JPH0669746B2 - 積層板およびその製法 - Google Patents

積層板およびその製法

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JPH0669746B2
JPH0669746B2 JP60129364A JP12936485A JPH0669746B2 JP H0669746 B2 JPH0669746 B2 JP H0669746B2 JP 60129364 A JP60129364 A JP 60129364A JP 12936485 A JP12936485 A JP 12936485A JP H0669746 B2 JPH0669746 B2 JP H0669746B2
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高明 坂本
宗彦 伊藤
修二 前田
哲也 ▲高▼永
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Matsushita Electric Works Ltd
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0326Organic insulating material consisting of one material containing O

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  • Laminated Bodies (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、ポリフェニレンオキサイド樹脂組成物を用
いる積層板およびその製法に関する。
〔背景技術〕
衛星通信などに用いられるXバンド(10GHz)領域、い
わゆる超高周波領域で使用する積層板には、優れた高周
波特性、殊に誘電特性において優れていることが要求さ
れる。すなわち、広い周波数範囲、温度範囲および湿度
範囲で誘電率および誘電損失がいずれも一定で、かつ、
望ましくは低いものでなければならない。
従来、このような用途には、ポリ4−フッ化エチレン,
アルミナセラミック,架橋ポリエチレンなどが使用され
ていたが、アルミナセラミックは加工性,回路の形成
(銅張りの方法)などに難点があり、また、ポリ4−フ
ッ化エチレン,架橋ポリエチレンは共にガラス転移点が
低いため、実用状態の付近で誘電率,誘電損失が著しく
変化するという欠点があり、さらに、その非極性のた
め、回路を形成させる金属箔との接着強度が不足すると
いう欠点を有している。
このような事情で、従来、高周波特性および耐熱性が優
れた積層板を簡単に得ることができなかった。
〔発明の目的〕
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであ
って、高周波特性に優れ、かつ、耐熱性,ピール強度,
電気特性が良好であり、しかも、製造が円滑に進むよう
な積層板およびその製法を提供することを目的としてい
る。
〔発明の開示〕
発明者らは、熱によっては架橋しないが、優れた高周波
特性を有するポリフェニレンオキサイドを原材料として
用いることとし、この原材料の特性を損なうことなく、
耐熱性などを改良することにより、前記目的を達成しよ
うとして研究を重ねた結果、下記構成が案出でき、この
発明を完成させることが出来たのである。
したがって、この発明は、樹脂組成物を硬化して得られ
る積層板であって、前記樹脂組成物が、ポリフェニレン
オキサイド、スチレン系熱可塑性ポリマー、ならびに、
ポリブタジエンおよび/または架橋性モノマーを含み、
かつ、前記架橋性モノマーがトリアリルイソシアヌレー
ト,トリアリルシアヌレートの中の少なくとも1種であ
るとともに、基材に含浸されていることを特徴とする積
層板を第1の要旨とし、ポリフェニレンオキサイド、ス
チレン系熱可塑性ポリマー、開始剤、ならびに、ポリブ
タジエンおよび/または架橋性モノマーを含み、かつ、
前記架橋性モノマーがトリアリルイソシアヌレート,ト
リアリルシアヌレートの中の少なくとも1種である樹脂
組成物が基材に含浸されている樹脂含浸基材を加熱積層
成形する積層板の製法を第2の要旨としている。
すなわち、この発明では、樹脂組成物として、必須であ
るスチレン系熱可塑性ポリマーとポリブタジエンないし
架橋性モノマー(TAICおよび/またはTAC)をポリフェ
ニレンオキサイド(PPO)に併用したポリエステル系架
橋性ポリマーは実質的に含まない樹脂組成物を用いるよ
うにしているのである。
以下に、これらの発明を詳しく説明する。
なお、これらの発明で、積層板とは、その片面または両
面に金属箔が積層または接着されているもの、金属箔が
全くないものを含める。
第1の発明および第2の発明で用いられるポリフェニレ
ンオキサイド(ポリフェニレンエーテルともいう。以下
「PPO」と記す。)は、たとえば、つぎの一般式、 で表されるものであり、その1例としては、ポリ(2,6-
ジメチル−1,4-フェニレンオキサイド)が挙げられる。
PPOは架橋型ではないため、単独では架橋は起こらな
い。このため、スチレン系熱可塑性ポリマーを始めポリ
ブタジエンなどの架橋性ポリマーや架橋性モノマーを使
用するのである。
架橋性ポリマーとしては、必須であるスチレン系熱可塑
性ポリマー(たとえば、ポリスチレン、スチレン・ブタ
ジエンブロックコポリマーなど)の他に、ポリブタジエ
ン(たとえば、1,2-ポリブタジエン、1,4-ポリブタジエ
ン、マレイン変性ポリブタジエン、アクリル変性ポリブ
タジエン、エポキシ変性ポリブタジエンなど)、ゴム類
などが併用されてもよいが、この発明の場合、PPOと相
溶性のよくないポリエステル系架橋性ポリマーは併用さ
れない。
架橋性モノマーとしては、トリアリルシアヌレート(以
下、「TAC」と略す)および/またはトリアリルイソシ
アヌレート(以下、「TAIC」と略す)を用いる。TACやT
AICは、PPOと相溶性が良く、成膜性,架橋性,耐熱性お
よび誘電特性の面で好ましい。
第2の発明で用いる開始剤としては、ジアルキル系過酸
化物〔たとえば、2,5-ジメチル−2,5-ジ‐(t-ブチルパ
ーオキシ)ヘキシン‐3、2,5-ジメチル−2,5-ジ‐(t-
ブチルパーオキシ)ヘキサン、α,α′−ビス(t−ブ
チルパーオキシ−m−イソプロピル)ベンゼン{1,4
(または1,3)−ビス(t−ブチルパーオキシイソプロ
ピル)ベンゼンともいう}など〕、ハイドロ系過酸化物
(たとえば、t-ブチルハイドロパーオキサイド、クメン
ハイドロパーオキサイドなど)などがあげられる。その
ほか、ベンゾイン、ベンジル、アリルジアゾニウムフロ
ロほう酸塩、ベンジルメチルケタール、2,2-ジエトキシ
アセトフェノン、ベンゾイルイソブチルエーテル、p-te
rt−ブチルトリクロロアセトフェノン、ベンジル(o−
エトキシカルボニル)−α−モノオキシム、ビアセチ
ル、アセトフェノン、ベンゾフェノン、テトラメチルチ
ウラムスルフィド、アゾビスイソブチロニトリル、ベン
ゾイルパーオキサイド、1-ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルエドン、2-ヒドロキシ−2-メチル−1-フェニル−
プロパン−1-オン、1-(4−イソプロピルフェニル)‐
2-ヒドロキシ−2-メチルプロパン−1-オン、2-クロロチ
オキサントン、メチルベンゾイルフォーメート、4,4-ビ
スジメチルアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、
ベンゾインメチルエーテル、メチル−o−ベンゾイルベ
ンゾエート、α−アシロキシムエステムなどや、下式、 であらわされる日本油脂(株)製「ビスクミル」も開始
剤として用いられる。
以上の原材料の配合割合は、樹脂組成物が、PPO、スチ
レン系熱可塑性ポリマー、ならびに、ポリブタジエンお
よび/または架橋性モノマーの合計100重量部のうち、P
POを50〜95重量部、スチレン系熱可塑性ポリマー、なら
びに、ポリブタジエンおよび/または架橋性モノマーを
5〜50重量部それぞれ含むようにするのが好ましい。開
始剤を用いる場合は、樹脂組成物が、PPO、スチレン系
熱可塑性ポリマー、ならびに、ポリブタジエンおよび/
または架橋性モノマーの合計100重量部に対する割合
で、開始剤を0.1〜5.0重量部含むようにするのが好まし
い。
前記原材料(PPO、架橋製ポリマーおよび/または架橋
性モノマー、開始剤)より樹脂組成物を得る方法は、通
常、ブレンドまたは溶液混合の方法による。
第2の発明では、前記のような開始剤も含む樹脂組成物
を基材に含浸させた樹脂含浸基材を用いて積層板を作
る。樹脂含浸基材は、たとえば、つぎのようにして得
る。前記原材料を溶媒(溶剤ともいう)に、樹脂組成物
が5〜50重量%の割合となるよう完全溶解させて混合
し、樹脂組成物の溶液とする。ここで用いる溶媒は、ト
リクロロエチレン,トリクロロエタン,クロロホルム,
塩化メチレン,四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素、
クロロベンゼン,ベンゼン,トルエン,キシレンなどの
芳香族炭化水素などのうちから選んだ単独または混合溶
媒があげられるが、これらに限定されない、前記の溶液
を基材に含浸させ乾燥させることにより樹脂含浸基材が
得られる。このようにして樹脂含浸基材を得るようにす
れば、比較的低温で行えるので、積層成形前にラジカル
架橋が生じてしまうことを防ぐことができ、しかも、低
コストでもある。基材としては、ガラスクロス、ガラス
マット、ポリエステルクロス、ポリエステルマット、ア
ラミド繊維クロス、紙、不織布等が用いられる。この樹
脂含浸基材を、所定の設計厚みとなるように所定枚数
(必要に応じて、銅箔,アルミニウム箔などの金属箔と
共に)積層し、加熱成形するなどして樹脂を溶融させて
樹脂含浸基材同士、樹脂含浸基材と金属箔(金属箔を積
層する場合)を互いに接着させるとともに、硬化(架
橋)を行わせて積層板を容易に得ることができる。この
融着および架橋により強固な接着が容易に得られる。積
層板も強固になる。PPOが優れた熱融着性を持つので、
金属箔を積層する場合、接着剤がなくてもよい。なお、
架橋反応は、積層成形の際の加熱、紫外線照射などによ
り、開始材が分解してラジカルを生じて起こり進行す
る。または、積層成形後の放射線照射により起こる。こ
の場合、開始剤がなくてもよい。熱架橋させる場合に
は、加熱温度,加熱時間は、使用する開始剤の反応温度
等に依存するので、開始剤の種類等に応じて選ぶとよ
い。たとえば、温度150〜300℃,圧力10〜150kg/cm2,時
間10〜90分間程度である。金属箔を積層する場合、あら
かじめ、樹脂含浸基材を所定枚数だけ積層成形してお
き、これの片面または両面に金属箔を重ね合わせて再び
加熱積層成形するようであってもよい。
樹脂含浸基材と金属箔を積層する場合には、積層板の全
体の厚みは特に限定されないが、0.2〜2mm位が良く、0.
6〜0.8mm位が回路設計上、より望ましい。
上記のようにして得られた積層板は、PPOの特性が損な
われず、かつ、耐熱性,ピール強度,電気特性が優れた
ものとなる。
つぎに実施例および比較例について説明する。
(実施例1〜7) 第1表に示されている配合原材料をトリクレン(東亜合
成化学工業(株)製トリクロロエチレン)に溶解し、樹
脂組成物の20重量%溶液(実施例4は、15重量%溶液)
とした。この溶液を第1表に示されている基材に含浸さ
せ、通常の方法で樹脂含浸基材を得た。銅箔、樹脂含浸
基材6枚、銅箔の順で、これらを加熱積層成形し、厚み
0.8mmの、銅張りの積層板を得た。加熱積層成形の条件
は、実施例1,2,5〜7では温度220℃,圧力50kg/cm2で30
分間、実施例3では温度200℃,圧力100kg/cm2で60分
間、実施例4では温度160℃,圧力50kg/cm2で30分間で
あった。
(比較例1) ノリル(エンジニアリングプラスチックス(株)製変性
PPO)を押出法によりシートとし、その両面に銅箔を加
熱積層成形し、厚み0.8mmの、銅張りの積層板を得た。
加熱積層成形の条件は、温度220℃,圧力50kg/cm2で30
分間であった。
(比較例2) エポキシ樹脂を通常の方法でガラスクロスに含浸させて
樹脂含浸基材を得た。この樹脂含浸基材を用いて、実施
例1と同様にして、厚み0.8mmの、銅張りの積層板を得
た。
なお、第1表中、PStはポリスチレン、SBSはスチレン・
ブタジエンブロックポリマー、1,2-PBは1,2-ポリブタジ
エン、Aは2,5-ジメチル−2,5-ジ‐(tert−ブチルパー
オキシ)ヘキシン‐3、Bは2,5-ジメチル−2,5-ジ‐
(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、Cはα,α′−
ビス(tert−ブチルパーオキシ−m−イソプロピル)ベ
ンゼンをそれぞれあらわす。SBSはソルプレンT406(旭
化成工業(株)製)を用いた。
実施例1〜7および比較例1,2で得られた各積層板につ
いて、耐溶剤性,半田耐熱性,絶縁抵抗,誘電率,誘電
正接,常温ピールの各物性を測定した。耐溶剤性は、煮
沸トリクロロエチレン中に5分間浸漬した後、外観の変
化の有(OUT)無(OK)により調べた。誘電率,誘電正
接は米国陸軍検査規格(MIL)に準じて測定した。
測定結果を第1表に併せて示した。
第1表からわかるように、実施例1〜7で得られた積層
板は、比較例1のPPOのみの積層板と同程度の絶縁抵抗
(電気特性)、誘電率および誘電正接の高周波特性を示
し、かつ、比較例2の熱硬化性樹脂を用いた積層板と同
程度の耐溶剤性、ほぼ同程度の半田耐熱性,常温ピール
を示している。
すなわち、第1の発明にかかる積層板は、優れた高周波
特性を示すとともに、耐熱性,ピール強度,電気特性の
良好なものとなっている。耐溶剤性も良好である。
〔発明の効果〕
以上に述べたように、この発明にかかる積層板およびそ
の製法においては、PPOが適切な架橋性ポリマーたるス
チレン系熱可塑性ポリマーとポリブタジエンや架橋性モ
ノマーで架橋させられるために各特性が向上するだけで
なく、製造過程で樹脂組成物の適切な含浸が円滑に進行
するために製造が円滑に行えるから、非常に有用であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 前田 修二 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (72)発明者 ▲高▼永 哲也 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (56)参考文献 米国特許3637578(US,A)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】樹脂組成物を硬化して得られる積層板であ
    って、前記樹脂組成物が、ポリフェニレンオキサイド、
    スチレン系熱可塑性ポリマー、ならびに、ポリブタジエ
    ンおよび/または架橋性モノマーを含み、かつ、前記架
    橋性モノマーがトリアリルイソシアヌレート,トリアリ
    ルシアヌレートの中の少なくとも1種であるとともに、
    基材に含浸されていることを特徴とする積層板。
  2. 【請求項2】樹脂組成物が、ポリフェニレンオキサイ
    ド、スチレン系熱可塑性ポリマー、ならびに、ポリブタ
    ジエンおよび/または架橋性モノマーの合計100重量部
    のうち、ポリフェニレンオキサイドを55〜95重量部、ス
    チレン系熱可塑性ポリマー、ならびに、ポリブタジエン
    および/または架橋性モノマーを5〜50重量部それぞれ
    含む特許請求の範囲第1項記載の積層板。
  3. 【請求項3】ポリフェニレンオキサイド、スチレン系熱
    可塑性ポリマー、開始剤、ならびに、ポリブタジエンお
    よび/または架橋性モノマーを含み、かつ、前記架橋性
    モノマーがトリアリルイソシアヌレート,トリアリルシ
    アヌレートの中の少なくとも1種である樹脂組成物が基
    材に含浸されている樹脂含浸基材を加熱積層成形する積
    層板の製法。
  4. 【請求項4】樹脂組成物が、ポリフェニレンオキサイ
    ド、スチレン系熱可塑性ポリマー、ならびに、ポリブタ
    ジエンおよび/または架橋性モノマーの合計100重量部
    のうち、ポリフェニレンオキサイドを55〜95重量部、ス
    チレン系熱可塑性ポリマー、ならびに、ポリブタジエン
    および/または架橋性モノマーを5〜50重量部それぞれ
    含むとともに、ポリフェニレンオキサイド、スチレン系
    熱可塑性ポリマー、ならびに、ポリブタジエンおよび/
    または架橋性モノマーの合計100重量部に対する割合
    で、開始剤を0.1〜5.0重量部含む特許請求の範囲第3項
    記載の積層板の製法。
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