JPH0675663B2 - 溶剤蒸気洗浄装置における溶剤再生循環方法 - Google Patents
溶剤蒸気洗浄装置における溶剤再生循環方法Info
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- JPH0675663B2 JPH0675663B2 JP63288865A JP28886588A JPH0675663B2 JP H0675663 B2 JPH0675663 B2 JP H0675663B2 JP 63288865 A JP63288865 A JP 63288865A JP 28886588 A JP28886588 A JP 28886588A JP H0675663 B2 JPH0675663 B2 JP H0675663B2
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- cleaning tank
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- Treating Waste Gases (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は有機溶剤等を用いて蒸気洗浄を行う洗浄装置の
溶剤再生循環方法に関するものである。
溶剤再生循環方法に関するものである。
従来の溶剤再生循環方法について第２図を用いて説明す
る。
る。
１は蒸気洗浄の前に溶剤液に浸漬して洗浄する液洗浄を
行うようになっている溶剤蒸気洗浄装置（以下洗浄装置
と略）で、２は第１洗浄槽、３は第２洗浄槽、４は蒸気
洗浄槽である。洗浄装置１は冷却コイル５、集液樋６及
び水分離器７からなる溶剤蒸気分離回収部を備えてい
る。８は洗浄装置１に併設した溶剤蒸溜再生装置（以下
再生装置と略）で、９は槽底部にヒータを備え槽上部に
冷却コイル，集液樋及び空気抜き穴を備えた密閉の溶剤
蒸溜再生槽（以下再生槽の略）、10は水分離器である。
行うようになっている溶剤蒸気洗浄装置（以下洗浄装置
と略）で、２は第１洗浄槽、３は第２洗浄槽、４は蒸気
洗浄槽である。洗浄装置１は冷却コイル５、集液樋６及
び水分離器７からなる溶剤蒸気分離回収部を備えてい
る。８は洗浄装置１に併設した溶剤蒸溜再生装置（以下
再生装置と略）で、９は槽底部にヒータを備え槽上部に
冷却コイル，集液樋及び空気抜き穴を備えた密閉の溶剤
蒸溜再生槽（以下再生槽の略）、10は水分離器である。
そして、再生装置８で再生された清浄溶剤13は洗浄装置
１の溶剤蒸気分離回収部で回収された清浄溶剤14ととも
に第２洗浄槽３に供給され、第２洗浄槽３→第１洗浄槽
２→蒸気洗浄槽４→再生層９と順にオーバーフローし、
段々に汚れを増しながら再生槽９に返戻されている。
１の溶剤蒸気分離回収部で回収された清浄溶剤14ととも
に第２洗浄槽３に供給され、第２洗浄槽３→第１洗浄槽
２→蒸気洗浄槽４→再生層９と順にオーバーフローし、
段々に汚れを増しながら再生槽９に返戻されている。
このように蒸気洗浄槽４には第１洗浄槽２からの既に汚
れた溶剤が供給されるばかりか蒸気洗浄槽４で被洗浄物
から落とされた汚れも滴下するので、蒸気洗浄槽４の溶
剤は極めて汚れている。この汚れ成分濃度の高い溶剤を
加熱して沸騰させると溶剤とともに汚れ成分も多量に蒸
発するのでこれで被洗浄物の最終洗浄である蒸気洗浄を
行うと洗浄された被洗浄物に蒸発した汚れ成分が再び付
着しシミとなることがあった。
れた溶剤が供給されるばかりか蒸気洗浄槽４で被洗浄物
から落とされた汚れも滴下するので、蒸気洗浄槽４の溶
剤は極めて汚れている。この汚れ成分濃度の高い溶剤を
加熱して沸騰させると溶剤とともに汚れ成分も多量に蒸
発するのでこれで被洗浄物の最終洗浄である蒸気洗浄を
行うと洗浄された被洗浄物に蒸発した汚れ成分が再び付
着しシミとなることがあった。
本発明は上述の従来の問題点を解決しようとするもの
で、被洗浄物をより高度に清浄化することができる溶剤
再生循環方法を提供することを目的とするものである。
で、被洗浄物をより高度に清浄化することができる溶剤
再生循環方法を提供することを目的とするものである。
本発明は、溶剤蒸溜再生槽９と、溶剤洗浄槽2,3と、溶
剤蒸気洗浄槽４とを備えた溶剤蒸気洗浄装置において、 前記溶剤蒸溜再生槽９で再生された溶剤を前記溶剤蒸気
洗浄槽４に導入し、前記溶剤蒸気洗浄槽４で蒸発洗浄さ
れる被洗浄物から滴下する汚染溶剤を捕集し、該被洗浄
物から滴下する汚染溶剤を前記溶剤蒸溜再生槽９に返戻
するとともに、前記各洗浄槽2,3,4から蒸発する溶剤蒸
気を液化し、これを前記溶剤洗浄槽２、３に導入し、該
溶剤洗浄槽2,3の汚染溶剤を前記溶剤蒸溜再生槽９に返
戻するようにしたことを特徴とする溶剤蒸気洗浄装置に
おける溶剤再生循環方法である。
剤蒸気洗浄槽４とを備えた溶剤蒸気洗浄装置において、 前記溶剤蒸溜再生槽９で再生された溶剤を前記溶剤蒸気
洗浄槽４に導入し、前記溶剤蒸気洗浄槽４で蒸発洗浄さ
れる被洗浄物から滴下する汚染溶剤を捕集し、該被洗浄
物から滴下する汚染溶剤を前記溶剤蒸溜再生槽９に返戻
するとともに、前記各洗浄槽2,3,4から蒸発する溶剤蒸
気を液化し、これを前記溶剤洗浄槽２、３に導入し、該
溶剤洗浄槽2,3の汚染溶剤を前記溶剤蒸溜再生槽９に返
戻するようにしたことを特徴とする溶剤蒸気洗浄装置に
おける溶剤再生循環方法である。
本発明は、溶剤蒸溜再生槽で蒸発させた溶剤蒸気を凝縮
液化して溶剤蒸気洗浄槽に導入し、溶剤洗浄槽の汚染溶
剤を前記溶剤蒸溜再生槽に返戻するようにすると共に、
前記溶剤蒸気洗浄槽の上方で被洗浄物の汚れを溶かし込
んで液化し滴下する汚染溶剤を捕集し、これを前記溶剤
蒸溜再生槽に返戻する。すなわち、溶剤蒸気洗浄槽４で
被洗浄物から滴下する汚染溶剤と溶剤洗浄槽2,3の汚染
溶剤とを、換言すれば、汚染された溶剤のみを選択的に
再生槽９に導き、再生槽９で再生された清浄な溶剤を蒸
気洗浄槽４に導き、各槽2,3,4から蒸発した蒸気を液化
して得られる比較的汚れの少ない溶剤を溶剤洗浄槽2,3
に導く。このため、溶剤蒸気洗浄槽４に汚染溶剤が流入
すること無く、溶剤蒸気洗浄槽４の溶剤が清浄に保た
れ、蒸気洗浄の際に汚れ成分の共沸による悪影響が生じ
ることがない。
液化して溶剤蒸気洗浄槽に導入し、溶剤洗浄槽の汚染溶
剤を前記溶剤蒸溜再生槽に返戻するようにすると共に、
前記溶剤蒸気洗浄槽の上方で被洗浄物の汚れを溶かし込
んで液化し滴下する汚染溶剤を捕集し、これを前記溶剤
蒸溜再生槽に返戻する。すなわち、溶剤蒸気洗浄槽４で
被洗浄物から滴下する汚染溶剤と溶剤洗浄槽2,3の汚染
溶剤とを、換言すれば、汚染された溶剤のみを選択的に
再生槽９に導き、再生槽９で再生された清浄な溶剤を蒸
気洗浄槽４に導き、各槽2,3,4から蒸発した蒸気を液化
して得られる比較的汚れの少ない溶剤を溶剤洗浄槽2,3
に導く。このため、溶剤蒸気洗浄槽４に汚染溶剤が流入
すること無く、溶剤蒸気洗浄槽４の溶剤が清浄に保た
れ、蒸気洗浄の際に汚れ成分の共沸による悪影響が生じ
ることがない。
本発明の実施例を第１図を用いて説明する。
第１図において符号１〜10は上述の第２図に示したもの
と同じであり、蒸気洗浄槽４の被洗浄物11の懸吊空間と
液面との間に被洗浄物11から滴下する汚染溶剤を捕集す
る受皿12を設け受皿12の排出管を再生槽９のオーバーフ
ロー管に接続して汚染溶剤を再生槽９に返戻することが
できる構造としてある点が装置構造的に異なっている。
と同じであり、蒸気洗浄槽４の被洗浄物11の懸吊空間と
液面との間に被洗浄物11から滴下する汚染溶剤を捕集す
る受皿12を設け受皿12の排出管を再生槽９のオーバーフ
ロー管に接続して汚染溶剤を再生槽９に返戻することが
できる構造としてある点が装置構造的に異なっている。
しかして、再生槽９で蒸発させた溶剤蒸気を凝縮液化
し、水分離器10で水を分離された清浄溶剤13は蒸気洗浄
槽４に導入され、洗浄装置１で分離回収された清浄溶剤
14は第２洗浄槽３に導入される。第２洗浄槽３で被洗浄
物11の第２浸漬洗浄に供され汚れた溶剤は第１洗浄槽２
にオーバーフローし、第１洗浄槽２で第１浸漬洗浄に供
される。第１洗浄槽２の汚染溶剤15はオーバーフローし
て再生槽９に返戻される。蒸気洗浄槽４で蒸発した溶剤
は受皿12上方に懸吊された第1,2浸漬洗浄を終了した被
洗浄物11の表面で凝縮し、残っている汚れを溶かし込ん
で滴下し、受皿12で捕集される。この汚染溶剤16も再生
槽９に返戻される。凝縮しなかった溶剤蒸気は冷却コイ
ル５で冷却されて液化し、水分離器７で水を分離され、
清浄溶剤14となって上述のように第２洗浄槽３に導入さ
れる。
し、水分離器10で水を分離された清浄溶剤13は蒸気洗浄
槽４に導入され、洗浄装置１で分離回収された清浄溶剤
14は第２洗浄槽３に導入される。第２洗浄槽３で被洗浄
物11の第２浸漬洗浄に供され汚れた溶剤は第１洗浄槽２
にオーバーフローし、第１洗浄槽２で第１浸漬洗浄に供
される。第１洗浄槽２の汚染溶剤15はオーバーフローし
て再生槽９に返戻される。蒸気洗浄槽４で蒸発した溶剤
は受皿12上方に懸吊された第1,2浸漬洗浄を終了した被
洗浄物11の表面で凝縮し、残っている汚れを溶かし込ん
で滴下し、受皿12で捕集される。この汚染溶剤16も再生
槽９に返戻される。凝縮しなかった溶剤蒸気は冷却コイ
ル５で冷却されて液化し、水分離器７で水を分離され、
清浄溶剤14となって上述のように第２洗浄槽３に導入さ
れる。
従って、蒸気洗浄槽４では清浄溶剤13のみが加熱され沸
騰するので、即ち蒸気洗浄槽４の溶剤蒸気は再生槽９で
一度蒸発して液化して清浄溶剤13をさらにもう一度蒸発
せしめた蒸気なので、汚れ成分の共沸はほとんどなく、
蒸気洗浄後の被洗浄物11に蒸発した汚れ成分による再汚
染が生じることがない。
騰するので、即ち蒸気洗浄槽４の溶剤蒸気は再生槽９で
一度蒸発して液化して清浄溶剤13をさらにもう一度蒸発
せしめた蒸気なので、汚れ成分の共沸はほとんどなく、
蒸気洗浄後の被洗浄物11に蒸発した汚れ成分による再汚
染が生じることがない。
本発明は、溶剤蒸溜再生槽で蒸発させた溶剤蒸気を凝縮
液化して溶剤蒸気洗浄槽に導入し、溶剤洗浄槽の汚染溶
剤を前記溶剤蒸溜再生槽に返戻するようにすると共に、
前記溶剤蒸気洗浄槽の上方で被洗浄物の汚れを溶かし込
んで液化し滴下する汚染溶剤を捕集し、これを前記溶剤
蒸溜再生槽に返戻し、かつ、溶剤洗浄槽および蒸気洗浄
槽から蒸発する溶剤を液化して溶剤洗浄槽に導くように
したので、溶剤蒸気洗浄槽中の溶剤は清浄状態に保たれ
る。従って溶剤蒸気洗浄槽からの汚れ成分の共沸による
悪影響が生じることがない。
液化して溶剤蒸気洗浄槽に導入し、溶剤洗浄槽の汚染溶
剤を前記溶剤蒸溜再生槽に返戻するようにすると共に、
前記溶剤蒸気洗浄槽の上方で被洗浄物の汚れを溶かし込
んで液化し滴下する汚染溶剤を捕集し、これを前記溶剤
蒸溜再生槽に返戻し、かつ、溶剤洗浄槽および蒸気洗浄
槽から蒸発する溶剤を液化して溶剤洗浄槽に導くように
したので、溶剤蒸気洗浄槽中の溶剤は清浄状態に保たれ
る。従って溶剤蒸気洗浄槽からの汚れ成分の共沸による
悪影響が生じることがない。
第１図は本発明の実施例のフロー図、第２図は従来例の
フロー図である。 １……洗浄装置、２……第１洗浄槽、３……第２洗浄
槽、４……蒸気洗浄槽、５……冷却コイル、６……集液
樋、７……水分離器、８……再生装置、９……再生槽、
10……水分離器、11……被洗浄物、12……受皿、13,14
……清浄溶剤、15,16……汚染溶剤。
フロー図である。 １……洗浄装置、２……第１洗浄槽、３……第２洗浄
槽、４……蒸気洗浄槽、５……冷却コイル、６……集液
樋、７……水分離器、８……再生装置、９……再生槽、
10……水分離器、11……被洗浄物、12……受皿、13,14
……清浄溶剤、15,16……汚染溶剤。
Claims (1)
- 【請求項１】溶剤蒸溜再生槽９と、溶剤洗浄槽2,3と、
溶剤蒸気洗浄槽４とを備えた溶剤蒸気洗浄装置におい
て、 前記溶剤蒸溜再生槽９で再生された溶剤を前記溶剤蒸気
洗浄槽４に導入し、前記溶剤蒸気洗浄槽４で蒸発洗浄さ
れる被洗浄物から滴下する汚染溶剤を捕集し、該被洗浄
物から滴下する汚染溶剤を前記溶剤蒸溜再生槽９に返戻
するとともに、前記各洗浄槽2,3,4から蒸発する溶剤蒸
気を液化し、これを前記溶剤洗浄槽２、３に導入し、該
溶剤洗浄槽2,3の汚染溶剤を前記溶剤蒸溜再生槽９に返
戻するようにしたことを特徴とする溶剤蒸気洗浄装置に
おける溶剤再生循環方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63288865A JPH0675663B2 (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 溶剤蒸気洗浄装置における溶剤再生循環方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63288865A JPH0675663B2 (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 溶剤蒸気洗浄装置における溶剤再生循環方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02135124A JPH02135124A (ja) | 1990-05-24 |
| JPH0675663B2 true JPH0675663B2 (ja) | 1994-09-28 |
Family
ID=17735753
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63288865A Expired - Lifetime JPH0675663B2 (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 溶剤蒸気洗浄装置における溶剤再生循環方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0675663B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6214901A (ja) * | 1985-07-15 | 1987-01-23 | Sony Corp | フロン蒸気洗浄装置 |
-
1988
- 1988-11-17 JP JP63288865A patent/JPH0675663B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02135124A (ja) | 1990-05-24 |
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