JPH0677520A - 光半導体装置 - Google Patents

光半導体装置

Info

Publication number
JPH0677520A
JPH0677520A JP599993A JP599993A JPH0677520A JP H0677520 A JPH0677520 A JP H0677520A JP 599993 A JP599993 A JP 599993A JP 599993 A JP599993 A JP 599993A JP H0677520 A JPH0677520 A JP H0677520A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light receiving
light emitting
receiving element
semiconductor device
optical semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP599993A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3242476B2 (ja
Inventor
Hiroyasu Torasawa
裕康 虎澤
Kenji Mizuuchi
賢二 水内
Kazuo Hagimura
和夫 萩村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP599993A priority Critical patent/JP3242476B2/ja
Priority to US08/081,124 priority patent/US5304819A/en
Publication of JPH0677520A publication Critical patent/JPH0677520A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3242476B2 publication Critical patent/JP3242476B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F55/00Radiation-sensitive semiconductor devices covered by groups H10F10/00, H10F19/00 or H10F30/00 being structurally associated with electric light sources and electrically or optically coupled thereto
    • H10F55/20Radiation-sensitive semiconductor devices covered by groups H10F10/00, H10F19/00 or H10F30/00 being structurally associated with electric light sources and electrically or optically coupled thereto wherein the electric light source controls the radiation-sensitive semiconductor devices, e.g. optocouplers
    • H10F55/25Radiation-sensitive semiconductor devices covered by groups H10F10/00, H10F19/00 or H10F30/00 being structurally associated with electric light sources and electrically or optically coupled thereto wherein the electric light source controls the radiation-sensitive semiconductor devices, e.g. optocouplers wherein the radiation-sensitive devices and the electric light source are all semiconductor devices
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/753Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between laterally-adjacent chips
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/756Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink

Landscapes

  • Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 特性を劣化させることなく、集積度の高い光
半導体装置を提供すること。 【構成】 発光素子1aと受光素子2bが、また発光素
子1bと受光素子2aがそれぞれ発光−受光素子を形成
するよう、発光素子1と受光素子2が配置される。すな
わち、これら発光−受光素子が対面するように向かい合
わせて実装される。これにより、出力素子3の面積を小
さくすることなく、従来1回路しか実装できなかった同
一パッケージ内に2回路実装することが可能となり、抵
抗値の増大による特性の劣化が生じずに光半導体装置の
集積度を上げることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光半導体装置、より具体
的には光結合によるアイソレーション型の光半導体装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】図6は、例えば発光ダイオード等の発光
素子1、例えば太陽電池等の受光素子2およびまたはM
OSスイッチ等の出力素子3より構成される光結合を用
いた光半導体装置の従来技術を示したものである。
【0003】同図において、図6(a)は出力素子3を
上面としたときの平面図を、また図6(b)は図6
(a)の2点鎖線d−d′で切断したときの断面図をそ
れぞれ示す。同図に示すように従来の光半導体装置は、
一方の側に発光素子1が配設され、これと対向する反対
側に受光素子2と出力素子3とが配設されていた。
【0004】また、図7は従来の光半導体装置をより具
体的に示したものである。すなわち、図7(a)には受
光素子2側の配線図が示されており、受光素子2や出力
素子3はワイヤ7により同図に示すように結線されてい
る。この結線状態の回路図を示したものが図7(c)で
あり、図7(a)の2点鎖線e−e′で切断したときの
断面図が図7(b)である。図7(b)に示すように発
光素子1と受光素子2は、透明樹脂4でその周りが覆わ
れ、モールド樹脂6で封入されている。
【0005】このような光半導体装置において、入力側
の発光素子2が発光すると、出力側の受光素子2がこの
光を受光して光エネルギに応じた電力を発生し、この電
力に応じた電圧により出力素子3が駆動される。この出
力素子3の抵抗値、とくにON抵抗は主に素子のチップ
MOS面積に反比例する性質がある。抵抗値が増大する
と光半導体装置の特性が劣化するため、出力素子3はこ
れを考慮した面積により形成されていた。一方、近年、
光半導体装置の小型化の要求があり、たとえば同一パッ
ケージ内に2個分の回路を実装して集積度を高くするこ
とが検討されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光半導体装置をそのまま小型化すると、その分出力素子
3の面積も小さくなるためその抵抗値が大きくなり、特
性が劣化するという問題が生じる。このため、従来、同
じ大きさのパッケージ内に複数の光半導体装置を実装す
ることは非常に困難であり、実質的に集積度を高めるこ
とができなかった。
【0007】本発明はこのような従来技術の欠点を解消
し、特性を劣化させることなく、集積度の高い光半導体
装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は上述の課題を解
決するために、発光素子と、この発光素子からの光エネ
ルギを受けこれよりこのエネルギに応じた電力を発生す
る受光素子と、この受光素子より出力された電力により
駆動される出力素子とを有する光半導体装置は、少なく
とも二対の発光素子と受光素子がそれぞれ上下逆向きで
並設され、上下に配置された受光素子にそれぞれ対応す
る出力素子が当該受光素子とほぼ同一面上に上下に配置
された。
【0009】
【作用】本発明によれば、同一パッケージ内に実装され
た少なくとも二対の発光素子、受光素子および出力素子
は、それぞれ独立して光結合を行い動作する。すなわ
ち、発光素子からの光エネルギを受光素子が受けると、
この受光素子より出力された電力により出力素子が駆動
されて、所定の出力を外部に出力する。
【0010】
【実施例】次に添付図面を参照して本発明による光半導
体装置の実施例を詳細に説明する。
【0011】図1は本発明による光半導体装置の実施例
が示されており、図1(a)は上面に配設された素子を
実線で、また図1(b)は下面に配設された素子を点線
でそれぞれ示している。すなわち、本実施例では一方の
平面(a)内に発光素子1a、受光素子2aおよび出力
素子3aを配列し、また他方の平面(b)内に発光素子
1b、受光素子2bおよび出力素子3bが配列されてい
る。なお、本実施例では説明の便宜上、用語「上面」ま
たは「下面」を用いたが、本実施例における光半導体装
置の面がとくにこのように規定されるものではない。
【0012】図2は、図1における各素子間の結線状態
を同じ参照符号(a)、(b)により示したものであ
る。このように本実施例では、平面(a)上に発光素子
1a、受光素子2a、出力素子3aが、また平面(b)
上に発光素子1b、受光素子2b、出力素子3bがそれ
ぞれリードフレーム5により固定されているとともに、
ワイヤ7によりワイヤボンディングされている。
【0013】なお、図示していないが、各受光素子2が
それぞれの出力素子3と同一チップで形成されることに
より、ワイヤは不要となる。
【0014】図3は本実施例における発光−受光素子の
関係をより具体的に示したものであり、図3(a)の2
点鎖線a−a′で切断したときの断面図が図3(b)に
示されている。同様に図4では、図4(a)のb−b′
の断面が図4(b)に、図4(a)のc−c′の断面が
図4(c)にそれぞれ示されている。図4(b)に示す
ように対向配置された発光素子1a(1b)と受光素子
2b(2a)はそれぞれ、透明樹脂4により覆われると
ともに、その周りは樹脂4にて樹脂封止される。
【0015】これら図より明らかなように本実施例で
は、発光素子1aと受光素子2bが、また発光素子1b
と受光素子2aがそれぞれ発光−受光素子を形成するよ
う、平面(a)と(b)の発光素子1と受光素子2が配
置される。すなわち、これら発光−受光素子が対面する
ように向かい合わせて実装され、各発光−受光素子はそ
れぞれ独立に動作する。
【0016】なお、図4において出力素子3の形状が図
1や図3に比べて小さいのは、図1および図3では出力
素子3を固定するリードフレーム5を含む大きさを出力
素子3としているのに対し、図4では図2に示したリー
ドフレーム5を含まない出力素子3の大きさを示してい
るためである。
【0017】このように本実施例では、発光素子1、受
光素子2および出力素子3をそれぞれの平面上に配置し
たため、出力素子3の面積を小さくすることなく、光半
導体装置の集積度を高くすることができる。すなわち、
光半導体装置の特性が劣化することなく、従来1回路し
か実装できなかったパッケージに2回路の光半導体装置
を実装可能となる。
【0018】なお、発光素子1a,1b、受光素子2
a,2b、出力素子3a,3bの機能および動作は、従
来技術で説明した発光素子1、受光素子2、出力素子3
とそれぞれ同等であり、これらの説明等は従来技術と重
複するのでここでは省略する。
【0019】次に、図5及び図6を用いて本発明の光半
導体装置の他の実装構造について説明する。
【0020】他の実装構造として図5(a)のx−x′
の断面が図5(b)に、図6(a)のy−y′の断面が
図6(b)にそれぞれ示されている。
【0021】先ず、図5(b)に示した実装構造では、
それぞれ、発光素子1aと受光素子2aとが対を成し、
発光素子1bと受光素子2bとが対を成し、各対は並設
され、また、各対は、透明樹脂4で覆われている。
【0022】また、各対の発光素子1aと受光素子2b
とが対抗するように設けられ、発光素子1bと受光素子
2aとが対抗するように設けられている。この実装構造
での受発光は、透明樹脂4内で発光素子1a,1bから
の反射光を受光素子2a,2bで受光するように行なわ
れる。
【0023】次に図6(b)に示した実装構造では、そ
れぞれ発光素子1aと受光素子2aとが対を成し、発光
素子1bと受光素子2bとが対を成し、各対は並設さ
れ、また各対は、透明樹脂4で覆われていることは、図
5(b)に示した実装構造と同じである。しかし、図6
(b)に示した実装構造では各対の発光素子1aと発光
素子1bとが対抗するように設けられ、受光素子2aと
受光素子2bとが対抗するように設けられている。この
実装構造での受発光は、透明樹脂4内で発光素子1a,
1bからの反射光を受光素子2a,2bで受光するよう
に行なわれている。
【0024】図1から図6に示した光半導体装置の実施
例では、発光−受光素子が出力素子間に配置される例を
示したが、本発明は特にこれに限定されるものではな
く、たとえば図7に示すように出力素子3を一方の側に
配置しても良い。このように配置した場合でも図7
(a)、(b)に示すように発光素子1と受光素子2と
の位置関係は前述したようになる。
【0025】発光−受光素子が出力素子間に配置された
実施例では、受光素子−出力素子をたとえばワイヤボン
ディングする場合にダイレクトに結線できるとともに、
各素子が固定されるリードフレーム5の形状が単純とな
り製造上都合が良いという利点がある。一方、出力素子
3を一方の側に配置した実施例では、発光−受光素子を
たとえば透明樹脂4で封止する注入作業の際に、発光素
子1および受光素子2が一方の側にあるので作業性が良
いという利点がある。
【0026】なお本実施例では、従来1回路しか光半導
体装置を実装できなかったパッケージ内に2回路実装す
る例を示したが、本発明はとくに2回路に限定されるも
のではなく、パッケージの大きさにより複数の光半導体
装置を実装可能である。
【0027】
【発明の効果】このように本発明の光半導体装置によれ
ば、出力素子の面積を小さくすることなく、従来1回路
しか実装できなかった同一パッケージ内に2回路実装す
ることが可能となる。したがって、抵抗値の増大による
特性の劣化が生じずに光半導体装置の集積度を上げるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による光半導体装置の実施例を示す素子
配置図。
【図2】本発明による光半導体装置の実施例を示す素子
結線図。
【図3】本発明による光半導体装置の実施例を示す素子
配置図および断面図。
【図4】本発明による光半導体装置の実施例を示す素子
配置図および断面図。
【図5】本発明による光半導体装置の他の実施例を示す
素子配置図および断面図。
【図6】本発明による光半導体装置の他の実施例を示す
素子配置図および断面図。
【図7】本発明による光半導体装置の他の実施例を示す
素子配置図。
【図8】従来技術における光半導体装置の素子配置図お
よび断面図。
【図9】従来技術における素子結線図、断面図および回
路図。
【符号の説明】
1a,1b 発光素子 2a,2b 受光素子 3a,3b 出力素子 4 透明樹脂 5 リードフレーム 6 モールド樹脂

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 発光素子と、この発光素子からの光エネ
    ルギを受けこの光エネルギに応じた電力を発生する受光
    素子と、この受光素子より出力された電力により駆動さ
    れる出力素子とを有する光半導体装置において、 少なくとも二対の前記発光素子と受光素子がそれぞれ上
    下に並設され、上下に配置された受光素子にそれぞれ対
    応する出力素子が当該受光素子とほぼ同一面上に上下に
    配置されたことを特徴とする光半導体装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の光半導体装置におい
    て、前記発光素子および受光素子は、当該受光素子によ
    り駆動される2つの前記出力素子間に配設されているこ
    とを特徴とする光半導体装置。
JP599993A 1992-06-29 1993-01-18 光半導体装置 Expired - Fee Related JP3242476B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP599993A JP3242476B2 (ja) 1992-06-29 1993-01-18 光半導体装置
US08/081,124 US5304819A (en) 1992-06-29 1993-06-25 Light-activated semiconductor device having light-emitting elements, light-receiving elements and output elements

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4-171226 1992-06-29
JP17122692 1992-06-29
JP599993A JP3242476B2 (ja) 1992-06-29 1993-01-18 光半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0677520A true JPH0677520A (ja) 1994-03-18
JP3242476B2 JP3242476B2 (ja) 2001-12-25

Family

ID=26340054

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP599993A Expired - Fee Related JP3242476B2 (ja) 1992-06-29 1993-01-18 光半導体装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5304819A (ja)
JP (1) JP3242476B2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5406543A (en) * 1993-04-07 1995-04-11 Olympus Optical Co., Ltd. Optical head with semiconductor laser
JPH1065218A (ja) * 1996-08-23 1998-03-06 Kdk Corp 光学系用led
JP3970377B2 (ja) 1997-04-25 2007-09-05 沖電気工業株式会社 光半導体装置およびその製造方法
JPH11195973A (ja) 1998-01-07 1999-07-21 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置及びそれを用いた双方向光mosリレー
DE10227310A1 (de) * 2002-06-19 2004-01-15 Siemens Ag Halbleiter-Schaltvorrichtung
CN101364585B (zh) * 2008-09-25 2010-10-13 旭丽电子(广州)有限公司 一种芯片封装结构及其制造方法
US9899794B2 (en) * 2014-06-30 2018-02-20 Texas Instruments Incorporated Optoelectronic package

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54115089A (en) * 1978-02-28 1979-09-07 Omron Tateisi Electronics Co Photo sensor
JPS5776883A (en) * 1980-10-31 1982-05-14 Toshiba Corp Photocoupler
US4794431A (en) * 1986-04-21 1988-12-27 International Rectifier Corporation Package for photoactivated semiconductor device
JPS6317569A (ja) * 1986-07-09 1988-01-25 Mitsubishi Electric Corp 光結合素子
JPS6351681A (ja) * 1986-08-20 1988-03-04 Agency Of Ind Science & Technol 半導体装置
JPS63170976A (ja) * 1987-01-09 1988-07-14 Fujitsu Ltd a−Si光ダイオ−ドの製造方法
JPS6448057A (en) * 1987-08-18 1989-02-22 Dainippon Screen Mfg Printing device
US4939375A (en) * 1988-06-17 1990-07-03 Hewlett-Packard Company Solid state relay with shield means
JPH0298178A (ja) * 1988-10-04 1990-04-10 Clarion Co Ltd モノリシック送受光素子
JPH03195066A (ja) * 1989-12-25 1991-08-26 Matsushita Electric Works Ltd フォトリレーのカプリング方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3242476B2 (ja) 2001-12-25
US5304819A (en) 1994-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3847676B2 (ja) パワー半導体装置
KR950012921B1 (ko) 수지봉지형 반도체장치
US4748538A (en) Semiconductor module
US7307285B2 (en) Optical semiconductor device and a method for manufacturing the same
JP3242476B2 (ja) 光半導体装置
JPH05299456A (ja) 樹脂封止型半導体装置
US6812581B2 (en) Chip size package with stress relieving internal terminal
US6984882B2 (en) Semiconductor device with reduced wiring paths between an array of semiconductor chip parts
JP3415369B2 (ja) 光結合型リレー装置
JPH01272144A (ja) 半導体装置とその組立方法
US4984051A (en) Semiconductor device having directly connected source terminal
JP2002359392A (ja) 半導体リレー
US6404060B1 (en) Semiconductor device having a chip-on-chip structure
KR100360351B1 (ko) 2중 전계효과 트랜지스터 칩 및 그 실장방법
US6730946B2 (en) Semiconductor device
JP2001102518A (ja) 電力用半導体装置
JPH0786495A (ja) 半導体デバイス
JPH06224369A (ja) 半導体装置
JPH0697666A (ja) 電子装置
KR100363057B1 (ko) 반도체 장치
JPH04130654A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JPH053284A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JPH11111910A (ja) マルチチップマウント半導体装置及びその製造方法
KR200148753Y1 (ko) 반도체 패키지
JP2963952B2 (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20011002

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081019

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081019

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091019

Year of fee payment: 8

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091019

Year of fee payment: 8

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091019

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101019

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees