸水素ナ実施例３ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
＊７８ｍｇ（０． １２ｍｍｏｌ）．３ｆｉ’−プレ
スタノール４７ｍｇ （０． １ ２ｍｍｏ ｌ）＋
過塩素酸トリチル２．３ｍｇ（０．００６ｍｍｏｌ），
モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１ｍｌに懸濁させ
、３０分閘室温で攪はんし飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液５ｍｌを加え反応を停止する。以後実施例１と同様の
処理を行いグリコシル化合物７９ｍｇ （７ １％）を
得た．’Ｈ−ＮＭＲは実施例２に同じ。
Ｄ−アラビノー２−へキツロビラノース２２０ｍｍｇ（
０．４１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ２ｍｌに溶解し、水冷下１
．ｌ５Ｍのヘキサン溶液としたブチルリチウム０．３ｍ
ｌ （０．４５ｍｍｏ！）を加え、 １５分攪はんし塩
化ジメチルホスフイノチオイル６３ｍｇ（０． ４９
ｍｍｏｌ）をＴＨＦ １ｍ＋に溶解して加える．２時間
Ｏ℃で攪はんし、水を加えてジクロ口メタンで抽出し、
有機層を無水ｌｉｌｔ酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒
を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロマトく屓閏剤；
ヘキサン： 詐酸エチル＝４：１）で精製して１，
３， ４． ５−テトラー０−ベンジルーＤ−ア
ラビノー２−へキツロビラノシルジメチルホスフイノチ
オエート２０４ｍｇ （７９％）が得られた． Ｈ−ＮＭＲ； １．６〜２． ０ （ｄ， ６
｝！）．参考例２ 参考例１の １． ３， ４． ５−テトラー０
−ベンジルーＤ−アラビノー２−へキッロビラノースの
代わりにグルコースのＣ−１位の水素がメチル基で置換
された３， ４， ３． ７−テトラー０−ベン
ジルー１−デオキシーＤ−グルコー２−ヘブッロビラノ
ース４ｆ２ｍｇ（０．７４ｍｍｏｌ）を用い同様の反応
を行い３， ４． ５． ７−テトラーＯ−ベン
ジル−１−デオキシーＤ−グルコー２−ヘブツロビラノ
シルジメチルホスフィノチオエー｝２００ｍｇ （４
２ ％ ） を得 る．ＩＨ−ＮＭＲ； １．７
〜２． １ （ｔ， ９Ｈ）．３． ５ 〜５．
１（ｍ， １４Ｈ）， ７． ０ 〜７．
５（ｍ，２０Ｈ） 参考例３ 参考例１の１． ３， ４． ５−テトラー０−
ベンジルーＤ−アラビノー２−へキツロビラノースの代
わりにグルコースのＣ−１位の水素がエチル基で置換さ
れた４， ５， ６． ８−テトラー０−ベンジ
ルー１． ２−ジデオキシーＤ一エリスコーＤーグル
コー３−オクツロビラノース２９５ｍｇ（０．５２ｍｍ
ｏ＋）を用い同様の反応を行い４，５，６．８−テトラ
ーＯ−ベンジル−１，２−ジデオキシ−Ｄ一エリスロー
Ｄ−グルコー３−オクツロビラノシルジメチルホスフィ
ノチオエート９３ｍｇ（２７％）を得る． ’Ｈ−ＮＭＲ； ０．７〜１． １ （ｔ，
３Ｈ），１． ６ 〜２． １ （ｍ， ６Ｈ）
， ２． ２ 〜２． ７（ｍ， ２Ｈ），
３． 吐づ．２（ｍ， １４Ｈ），？．
ｓ 〜７． ５（ｍ． ２０Ｈ）′＃考例１で合成
したジメチルホスフィノチオエート化合物２０４ｍｇ
（０． ３２ｍｍｏ ｌ）、３Ｃ−コレスタノール１
２６ｍｇ （０．３２ｍｍｏ１〉、過塩業酸トリチル
ｌｌｍｇ（０．０３２ｍｍｏｌ）、モレキュラーシーブ
ス粉末をベンゼンｌｍｌに懸一濁させ、３０分間室温で
攪はんし飽和、炭酸水素ナトリウム水溶液５ ｍ ｌを
加え反応を俸止する．反応混合物をろ過後ジクロ口メタ
ンで抽出し、有機層を無水Ｆａｒｅ！Ｉナトリウムで乾
燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロマ
ト（Ｊｉｌｍ剤； ヘキサン： 酢酸エチル＝４：１）
で精製したところ目的のグリコシル化合物が１６７ｍｇ
（５７％）得られた． ’Ｈ−ＮＭＲ； ０． ２ 〜２． ２ （
ｍ， ４６Ｈ），３． ＣＬ〜５． １（ｍ．
１６Ｈ）， ７． ０ 〜７、６（ｍ，２０Ｈ
） 実施例２ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物９７ｍｇ （０． １ １５ｍｍｏ ｌ）、３Ｑ一
ニレスタノール５８ｍｇ（０． １５ｍｍｏｌ）、過
塩素酸トリチル５ｍｇ（０． ０１！５ｍｍｏｌ）、
モレキュラーシーブス粉末をベンゼンｌｍｌに懸濁させ
、３０分間室温で攪はんし飽和炭酸水素ナ実施例３ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
＊７８ｍｇ（０． １２ｍｍｏｌ）．３ｆｉ’−プレ
スタノール４７ｍｇ （０． １ ２ｍｍｏ ｌ）＋
過塩素酸トリチル２．３ｍｇ（０．００６ｍｍｏｌ），
モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１ｍｌに懸濁させ
、３０分閘室温で攪はんし飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液５ｍｌを加え反応を停止する。以後実施例１と同様の
処理を行いグリコシル化合物７９ｍｇ （７ １％）を
得た．’Ｈ−ＮＭＲは実施例２に同じ。
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し
ｉｇＩ製用シリカゲル渾層クロマト（眉間剤；ヘキサン
： 酢酸エチル＝４８１）で精製したところ目的のグリ
コシル化合物が１ １ １ｍｇ （８０％）得られた． ’Ｈ−ＮＭＲ； ０． ２ 〜２． ２ （
ｍ． ４９Ｈ）．３． １〜５． ２ （ｍ，
１５８）． ７． ０ 〜７．５（ｍ，２０Ｈ
） 実施例４ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物７８ｍｇ （０． １ ２ｍｍｏ Ｉ）、３（一コ
レスタノール３８ｍｇ（０． １ｍｍｏｌ．）、ヘキ
サクロロアンチモン酸トリチル１５ｍｇ（０．０１ｍｍ
ｏｌ）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１ｍｌに
懸濁させ、３０分問室ｔ星で攪はんし飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液５ｍ ｌを加え反応を俸止する．反応混合
物をろ過後ジクロ口メタンで抽出し、有機層を簾水硫酸
ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカ
ゲル薄層クロマト（７１間剤： ヘキサン： 酢酸エチ
ル＝４： １）で精製したところ目的のグリコシル化
合物が４６ｍｇ （４３％）得られた． ’Ｈ−ＮＭＲは実施例２に同じ。
ｉｇＩ製用シリカゲル渾層クロマト（眉間剤；ヘキサン
： 酢酸エチル＝４８１）で精製したところ目的のグリ
コシル化合物が１ １ １ｍｇ （８０％）得られた． ’Ｈ−ＮＭＲ； ０． ２ 〜２． ２ （
ｍ． ４９Ｈ）．３． １〜５． ２ （ｍ，
１５８）． ７． ０ 〜７．５（ｍ，２０Ｈ
） 実施例４ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物７８ｍｇ （０． １ ２ｍｍｏ Ｉ）、３（一コ
レスタノール３８ｍｇ（０． １ｍｍｏｌ．）、ヘキ
サクロロアンチモン酸トリチル１５ｍｇ（０．０１ｍｍ
ｏｌ）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１ｍｌに
懸濁させ、３０分問室ｔ星で攪はんし飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液５ｍ ｌを加え反応を俸止する．反応混合
物をろ過後ジクロ口メタンで抽出し、有機層を簾水硫酸
ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカ
ゲル薄層クロマト（７１間剤： ヘキサン： 酢酸エチ
ル＝４： １）で精製したところ目的のグリコシル化
合物が４６ｍｇ （４３％）得られた． ’Ｈ−ＮＭＲは実施例２に同じ。
実施例６
参考例１で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物６７ｍｇ （０． ｌｍｍｏ １）、３１９一コレ
スタノール３８ｍｇ （ｏ． ｌｍｍｏ ＋）＋テト
ラフルオ口ホウ酸トリチル３ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）
＋ モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１ｍｌに懸
濁させ、３０分問室温で攪はんし飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液５ｍｌを加え反応を停止する．反応混合物をろ
過後塩化メチレンで抽出し、膚機層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調整用シリカゲル薄層
クロマト（雇間剤： ヘキサン： 酢酸エチル＝４：１
）で精製したところ目的のグリコシド化合物が３３ｍｇ
（３４％）得られた． ’Ｈ−ＮＭＲは実施例２に同じ． 実施例６ 参考例１で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
＄６７ｍｇ（０． １ｍｍｏｌ）、３ｐ−コレスタノ
ール３Ｂｍｇ （０． １ｍｍｏ ｌ）、５塩化スズ
トリチル５ｍｇ （０．Ｏ ｌｍｍｏ ｌ）、モレキュ
ラーシーブス粉末をベンゼンｌｍｌに懸濁させ、３０分
ｆｆ！室温で攪はん（ノ飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
５ｍｌを加え反姿を停止する。反応混合物をろ過後ジク
ロロメタンで抽出し、壱機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロマ
ト（展開剤；ヘキサン： 酢酸エチル＝４＋１）で精製
したところ目的のグリコシル化合物が４１ｍｇ（４３％
）得られた。
物６７ｍｇ （０． ｌｍｍｏ １）、３１９一コレ
スタノール３８ｍｇ （ｏ． ｌｍｍｏ ＋）＋テト
ラフルオ口ホウ酸トリチル３ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）
＋ モレキュラーシーブス粉末をベンゼン１ｍｌに懸
濁させ、３０分問室温で攪はんし飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液５ｍｌを加え反応を停止する．反応混合物をろ
過後塩化メチレンで抽出し、膚機層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調整用シリカゲル薄層
クロマト（雇間剤： ヘキサン： 酢酸エチル＝４：１
）で精製したところ目的のグリコシド化合物が３３ｍｇ
（３４％）得られた． ’Ｈ−ＮＭＲは実施例２に同じ． 実施例６ 参考例１で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
＄６７ｍｇ（０． １ｍｍｏｌ）、３ｐ−コレスタノ
ール３Ｂｍｇ （０． １ｍｍｏ ｌ）、５塩化スズ
トリチル５ｍｇ （０．Ｏ ｌｍｍｏ ｌ）、モレキュ
ラーシーブス粉末をベンゼンｌｍｌに懸濁させ、３０分
ｆｆ！室温で攪はん（ノ飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
５ｍｌを加え反姿を停止する。反応混合物をろ過後ジク
ロロメタンで抽出し、壱機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロマ
ト（展開剤；ヘキサン： 酢酸エチル＝４＋１）で精製
したところ目的のグリコシル化合物が４１ｍｇ（４３％
）得られた。
’ Ｈ − Ｎ Ｍ Ｒは実施例２に同じ。
実施例７
実施例８
参考例３で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
！８８ｍｇ （０． １ ３ｍｍｏ ｌ）、３Ｃーコ
レスタノール５ １ ｍｇ （０． １ ３ｍｍｏ
ｌ）、過塩素酸トリチル４ｍｇ （０． ０ １ｍｍ
ｏ ｌ）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼンｌｍｌ
に懸濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭酸水業ナト
リウム水溶液５ｍｌを加え反応を停止する．反応混合物
をろ過後ジクロ口メタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲ
ル薄層クロマト（展開剤；ヘキサン： 酢酸エチル＝４
：１）で精躾したところ目的のグリコシル化合物が４９
ｍｇ （３９％）得られた． Ｈ−ＮＭＲ； ０． ２ 〜２． ２
（ｍ， ５ １ １｛）．３． ３ 〜５．
１（ｍ， １１５Ｈ）， ．７． ０ 〜？
．ｉ５（ｍ，２０Ｈ） 参考例２で合成したジメチルホスフイノチオエート化合
物８４ｍｇ（０． １３ｍｍｏｌ）、 （１）一メン
トール２０ｍｇ （０． １ ３ｍｍｏ ｌ）、過塩
素酸トリチル４． ５ｍｇ （０． ０ １ ３ｍ
ｍｏ ＋）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼンｌｍ
ｌに！ｍｉｌｌさせ、３０分問室温で攪はんし飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液５ｍｌを加え反応を停止する．反
応混合物をろ過後ジクロ口メタンで抽出し、有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用
シリカゲル薄層クロマト（屋間剤；ヘキサン： 酢酸エ
チル＝４：１）で精製したところ目的のグリコシル化合
物が４ ８ｍｇ （５ ３％）得られた． ’Ｈ−ＮＭＲ； ０． ６ 〜１． ８ （ｍ
， １８Ｈ）．２． ０〜２． ６ （ｍ，
３Ｈ）， ３． １ 〜５． １ （ｍ， １
５Ｈ）， ８． ９ 〜７． ４（ｍ． ２０
Ｈ）寅施例９ Ｈ−ＮＭＲ； １． ２ 〜 １． ６
（ｍ， １５Ｈ）．３． １ 〜５．
１ （ｍ， ２０Ｈ）， ５． ４ 〜
１５． ６（ ｄ， １１｛）， ７．
０ 〜７． ５（ｍ， ２０Ｈ）実施例
ｌ０ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物８４ｍｇ （０． １ ３ｍｍｏ ｌ）、 １．２
−３．４−ジー０−イソブロビリデンーＤ−ガラクトー
ス３４ｍｇ （０． １ ３ｍｍｏ ＋）、過塩素酸
トリチル４ｍｇ （０．０ １ ３ｍｍｏ ｌ）、モレ
キュラーシーブス粉末をベンゼンＩｍｌに！！濁させ、
３０分間室温で攪はんし飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
５ｍｌを加え反応を俸止する．反応混合物をろ過後ジク
ロ口メタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥して、溶媒を減圧留去しｖ４ｉａ用シリカゲル薄層ク
ロマト（展開剤； ヘキサン： 詐酸エチル＝４：１）
で精製したところ目的のグリコシル化合物が８４ｍｇ（
８１％）得られた． 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
ＩＪ７８ｍｇ （０． １ ２ｍｍｏ ｌ）、ｎ−オ
クタノール１ ６ｍｇ （０． １ ２ｍｍｏ ｌ）
、過塩素酸トリチル４ｍｇ （０、０ １ ３ｍｍｏ
ｌ）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼンｌｍｌに懸
濁させ、３０分閏室温で攪はんし飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液５ｍｌを加え反応を停止する．反応混合物をろ
過後ジクロ口メタンで抽出し、冑機層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄
層クロマト（屓閏剤；ヘキサン： 詐酸エチル＝４：１
）で精製したところ目的のグリコシル化合物が６６ｍｇ
（８２％）得られた． ’｝ｌ−ＮＭＲ； Ｏ． １・ （ｍ． ｌ ８ Ｈ）． ３． ２ 〜 ６． （【ｎ， ６ Ｈ ）， ７． 〜 ７． （ ｍｌ ２ ０ Ｈ）
！８８ｍｇ （０． １ ３ｍｍｏ ｌ）、３Ｃーコ
レスタノール５ １ ｍｇ （０． １ ３ｍｍｏ
ｌ）、過塩素酸トリチル４ｍｇ （０． ０ １ｍｍ
ｏ ｌ）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼンｌｍｌ
に懸濁させ、３０分間室温で攪はんし飽和炭酸水業ナト
リウム水溶液５ｍｌを加え反応を停止する．反応混合物
をろ過後ジクロ口メタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲ
ル薄層クロマト（展開剤；ヘキサン： 酢酸エチル＝４
：１）で精躾したところ目的のグリコシル化合物が４９
ｍｇ （３９％）得られた． Ｈ−ＮＭＲ； ０． ２ 〜２． ２
（ｍ， ５ １ １｛）．３． ３ 〜５．
１（ｍ， １１５Ｈ）， ．７． ０ 〜？
．ｉ５（ｍ，２０Ｈ） 参考例２で合成したジメチルホスフイノチオエート化合
物８４ｍｇ（０． １３ｍｍｏｌ）、 （１）一メン
トール２０ｍｇ （０． １ ３ｍｍｏ ｌ）、過塩
素酸トリチル４． ５ｍｇ （０． ０ １ ３ｍ
ｍｏ ＋）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼンｌｍ
ｌに！ｍｉｌｌさせ、３０分問室温で攪はんし飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液５ｍｌを加え反応を停止する．反
応混合物をろ過後ジクロ口メタンで抽出し、有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用
シリカゲル薄層クロマト（屋間剤；ヘキサン： 酢酸エ
チル＝４：１）で精製したところ目的のグリコシル化合
物が４ ８ｍｇ （５ ３％）得られた． ’Ｈ−ＮＭＲ； ０． ６ 〜１． ８ （ｍ
， １８Ｈ）．２． ０〜２． ６ （ｍ，
３Ｈ）， ３． １ 〜５． １ （ｍ， １
５Ｈ）， ８． ９ 〜７． ４（ｍ． ２０
Ｈ）寅施例９ Ｈ−ＮＭＲ； １． ２ 〜 １． ６
（ｍ， １５Ｈ）．３． １ 〜５．
１ （ｍ， ２０Ｈ）， ５． ４ 〜
１５． ６（ ｄ， １１｛）， ７．
０ 〜７． ５（ｍ， ２０Ｈ）実施例
ｌ０ 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
物８４ｍｇ （０． １ ３ｍｍｏ ｌ）、 １．２
−３．４−ジー０−イソブロビリデンーＤ−ガラクトー
ス３４ｍｇ （０． １ ３ｍｍｏ ＋）、過塩素酸
トリチル４ｍｇ （０．０ １ ３ｍｍｏ ｌ）、モレ
キュラーシーブス粉末をベンゼンＩｍｌに！！濁させ、
３０分間室温で攪はんし飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
５ｍｌを加え反応を俸止する．反応混合物をろ過後ジク
ロ口メタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥して、溶媒を減圧留去しｖ４ｉａ用シリカゲル薄層ク
ロマト（展開剤； ヘキサン： 詐酸エチル＝４：１）
で精製したところ目的のグリコシル化合物が８４ｍｇ（
８１％）得られた． 参考例２で合成したジメチルホスフィノチオエート化合
ＩＪ７８ｍｇ （０． １ ２ｍｍｏ ｌ）、ｎ−オ
クタノール１ ６ｍｇ （０． １ ２ｍｍｏ ｌ）
、過塩素酸トリチル４ｍｇ （０、０ １ ３ｍｍｏ
ｌ）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼンｌｍｌに懸
濁させ、３０分閏室温で攪はんし飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液５ｍｌを加え反応を停止する．反応混合物をろ
過後ジクロ口メタンで抽出し、冑機層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄
層クロマト（屓閏剤；ヘキサン： 詐酸エチル＝４：１
）で精製したところ目的のグリコシル化合物が６６ｍｇ
（８２％）得られた． ’｝ｌ−ＮＭＲ； Ｏ． １・ （ｍ． ｌ ８ Ｈ）． ３． ２ 〜 ６． （【ｎ， ６ Ｈ ）， ７． 〜 ７． （ ｍｌ ２ ０ Ｈ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ケトースのアノメリツク位がケタール結合している
糖の水酸基の水素が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾１、Ｒ＾２は非置換または置換されたアルキ
ル基あるいはアリール基を示す。）で表されるホスフィ
ノチオイル基で置換されたケトースのアノメリック位チ
オホスフィン酸エステル誘導体と、脂肪族アルコール、
芳香族アルコール、ステロイドアルコール、グリセロー
ル誘導体、糖誘導体、アミノ酸誘導体から選ばれるアル
コールとをトリチル塩を共存させ反応させることを特徴
とするケトースのグリコシド系化合物の製造法。 ２、ケトースのアノメリック位チオホスフィン酸エステ
ルとしてジメチルチオホスフィン酸エステル誘導体を用
いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の製造
法。 ３、トリチル塩として触媒量の過塩素酸トリチルを用い
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の製造法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6015089A JPH0653754B2 (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | ケトースのグリコシド系化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6015089A JPH0653754B2 (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | ケトースのグリコシド系化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02240093A true JPH02240093A (ja) | 1990-09-25 |
| JPH0653754B2 JPH0653754B2 (ja) | 1994-07-20 |
Family
ID=13133838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6015089A Expired - Lifetime JPH0653754B2 (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | ケトースのグリコシド系化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0653754B2 (ja) |
-
1989
- 1989-03-13 JP JP6015089A patent/JPH0653754B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0653754B2 (ja) | 1994-07-20 |
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