JPH0660312A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明はコンピュータの外部記録装置として
用いられている磁気記録装置に搭載される接触型垂直記
録用の磁気ヘッドに関し、製造工程を複雑にせずに高効
率化を図ることを目的とする。 【構成】 磁気ヘッド１及び磁気記録媒体で形成される
磁気回路中に位置するガラス板７ａ，７ｂに、フェライ
トブロック２の突部４ａ〜４ｉに接触するフェライト９
を埋め込む。例えば、フェライト９を主磁極８と突部４
ｅとの間に介在させ、若しくは主磁極８と非接触状態で
ガラス板７ａ７ｂの複数部分に配設し、又はこれらを組
合わせる構成とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータの外部記
録装置として用いられている磁気記録装置に搭載される
接触型垂直記録用の磁気ヘッドに関する。

【０００２】近年、磁気記録装置の小型化、高密度化に
伴い、水平記録を上回る高密度記録方式として、媒体の
膜厚方向に残留磁化を形成し、信号記録を行う垂直記録
方式が注目されており、その高効率化が望まれている。

【０００３】

【従来の技術】図６に、従来の接触型垂直記録用の磁気
ヘッドの構成図を示す。図６において、磁気ヘッド５０
は、フェライドブロック５１上に、互いに直交させた溝
５２により突部５３ａ〜５３ｉが形成されて補助磁極を
構成する。このフェライドブロック５１は、その中央の
突部５３ａには励磁コイル５４が巻回され、該コイル５
４の引出線５５ａ，５５ｂが溝５２内より引き出され
る。

【０００４】一方、主磁極部５６が二つの非磁性基板５
７ａ，５７ｂにより挟持され、かまぼこ形の凸曲面形状
に形成される。そして、その平坦な面がフェライトブロ
ック５１上に取着けられる。このとき、主磁極部５６
は、励磁コイル５４が巻回された突部５３ａに接触した
構造である。

【０００５】このような磁気ヘッド５０は、主磁極部５
６が磁気記録媒体に接触した場合に、励磁コイル５４よ
り突部５３ａが励磁されると、突部５３ａ，主磁極部５
６，磁気記録媒体５６，例えば突部５３ｂ及び再び突部
５３ａより磁路が形成される。このときに、磁気記録媒
体５６の膜厚方向に残留磁化が形成され信号記録が行わ
れる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述の磁気ヘ
ッド５０は、主磁極部５６周辺の形状がかまぼこ形状で
あることから、リターンパスとなる上記フェライトブロ
ック５１の突部５３ｂは、浮上面（磁気記録媒体）よ
り、距離（例えば１００μｍ）を有し効率が低下すると
いう問題がある。また、主磁極部５６はサブミクロン厚
の薄膜により形成され、その長さが１００μｍ程度とな
ることから、磁束が漏洩し易いという問題がある。

【０００７】そこで、本発明は上記課題に鑑みなされた
もので、製造工程を複雑にせずに高効率化，高性能化を
図る磁気ヘッドを提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題は、補助磁極上
の所定部分に、非磁性基板に形成された主磁極が位置
し、該両磁極と磁気記録媒体の垂直方向に磁気回路を形
成して記録，再生を行う磁気ヘッドにおいて、前記磁気
回路中に位置する前記非磁性基板に、磁性部材を前記補
助磁極に接触させて介在させ、適宜、前記非磁性基板の
一部分に形成される前記磁性部材であって、前記補助磁
極と前記主磁極との間に該磁性部材を介在させ、および
または、前記磁性基板の複数部分に形成される前記磁性
部材であって、前記主磁極に非接触状態で該磁性部材を
配設することにより解決される。

【０００９】ここで、図１に、本発明の製造方法の原理
説明図を示す。上述の磁気ヘッドは、図１において、第
１の工程で、前記非磁性基板の一部又は複数部分に、磁
性部材を埋込む。第２の工程では、該非磁性基板上であ
って、該一部分の磁性部材に接触させ、又は、該複数部
分の磁性部材と非接触状態で、前記主磁極を所定形状に
パターニングする。第３の工程では、該非磁性基板に形
成された該磁性部材及び該主磁極を、挟持させる他の非
磁性基板を取着して、前記補助磁極上に取着する。そし
て、第４の工程では、該主磁極が形成された非磁性基板
及び他の非磁性基板の、前記磁気記録媒体に接触させる
面を所定形状に形成する。

【００１０】

【作用】上述のように、磁気回路を形成する位置の非磁
性基板に、磁性部材を補助磁極に接触させて設けてい
る。例えば、磁性部材を、主磁極と補助磁極との間に介
在させ、若しくは主磁極と非接触状態で非磁性基板の複
数部分に配設し、又はこれらを組合せる。

【００１１】従って、磁気記録媒体に磁気ヘッドが接触
した場合、形成される磁気回路中で磁性部材により、該
磁気記録媒体からの磁気ヘッドの浮上面が短くなり、リ
ターンパスが短縮される。

【００１２】これにより、非磁性基板に磁性部材を埋込
む工程を加えるのみで製造工程を複雑にすることはな
く、磁束の漏洩を低減して、記録，再生の効率の向上を
図ることが可能となり、磁気記録装置の高性能化を図る
ことが可能となる。

【００１３】

【実施例】図２に、本発明の第１の実施例の構成図を示
す。図２において、磁気ヘッド１は、フェライトで形成
されたフェライトブロック２（例えば２×２×２ｍｍ）
に、互いに直交させた溝３により突部４ａ〜４ｉが形成
されて補助磁極を構成する。この突部４ａ〜４ｉのうち
中央の突部４ｅには励磁コイル５が巻回されており、そ
の引出し線６ａ，６ｂが溝３内より外部に取り出され
る。

【００１４】一方、２つの非磁性基板である例えばガラ
ス７ａ，７ｂがそれぞれ半かまぼこ形状に形成されて例
えばＣｏＺｒ（コバルト・ジリコニウム）膜の主磁極８
を挟持しており、全体的にかまぼこ形状に形成される。
このとき、ガラス板７ａ，７ｂの主磁極８を挟持する位
置には磁性部材、例えば軟磁性部材のフェライト９が埋
め込まれており、該主磁極８と接触する。そして、フェ
ライト９はフェライトブロック２の突部４ｅ上と接触し
ており、主磁極８と該突部４ｅの間にフェライト９が介
在する構造としている。

【００１５】ここで、図３に、本発明の第１の実施例の
製造工程図を示す。図３において、まず、ガラス板７
ａ，７ｂ（例えば２×２×１ｍｍ）の一部分を切欠き、
ここに接着剤等でフェライト９を埋め込む（図３
（Ａ））。この上に、主磁極となるＣｏＺｒ膜８ａをス
パッタリングにより例えば厚さ０．３μｍで形成する
（図３（Ｂ））。

【００１６】続いて、ＣｏＺｒ膜８を熱処理により所望
の軟磁気特性に制御した後、レジスト１０を塗布し、フ
ォトリソ技術により主磁極８の幅が１００μｍになるよ
うに該レジスト１０をパターンニングする（図３
（Ｃ））。すなわち、フォトリソ技術とは、レジストを
塗布し、所定パターンとするマスクを用いて露光，現像
して該パターン以外の部分のレジスト１０を除去し、さ
らにイオンエッチングにより残りのレジスト１０及びレ
ジスト１０以外のＣｏＺｒ膜８ａを除去して、直線形状
のＣｏＺｒ膜８ａの主磁極８を形成するものである（図
３（Ｄ）参照）。

【００１７】そして、フェライト９が埋め込まれただけ
の同寸法のガラス板７ｂを、主磁極８を挟持するように
ガラス板７ａに接着する（図３（Ｃ））。

【００１８】一方、突部４ａ〜４ｉが形成されたフェラ
イトブロック２の中央の突部４ｅには励磁コイル５が、
例えば５０ターン巻回される（図３（Ｅ））。ここで、
上述の接着したガラス板７ａ，７ｂを、フェライト９の
全部とこれより長い主磁極８との長さでスライスしたも
のを、該フェライトブロック２上に、突部４ｅに該フェ
ライト９を接触させて接着剤等で取り着ける（図３
（Ｆ））。そして、ガラス板７ａ，７ｂの磁気記録媒体
と接触する面を、かまぼこ形状に形成するものである
（図３（Ｇ））。

【００１９】このように製造された磁気ヘッド１は、ガ
ラス板７ａ，７ｂに埋め込まれたフェライト９が主磁極
８の盛り上げとして作用するため、主磁極８の先端、す
なわち磁気記録媒体の接触部分に磁束を集中させ易すく
することができ、記録，再生の効率を向上させることが
できる。この場合、予め、ガラス板７ａ，７ｂにフェラ
イト９を埋め込んでおけば、後の製造工程は従来通りで
あり、工程を複雑にすることがない。

【００２０】次に、図４に本発明の第２の実施例の構成
図を示す。本実施例では、図３（Ａ）におけるガラス板
７ａ，７ｂにフェライト９を埋め込む場合、後に形成さ
れる主磁極８に非接触状態で、複雑部分に埋め込んだも
のである。（図４（Ａ））。そして、主磁極８の形成以
降は図３と同様であり、その完成図が図４（Ｂ）に示さ
れる。

【００２１】この磁気ヘッド１は、磁気記録媒体に接触
して磁気回路を形成した場合に、ガラス板７ａ，７ｂに
埋め込まれたフェライト９がリターンパスとして機能
し、磁束の漏洩を低減して、記録，再生の高効率化を図
ることができる。

【００２２】次に、図５に、本発明の第３の実施例の構
成図を示す。図５（Ｂ）に示す磁気ヘッド１は、図２及
び図４を組み合わせたもので、図５（Ａ）に示すよう
に、図３（Ａ）におけるガラス板７ａ（７ｂ）にフェラ
イト９を埋め込む場合、後に形成される主磁極８に接触
する部分と、非接触の部分とにフェライト９を埋め込ん
だものである。そして、主磁極８の形成以降は図３と同
様であり、その完成図が図５（Ｂ）に示される。

【００２３】このような磁気ヘッド１は、図２及び図４
の効果を合わせもつものであり、記録，再生の高効率化
を図ることができ、ひいては磁気記憶装置の高性能化を
図ることができる。

【００２４】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、磁気ヘッ
ド及び磁気記録媒体で形成される磁気回路中に位置する
非磁性基板に、補助磁極に接触する磁性部材を埋め込む
ことにより、製造工程を複雑にすることなく磁気記録媒
体からのリターンパスの効率を向上させ記録，再生の高
効率化を図ることができ、磁気記録装置の高性能化を図
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の製造方法の原理説明図である。

【図２】本発明の第１の実施例の構成図である。

【図３】本発明の第１の実施例の製造工程図である。

【図４】本発明の第２の実施例の構成図である。

【図５】本発明の第３の実施例の構成図である。

【図６】従来の接触型垂直記録用の磁気ヘッドの構成図
である。

【符号の説明】

１ 磁気ヘッド ２ フェライトブロック ４ａ〜４ｉ 突部 ５ 励磁コイル ７ａ，７ｂ ガラス板 ８ 主磁極 ９ ＣｏＺｒ膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 青島 賢一 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 補助磁極（２）上の所定部分に、非磁性
   基板（７ａ，７ｂ）に形成された主磁極（８）が位置
   し、該両磁極（２，８）間と磁気記録媒体の垂直方向に
   磁気回路を形成して記録，再生を行う磁気ヘッドにおい
   て、 前記磁気回路中に位置する前記非磁性基板（７ａ，７
   ｂ）に、磁性部材（９）を前記補助磁極（２）に接触さ
   せて介在させることを特徴とする磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 前記非磁性基板（７ａ，７ｂ）の一部分
   に形成される前記磁性部材（９）であって、前記補助磁
   極（２）と前記主磁極（８）との間に該磁性部材（９）
   を介在させることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッ
   ド。
3. 【請求項３】 前記磁性基板（７ａ，７ｂ）の複数部分
   に形成される前記磁性部材（９）であって、前記主磁極
   （８）に非接触状態で該磁性部材（９）を配設すること
   を特徴とする請求項１又は２記載の磁気ヘッド。
4. 【請求項４】 補助磁極（２）上の所定部分に、非磁性
   基板（７ａ，７ｂ）に形成された主磁極（８）が位置
   し、該両磁極（２，８）間と磁気記録媒体の垂直方向に
   磁気回路を形成して記録、再生を行う磁気ヘッドの製造
   方法において、 前記非磁性基板（７ａ，７ｂ）の一部又は複数部分に、
   磁性部材（９）を埋込む工程と、 該非磁性基板（７ａ）上であって、該一部分の磁性部材
   （９）に接触させ、又は、該複数部分の磁性部材（９）
   と非接触状態で、前記主磁極（８）を所定形状にパター
   ニングする工程と、 該非磁性基板（７ａ）に形成された該磁性部材（９）及
   び該主磁極（８）を、挟持させる他の非磁性基板（７
   ｂ）を取着して、前記補助磁極（２）上に取着する工程
   と、 該主磁極（８）が形成された非磁性基板（７ａ）及び他
   の非磁性基板（７ｂ）の、前記磁気記録媒体に接触させ
   る面を所定形成に形成する工程と、 を含むことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。