JPH0656729A - 溶媒中でのハロゲン化方法および新規なビストリフルオロメチル−ポリフルオロアルコキシベンゼン類 - Google Patents

溶媒中でのハロゲン化方法および新規なビストリフルオロメチル−ポリフルオロアルコキシベンゼン類

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JPH0656729A
JPH0656729A JP5120410A JP12041093A JPH0656729A JP H0656729 A JPH0656729 A JP H0656729A JP 5120410 A JP5120410 A JP 5120410A JP 12041093 A JP12041093 A JP 12041093A JP H0656729 A JPH0656729 A JP H0656729A
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 毒性および揮発性を有する四塩化炭素の使用
を不必要とするハロゲン化方法を提供する。 【構成】 式(I) 〔式中、Rはフッ素、塩素、CF3、CF2H、CF2
Cl、CHFCF3、CF2CF3、またはCFClC
F3を表し、Halはフッ素または塩素を表し、aはゼ
ロ、1、2または3を表し、bはゼロ、1または2を表
し、cはゼロを表すか、Halがフッ素の場合には1、
2または3を表すこともでき、Halが塩素の場合には
1を表すこともでき、ここでaおよびbは同時にゼロを
表すことはなく、a+b+cの合計の最大値は6であ
る〕の化合物を溶媒として用いるハロゲン化方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は有利な溶媒の存在下で行なわれる
ハロゲン化方法、および新規な塩素を含有しないビスト
リフルオロメチル−ポリフルオロアルコキシベンゼン類
に関する。
【0002】ハロゲン化反応はしばしば溶媒の存在下で
のみうまく行うことができる。この目的のための溶媒
は、与えられた条件下でそれ自体がハロゲン化されては
ならず、またハロゲン化反応はしばしば基群を伴う反応
であるため基の連鎖機構を中断してはならない。
【0003】ハロゲン化工程のための溶媒により生じた
工業的必要性は四塩化炭素によって有効に満たされ、従
って該溶媒はこれまで広く用いられて来た。しかしなが
ら四塩化炭素はその毒性および揮発性故に、作業衛生お
よび環境保護の統制のために主要な努力を要するという
主な短所を有する。従ってその様は努力をより少ない程
度に要するかもしくは全く要さないハロゲン化のための
溶媒が必要である。
【0004】我々はそこで使用する溶媒が式(I)
【0005】
【化3】
【0006】式中Rはフッ素、塩素、CF3、CF2H、
CF2Cl、CHFCF3、CF2CF3、またはCFCl
CF3を表し、Halはフッ素または塩素を表し、aは
ゼロ、1、2または3を表し、bはゼロ、1または2を
表し、cはゼロまたはHalがフッ素の場合には1、2
または3を表すこともでき、Halが塩素の場合には1
を表すこともできる、ここでaおよびbは同時にゼロを
表すことはなく、a+b+cの合計の最大値は6であ
る、の1つあるいはそれ以上の化合物から成ることを特
徴とするハロゲン化方法を見出した。
【0007】式(I)において好ましくはRはフッ素、
CF3、CF2H、CHFCF3、またはCF2CF3を表
し、Halはフッ素または塩素を表し、aはゼロ、1ま
たは2を表し、bはゼロまたは1を表し、cはゼロまた
は1表をわし、ここでaおよびbは同時にゼロを表すこ
とはない。
【0008】式(I)において特に好ましくはRはフッ
素、CF2HまたはCHFCF3を表し、Halは塩素を
表し、aはゼロまたは2を表し、bはゼロまたは1を表
し、cはゼロまたは1を表し、ここでaおよびbは同時
に0を表すことはなく、a+b+cの合計の最大値は3
である。
【0009】2つのCF3基が存在する場合、これらは
相互関係においてメタ位にあり、OCF2−R基並びに
置換基群がさらに存在する場合上記置換基群はOCF2
−R基との関係においてメタ位またはパラ位にある。
【0010】本発明はまた式(II)
【0011】
【化4】
【0012】式中R′はフッ素、CF3、CF2H、CH
FCF3またはCF2CF3を表す、の新規な塩素を含有
しないビストリフルオロメチル−ポリフルオロアルコキ
シベンゼン類に関する。
【0013】式(II)においてR′は好ましくはフッ
素、CF2HまたはCHFCF3を表す。
【0014】式(II)において3つの置換基は、好ま
しくはベンゼン環で1,3,4−または1,3,5−位
に配位される。
【0015】式(II)の化合物類を除き式(I)の化
合物類は市販され、あるいは公知方法に従い、または公
知方法(たとえばPavlet and Leffle
r,Aromatic Fluorine Compo
unds,New York(1962)、P.47お
よびその次参照、およびヨーロッパ特許出願公開明細書
第0180818号、特に特許請求の範囲第11項照
合)と同様の方法で製造することができる。
【0016】式(II)の化合物類は式(III)
【0017】
【化5】
【0018】式中R″は水素、CF3またはCHFCF3
を表す、の化合物類をまず五塩化リン/塩素で塩素化
し、該塩素化生成物を無水フッ化水素または三フッ化ア
ンチモンと、必要ならば触媒の存在下で反応させる際に
製造することができる。
【0019】式(II)の化合物類はまた式(IV)
【0020】
【化6】
【0021】のフェノールをC2〜C3−過フルオロオレ
フィンと塩基(たとえば水酸化ナトリウム水)の存在下
で反応させる際にも製造することができる。
【0022】本発明によるハロゲン化は好ましくは塩素
化および臭素化である。可能なハロゲン化剤はたとえば
塩素、塩化スルフリル、臭素およびN−ブロモスクシン
イミドである。
【0023】反応パラメーター(たとえば基質、温度、
圧力、必要ならば触媒その他に対するハロゲン化剤の割
合)はこの種の反応にとっては通常の通り選択すること
ができる。
【0024】たとえば本発明により用いられる溶媒はハ
ロゲン化される物質に基づき、量5乃至1000%重量
部で使用することができる。この量は好ましくは20乃
至500%重量部である。たとえばハロゲン化される物
質を本発明により用いられる溶媒と共に初充填物として
入れ、次いでハロゲン化剤に計量して加えることが可能
である。また溶媒を必要ならば少量のハロゲン化される
物質と共に初充填物として加え、ハロゲン化される物質
すべてをまたは大部分をハロゲン化剤と同時に反応容器
に計量して加えることも可能である。ハロゲン化される
物質とハロゲン化剤を他のいかなる所望の方法で結合す
ることもできる。
【0025】本発明による工程中でハロゲン化剤を化学
量論必要量で、または過剰量たとえば100mol%ま
での過剰量で使用することが可能である。
【0026】本発明により使用される溶媒は四塩化炭素
が有するよりも高い沸点を有するため、非加圧工程をこ
れまで可能であったよりも広い温度範囲で行うことがで
きる。一般に本発明によりハロゲン化は常圧下および使
用する溶媒の沸点までの温度で充分に行える。特別な場
合、たとえば反応物質がゆっくりとハロゲン化されなけ
ればならない、および/または改善されたハロゲン化剤
の物質移動が達成されなければならない際、ハロゲン化
は使用する溶媒の沸点に相当するよりも高温または低温
で(常圧下)、圧力下に行うこともできる。一般に0乃
至180℃の範囲内の温度が適用され得る。
【0027】必要ならば問題のハロゲン化、たとえばフ
リーデル−クラフツ触媒たとえばFeCl3、鉄および
TiCl4を用いた環のハロゲン化、遊離基開始剤たと
えば過酸化ベンゾイル、過酸化ジ−tert.−ブチル
およびアゾ−ビス−イソブチロニトリルを用いた側鎖ハ
ロゲン化に一般的に用いられる触媒を使用することがで
きる。
【0028】得られた反応混合物の仕上げおよび本発明
により用いられた溶媒の回収は、それ自体公知の方法た
とえば蒸留により行うことができる。
【0029】本発明は広範囲のハロゲン化を可能にして
いる。即ち、たとえば環内のベンゼン誘導体、環内およ
び/または側鎖内のアルキル−およびポリアルキル−ベ
ンゼン誘導体、環内のナフタレン、または側鎖内の複素
環式芳香族たとえばピコリンの塩素化または臭素化の実
施を可能にしている。また本発明により用いられる溶媒
を脂肪族および脂環式化合物の塩素化および臭素化にお
いて有利に使用することもできる。
【0030】本発明による方法において側鎖が含有する
芳香族化合物の炭化水素、ハロゲノ炭化水素、アルキル
エーテルおよび/またはハロゲノアルキルタイプの水素
原子の塩素化を行うことが好ましい。
【0031】本発明による工程は多くの驚くべき利点を
有する。使用される溶媒は毒性、揮発性が四塩化炭素よ
りも少なく、従って作業衛生および環境保護分野におけ
る特別な努力を事実上必要としない。多くの場合該溶媒
はほとんど望むだけ回収され塩素化に再使用することが
できる。本発明により用いられる溶媒特に式(II)の
ものは、理論上ハロゲン化され易い芳香環上の水素原子
を有するが、本発明による工程中通常適用された条件下
では環でのその様な塩素化は見られない。
【0032】
【実施例】実施例1 塩素化装置を4−クロロ−トリフルオロメトキシベンゼ
ン50mlで充填し、塩化カリウム1gおよび三塩化リ
ン1gを加えた。次に80℃で4−クロロアニソール1
20g中アゾビスイソブチロニトリル2gの溶液を滴下
漏斗から計量して入れ、同時に塩素を入れた。塩素化を
ガスクロマトグラフィーにより完了した。その後の蒸留
中に溶媒として用いられた4−クロロ−トリフルオロメ
トキシベンゼン96%重量部を回収し、塩素化生成物と
して理論量の89.8%の収率に相当する4−クロロ−
トリフルオロメトキシベンゼン(16mbarで沸点1
22乃至126℃、屈折率nD 201.5565)が得ら
れた。回収された4−クロロ−トリフルオロメトキシベ
ンゼンを少量の中間留分と共に本塩素化に再使用するこ
とが可能であった。
【0033】実施例2 1,3−ビストリフルオロメチルベンゼン100ml中
塩化カリウム0.5gおよびジフルオロメトキシベンゼ
ン10gを初充填物として入れ、次にUV照射と共に1
00℃で塩素を入れた。1時間の間にさらにジフルオロ
メトキシベンゼン20gを計量して加えた。塩素の取り
込み完了後に該反応混合物を窒素でパージし、続いて蒸
留した。クロロジフルオロメトキシベンゼン35.5g
を単離した(沸点144℃、屈折率nD 201.447
9)。
【0034】実施例3 実施例2におけると同様の方法を用いたが、ジフルオロ
メトキシベンゼンの代りに2,2,2−トリフルオロエ
トキシベンゼン100gを用いた。上記量の内10gを
初充填物として入れ、残りの90gを計量して塩素と共
に加えた。1,1−ジクロロ−2,2,2−トリフルオ
ロエトキシベンゼン101.5gを単離した(20mb
arで沸点77から80℃、屈折率nD 201.461
5)。
【0035】実施例4 塩素注入口、計量装置、多重ダ管コンデンサーおよびガ
ス排出口を設置した撹拌形装置を110℃で1,3−ビ
ストリフルオロメチルベンゼンで充填し、次にベンゾジ
オキソール900g中アゾビスイソブチロニトリル18
gの溶液を計量してゆっくりと(1時間に75乃至80
g)入れ、同時に1時間に100乃至105gの塩素を
加えた。反応は発熱であり、加熱浴を除去して110℃
に維持した。ベンゾジオキソールおよび塩素をすべて計
量して入れた後塩素をさらに30分通じ、該混合物を次
に窒素でパージし蒸留した。最初の留分(1,3−ビス
トリフルオロメチルベンゼンおよび再使用可能塩素化物
質)630gを除去後に2,2−ジクロロ−ベンゾジオ
キソール1240g(12mbarで沸点81乃至90
℃)が得られた。
【0036】実施例5 3,5−ビストリフルオロメチル−1,1,2,3,
3,3−ヘキサフルオロプロポキシベンゼン150gで
充填し、N−ブロモスクシンイミド54gおよびアゾビ
スイソブチロニトリル0.5gと共に4−メチル−2,
2−ジフルオロベンゾジオキソール50gを80乃至8
5℃で8時間加熱した。冷却後固体を吸引濾過し、少量
のヘキサンで洗浄した。蒸留により溶媒(3,5−ビス
トリフルオロメチル−1,1,2,3,3,3−ヘキサ
フルオロプロポキシベンゼン)を回収し、その後の留分
として4−ブロモメチル−2,2−ジフルオロベンゾジ
オキソール59.3gが臭素化生成物(20mbarで
沸点102乃至104℃)として得られた。
【0037】実施例6 初充填物として3,5−ビストリフルオロメチル−トリ
フルオロメトキシベンゼン400ml中4−フルオロフ
ェノール400gを入れ、鉄クズ2gを加えた。次に塩
素280gを20乃至25℃で入れた。該混合物をさら
に20分間撹拌し、窒素を用いて残留塩素および生成さ
れた塩化水素をすべてパージし、バッチを濾過後に蒸留
した。溶媒(3,5−ビストリフルオロメチル−トリフ
ルオロメトキシベンゼン)の回収後、15mbarで沸
点63乃至65℃および屈折率nD 201,5304を有
する2−クロロ−4−フルオロフェノール449gが得
られた。
【0038】実施例7(製造実施例) アセトン100ml中3,5−ビストリフルオロメチル
−フェノール490gを50%重量部の水酸化ナトリウ
ム溶液50gと共に初充填物として入れ、ヘキサフルオ
ロプロペンを25℃で飽和に達するまで入れた。次にバ
ッチを水1 lで希釈し、有機相を分離、乾燥し蒸留し
た。3,5−ビストリフルオロメチル−フェニル−1,
1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロピルエーテル
(22mbarで沸点65乃至70℃、屈折率n
D 201.3560)673gが得られた。
【0039】実施例8 実施例7において得られた溶媒をUV照射を伴い還流温
度で3時間塩素で処理した。それ以後のガスクロマトグ
ラフィーによる分折中塩素化生成物は全く見出せかなっ
た。
【0040】実施例9 1,4−ビストリフルオロメチルベンゼン500ml中
2,3−ジクロロ−ベンゾ−1,4−ジオキセン200
gを初充填物として入れ110℃に加熱した。塩素をU
V照射下で入れ、塩素化の進行をガスクロマトグラフィ
ー分折により調べた。反応完了後塩素の供給を中断し、
バッチを窒素でパージし続いて蒸留した。20mbar
で沸点140乃至142℃および融点88乃至92℃を
有する2,2,3,3−テトラクロロ−ベンゾ−1,4
−ジオキセン240gが得られた。
【0041】実施例10(製造実施例) 合金鋼製オートクレーブをフッ化水素1000gおよび
塩化チタン(IV)10mlで充填し、フルオロトリク
ロロメタン800ml中2,5−ビストリフルオロメチ
ル−フェノール250gの溶液に計量して加えた。次に
該混合物を7時間130℃まで加熱し、生成された塩化
水素をバルブを通して出した。冷却後、なお残留するフ
ッ化水素をフルオロトリクロロメタンと共にオートクレ
ーブから蒸留し、フルオロトリクロロメタン相を留出物
から分離した。フッ化水素をオートクレーブに戻し、そ
こに残留する残渣と共に塩化チタン(IV)をさらに5
ml加え、さらに5時間130℃で加熱した。オートク
レーブの内容物を氷上に排出後、得られた有機相を分離
し蒸留した。この結果3,5−ビストリフルオロメチル
−トリフルオロメトキシベンゼン(沸点137乃至13
8℃)が得られた。本発明の主なる特徴および態様は以
下のとおりである。
【0042】1.ハロゲン化方法であって、工程中用い
られる溶媒が、式(I)
【0043】
【化7】
【0044】式中Rはフッ素、塩素、CF3、CF2H、
CF2Cl、CHFCF3、CF2CF3、またはCFCl
CF3を表し、Halはフッ素または塩素を表し、aは
ゼロ、1、2または3を表し、bはゼロ、1または2を
表し、cはゼロを表すか、Halがフッ素の場合には
1、2または3を表すこともでき、Halが塩素の場合
には1を表すこともでき、ここでaおよびbは同時にゼ
ロを表すことはなく、a+b+cの合計の最大値は6で
ある、の1つあるいはそれ以上の化合物から成ることを
特徴とする方法。
【0045】2.式(I) 式中Rはフッ素、CF3、CF2H、CHFCF3、また
はCF2CF3を表し、Halはフッ素または塩素を表
し、aはゼロ、1または2を表し、bはゼロ、または1
を表し、cはゼロまたは1を表し、ここでaおよびbは
同時にゼロを表すことはないことを特徴とする上記1記
載の方法。
【0046】3.式(I)においてCF3基2つが存在
する場合、これらは相互の関係においてメタ位にあり、
OCF2−R基並びに置換基群がさらに存在する場合、
上記置換基群はOCF2−R基との関係においてメタま
たはパラ位にあることを特徴とする上記1および2記載
の方法。
【0047】4.使用されるハロゲン化剤が塩素、塩化
スルフリル、臭素またはN−ブロモスクシンイミドであ
ることを特徴とする上記1から3記載の方法。
【0048】5.式(I)の化合物類が、ハロゲン化さ
れる物質に基づき分量5乃至1000%重量部で使用さ
れることを特徴とする上記1から4記載の方法。
【0049】6.式(II)
【0050】
【化8】
【0051】式中R′はフッ素、CF3、CF2H、CH
FCF3またはCF2CF3を表す、で表される塩素を含
有しないビストリフルオロメチル−ポリフルオロアルコ
キシ−ベンゼン類。
【0052】7.式(II)においてR′がフッ素、C
F2HまたはCHFCF3を表すことを特徴とする上記6
記載のビストリフルオロメチル−ポリフルオロアルコキ
シベンゼン類。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ハロゲン化方法であって、用いられる溶
    媒が、 式(I) 【化1】 式中Rはフッ素、塩素、CF3、CF2H、CF2Cl、
    CHFCF3、CF2CF3、またはCFClCF3を表
    し、Halはフッ素または塩素を表し、aはゼロ、1、
    2または3を表し、bはゼロ、1または2を表し、cは
    ゼロを表すか、Halがフッ素の場合には1、2または
    3を表すこともでき、Halが塩素の場合には1を表す
    こともでき、ここでaおよびbは同時にゼロを表すこと
    はなく、a+b+cの合計の最大値は6である、の1つ
    あるいはそれ以上の化合物から成ることを特徴とする方
    法。
  2. 【請求項2】 式(II) 【化2】 式中R′はフッ素、CF3、CF2H、CHFCF3また
    はCF2CF3を表す、で表される塩素を含有しないビス
    トリフルオロメチル−ポリフルオロアルコキシ−ベンゼ
    ン類。
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Cited By (2)

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