JPH0668837B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- JPH0668837B2 JPH0668837B2 JP61090449A JP9044986A JPH0668837B2 JP H0668837 B2 JPH0668837 B2 JP H0668837B2 JP 61090449 A JP61090449 A JP 61090449A JP 9044986 A JP9044986 A JP 9044986A JP H0668837 B2 JPH0668837 B2 JP H0668837B2
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気テープ，磁気ディスクなどの磁気記録媒
体に適したもので、とくに回転ヘッド型ビデオテープレ
コーダーに最適の磁気記録媒体に関するものである。
体に適したもので、とくに回転ヘッド型ビデオテープレ
コーダーに最適の磁気記録媒体に関するものである。
従来の技術 コバルト，ニッケル，鉄またはそれらを主成分とする合
金を真空蒸着，スバッタリング，イオンプレーティング
などの真空製膜法によりポリエステルフィルム，ポリイ
ミドフィルムなどの高分子フィルムや非磁性金属薄板な
どから成る基板上に形成して成る強磁性金属薄膜形磁気
記録媒体は、従来の塗布型磁気記録媒体に比べて記録密
度を飛躍的に向上せしめることが可能であるが、この高
密度化のためには、磁気記録媒体の表面を極力平坦化し
て磁気ヘッド・磁気記録媒体間のスペーシングロスを極
力減少せしめることが必要である。
金を真空蒸着，スバッタリング，イオンプレーティング
などの真空製膜法によりポリエステルフィルム，ポリイ
ミドフィルムなどの高分子フィルムや非磁性金属薄板な
どから成る基板上に形成して成る強磁性金属薄膜形磁気
記録媒体は、従来の塗布型磁気記録媒体に比べて記録密
度を飛躍的に向上せしめることが可能であるが、この高
密度化のためには、磁気記録媒体の表面を極力平坦化し
て磁気ヘッド・磁気記録媒体間のスペーシングロスを極
力減少せしめることが必要である。
しかし、表面を平坦化しすぎるとヘッドタッチ，走行性
に支障をきたすため表面を微細に粗面化すると同時に各
種有機滑剤を含む表面被覆を設けることによりこれを解
決する必要がある。
に支障をきたすため表面を微細に粗面化すると同時に各
種有機滑剤を含む表面被覆を設けることによりこれを解
決する必要がある。
従来、このような有機滑剤として、各種の脂肪酸，脂肪
酸エステル，脂肪酸アミド，シリコンオイル，フッ素オ
イル等が単独、あるいは種々複合された形で使用されて
きた。
酸エステル，脂肪酸アミド，シリコンオイル，フッ素オ
イル等が単独、あるいは種々複合された形で使用されて
きた。
発明が解決しようとする課題 上記の各種有機滑剤を使用した媒体は、スチル再生寿命
において、常温〜高温（10〜30℃）下においては通常30
分以上の寿命を有するが、気温が５℃以下になると寿命
が30分以下、ときには数分以下に低下することが本発明
者らの検討の結果明らかになった。
において、常温〜高温（10〜30℃）下においては通常30
分以上の寿命を有するが、気温が５℃以下になると寿命
が30分以下、ときには数分以下に低下することが本発明
者らの検討の結果明らかになった。
課題を解決するための手段 本発明は、特定の含フッ素有機燐化合物を含む薄膜を酸
素を含む強磁性金属薄膜上に形成せしめたことを特徴と
する磁気記録媒体に関するものであり、上記有機燐化合
物薄層と強磁性層表面の酸化層とでもって前記問題を解
決したものである。なお、上記有機燐化合物とは下記一
般式（Ｉ）〜（IV）で示されるものの少なくともひとつ
を指すものである。
素を含む強磁性金属薄膜上に形成せしめたことを特徴と
する磁気記録媒体に関するものであり、上記有機燐化合
物薄層と強磁性層表面の酸化層とでもって前記問題を解
決したものである。なお、上記有機燐化合物とは下記一
般式（Ｉ）〜（IV）で示されるものの少なくともひとつ
を指すものである。
一般式（Ｉ）： 一般式（II）： 一般式（III）： 一般式（IV）： 〔R1,R2,R3のうち１個ないしは２個は炭素数３以上20以
下のフロロアルキル末満を１個以上有するフロロアルキ
ル誘導体残基であり、かつ、R1,R2,R3のうちの上記以外
のものが炭素数８以上30以下の脂肪族炭化水素基であ
り、ｎは０または１である。〕 作 用 以上のように構成すると、有機燐化合物中のフロロアル
キル基のもつ安定した滑性作用と燐原子のもつ強磁性層
表面の酸化層への強い反応力との相乗効果により、低温
下におけるスチル再生寿命を向上せしめるものであり、
かつ、使用する有機燐化合物中に脂肪族炭化水素基末端
が含まれるためその効果が顕著に現れる。
下のフロロアルキル末満を１個以上有するフロロアルキ
ル誘導体残基であり、かつ、R1,R2,R3のうちの上記以外
のものが炭素数８以上30以下の脂肪族炭化水素基であ
り、ｎは０または１である。〕 作 用 以上のように構成すると、有機燐化合物中のフロロアル
キル基のもつ安定した滑性作用と燐原子のもつ強磁性層
表面の酸化層への強い反応力との相乗効果により、低温
下におけるスチル再生寿命を向上せしめるものであり、
かつ、使用する有機燐化合物中に脂肪族炭化水素基末端
が含まれるためその効果が顕著に現れる。
実施例 図は本発明の実施例における磁気記録媒体の基本構成を
示す拡大断面図である。図において、１は基板、２は強
磁性金属薄膜、３は表面被覆層である。表面被覆層３
は、前記の特定有機燐化合物を含む薄層で形成される。
示す拡大断面図である。図において、１は基板、２は強
磁性金属薄膜、３は表面被覆層である。表面被覆層３
は、前記の特定有機燐化合物を含む薄層で形成される。
本発明に使用する前記の特定有機燐化合物としては、前
記一般式中のR1,R2,R3成分の中のフロロアルキル誘導体
残基として、たとえば、 （ただしｎ＝３〜20,m＝１〜10,RはH,CH3またはC2H5） また、脂肪族炭化水素基として、たとえば、 ＣｎＨ2n＋１− ＣｎＨ2n＋１− （ただしｎ＝８〜30） 等がある。
記一般式中のR1,R2,R3成分の中のフロロアルキル誘導体
残基として、たとえば、 （ただしｎ＝３〜20,m＝１〜10,RはH,CH3またはC2H5） また、脂肪族炭化水素基として、たとえば、 ＣｎＨ2n＋１− ＣｎＨ2n＋１− （ただしｎ＝８〜30） 等がある。
フロロアルキル基としては、炭素数３以上、さらに好ま
しくは５以上の直鎖または分岐パーフロロアルキル基、
または炭素数３以上、さらに好ましくは５以上の末端炭
素に水素原子を１個有する直鎖フロロアルキル基（たと
えば、HCF2CF2CF2CF2CF2−）が適しており、炭素数が２
以下の場合にはスチル寿命が短くなる。なお、ｎが21以
上となる希釈できる溶剤がなくなり、また融点も上昇し
分解温度に近づくため薄層としての使用が困難となる。
脂肪族炭化水素残基としては、炭素数８以上、さらに好
ましくは10以上の直鎖または分岐アルキル基が適してい
る。なお、ｎが31以上になると希釈できる溶剤がなくな
り、また融点も上昇し分解温度に近づくため薄層として
の使用が困難となる。前記一般式におけるR1,R2,R3のう
ちの１個ないしは２個は、上記フロロアルキル誘導体残
基であることが必要で、フロロアルキル誘導体残基がゼ
ロの場合にはスチル寿命が極端に低下する。また、R1,R
2,R3のうちの上記以外のものは脂肪族炭化水素残基であ
る。
しくは５以上の直鎖または分岐パーフロロアルキル基、
または炭素数３以上、さらに好ましくは５以上の末端炭
素に水素原子を１個有する直鎖フロロアルキル基（たと
えば、HCF2CF2CF2CF2CF2−）が適しており、炭素数が２
以下の場合にはスチル寿命が短くなる。なお、ｎが21以
上となる希釈できる溶剤がなくなり、また融点も上昇し
分解温度に近づくため薄層としての使用が困難となる。
脂肪族炭化水素残基としては、炭素数８以上、さらに好
ましくは10以上の直鎖または分岐アルキル基が適してい
る。なお、ｎが31以上になると希釈できる溶剤がなくな
り、また融点も上昇し分解温度に近づくため薄層として
の使用が困難となる。前記一般式におけるR1,R2,R3のう
ちの１個ないしは２個は、上記フロロアルキル誘導体残
基であることが必要で、フロロアルキル誘導体残基がゼ
ロの場合にはスチル寿命が極端に低下する。また、R1,R
2,R3のうちの上記以外のものは脂肪族炭化水素残基であ
る。
強磁性金属薄膜上には、前記有機燐化合物を、表面1m2
当り0.1〜500mg、さらに好ましくは0.5〜200mgの割合を
それ単独、あるいは他の滑剤，防錆剤，樹脂等との副剛
体として薄層状に存在せしめるのが良い。また、それら
を存在せしめる方法としては、強磁性金属薄膜表面に直
接塗布、あるいは蒸着する方法以外に磁気記録媒体の表
面に塗布あるいは蒸着せしめておき磁気記録媒体の積層
（捲回）時に強磁性金属薄膜表面へ転写せしめる方法も
可能である。
当り0.1〜500mg、さらに好ましくは0.5〜200mgの割合を
それ単独、あるいは他の滑剤，防錆剤，樹脂等との副剛
体として薄層状に存在せしめるのが良い。また、それら
を存在せしめる方法としては、強磁性金属薄膜表面に直
接塗布、あるいは蒸着する方法以外に磁気記録媒体の表
面に塗布あるいは蒸着せしめておき磁気記録媒体の積層
（捲回）時に強磁性金属薄膜表面へ転写せしめる方法も
可能である。
強磁性金属薄膜としては、例えば斜め蒸着あるいは垂直
蒸着法にて形成されるCo,Ni,Fe等を主体とする金属薄
膜、それらの合金を主体とする金属薄膜（例えばCoNi,C
oCr等）であって成膜時の雰囲気ガスを酸素ガスが支酸
的となる雰囲気としたときに得られる酸素を含むものが
適当である。酸素の含有量としては、強磁性金属に対す
る原子数比で少なくとも３％以上、好ましくは５％以上
が適当である。３％以下であると、低温でのスチル寿命
改善効果が得られ難い。
蒸着法にて形成されるCo,Ni,Fe等を主体とする金属薄
膜、それらの合金を主体とする金属薄膜（例えばCoNi,C
oCr等）であって成膜時の雰囲気ガスを酸素ガスが支酸
的となる雰囲気としたときに得られる酸素を含むものが
適当である。酸素の含有量としては、強磁性金属に対す
る原子数比で少なくとも３％以上、好ましくは５％以上
が適当である。３％以下であると、低温でのスチル寿命
改善効果が得られ難い。
強磁性金属薄膜を形成すべき基板としては、巨視的には
表面平滑度良好であり、かつ、微細な突起を有するもの
が適当で、たとえば、表面に高さ50〜600Å1mm2当り平
均１×104〜108個の波状あるいは山状突起を有するポリ
エステルフィルムは、とくに好ましいものである。
表面平滑度良好であり、かつ、微細な突起を有するもの
が適当で、たとえば、表面に高さ50〜600Å1mm2当り平
均１×104〜108個の波状あるいは山状突起を有するポリ
エステルフィルムは、とくに好ましいものである。
また、重合触媒残渣に起因する微粒子をほとんど含まな
いポリエステルフィルムの表面に延伸製膜途上で増粘剤
を含む変性シリコーンエマルジョン液を塗布硬化させる
ことにより得られた波状突起（高さ100Å密度１×10
6個）を形成せしめたものの上に連続真空斜め蒸着法に
よりCoNi強磁性金属薄膜（Ni＝20％，膜厚1000Å）を微
量の酸素の存在下で形成せしめた。皮膜中の酸素含有量
は原子数比で５％であった。この試料をＡとする。
いポリエステルフィルムの表面に延伸製膜途上で増粘剤
を含む変性シリコーンエマルジョン液を塗布硬化させる
ことにより得られた波状突起（高さ100Å密度１×10
6個）を形成せしめたものの上に連続真空斜め蒸着法に
よりCoNi強磁性金属薄膜（Ni＝20％，膜厚1000Å）を微
量の酸素の存在下で形成せしめた。皮膜中の酸素含有量
は原子数比で５％であった。この試料をＡとする。
ポリエステルフィルム内に添加されたシリカ微粒子によ
る勾配のゆるやかな粒状突起（平均高さ70Å，平均直径
１μｍ）が表面１μm2当り数個存在し、しかも重合触媒
残査に起因する微粒子による比較的大きな突起を極力低
減せしめたポリエステルフィルムの表面に直径150Åの
シリカコロイド粒子を核とし紫外線硬化エポキシ樹脂を
結合剤とする急峻な山状突起を１×107個形成せしめた
基板上に上記と同様の条件でCoNi膜（Ni＝20％，膜厚10
00Å，酸素含有量７％）を形成せしめたものをＢとす
る。また、比較例としてＢにおいて蒸着時に酸素の導入
を行わなかったもの（Ｂにおいて酸素含有量のみ２％以
下としたもの）をＣとする。これらの蒸着膜上にあらか
じめ含成試作した各種の有機化合物溶液を塗布し薄層を
形成させたのち所定幅に切断して磁気テープを作り、こ
れらを−５℃中で試作ビデオデッキに掛けてスチル再生
特性を測定した。スチル再生寿寿命は、出力が初期値に
対して10dB低下するまでの時間とした。それらの結果を
次表にまとめて記す。
る勾配のゆるやかな粒状突起（平均高さ70Å，平均直径
１μｍ）が表面１μm2当り数個存在し、しかも重合触媒
残査に起因する微粒子による比較的大きな突起を極力低
減せしめたポリエステルフィルムの表面に直径150Åの
シリカコロイド粒子を核とし紫外線硬化エポキシ樹脂を
結合剤とする急峻な山状突起を１×107個形成せしめた
基板上に上記と同様の条件でCoNi膜（Ni＝20％，膜厚10
00Å，酸素含有量７％）を形成せしめたものをＢとす
る。また、比較例としてＢにおいて蒸着時に酸素の導入
を行わなかったもの（Ｂにおいて酸素含有量のみ２％以
下としたもの）をＣとする。これらの蒸着膜上にあらか
じめ含成試作した各種の有機化合物溶液を塗布し薄層を
形成させたのち所定幅に切断して磁気テープを作り、こ
れらを−５℃中で試作ビデオデッキに掛けてスチル再生
特性を測定した。スチル再生寿寿命は、出力が初期値に
対して10dB低下するまでの時間とした。それらの結果を
次表にまとめて記す。
なお、比較例として、 磁性膜の酸素含量の低いもの……比較例11 フロロアルキル基のないもの……比較例12 を加えている。
発明の効果 以上の結果から明らかなように本発明の磁気記録媒体
は、低温におけるスチル再生寿命が長く、かつ安定して
いるため工業的価値の非常に高いものである。
は、低温におけるスチル再生寿命が長く、かつ安定して
いるため工業的価値の非常に高いものである。
【図面の簡単な説明】 図は本発明の実施例に係る磁気記録媒体の拡大断面図で
ある。 １……基板、２……強磁性金属薄膜、３……表面被覆
層。
ある。 １……基板、２……強磁性金属薄膜、３……表面被覆
層。
フロントページの続き (72)発明者 中村 信雄 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 榎本 進 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−229221（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−104320（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】下記一般式（Ｉ）〜（IV）で表される含フ
ッ素有機燐化合物を含む薄膜を、酸素を含む強磁性金属
薄膜上に形成せしめたことを特徴とする磁気記録媒体。 一般式（Ｉ）： 一般式（II）： 一般式（III）： 一般式（IV）： 〔R1,R2,R3のうち１個ないしは２個は炭素数３以上20以
下のフロロアルキル末満を１個以上有するフロロアルキ
ル誘導体残基であり、かつ、R1,R2,R3のうちの上記以外
のものが炭素数８以上30以下の脂肪族炭化水素基であ
り、ｎは０または１である。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61090449A JPH0668837B2 (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61090449A JPH0668837B2 (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62246124A JPS62246124A (ja) | 1987-10-27 |
| JPH0668837B2 true JPH0668837B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=13998927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61090449A Expired - Fee Related JPH0668837B2 (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0668837B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60229221A (ja) * | 1984-04-26 | 1985-11-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH0610869B2 (ja) * | 1984-10-22 | 1994-02-09 | 日本電気株式会社 | 磁気記憶体 |
-
1986
- 1986-04-18 JP JP61090449A patent/JPH0668837B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62246124A (ja) | 1987-10-27 |
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